JPWO2008018277A1 - フラットパネルディテクター - Google Patents
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Abstract
Description
そして、更に新たなデジタルX線画像技術として、例えば雑誌Physics Today,1997年11月号24頁のジョン・ローランズ論文“Amorphous Semiconductor Usher in Digital X−ray Imaging”や、雑誌SPIEの1997年32巻2頁のエル・イー・アントヌクの論文”Development of aHigh Resolution,Active Matrix,Flat−Panel Imager with Enhanced Fill Factor”等に記載されている、薄膜トランジスタ(TFT)を用いた平板X線検出装置(FPD)が開発されている。
101 シンチレータシート
101a、3 基板
101b 蛍光体層
102a、104 第1保護フィルム
102b 第2保護フィルム
103a〜103d、105a、105b、107a〜107c 封止部
108 空隙部(空気層)
E〜H 点接触部分
R〜T、X〜Z 光
2 蒸着装置
20 真空容器
202 蒸発源
203 基板ホルダ
204 基板回転機構
205 真空ポンプ
1)シンチレータパネル1aと受光素子を重ねて配置したあと、第2保護フィルム側からスポンジ等のフォーム材の弾性を利用して適度な圧力で押し付ける方法。
最内層(熱溶着層)
最内層(熱溶着層)の熱可塑性樹脂フィルムとしてはEVA、PP、LDPE、LLDPE及びメタロセン触媒を使用して製造したLDPE、LLDPE、又、これらフィルムとHDPEフィルムの混合使用したフィルムを使用することが好ましい。
中間層(防湿性層)としては、特開平6−95302号及び真空ハンドブック増訂版p132〜p134(ULVAC 日本真空技術K.K)に記載されている如き、無機膜を少なくとも一層有する層が挙げられる。無機膜としては金属蒸着膜及び無機酸化物の蒸着膜が挙げられる。
蒸着フィルムシートを介して用いられる熱可塑性樹脂フィルムとしては一般の包装材料として使用されている高分子フィルム(例えば機能性包装材料の新展開株式会社東レリサーチセンター記載の高分子フィルム)である低密度ポリエチレン(LDPE)、HDPE、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、中密度ポリエチレン、未延伸ポリプロピレン(CPP)、OPP、延伸ナイロン(ONy)、PET、セロハン、ポリビニルアルコール(PVA)、延伸ビニロン(OV)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVOH)、塩化ビニリデン(PVDC)、フッ素を含むオレフィン(フルオロオレフィン)の重合体又はフッ素を含むオレフィンの共重合体等が使用出来る。
(シンチレータシートの作製)
(基板の準備)
基板として、Arガス中でプラズマ処理を施した厚さ0.125mmのポリイミドフィルム(90mm×90mm)と0.5mmのアルミ基板を準備した。
図4に示す蒸着装置を使用して、準備した基板に蛍光体(CsI:0.003Tl)を蒸着させ蛍光体層を形成し、シンチレータシートを作製した。
蛍光体面側の保護フィルムとして、表1に示す様に表面粗さを変えた厚さ30μmのポリプロピレンフィルム(PP)を用意し、No.1−1〜1−5とした。尚、表面粗さの調整は、使用するPPを市販されているPPより適宜選択することで表面粗さを調整した。
(尚、PPフイルムの表面粗さは表裏で同一なものを使用した)
比較の保護フィルムとして、No.1−3の保護フィルムの片面又は両面に接着剤(バイロン300:東洋紡株式会社製)を塗設乾燥し接着層(3μm)としPP表面の凹凸を除去し粘着性面を有するフィルムを試作しNo.1−6〜1−8とした。
準備した保護フィルムNo.1−1〜1−8を使用し、準備したシンチレータシートを図1(c)に示す形態に封止しシンチレータパネルを作製し、試料No.101A〜108Aとした。
得られた各試料No.101A〜108Aに付き、10cm×10cmの大きさのCMOSフラットパネル(ラドアイコン社製X線CMOSカメラシステムShad−o−Box4KEV)にセットし、封止した後、12bitの出力データより鮮鋭性を以下に示す方法で測定し、以下に示す評価ランクにより評価した結果を表2に示す。
鉛製のMTFチャートを通して管電圧80kVpのX線を各試料の裏面(蛍光体層が形成されていない面)から照射し、画像データを、シンチレータを配置したCMOSフラットパネルで検出しハードディスクに記録した。その後、ハードディスク上の記録をコンピュータで分析して当該ハードディスクに記録されたX線像の変調伝達関数MTF(空間周波数1サイクル/mmにおけるMTF値)を鮮鋭性の指標とした。表中、MTF値が高いほど鮮鋭性に優れていることを示す。MTFはModulation Transfer Functionの略号を示す。
◎:空間周波数1サイクル/mmにおけるMTF値が0.9以上
○:空間周波数1サイクル/mmにおけるMTF値が0.7以上、0.9未満
△:空間周波数1サイクル/mmにおけるMTF値が0.6以上、0.7未満
×:空間周波数1サイクル/mmにおけるMTF値が0.6未満
Al:厚さ0.5mmのアルミ基板
本発明の効果が確認された。
(シンチレータシートの作製)
(基板の準備)
基板として厚さ表3に示した厚さのポリイミドフィルムを使用した。以外は実施例1と同様とした。
図4に示す蒸着装置を使用して、実施例1と同様に蒸着を実施した。
蛍光体面側の保護フィルムは、表1の1−3のPPフィルムを複数ドライラミネートして123μm、164μm、216μmとした。ドライラミネート後の表面粗さは表1の1−3と同じであった(尚、PPフィルムの表面粗さは表裏で同一なものを使用した)。シンチレータシートの基板側の保護フィルムは、蛍光体面側の保護フィルムと同じものを使用した。
準備した保護フィルムを使用し、準備したシンチレータシートを図1(c)に示す形態に封止しシンチレータパネルを実施例1と同じ方法、同じ条件で作製し、試料No.201〜211とした。
得られた各試料No.201〜211に付き鮮鋭性を実施例1と同じ条件で測定し、実施例1と同じ評価ランクで評価した結果を表3に示す。
Claims (7)
- 基板上に蛍光体層が設けられてなるシンチレータシートを、該蛍光体層の側に配置した第1保護フィルムと、該基板の側に配置した第2保護フィルムとにより封止したシンチレータパネルの第1保護フィルム側に受光素子を配置したフラットパネルディテクターにおいて、封止を5Pa〜8000Paで行うことを特徴とするフラットパネルディテクター。
- 前記第1保護フィルムが接触する前記蛍光体層の面の表面粗さ、および前記第1保護フィルムが接触する前記受光素子の面の表面粗さがRaで0.05μm〜0.8μmであることを特徴とする請求の範囲第1項に記載のフラットパネルディテクター。
- 前記第1保護フィルム及び前記第2保護フィルムの厚みが12μm以上200μm以下であることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載のフラットパネルディテクター。
- 基板が、厚さ50μm以上500μm以下で、可撓性を有する高分子フィルムからなることを特徴とする請求の範囲第1項〜第3項のいずれか1項に記載のフラットパネルディテクター。
- 高分子フィルムがポリイミド(PI)またはポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムであることを特徴とする請求の範囲第4項に記載のフラットパネルディテクター。
- シンチレータパネルの総厚が1mm以下であることを特徴とする請求の範囲第1項〜第5項のいずれか1項に記載のフラットパネルディテクター。
- 前記蛍光体層がヨウ化セシウム(CsI)であることを特徴とする請求の範囲第1項〜第6項のいずれか1項に記載のフラットパネルディテクター。
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