JPWO2008010342A1 - 表示パネル用の基板、この基板を備える表示パネル、表示パネル用基板の製造方法および表示パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

絶縁膜の絶縁破壊を防止できる表示パネル用の基板、この基板を備える表示パネル、表示パネル用基板の製造方法もしくは表示パネルの製造方法を提供すること。検査用の信号を伝送する検査用配線１２３が、第一の絶縁膜１４１を挟んで表示領域１１１のデータ信号線から引き出される入力用配線１２１に重畳および／または交差する箇所を有する第一の部分１２３１と、有さない分１２３２とを備え、これらを電気的に別体により形成して導体１２８よって電気的に接続される構成とし、データ信号線から引き出される入力用配線１２１に重畳および／または交差する箇所を有する第一の部分１２３１と入力用配線１２１の面積差が小さくなるようにする。

Description

本発明は、表示パネル用の基板、この基板を備える表示パネル、表示パネル用の基板の製造方法および表示パネルの製造方法に関するものであり、特に、液晶表示パネル用の基板などといった、所定のパターンの導体膜、半導体膜、絶縁膜などからなる積層構造を有する表示パネル用の基板、この基板を備える表示パネル、表示パネル用の基板の製造方法、表示パネルの製造方法に関するものである。

液晶表示パネルには、微小な間隔をおいて対向して配設されるＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタとを備え、これらの間に液晶が充填される構成を有するものがある。

ＴＦＴアレイ基板の片側表面には、所定のパターンの導体膜、半導体膜、絶縁膜などの薄膜が、所定の順序で積層するように形成される。そしてこれらの導体膜、半導体膜、絶縁膜などにより、絵素電極に電圧を印加するための薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）が形成される。また、この薄膜トランジスタのゲート電極に走査信号を伝送する走査信号線（ゲート信号線）、ソース電極にデータ信号を伝送するデータ信号線（ソース信号線）などが導体膜により形成され、絶縁膜により互いに絶縁される。

このほかにも、ＴＦＴアレイ基板には、液晶表示パネルの点灯検査を行う際に検査用のプローブを当接するための検査用入力パッド（検査用端子端子）と、この検査用入力パッドとデータ信号線またはソース信号線とを接続するための検査用配線束とが設けられることがある。この検査用配線束の構成は各種あるが、たとえば絶縁膜を挟んで形成される二つの導体膜にまたがって形成されるものがある。すなわち、検査用配線束を構成する各配線は、絶縁膜を挟んで形成される二つの導体の一方により形成される部分と、他方により形成される部分とを備える。そして所定の位置にその間に介在する絶縁膜を貫通してコンタクトホールをが成され、このコンタクトホールによってこれらの部分が電気的に接続される。

このような構成のＴＦＴアレイ基板において、導体膜間の絶縁膜が破壊し、設計とは異なる位置において異なる態様で導体どうしが電気的に接続すると、薄膜トランジスタ、データ信号線、ゲート信号線などが設計どおりに機能しなくなることがある。この結果、表示パネルに表示欠陥が生じるおそれがある。また、検査用配線束において絶縁膜が破壊すると、表示パネルの点灯検査を正常に行うことができなくなる。この結果、表示パネルの表示欠陥の有無や態様を正確に検出できなくなり、品質管理上問題が生じる。

絶縁膜の破壊の原因としては、絶縁膜を挟んで形成される導体膜間の電位差に起因する放電が挙げられる。たとえば表示パネル用の基板の製造工程において、導体膜や絶縁膜の堆積のためのスパッタリング、気相化学成長（ＣＶＤ）などの工程、堆積した膜をパターニングするためのスパッタリング工程などにおいて、導体膜に静電気が蓄積する。またこのほかにも、基板を各種装置の支持台（支持ステージ）から剥離する際に生じる剥離帯電、作業者が触れた場合に人体に蓄積された静電気が移動して帯電するなど、様々な工程において導体に静電気が蓄積する。そして導体膜に静電気が蓄積し、絶縁膜を挟んで形成される導体膜の間の電位差が絶縁膜の耐電圧を越えると、導体膜の間で放電し絶縁膜の絶縁が破壊される。

絶縁膜の破壊を防止する構成としては、表示パネルの製造工程において、絶縁膜を挟んで形成される二つの導体膜を短絡させておく構成が用いられている（特開平５−３０３１１０号公報参照）。特開平５−３０３１１０号公報に記載の構成の概略は次のとおりである。まず、走査信号線および薄膜トランジスタのゲート電極を形成した透明基板上に、形成した走査信号線の一端部が露出するように絶縁膜（ここでは、ゲート絶縁膜）を形成し、さらにその表面にデータ信号線と薄膜トランジスタのソース電極およびドレイン電極となる導体膜を形成する。そして、この導体膜をパターニングする際に、走査信号線などの薄膜パターンと直接接触している部分を残しておく。ＴＦＴアレイ基板の製造工程またはこのＴＦＴアレイ基板を用いた液晶表示パネルの製造工程の最終段階で、この部分を切断する。

このような構成によれば、データ信号線などとなる導体膜は、この導体膜を形成する段階において走査信号線などと電気的に接続し、その後この接続部分を切断するまでは電気的な接続が維持される。このため、走査信号線などとデータ信号線などとの間に電位差がなくなるから、放電による破壊を防止できる。

しかしながらこのような構成では、ソースバスライン、ゲートバスラインを相互接続する部分を基板のいずれかに設ける必要がある。このため、基板の設計に制約が生じる。また、ソースバスラインのパターニングの前に、あらかじめゲートメタルを露出させる必要がある。

上記実情に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、絶縁膜の絶縁破壊を防止できる表示パネル用の基板、この基板を備える表示パネル、表示パネル用基板の製造方法もしくは表示パネルの製造方法を提供すること、または製造工程において絶縁膜を挟んで形成される二つの導体膜の間の放電による絶縁膜の絶縁破壊を防止できる表示パネル用の基板、この基板を備える表示パネル、表示パネル用基板の製造方法もしくは表示パネルの製造方法を提供することである。

前記課題を解決するため、本発明は、検査用の信号を入力する端子と、表示領域のバスラインから引き出される配線と、絶縁膜と、該絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する部分を有し前記検査用の信号を入力する端子と前記バスラインから引き出される配線とを電気的に接続する検査用の配線とを備える構成とする。

バスラインとは、液晶パネルを駆動するための信号を伝達する配線をいうものとする。バスラインには、ゲートバスライン（走査信号線とも称する）、ソースバスライン（データ信号線とも称する）などが含まれる。

そして、前記バスラインから引き出される配線の面積と前記検査用の配線の面積が、
Ｖ＞｜Ｑ_ＸＳ_Ｘ／Ｃ_Ｘ−Ｑ_ＹＳ_Ｙ／Ｃ_Ｙ｜
を充足するようにする。この数式において、Ｖは絶縁膜の耐電圧、Ｑ_Ｘはバスラインから引き出される配線の単位面積あたりの帯電量、Ｓ_Ｘはバスラインから引き出される配線の面積、Ｃ_Ｘはバスラインから引き出される配線の容量、Ｑ_Ｙは検査用の配線の単位面積あたりの帯電量、Ｓ_Ｙは検査用の配線の面積、Ｃ_Ｙは検査用の配線の容量である。

また、検査用の信号を入力する端子と、表示領域のバスラインから引き出される配線と、絶縁膜と、該絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有し前記検査用の信号を入力する端子と前記バスラインから引き出される配線とを電気的に接続する検査用の配線とを備え、前記検査用の配線は別体に形成される複数の部分と、該複数の部分を互いに電気的に接続する導体とを備える構成とする。

ここで、前記検査用の配線は、前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分と、前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有しない部分とを備える構成とすることが好ましい。そして、前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分と前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有しない部分とを別体に形成し、前記導体によって電気的に接続することが好ましい。

また、前記検査用の配線の前記バスラインから引き出される配線に前記絶縁膜を挟んで重畳および／または交差する箇所を有する部分と、前記バスラインから引き出される配線との面積の関係が、
Ｖ＞｜Ｑ_ＸＳ_Ｘ／Ｃ_Ｘ−Ｑ_ＹＳ_Ｙ／Ｃ_Ｙ｜
を充足することが好ましい。

この数式において、Ｖは絶縁膜の耐電圧、Ｑ_Ｘはバスラインから引き出される配線の単位面積あたりの帯電量、Ｓ_Ｘはバスラインから引き出される配線の面積、Ｃ_Ｘはバスラインから引き出される配線の容量、Ｑ_Ｙは検査用の配線の絶縁膜を挟んでバスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分の単位面積あたりの帯電量、Ｓ_Ｙは検査用の配線の絶縁膜を挟んでバスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分の面積、Ｃ_Ｙは、検査用の配線の絶縁膜を挟んでバスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分の容量である。

前記バスラインから引き出される配線に重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分および前記バスラインから引き出される配線は同じ材料により同じ層に形成されることが好ましい。

そしてバスラインとして少なくともゲートバスラインとソースバスラインとを備え、前記検査用の前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分および前記バスラインから引き出される配線はソースバスラインと同じ材料により同じ層に形成され、前記検査用の配線の前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線と重畳および／または交差する箇所を有する部分はソースバスラインと同じ材料により同じ層に形成され、前記検査用の配線の前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する部分と前記バスラインから引き出される配線とを電気的に接続する導体および前記検査用の配線の前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分と有しない部分とを電気的に接続する導体は絵素電極と同じ材料により形成されることが好ましい。

そして前記のような表示パネル用の基板を表示パネルに適用する。

本発明の表示パネル用の基板の製造方法は、少なくとも次の各工程を含むことを要旨とする。表示領域のバスラインから引き出される配線および検査用配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分を形成する工程。前記表示領域のバスラインから引き出される配線および検査用配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分を覆う絶縁膜を形成する工程。該絶縁膜の表面に検査用配線の前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分を形成する工程。前記査用配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分と前記バスラインから引き出される配線および前記検査用配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分と有しない部分とを電気的に接続する導体を形成する工程。

そして、検査用の配線を形成する工程、バスラインから引き出される配線を形成する工程、絶縁膜を形成する工程およびこれらの内の所定のものどうしを電気的に接続する導体を形成する工程は、ゲートバスラインを形成する工程と、ゲート絶縁膜を形成する工程と、ソースバスラインを形成する工程と、パッシベーション膜を形成する工程および絵素電極を形成する工程と、次のような関係を有することが好ましい。

ゲートバスラインを形成する工程において同時にバスラインから引き出される配線および前記検査用配線のバスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分を形成する。ゲート絶縁膜を形成する工程において同時にバスラインから引き出される配線および検査用配線のバスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分を覆う第一の絶縁膜を形成する。ソースバスラインを形成する工程において同時に検査用配線のバスラインから引き出される配線と重畳および／または交差する箇所を有する部分を形成する。パッシベーション膜を形成する工程において同時に検査用配線のバスラインから引き出される配線と重畳および／または交差する箇所を有する部分を覆う第二の絶縁膜を形成する。絵素電極を形成する工程において同時に検査用配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分とバスラインから引き出される配線および検査用配線の前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分と有しない部分とを電気的に接続する導体を形成する。

そして表示パネルの製造方法に、前記表示パネル用の基板の製造方法の製造方法を含ませることが好ましい。

本発明によれば、表示領域のバスラインから引き出される配線と、検査用の配線のうち、前記表示領域のバスラインから引き出される配線と絶縁膜を挟んで重畳する部分との面積差を小さくすることができる。したがって、表示領域のバスラインから引き出される配線とバスラインから引き出される配線と絶縁膜を挟んで重畳する部分との間の電位差を小さくすることができ、これらの間で放電の発生を防止または抑制して、これらの間に設けられる絶縁膜の絶縁破壊を防止または抑制できる。

特に、前記バスラインから引き出される配線と前記検査用の配線の面積が前記数式を充足すると、これらの間での放電をより確実に防止して絶縁膜の絶縁破壊を防止できる。

また、本発明によれば、検査用の配線などを形成する工程を別途追加する必要がないから、製造コストの上昇を招くことがない。

本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を模式的に示した斜視図である。 （ａ）は表示領域の外側および検査配線部の一部を抜き出して示した平面模式図であり、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。 検査配線部およびその近傍の配線などの形成工程を模式的に示した斜視図である。 前記実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造工程を模式的に示した断面図であり、（ａ）〜（ｇ）は絵素の形成工程を示し、（ｈ）〜（ｎ）は検査配線部などの形成工程を示す。 本発明の実施形態にかかる表示パネルの構成を模式的に示した斜視図である。 本発明の実施形態にかかる表示パネルに適用できるカラーフィルタの構成を模式的に示した図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は一絵素の構成を示した平面図、（ｃ）は（ｂ）のＢ−Ｂ線断面図であって絵素の断面構造を示す。 本発明の第二実施形態にかかる表示パネル用の基板の検査配線部およびその近傍の一部を抜き出して模式的に示した図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。 前記実施形態にかかる表示パネル用の基板の検査配線部およびその近傍の形成工程を模式的に示した斜視図である。 本発明の第三実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を模式的に示した平面図である。 前記実施形態にかかる表示パネル用の基板の検査配線部の断面構造を模式的に示した図である。 前記実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造工程を模式的に示した断面図であり、（ａ）〜（ｇ）は絵素の形成工程を示し、（ｇ）〜（ｎ）は検査配線部の形成工程を示す。 本発明の第四実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を模式的に示した平面図である。 前記実施形態にかかる表示パネル用の基板の検査配線部の断面構造を模式的に示した図である。

以下に、本発明の各種実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。

図１は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を、模式的に示した外観斜視図である。まず、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの全体的な構成を簡単に説明する。

図１に示すように、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａは、表示領域１１１が設けられる部分１１（以下、「本体部１１」と称する）と、表示パネルの点灯検査用の配線などが設けられる部分１２（以下、「検査配線部１２」と称する）とを備える。

本体部１１の表示領域１１１には、複数の絵素電極（図示せず）と、それぞれの絵素に伝送するデータ信号のＯＮ／ＯＦＦを切り替える薄膜トランジスタ（図示せず）とが、それぞれマトリックス状に配列される。そして、各薄膜トランジスタのゲート電極に走査信号を伝送する複数の走査信号線（ゲートバスラインとも称する）（図示せず）と、ソース電極にデータ信号を伝送する複数のデータ信号線（ソースバスラインとも称する）（図示せず）とが設けられる。

データ信号線には、赤色絵素にデータ信号を伝送するデータ信号線と、緑色絵素にデータ信号を伝送するデータ信号線と、青色絵素にデータ信号を伝送するデータ信号線とがあり、これらが互いに略平行でかつ周期的に配列される。各走査信号線が設けられる層と各データ信号線が設けられる層との間には第一の絶縁膜の層が設けられており、各走査信号線と各データ信号線とは、この第一の絶縁膜によって電気的に絶縁される。

表示領域１１１の外側（すなわち、パネル額縁となる部分）には、各データ信号線から引き出される配線１２１と、各走査信号線から引き出される配線が設けられる。各データ信号線から引き出される配線１２１は、外部から各データ信号線にデータ信号を入力できる。各走査信号線から引き出される配線は、各走査信号線に走査信号を入力できる。以下、これらの配線１２１を「入力用配線１２１」と称する。これらの入力用配線１２１は、所定の数ごとに一纏まりとなった配線束１２１１を構成する。そして複数の配線束１２１１が、所定の間隔をおいて設けられる。

検査配線部１２には、検査用信号を入力する端子（以下、「検査用入力パッド」と称する）１２２（１２２ｒ，１２２ｇ，１２２ｂ）と、複数の検査用配線１２３（１２３ｒ，１２３ｇ，１２３ｂ）とが設けられる。

各検査用入力パッド１２２は、表示パネルの点灯検査において検査用信号を入力するための端子である。たとえば検査用のプローブを当接して検査用の信号を入力できるように構成される。図１に示すように、複数の検査用入力パッド１２２が互いに近接して設けられ、検査用入力パッド１２２のグループを構成する。そしてこのような検査用入力パッド１２２の複数のグループが、それぞれ所定の箇所に設けられる。例えば図１に示すように、それぞれ入力用配線１２１の配線束１２１１どうしの間に設けられる。

各検査用配線１２３（１２３ｒ，１２３ｇ，１２３ｂ）は、所定の検査用入力パッド１２２と所定の入力用配線１２１とを電気的に接続するとともに、各検査用配線１２３は、所定の検査用入力パッド１２２どうしを電気的に接続する。

したがってこのような構成によれば、ある所定の検査用入力パッド１２２に検査用信号を入力すると、入力された検査用信号は、所定の検査用配線１２３と入力用配線１２１とを通じて所定のデータ信号線に伝送される。

図２は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの外縁近傍の一部を抜き出して模式的に示した図である。詳しくは、図２（ａ）は本体部１１の表示領域１１１の外側に設けられる入力用配線１２１（１２１ｒ，１２１ｇ，１２１ｇ）と、検査用入力パッド１２２（１２２ｒ，１２２ｇ，１２２ｇ）の構成を示す平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。

図２（ａ）に示すように、各入力用配線１２１の一端は表示領域１１１の外縁近傍に設けられ、他端は検査配線部１２に設けられる。表示領域１１１の外縁近傍にはコンタクト部（図示せず）が設けられており、各入力用配線１２１の一端は、このコンタクト部において所定のデータ信号線と電気的に接続する。

入力用配線１２１は、所定の数が一纏まりとなって配線束１２１１を形成する。各配線束１２１１は、全体として表示領域１１１の外縁から検査配線部１２に向かうにしたがって次第に収斂するような構成を有する。換言すると各配線束１２１１は、表示領域１１１の外縁から検査配線部１２に向かって、全体の幅が細くなる先細り形状を有する。そして各配線束１２１１は、本体部１１と検査配線部１２との境界（図２においては一点鎖線Ｂで示す）の表示領域１１１寄りの位置から検査配線部１２にかけては、各入力用配線１２１が互いに略平行に近接して配列される。

なお、一つの配線束１２１１に含まれる入力用配線１２１の本数は特に限定されるものではなく、表示パネル用の基板１ａ（または表示パネル）の水平方向解像度などによって適宜設定される。本実施形態においては、一つの配線束１２１１に六本の入力用配線１２１が含まれる構成を用いて説明する。すなわち、一つの配線束１２１１が、赤色絵素のデータ信号線にデータ信号を入力する入力用配線１２１ｒと、緑色絵素のデータ信号線にデータ信号を入力する入力用配線１２１ｇと、青色絵素のデータ信号線にデータ信号を入力する入力用配線１２１ｂとを、それぞれ二本ずつ備える構成を用いて説明する。

また、図２においては、各入力用配線１２１が略直線状に形成される構成を示すが、各入力用配線１２１の形状も限定されるものではない。実際にはたとえば、各入力用配線１２１の長さを均一化して抵抗値の均一化を図るために、一部または全部に屈曲する部分を有するものが含まれることがある。

検査用入力パッド１２２は、複数が互いに近接して設けられて一つのグループを形成する。一つのグループを構成する検査用入力パッド１２２の数などは、表示パネル用の基板（または表示パネル）の構造や駆動方式などに応じて適宜設定される。ここでは、三個の検査用入力パッド１２２が一つのグループを形成する構成を用いて説明する。すなわち、一つのグループが、赤色絵素の検査用信号を入力するための検査用入力パッド１２２ｒと、緑色絵素の検査用信号を入力するための検査用入力パッド１２２ｇと、青色絵素の検査用信号を入力するための検査用入力パッド１２２ｂとを、それぞれ一個ずつ備える構成を用いて説明する。

各検査用配線１２３は、所定の検査用入力パッド１２２と所定の入力用配線１２１とを電気的に接続する。すなわち、ある一の検査用配線１２３ｒは、赤色絵素の検査信号を入力する検査用入力パッド１２２ｒと、赤色絵素のデータ信号線にデータ信号を入力する入力用配線１２１ｒとを電気的に接続する。他の一の検査用配線１２３ｇは、緑色絵素の検査信号を入力する検査用入力パッド１２２ｇと、緑色絵素のデータ信号線にデータ信号を入力する入力用配線１２１ｇとを電気的に接続する。さらに他の検査用配線１２３ｂは、青色絵素の検査信号を入力する検査用入力パッド１２２ｂと、青色絵素のデータ信号線にデータ信号を入力する入力用配線１２１ｂとを電気的に接続する。

各検査用配線１２３は、電気的に別体により形成される第一の部分１２３１（１２３１ｒ，１２３１ｇ，１２３１ｂ）と第二の部分１２３２（１２３２ｒ，１２３２ｇ，１２３２ｂ）とを備える。第一の部分１２３１とは、少なくとも一本の入力用配線１２１と交差または重畳する箇所を有する部分をいうものとする。第二の部分１２３２とは、入力用配線１２１とは交差または重畳する箇所を有さない部分をいうものとする。各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の各端部と第二の部分１２３２の端部とは、互いに近接するように設けられる。そして各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の端部と第二の部分１２３２の端部とが、所定の導体１２４によって電気的に接続する。

また、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１とが互いに交差または重畳する箇所においては、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とが所定の導体１２５によって電気的に接続される。

検査配線部１２の断面構造は次のとおりである。図２（ｂ）は、青色絵素の検査信号を入力する検査用入力パッド１２２ｂおよび検査用配線１２３ｂが形成される部分の断面構造を示す。なお、他の検査用入力パッド１２２ｒ，１２２ｇおよび他の検査用配線１２３ｒ，１２３ｇも同様の構成を備える。

図２（ｂ）に示すように検査配線部１２には、透明基板１３の表面に各検査用入力パッド１２２と、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２と、各入力用配線１２１とが設けられ、それらの表面を覆うように第一の絶縁膜１４１（ゲート絶縁膜）が形成される。そして第一の絶縁膜１４１の表面には各検査用配線１２３の第一の部分１２３１が設けられ、さらにそれらを覆うように第二の絶縁膜１４２が形成される。

各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２との電気的な接続構造は次のとおりである。各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の両端近傍において、それらの表面を覆う第二の絶縁膜１４２に開口部が形成される。一方、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２の先端近傍において、それらの表面を覆う第一の絶縁膜１４１および第二の絶縁膜１４２に開口部が形成される。そしてこれらの開口部の間に跨るように導体１２４が設けられる。この導体１２４により、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２とが電気的に接続される。

所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１との電気的な接続構造には、スルーホールが適用できる。具体的には次のとおりである。各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１とが交差または重畳する箇所において、第一の絶縁膜１４１と、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と、第二の絶縁膜１４２とに開口部が設けられる。そしてこの開口部に導体１２５が設けられる。この導体１２５により、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とが電気的に接続される。

なお、図２（ｂ）は、第一の絶縁膜１４１が検査配線部１２の全面に亘って形成される構成を示すが、本発明はこのような構成に限定されるものではない。たとえば、各入力用配線１２１と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１とが交差または重畳する箇所にのみ第一の絶縁膜１４１が形成される構成であってもよい。要は各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１とが第一の絶縁膜１４１によって電気的に絶縁される構成であればよく、必ずしも全面に亘って第一の絶縁膜１４１を形成する必要はない。

このような構成によれば、たとえば赤色絵素の検査用入力パッド１２２ｒに入力された赤色絵素の検査用信号は、当該赤色絵素の検査用入力パッド１２２ｒから引き出される検査用配線１２３ｒの第二の部分１２３２ｒと、導体１２４と、第一の部分１２３１ｒと、スルーホールと、赤色絵素のデータ信号線に電気的に接続する入力用配線１２１ｒとを通じて、赤色絵素のデータ信号線に伝送される。緑色絵素の検査用信号、青色絵素の検査用信号についても同様である。

そして、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と、第一の絶縁膜１４１を介してこれらに重畳する入力用配線１２１との面積差を小さくすることができる。したがって、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１が形成される工程の後、所定の入力用配線１２１との間にスルーホールが形成される工程までの間において、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と入力用配線１２１との間で放電の発生を防止または抑制できる。したがって、これらの間に形成される第一の絶縁膜１４１の静電破壊を防止または抑制できる。

第一の絶縁膜１４１の静電破壊を防止または抑制するメカニズムの詳細は次のとおりである。図２（ｂ）に示すように、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との間には、第一の絶縁膜１４１が形成される。したがって表示パネル用の基板１ａの製造工程において、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１を形成する工程の後、所定の入力用配線１２１との間にスルーホールを形成する工程までの間は、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との間には電気的な接続がない。

各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との間に電気的な接続がない状態において、ある検査用配線１２３の第一の部分１２３１またはある入力用配線１２１が帯電すると、それらの間には電位差が生じる。この電位差が第一の絶縁膜１４１の耐電圧以上に大きくなると、当該ある検査用配線１２３の第一の部分１２３１と、当該ある入力用配線１２１との間で放電が生じる。そして、放電が生じた箇所において第一の絶縁膜１４１の絶縁破壊が生じる。

第一の絶縁膜１４１に絶縁破壊が生じると、この絶縁破壊した箇所において、当該ある検査用配線１２３の第一の部分１２３１と当該ある入力用配線１２１とが電気的に導通する。したがって、たとえば設計上は互いに絶縁状態を維持すべき検査用配線１２３の第一の部分１２３１と入力用配線１２１とが電気的に導通するおそれがある。この結果、所定の検査用入力パッド１２２に入力した所定の検査用信号を、所定のデータ信号線に伝送できなくなり、表示パネルの点灯検査を正常に行うことができなくなるおそれがある。

本発明の構成によれば、検査用配線１２３の第一の部分１２３１を形成する工程からスルーホールを形成する工程までの間において、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との間での放電の発生を防止できる。これにより、第一の絶縁膜１４１の静電破壊を防止でき、表示パネルの点灯検査を正常に行うことができる。

各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１の面積は、次式の関係を満たすことが好ましい。

Ｖ＞｜Ｑ_ＸＳ_Ｘ／Ｃ_Ｘ−Ｑ_ＹＳ_Ｙ／Ｃ_Ｙ｜ （１）
ここで、
Ｖ：第一の絶縁膜の耐電圧
Ｑ_Ｘ：各入力用配線の単位面積あたりの帯電量
Ｓ_Ｘ：各入力用配線の面積
Ｃ_Ｘ：各入力用配線の容量
Ｑ_Ｙ：各検査用配線の各第一の部分の単位面積あたりの帯電量
Ｓ_Ｙ：各検査用配線の第一の部分の面積
Ｃ_Ｙ：各検査用配線の第一の部分の容量
である。

このような関係を充足することが好ましい理由は、次のとおりである。各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との間に生じる電位差は、それぞれの面積と帯電量に依存する。そこで、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の面積と各入力用配線１２１の面積の関係を、前記数式（１）を充足するように設定する。このように設定すると、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１および／または各入力用配線１２１が帯電してそれらの間に電位差が生じても、この電位差が第一の絶縁膜１４１の耐電圧を超えることがなくなる。したがって、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との間の放電をより確実に防止できる。

次に、検査配線部１２および本体部１１の表示領域１１１外側の配線の形成工程について説明する。図３は、これらの形成工程を模式的に示した斜視図である。なお、次に説明する各工程の間および／または各工程と同時に、表示パネル用の基板１ａを製造するための他の工程が存在する場合があるが、ここでは省略する。

まず図３（ａ）に示すように、透明基板１３の表面に、各入力用配線１２１と、各検査用入力パッド１２２と、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２とを形成する。たとえば、透明基板１３の表面に第一の導体膜を形成し、形成した第一の導体膜をフォトリソグラフィ法などを用いて、各入力用配線１２１、各検査用入力パッド１２２、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２のパターンにパターニングする。

次に、前記工程を経た透明基板１３の表面に第一の絶縁膜１４１（図示せず）を形成する。第一の絶縁膜１４１が形成されると、各検査用入力パッド１２２、各入力用配線１２１および各検査用配線１２３の第二の部分１２３２は、この第一の絶縁膜１４１に覆われて外部に露出しなくなる。

次に、図３（ｂ）に示すように、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１（１２３１ｒ，１２３１ｇ，１２３１ｂ）を形成する。たとえば、前記工程を経た透明基板１３の表面に第二の導体膜を形成し、形成した第二の導体膜をフォトリソグラフィ法などを用いて各検査用配線１２３の第一の部分１２３１のパターンにパターニングする。

ここまでの工程を経ると、各入力用配線１２１と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１とが第一の絶縁膜１４１を介して交差または重畳する部分が形成される。各入力用配線１２１は第一の絶縁膜１４１によってすでに覆われており、周囲から電気的に絶縁された状態（換言すると電気的に浮いた状態）となる。一方、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１は、その後に第二の絶縁膜１４２（図示せず）が形成されるまでの間は露出した状態にある。

この状態においては、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１に外部から静電気が流入して帯電することがあるが、各入力用配線１２１は帯電し難い状態にある。したがって、各入力用配線１２１と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１とで帯電量が相違し、電位差が生じることがある。

しかしながら前記のとおり、各検査用配線１２３の各第一の部分１２３１は、他の部分（たとえば、第二の部分１２３２や他の第一の部分１２３１）と電気的に分離しており、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の面積と、各入力用配線１２１の面積の差が小さい。このため、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との間の電位差を小さくすることができ、これらの間で放電の発生を防止または抑制して第一の絶縁膜１４１の絶縁破壊を防止または抑制できる。

特に、各入力用配線１２１の面積と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の面積とが、前記数式（１）の関係を充足すれば、各入力用配線１２１と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１との電位差が、第一の絶縁膜１４１の耐電圧を超えることがなくなる。したがって、この工程を経てからからスルーホールを形成するまでの工程の間において、各入力用配線１２１と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１との間での放電による第一の絶縁膜１４１の絶縁破壊を防止できる。

各検査用配線１２３の第一の部分１２３１を形成した後、第二の絶縁膜１４２（図示せず）を形成する。そして形成した第一の絶縁膜１４１と第二の絶縁膜１４２の所定の部分に開口部を形成する。この開口部の形成には、フォトリソグラフィ法などが適用できる。開口部を形成する位置は、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の両端部と、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２の先端部と、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とが交差または重畳する部分である。

次に各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２とを電気的に接続する導体１２４と、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とを電気的に接続する導体１２５とを形成する。

たとえば、まず前記工程を経た透明基板１３の表面に第三の導体膜を形成する。そして、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の両端部に形成した開口部から各検査用配線１２３の第二の部分１２３２の先端部に形成した開口部にかけてと、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とが交差または重畳する部分に形成した開口部とを残し、形成した第三の導体膜を除去する。

これにより、所定の検査用入力パッド１２２と所定のデータ信号線とが、電気的に接続される。そして上記工程を経ると、各入力用配線１２１と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１とは電気的に一体となる。したがって、これ以降はそれらの間で電位差が発生せず、放電による第一の絶縁膜１４１の絶縁破壊がなくなる。

次に、表示パネル用の基板１ａの製造方法の全体的な流れについて説明する。図４は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの製造方法の各工程を模式的に示した断面図である。それぞれ、図４（ａ）〜（ｆ）は、表示領域内の絵素の形成工程を示し、図４（ｇ）〜（ｌ）は、検査配線部における各配線の形成工程を示す。また、図４において（ａ）と（ｇ）、（ｂ）と（ｈ）、（ｃ）と（ｉ）、（ｄ）と（ｊ）、（ｅ）と（ｋ）、（ｆ）と（ｌ）は、それぞれ同じ工程を示す。なお、この図４は説明のための模式的なものであり、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの特定の切断線に沿った断面構造を示したものではない。

本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａは、ガラスなどの透明基板１３の表面に、所定の形状の導体膜、半導体膜、絶縁膜などが所定の順序で積層するように形成される。

まず、図４（ａ）に示すように、本体部１１の表示領域１１１内に、走査信号線１５２、補助容量線（図示せず）および薄膜トランジスタのゲート電極１５１を形成する。この工程において併せて図４（ｇ）に示すように、本体部１１の表示領域１１１の外側および検査配線部１２にかけて各入力用配線１２１を形成し、検査配線部１２に各検査用入力パッド１２２および各検査用配線１２３の第二の部分１２３２を形成する。

具体的には、透明基板１３の表面に、クロム、タングステン、モリブデン、アルミニウムなどからなる単層または多層の第一の導体膜を形成する。この第一の導体膜の形成には、公知の各種スパッタリング法などが適用できる。また、この第一の導体膜の厚さは特に限定されるものではないが、たとえば１００ｎｍ程度の膜厚に形成される。

そして形成した第一の導体膜を、走査信号線１５２、補助容量線（図示せず）、薄膜トランジスタのゲート電極１５１、入力用配線１２１、検査用入力パッド１２２、検査用配線１２３の第二の部分１２３２のパターンにパターニングする。この第一の導体膜のパターニングには、ウェットエッチングが適用できる。たとえば第一の導体膜がクロムからなる場合には、（ＮＨ_４）_２［Ｃｅ（ＮＨ_３）_６］＋ＨＮＯ_３＋Ｈ_２Ｏ液を用いたウェットエッチングが適用できる。

これにより、図４（ａ）に示すように、表示領域１１１内には、それぞれ所定のパターンの走査信号線１５２、補助容量線（図示せず）、薄膜トランジスタのゲート電極１５１が形成される。そして図４（ｇ）に示すように、本体部１１の表示領域１１１の外部と検査配線部１２には、各入力用配線１２１、各検査用入力パッド１２２、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２が形成される。

次いで図４（ｂ），（ｈ）に示すように、前記工程を経た透明基板１３の表面に、第一の絶縁膜１４１（すなわちゲート絶縁膜）を形成する。第一の絶縁膜１４１には厚さ３００ｎｍ程度のＳｉＮｘ（窒化シリコン）などが適用できる。そして、プラズマＣＶＤ法を用いて第一の絶縁膜１４１の材料を堆積させる方法により形成できる。第一の絶縁膜１４１が形成されると、図４（ｈ）に示すように、各入力用配線１２１は外部から電気的に遮断された浮島状態となる。

次いで図４（ｃ）に示すように、第一の絶縁膜１４１の表面の所定の箇所（具体的にはゲート電極１５１に重畳する箇所）に、半導体膜１５３とオーミットコンタクト膜１５４とを重ねて形成する。半導体膜１５３には厚さ１００ｎｍ程度のアモルファスシリコンなどが適用できる。オーミックコンタクト膜１５４には厚さ２０ｎｍ程度のｎ^＋型のアモルファスシリコンなどが適用できる。このオーミックコンタクト膜１５４は、後の工程で形成するソース電極１５６やドレイン電極１５７とのオーミックコンタクトを良好にするためのものである。

これらの半導体膜１５３およびオーミックコンタクト膜１５４は、それぞれプラズマＣＶＤ法を用いて膜の材料を堆積させる方法により形成できる。そして形成した半導体膜１５３とオーミックコンタクト膜１５４とを、フォトリソグラフィ法などを用いて所定の形状にパターニングする。このパターニングには、たとえばＨＦ＋ＨＮＯ_３溶液を用いたウェットエッチングが適用できる。

次いで図４（ｄ）に示すように、表示領域１１１内に、データ信号線１５５、ドレイン配線１５８、薄膜トランジスタのソース電極１５６およびドレイン電極１５７を形成する。そして図４（ｊ）に示すように、この工程において併せて検査配線部１２に検査用配線１２３の第一の部分１２３１を形成する。

具体的にはまず、前記までの工程を経た透明基板１３の表面に、第二の導体膜を形成する。この第二の導体膜は、チタン、アルミニウム、クロム、モリブデンなどからなる単層または多層の導体膜が適用できる。また、第二の導体膜の形成方法としては、プラズマＣＶＤ法などが適用できる。

そして形成した第二の導体膜をパターニングする。これにより、表示領域１１１内には、それぞれ第二の導体膜からなる所定の形状のデータ信号線１５５、薄膜トランジスタのソース電極１５６とドレイン電極１５７、ドレイン配線１５８が形成される。一方、検査配線部１２には、第二の導体膜からなる所定の形状の検査用配線１２３の第一の部分１２３１が形成される。また、この第二の導体のパターニングにおいては、併せて薄膜トランジスタのゲート電極１５１上に残した半導体膜１５３とオーミックコンタクト膜１５４とを所定の深さだけエッチングする。

以上の工程を経ると、図４（ｄ）に示すように表示領域１１１内には、薄膜トランジスタ（ゲート電極１５１、ソース電極１５６およびドレイン電極１５７）、走査信号線１５２、補助容量線（図示せず）、ドレイン配線１５８およびデータ信号線１５５が形成される。そして検査配線部１２には、図４（ｊ）に示すように、検査用入力パッド１２２、検査用配線１２３の第一の部分１２３１および第二の部分１２３２が形成される。

次に、図４（ｅ），（ｋ）のそれぞれに示すように、第二の絶縁膜１４２（すなわちパッシベーション膜）を形成する。前記工程を経た透明基板１３の表面に第二の絶縁膜を形成し、形成した第二の絶縁膜をパターニングする。これにより所定の形状の第二の絶縁膜１４２が得られる。この第二の絶縁膜１４２には、４００ｎｍ程度の厚さの窒化シリコン（ＳｉＮｘ）が適用できる。第二の絶縁膜１４２の形成方法としては、プラズマＣＶＤ法が適用でき、パターニング方法としては、たとえばたとえばＳＦ_６＋Ｏ_２を用いたドライエッチングが適用できる。

この工程のパターニングでは、先の工程で形成した第一の絶縁膜１４１も同時に所定のパターンにパターニングする。そしてこの工程のパターニングによって、図４（ｅ）に示すように表示領域１１１内においては、ドレイン配線１５８と絵素電極１５９（図４（ｆ）参照）とを電気的に接続する絵素コンタクト部を形成する。一方、図４（ｋ）に示すように検査配線部１２においては、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の各端部近傍を覆う第二の絶縁膜１４２と、検査用配線１２３の第二の部分１２３２の先端近傍を覆う第一の絶縁膜１４１および第二の絶縁膜１４２と、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とが交差または重畳する部分とに開口部を形成する。そしてそれぞれの配線１２３１，１２３２，１２１を露出させる。

次に、図４（ｆ）に示すように、表示領域１１１内に絵素電極１５９を形成する。そしてこの工程と併せて、図４（ｌ）に示すように、検査配線部１２に、所定の配線どうしを接続する導体１２４，１２５を形成する。表示領域１１１内の絵素電極１５９と検査配線部１２の所定の配線どうしを接続する導体１２４，１２５は、同じ導体により形成される。たとえば１５０ｎｍ程度の厚さのＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウム酸化スズ）が適用できる。

具体的にはまず、前記までの工程を経た透明基板１３の表面に、絵素電極１５９および所定の配線どうしを接続する導体１２４，１２５の材料となる第三の導体膜を形成する。この第三の導体膜の形成方法には、プラズマＣＶＤ法が適用できる。そして形成した第三の導体膜をパターニングする。この第三の導体膜のパターニングには、ＨＣｌ＋ＨＮＯ_３＋Ｈ_２Ｏ溶液を用いたウェットエッチングが適用できる。

このパターニングによって、図４（ｆ）に示すように、本体部の表示領域１１１内に所定の形状の絵素電極１５９が形成される。各絵素電極１５９は、第二の絶縁膜１４２に形成した絵素コンタクト部においてドレイン配線１５８と電気的に接続する。

一方、検査配線部１２においては図４（ｌ）に示すように、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の先端近傍に設けられる開口部から第二の部分１２３２の先端近傍に設けられる開口部にかけて、これらの配線１２３１，１２３２を電気的に接続する導体１２４が形成される。また、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１とが交差または重畳する箇所においては、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とを電気的に接続する導体１２５が形成される。このため、この工程以降は、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との間には、それらの間で放電が生じるような電位差は生じない。

以上のような工程を経て、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａを得る。

このような構成によれば、検査配線部１２に各検査用配線１２３の第一の部分１２３１を形成する工程を経た後、入力用配線１２１と電気的に接続する工程までの間において、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との間での放電を防止できる。このため、第一の絶縁膜１４１の静電破壊を防止でき、点灯検査を正常に行うことができるようになる。

また、本体部１１に絵素やバスラインなどを形成する工程において、併せて検査配線部１２に検査用の配線などを形成できる。したがって、検査用の配線を形成するための工程を新たに追加する必要がない。

次に、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａを適用した表示パネルの構成と、製造方法について説明する。

図５は、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａを適用した表示パネル１０の構成を模式的に示した斜視図である。図５に示すように、本表示パネル１０は、ＴＦＴアレイ基板、すなわち第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａと、カラーフィルタ５とを備える。そしてこれらの間に液晶が充填される。本表示パネル１０は、一般的な液晶表示パネルの構成を備えることから、詳細な説明は省略する。検査配線部１２は、点灯検査を行った後に切断する。

本表示パネル１０の製造方法は、ＴＦＴアレイ基板製造工程と、カラーフィルタ製造工程と、パネル（セル）製造工程と、を含む。なお、ＴＦＴアレイ基板製造工程は、前記のとおりである。

カラーフィルタ５の構成と製造方法は次のとおりである。図６は、カラーフィルタ５の構成を模式的に示した図であり、図６（ａ）はカラーフィルタの全体構造を模式的に示した斜視図、図６（ｂ）はカラーフィルタ５に形成される一絵素の構成を抜き出して示した平面図、図６（ｃ）は図６（ｂ）のＢ−Ｂ線断面図であって、絵素の断面構造を示した図である。

この図６に示すようにカラーフィルタ５は、ガラスなどからなる透明基板５１の表面にブラックマトリックス５２が形成され、ブラックマトリックス５２の各格子の内側には、赤色、緑色、青色のいずれかの色の着色感材からなる着色層５３が形成される。そしてこれら各色の着色層５３が形成される格子が、所定の順序で配列される。ブラックマトリックス５２および各色の着色層５３の表面には保護膜５４が形成され、保護膜５４の表面には透明電極（共通電極）５５が形成される。透明電極（共通電極）５５の表面には、液晶の配向を制御する配向制御構造物５６が形成される。

カラーフィルタ製造工程には、ブラックマトリックス形成工程と、着色層形成工程と、保護膜形成工程と、透明電極（共通電極）形成工程とが含まれる。

ブラックマトリックス形成工程の内容は、たとえば樹脂ＢＭ法であれば次のとおりである。まず、透明基板５１の表面にＢＭレジスト（黒色着色剤を含有する感光性樹脂組成物）などを塗布する。次いで塗布したＢＭレジストをフォトリソグラフィ法などを用いて所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンのブラックマトリックス５２を得る。なお、ブラックマトリックス形成工程において、ＢＭレジストにより同時に遮光層を形成する場合がある。遮光層は、不要な光が透過することを防止する要素であり、表示領域の外側の所定の位置に設けられる。

着色層形成工程では、カラー表示用の赤色、緑色、青色の各色の着色層５３を形成する。たとえば着色感材法であれば次のとおりである。まず、ブラックマトリックス５２を形成した透明基板５１の表面に、着色感材（感光性材料に所定の色の顔料を分散した溶液）を塗布する。次いで、塗布した着色感材を、フォトリソグラフィ法などを用いて所定のパターンに形成する。そしてこの工程を、赤色、緑色、青色の各色について行う。これにより各色の着色層５３を得る。

ブラックマトリックス形成工程で用いる方法は、樹脂ＢＭ法に限定されるものではなく、たとえばクロムＢＭ法、重ね合わせ法などの公知の各種方法が適用できる。着色層形成工程で用いる方法も、着色感材法に限定されるものではなく、たとえば印刷法、染色法、電着法、転写法、エッチング法など、公知の各種方法が適用できる。また、先に着色層を形成し、その後にブラックマトリックスを形成する背面露光法を用いてもよい。

保護膜形成工程では、ブラックマトリックス５２および着色層５３の表面に、保護膜５４を形成する。たとえば、スピンコータを用いて前記工程を経た透明基板５１の表面に保護膜材料を塗布する方法（全面塗布法）や、印刷またはフォトリソグラフィ法などを用いて所定のパターンの保護膜５４を形成する方法（パターニング法）などが適用できる。保護膜材料には、たとえばアクリル樹脂やエポキシ樹脂などが適用できる。

透明電極（共通電極）膜形成工程においては、保護膜５４の表面に透明電極（共通電極）５５を形成する。たとえばマスキング法であれば、前記工程を経た透明基板５１の表面にマスクを配置し、スパッタリングなどによってＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などを蒸着させて透明電極（共通電極）５５を形成する。

次いで配向制御構造物５６を形成する。この配向制御構造物５６は、たとえばフォトリソグラフィ法などを用いて形成される。前記工程を経た透明基板５１の表面に感光性材料を塗布し、フォトマスクを通じて所定のパターンに露光する。そしてその後の現像工程において不要な部分を除去し、所定のパターンの配向制御構造物５６を得る。

このような工程を経て、カラーフィルタ５を得る。

次いで、パネル（セル）製造工程について説明する。まず、前記工程を経て得た第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａ（すなわちＴＦＴアレイ基板）とカラーフィルタ５のそれぞれの表面に、配向膜を形成する。そして形成した配向膜に配向処理を施す。その後、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａとカラーフィルタ５とを貼り合わせるとともに、これらの間に液晶を充填する。

第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａとカラーフィルタ５のそれぞれの表面に配向膜を形成する方法は次のとおりである。まず配向材塗布装置などを用いて、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａとカラーフィルタ５のそれぞれの表面に配向材を塗布する。配向材とは、配向膜を形成する物質を含む溶液をいう。配向材塗布装置には、たとえば円圧式印刷装置やインクジェット印刷装置など、従来一般の方法が適用できる。そして塗布した配向材を配向膜焼成装置などを用いて加熱し、焼成する。

その後、焼成した配向膜に配向処理を施す。この配向処理としては、ラビングロールなどを用いて配向膜の表面に微小な傷をつける方法や、配向膜の表面に紫外線などの光エネルギを照射して配向膜の表面性状を調整する光配向処理など、公知の各種処理方法が適用できる。

その後、シールパターニング装置などを用いて、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａとカラーフィルタ５の一方の表面に、シール材とコモン転移材を塗布する。そしてスペーサ散布装置などを用いて、セルギャップを所定の値に均一に保つためのスペーサを、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａとカラーフィルタ５の一方の表面に散布する。そして、液晶滴下装置などを用いて、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａとカラーフィルタ５の一方の表面のシール材に囲まれる領域に液晶を滴下する。その後、減圧雰囲気下で第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａとカラーフィルタ５とを貼り合わせる。

たとえばシール材には、一般的な紫外線硬化型のシール材が適用できる。そして第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａとカラーフィルタ５とを貼り合わせた後に、このシール材に紫外線を照射して硬化させる。

なお、シール材を固化させた後に、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａとカラーフィルタ５の間に液晶を注入する方法であってもよい。

このような工程を経て、液晶表示パネルが得られる。その後、得られた液晶表示パネルの点灯検査を行う。そして点灯検査を行った後、検査用入力パッドと検査用配線束が形成される領域を切断する。

次に、本発明の第二実施形態について説明する。第二実施形態にかかる表示パネル用の基板と第一実施形態にかかる表示パネル用の基板の基板とは、主に検査配線部の構成が相違し、他の部分については共通の構成が適用できる。したがって、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板と相違する部分について説明し、共通する部分の説明は省略する。

図７は、本発明の第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの外縁部近傍を抜き出して模式的に示した図である。図７（ａ）は、検査配線部１２の構成を示した平面図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）のＣ−Ｃ線断面図であって、検査配線部１２の断面構造を示す。

図７（ａ）または（ｂ）に示すように、検査配線部１２には、各入力用配線１２１（１２１ｒ，１２１ｇ，１２１ｂ）と各検査用入力パッド１２２（１２２ｒ，１２２ｇ，１２２ｂ）と各検査用配線１２３（１２３ｒ，１２３ｇ，１２３ｂ）とが形成される。各入力用配線１２１は、所定の本数が一纏まりとなって配線束１２１１を形成する。各検査用入力パッド１２２は、所定の数が近接して設けられるグループを形成する。これらの各検査用入力パッド１２２、検査用入力パッド１２２のグループは、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａと同じ構成が適用できる。

各検査用配線１２３は、それぞれ第一の部分１２３１（１２３１ｒ，１２３１ｇ，１２３１ｂ）と第二の部分１２３２（１２３２ｒ，１２３２ｇ，１２３２ｂ）を備える。第一の部分１２３１は、少なくとも一本の入力用配線１２１と交差または重畳する箇所を有する部分をいうものとする。第二の部分１２３２は、第一の部分１２３１以外の部分をいうものとする。

各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２とは、互いに電気的な別体により形成される。各検査用配線１２３の第二の部分１２３２の一端は所定の検査用入力パッド１２２に近接し、他端は所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１の端部に近接するように設けられる。そして各検査用配線１２３の第二の部分１２３２の一端と所定の検査用入力パッド１２２とが所定の導体１２７により電気的に接続され、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２の他端と所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１の端部とが所定の導体１２８により電気的に接続される。

さらに、各検査用配線１２３と各入力用配線１２１とが交差または重畳する箇所において、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とが所定の導体１２９により電気的に接続される。各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各入力用配線１２１との電気的な接続の構成は、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａと同じ構成が適用できる。

第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの検査配線部１２の断面構造は次のとおりである。なお図７（ｂ）は、青色絵素の検査用入力パッド１２２ｂと、それに電気的に接続する検査用配線１２３ｂに沿った断面構造を示すが、他の検査用入力パッド１２２ｒ，１２２ｇおよび検査用配線１２３ｒ，１２３ｇも同様の構成を有する。

図７（ｂ）に示すように、透明基板１３の表面には各検査用入力パッド１２２と、各入力用配線１２１とが設けられ、それらの表面を覆うように第一の絶縁膜１４１が形成される。そして第一の絶縁膜１４１の表面には、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２とが設けられ、さらにそれらを覆うように第二の絶縁膜１４２が形成される。各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２とは、図７（ｂ）に示すように、別体に形成される。

各検査用配線１２３の第二の部分１２３２と所定の検査用入力パッド１２２との電気的な接続構造は次のとおりである。各検査用配線１２３の第二の部分１２３２の一端（すなわち、所定の検査用入力パッド１２２に近接する側の端部）近傍において、それらの表面を覆う第二の絶縁膜１４２に開口部が形成される。また、所定の検査用入力パッド１２２に重畳する第一の絶縁膜１４１および第二の絶縁膜１４２が除去され、所定の検査用入力パッド１２２が露出する。そしてこれらの開口部の間に跨って所定の導体１２７が形成される。これにより、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２と所定の検査用入力パッド１２２とが電気的に接続される。

各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２との電気的な接続構造は次のとおりである。各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の両端近傍において、それらの表面を覆う第二の絶縁膜１４２に開口部が形成される。同様に、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２の他端（所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１に近接する側の端部）近傍において、それらの表面を覆う第二の絶縁膜１４２に開口部が設けられる。そして、これらの開口部の間に跨って所定の導体１２８が形成される。この導体１２８により、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２とが電気的に接続される。

このような構成を有する検査配線部１２および本体部１１の表示領域１１１の外側の配線の形成工程は次のとおりである。図８は、これらの形成工程を模式的に示した斜視図である。なお、第一実施形態と共通する部分について説明を省略する。また、ここで説明する各工程の間および／または各工程と同時に、表示パネル用の基板１ｂを製造するための他の工程が存在する場合があるが、ここでは省略する。

図８（ａ）に示すように、透明基板１３の表面に、各入力用配線１２１（１２１ｒ，１２１ｇ，１２１ｂ）と、各検査用入力パッド１２２（１２２ｒ，１２２ｇ，１２２ｂ）とを形成し、次いでそれらを覆うように第一の絶縁膜１４１（図示せず）を形成する。これらの形成方法は、第一実施形態における各入力用配線１２１などを形成する方法と同じ方法が適用できる。

次に図８（ｂ）に示すように、各検査用配線１２３（１２３ｒ，１２３ｇ，１２３ｂ）の第一の部分１２３１（１２３１ｒ，１２３１ｇ，１２３１ｂ）と第二の部分１２３２（１２３２ｒ，１２３２ｇ，１２３２ｂ）とを、同じ材料により同時に形成する。たとえば、前記工程を経た透明基板１３の表面に第二の導体膜を形成し、形成した第二の導体膜をフォトリソグラフィ法などを用いて各検査用配線１２３の第一の部分１２３１のパターンと第二の部分１２３２のパターンとにパターニングする。この工程を経た時点においては、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２とは、それぞれ別体の浮島状に形成され、互いに電気的に接続していない。

このような構成によれば、各入力用配線１２１の面積と、それらに第一の絶縁膜１４１（図示せず）を介して交差または重畳する各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の面積との差を小さくすることができる。したがって、各入力用配線１２１と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１との間に生じる電位差を小さくでき、これらの間での放電の発生を防止または抑制できる。特に各入力用配線１２１の面積と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１の面積とが、前記数式（１）の関係を充足すれば、各入力用配線１２１と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１との電位差が第一の絶縁膜１４１の耐電圧を超えることを、より確実に防止できる。

各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２とを形成した後、第二の絶縁膜（図示せず）を形成する。そしてこの工程で形成した第二の絶縁膜１４２と先の工程で形成した第一の絶縁膜１４１の所定の箇所に開口部を形成する。

次に８（ｃ）に示すように、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と第二の部分１２３２とを電気的に接続する導体１２８と、所定の検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とを電気的に接続する導体１２９と、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２と所定の検査用入力パッド１２２とを電気的に接続する導体１２７とを形成する。この導体の形成方法には、第一実施形態と同様の方法が適用できる。

上記工程を経ると、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の入力用配線１２１とが所定の導体１２９によって電気的に接続される。したがって各入力用配線１２１と各検査用配線１２３の第一の部分１２３１とは電気的に一体となるから、第一の絶縁膜１４１が絶縁破壊することがなくなる。このように、第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂも、第一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂを適用した表示パネルの構成と製造方法は、第一実施形態と略同じであることから、説明は省略する。

なお、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と所定の検査用入力パッド１２２との電気的な接続構造は、第一実施形態と第二実施形態とに示す構成に限定されるものではない。

たとえば、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの構成と、第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｂの構成とを組み合わせた構成であってもよい。すなわち、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２が、さらに互いに電気的に別体に形成される複数の部分を有する構成であってもよい。具体的には、各検査用配線１２３の第二の部分１２３２が、各検査用入力パッド１２２と同じ層に形成される部分（または各検査用入力パッド１２２に一体に形成される部分）と、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と同じ層に形成される部分とを有し、これらの部分が導体によって電気的に接続される構成であってもよい。このような構成であっても、前記同様の作用効果を奏することができる。

また、前記各実施形態においては、各検査用配線１２３の第一の部分１２３１と各検査用入力パッド１２２とを別体に形成する構成を示したが、一体に形成する構成であってもよい。

要は、表示パネル用の基板の製造工程において、各入力用配線（すなわち各バスラインから引き出される配線）と、これらに絶縁膜を挟んで交差または重畳する配線との面積差を小さくできる構成であればよい。

次に、本発明の第三実施形態について説明する。ここでは、第一実施形態または第二実施形態と相違する構成の部分を主に説明する。第一実施形態または第二実施形態と共通する構成または共通の機能を有する要素には同じ符号を付して用い、説明は省略する。

図９は、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃの構成を模式的に示した平面図である。図９に示す第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃは、表示領域１１１内に設けられる各絵素が二つの副絵素を備える。そして各副絵素は、それぞれ別個のスイッチング素子（薄膜トランジスタ）により駆動される。表示領域１１１の外側（すなわちパネル額縁）には、検査用配線などが設けられる領域１２ｓ，１２ｌ（以下、「検査配線部１２ｓ，１２ｌ」と称する）と、配線基板などを接続する端子などが設けられる領域３３０（以下、「端子部３３０」と称する）とを有する。

図９に示すように表示領域１１１には、互いに略平行に延伸する複数の走査信号線３４１（３４１ｕ，３４１ｂ）が設けられる。これらの複数の走査信号線３４１は、一方の副絵素のスイッチング素子に走査信号を伝送する走査信号線３４１ｕと、他方の副絵素のスイッチング素子に走査信号を伝送する走査信号線３４１ｂとが含まれる。そしてこれらの走査信号線３４１ｕ，３４１ｂが交互に配列される。また、図示しない補助容量線が、走査信号線３４１に平行に形成される。

各走査信号線３４１の一端（図９においては右端）は端子部３３０に引き出され、それらの端子部３３０には、配線基板などと接続できるように接続ランド３３１などが形成される。各走査信号線３４１の他端（図９においては左端）は検査配線部１２１に引き出され、コンタクト部３１９において、後述する検査用スイッチング素子３１１のドレイン電極から引き出される配線３１１３に接続する。

これらの走査信号線３４１の表面には第一の絶縁膜１４１（図示せず）が形成され、その表面には複数のデータ信号線３４２（３４２ｒ，３４２ｇ，３４２ｂ）が設けられる。これらの複数のデータ信号線３４２は、互いに略平行で、前記走査信号線３４１の延伸方向に略直交する方向に延伸する。これらのデータ信号線３４２には、赤色絵素にデータ信号を伝送するデータ信号線３４２ｒと、緑色絵素にデータ信号を伝送するデータ信号線３４２ｇと、青色絵素にデータ信号を伝送するデータ信号線３４２ｂとが含まれ、これらが周期的に配列される。

各データ信号線３４２の一端（図９においては下端）は、端子部３３０に引き出される。それらの先端には、配線基板などと接続できるように接続ランド３３２が形成される。各データ信号線３４２の他端（図９においては上端）は、後述する検査用スイッチング素子３２１のドレイン電極に接続する。

また図示しないが、表示領域１１１内の各走査信号線３４１とデータ信号線３４２とが交差する箇所の近傍には、各絵素電極に印加する階調電圧のＯＮ／ＯＦＦを切り替えるスイッチング素子（薄膜トランジスタ）が設けられる。そしてこのスイッチング素子のゲート電極は所定の走査信号線３４１と電気的に接続し、ソース電極は所定のデータ信号線３４２に電気的に接続し、ドレイン電極はドレイン配線（チャネル部とも称する）を通じて絵素電極と電気的に接続する。

第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃの長辺に沿った部分に設けられる検査配線部１２（以下、「短辺の検査配線部１２ｌ」と称する）には、検査用入力パッド３２２（３２２ｒ，３２２ｇ，３２２ｂ，３２２ｔ）と、検査用配線３２３（３２３ｒ，３２３ｇ，３２３ｂ，３２３ｔ）と、検査用スイッチング素子（薄膜トランジスタ）３２１と、検査用スイッチング素子３２１のゲート電極から引き出される配線３２１１およびソース電極から引き出される配線３２１２とが設けられる。

検査用入力パッド３２２は、点灯検査において検査用信号を入力する端子である。検査用入力パッド３２２に入力する検査用信号には、赤色絵素のデータ信号線３４２ｒに伝送する信号と、緑色絵素のデータ信号線３４２ｇに伝送する信号と、青色絵素のデータ信号線３４２ｂに伝送する信号と、検査用スイッチング素子３２１のゲート電極に伝送してＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号とが含まれる。

検査用配線３２３は、赤色絵素のデータ信号線に検査用信号を伝送する配線３２３ｒと、緑色絵素のデータ信号線３４２ｇに検査用信号を伝送する配線３２３ｇと、青色絵素のデータ信号線３４２ｂに検査用信号を伝送する配線３２３ｂと、検査用スイッチング素子３２１のゲート電極に伝送する検査用信号を伝送する配線３２３ｔとが含まれる。そしてこれらの検査用配線３２３が略平行に設けられる。

各検査用配線３２３は、第一の部分３２３１（３２３１ｒ，３２３１ｇ，３２３１ｂ，３２３１ｔ）と第二の部分３２３２（３２３２ｒ，３２３２ｂ，３２３２ｂ，３２３２ｔ）とを有する。各第一の部分３２３１は、各検査用スイッチング素子３２１のゲート電極から引き出される配線３２１１とソース電極から引き出される配線３２１２の少なくとも一方と重畳または交差する箇所を有する部分をいうものとする。第二の部分３２３２はそれ以外の部分をいうものとする。

各第一の部分３２３１と各第二の部分３２３２はそれぞれ電気的に別体に形成される。各第一の部分３２３１と各第二の部分３２３２はたとえば交互に設けられ、それらの間が所定の導体３５２によって電気的に接続される。

表示パネル用の基板１ｃの短辺に沿う検査配線部１２（以下、「短辺の検査配線部１２ｓ」と称する）には、検査用入力パッド３１２（３１２ｕ，３１２ｂ，３１２ｔ）と、検査用配線３１３（３１３ｕ，３１３ｂ，３１３ｔ）と、検査用スイッチング素子（薄膜トランジスタ）３１１と、各検査用スイッチング素子３１１のゲート電極から引き出される配線３１１１と、ソース電極から引き出される配線３１１２と、ドレイン電極から引き出される配線３１１３と、コンタクト部３１９とが設けられる。

検査用入力パッド３１２（３１２ｕ，３１２ｂ，３１２ｔ）は、点灯検査において検査用信号を入力する電極である。検査用入力パッド３１２に入力する検査用信号には、表示領域１１１の各走査信号線３４１に伝送して表示領域内に設けられるスイッチング素子のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号と、検査用スイッチング素子３１１のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号とが含まれる。

検査用配線３１３には、一方の副絵素のスイッチング素子のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を伝送する配線３１３ｕと、他方の副絵素のスイッチング素子のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を伝送する配線３１３ｂと、検査用スイッチング素子３１１のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を伝送する配線３１３ｔとが含まれる。そしてこれらが略平行に設けられる。

各検査用配線３１３は、第一の部分３１３１（３１３１ｕ，３１３１ｂ，３１３１ｔ）と第二の部分３１３２（３１３２ｕ，３１３２ｂ，３１３２ｔ）とを有する。第一の部分３１３１は、各検査用スイッチング素子３１１のゲート電極から引き出される配線３１１１とソース電極から引き出される配線３１１２の少なくとも一方と重畳または交差する箇所を有する部分をいうものとする。第二の部分３１３２はそれ以外の部分をいうものとする。

各第一の部分３１３１と各第二の部分３１３２はそれぞれ電気的に別体に形成される。各第一の部分３１３１と各第二の部分３１３２は短辺の検査配線部１２ｓに沿って交互に設けられており、それらが所定の導体３６２によって互いに電気的に接続される。

各検査用スイッチング素子３１１のゲート電極から引き出される配線３１１１は、検査用スイッチング素子３１１のゲート電極に信号を伝送する配線３１３ｔに接続する。各検査用スイッチング素子３１１のソース電極から引き出される配線３１１２は、副絵素のスイッチング素子のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を伝送する二本の配線３１３ｕ，３１３ｂの一方の第一の部分３１３１（３１３１ｕ，３１３１ｂ）に接続する。各検査用スイッチング素子３１１のドレイン電極から引き出される配線３１１３は、コンタクト部３１９において表示領域１１１の走査信号線３４１に接続する。

図１０は、短辺の検査配線部１２ｌの断面構造を模式的に示した図である。図１０に示すように透明基板１３の表面に各検査用配線３２３の各第一の部分３２３１とが形成され、その表面を覆うように第一の絶縁膜１４１が形成される。第一の絶縁膜１４１の表面には、各検査用配線３２３の第二の部分３２３２と、各検査用スイッチング素子３２１のソース電極（図示せず）から引き出される配線３１１２と、ドレイン電極に接続するデータ信号線３４２（図示せず）が設けられる。そしてこれらを覆うように第二の絶縁膜１４２が形成される。

各検査用配線３２３の第一の部分３２３１の端部近傍には、第一の絶縁膜１４１と第二の絶縁膜１４２を貫通する開口部が形成される。各検査用配線３２３の各第二の部分３２３２の各端部近傍には、第二の絶縁膜１４２に開口部が形成される。そしてこれらの開口部の間に跨って導体３５２が形成される。

これらの導体３５２により、各検査用配線３２３の各第一の部分３２３１と第二の部分３２３２とが電気的に接続される。すなわち各検査用配線３２３は全体として、第一の絶縁膜１４１を挟んで形成される第一の部分３２３１と第二の部分３２３２とが交互に連続し、第一の部分３２３１と第二の部分３２３２とが導体３５２によって電気的に接続される構成を有する。

各検査用配線３２３の第一の部分３２３１と、各検査用スイッチング素子３２１のソース電極から引き出される配線３２１２とは、第一の絶縁膜１４１を挟んで重畳および／または交差する。そして、所定の検査用配線３２３の第一の部分３２３１と、所定の検査用スイッチング素子３２１のソース電極から引き出される配線３２１２とが交差または重畳する箇所にスルーホールが設けられ、このスルーホールによってこれらが電気的に接続される。このスルーホールは、検査用スイッチング素子３２１のソース電極から引き出される配線３２１２および第一の絶縁膜１４１に開口部を形成し、この開口部に導体３５３を形成する構成を有する。

なお図示しないが、各検査用スイッチング素子３１１のゲート電極と、これらのゲート電極から引き出される配線３１１１は、各検査用配線３２３の第一の部分３２３１と同じ層（すなわち、透明基板１３と第一の絶縁膜１４１の間）に形成される。

このような構成とすると、各検査用配線３２３の第一の部分３２３１と、これらに第一の絶縁膜１４１を挟んで交差または重畳する各検査用スイッチング素子３２１のソース電極から引き出される配線３２１２との面積差を小さくすることができる。このため、各検査用スイッチング素子３２１のソース電極から引き出される配線３２１２の形成した後、所定の検査用配線３２３の第一の部分３２３１とこれらの配線３２１２とを電気的に接続するまでの間に、これらの間での放電の発生を防止または抑制できる。したがって、これらの間に形成される第一の絶縁膜１４１の破壊を防止でき、点灯検査を正常に行うことができる。

そして、各検査用配線３２３の第一の部分３２３１と各検査用スイッチング素子３２１のソース電極から引き出される配線３２１２との面積の関係が前記数式
Ｖ＞｜Ｑ_ＸＳ_Ｘ／Ｃ_Ｘ−Ｑ_ＹＳ_Ｙ／Ｃ_Ｙ｜ （２）
を充足することが好ましい。ここで、
Ｖ：絶縁膜の耐電圧
Ｑ_Ｘ：各検査用スイッチング素子のソース電極から引き出される配線の単位面積あたりの帯電量
Ｓ_Ｘ：各検査用スイッチング素子のソース電極から引き出される配線の面積
Ｃ_Ｘ：各検査用スイッチング素子のソース電極から引き出される配線の容量
Ｑ_Ｙ：検査用配線の第一の部分の単位面積あたりの帯電量
Ｓ_Ｙ：検査用配線の第一の部分の面積
Ｃ_Ｙ：検査用配線の第一の部分の容量
である。

この数式（２）を充足するように設定すれば、各検査用配線３２３の第一の部分３２３１と各検査用スイッチング素子３２１のソース電極から引き出される配線３２１２との間の電位差を、第一の絶縁膜１４１の耐電圧以下に抑制することができる。このため、これらの間での放電の発生をより確実に防止できる。

次に、検査配線部１２の形成工程について、図１０を参照して説明する。なお、次に説明する各工程の間および／または各工程と同時に、表示パネル用の基板１ｃを製造するための他の工程が存在する場合があるが、ここでは省略する。また、前記第一または第二実施形態と同じ部分について説明を省略する。

まず、透明基板１３の表面に、各検査用配線３２３の第一の部分３２３１と、各検査用入力パッド３２２（図示せず）と、各検査用スイッチング素子３２１（図示せず）のゲート電極およびゲート電極から引き出される配線３２１１（図示せず）とを形成する。たとえば、透明基板１３の表面に第一の導体膜を形成し、形成した第一の導体膜をフォトリソグラフィ法などを用いて各検査用配線３２３の第一の部分３２３１、各検査用入力パッド３２２、各検査用スイッチング素子３２１のゲート電極およびゲート電極から引き出される配線３２１１とパターンにパターニングする。

次に、前記工程を経た透明基板１３の表面に第一の絶縁膜１４１を形成する。第一の絶縁膜１４１が形成されると、各検査用入力パッド３２２と、各検査用配線３２３の第一の部分３２３１と、各検査用スイッチング素子３２１のゲート電極およびゲート電極から引き出される配線３２１１とが、この第一の絶縁膜１４１に覆われる。

次に、各検査用配線３２３の第二の部分３２３２と、各検査用スイッチング素子３２１のソース電極（図示せず）およびソース電極から引き出される配線３２１２とを形成する。たとえば、前記工程を経た透明基板１３の表面に第二の導体膜を形成し、形成した第二の導体膜をフォトリソグラフィ法などを用いて各検査用配線３２３の第二の部分３２３２と、各検査用スイッチング素子３２１のソース電極およびソース電極から引き出される配線３２１２のパターンにパターニングする。

次に、第二の絶縁膜１４２を形成する。そしてこの工程で形成した第二の絶縁膜１４２と、先の工程で形成した第一の絶縁膜１４１の所定の位置に開口部を形成する。この開口部の形成には、フォトリソグラフィ法などを適用できる。開口部を形成する具体的な位置は、各検査用配線３２３の各第一の部分３２３１および各第二の部分３２３２の各端部近傍と、所定の検査用配線３２３の第一の部分３２３１と検査用スイッチング素子３２１のソース電極から引き出される配線３２１２とが交差または重畳する箇所である。

次に、各検査用配線３２３の各第一の部分３２３１と各第二の部分３２３２とを電気的にする導体３５２と、スルーホール内の導体３５３（すなわち、所定の検査用配線３２３の第一の部分３２３１と所定の検査用スイッチング素子３２１のソース電極から引き出される配線３２１２とを接続する導体）とを形成する。具体的にはたとえば、前記工程を経た基板の表面に導体膜を形成し、その後前記所定の箇所以外の導体膜を除去する。

なお、短辺の検査配線部１２ｓの構成および形成方法は、短辺の検査配線部１２ｌとほぼ同様の構成または形成方法とほぼ同じである。したがって説明は省略する。前記短辺の検査配線部１２ｌの説明において、「検査用スイッチング素子３２１に接続するデータ信号線３４２」を「検査用スイッチング素子３１１のドレイン電極から引き出される配線３１１３」に読み替えるとともに、各部の名称および符号を適宜読み替えればよい。

このような構成であっても、前記第一実施形態または第二実施形態と同様の作用効果を奏することができる。

図１１は、本発明の第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃの製造方法の各工程を模式的に示した断面図である。それぞれ、図１１（ａ）〜（ｆ）は、表示領域内の絵素の形成工程を示し、図１１（ｇ）〜（ｌ）は、短辺の検査配線部１２ｌにおける各配線の形成工程を示す。そして（ａ）と（ｇ）、（ｂ）と（ｈ）、（ｃ）と（ｉ）、（ｄ）と（ｊ）、（ｅ）と（ｋ）、（ｆ）と（ｌ）とは、それぞれ同じ工程を示す。なお、この図は説明のための模式的なものであり、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃの特定の切断線に沿った断面構造を示したものではない。なお、短辺の検査配線部１２ｓも短辺の検査配線部１２ｌとほぼ同じ構成を備えることから図は省略し、図１１（ｇ）〜（ｌ）を参照してまとめて説明する。

また、表示領域１１１内に絵素と各バスラインの構成および形成工程は第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａと同じ構成または工程が適用できる。すなわち図１１（ａ）〜（ｆ）に示す各工程は、図４の（ａ）〜（ｆ）に示す各工程に相当する。したがって、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａの製造方法製造方法と異なる部分について主に説明し、共通する部分については説明を省略する。以下の説明では、第一実施形態と共通の構成または共通の機能を有する要素には、第一実施形態の説明と同じ符号を付して示すものがある。

まず、図１１（ａ）に示すように、本体部の表示領域１１１内に、走査信号線３４１、補助容量線（図示せず）および薄膜トランジスタのゲート電極１５１を形成する。この工程において併せて図１１（ｇ）に示すように検査配線部１２ｓ，１２ｌには、各検査用配線３１３，３２３の第一の部分３１３１，３２３１および各検査用入力パッド３１２，３２２（図示せず）を形成する。

次いで図１１（ｂ），（ｈ）に示すように、前記工程を経た透明基板１３の表面に、第一の絶縁膜１４１を形成する。そして図１１（ｃ）に示すように、その表面のゲート電極１５１に重畳する箇所の表面に、半導体膜１５３とオーミットコンタクト膜１５４をと重ねて形成する。

次いで図１１（ｄ）に示すように、表示領域１１１内に、データ信号線３４２、ドレイン配線１５８、薄膜トランジスタのソース電極１５６およびドレイン電極１５７を形成する。この工程において併せて、図１１（ｊ）に示すように、検査配線部１２ｓ，１２ｌに検査用スイッチング素子３１１，３２１のソース電極およびドレイン電極、ソース電極から引き出される配線３１１２，３２１２を形成する。

次に、図１１（ｅ），（ｋ）のそれぞれに示すように、第二の絶縁膜１４２を形成する。この工程のパターニングでは、先の工程で形成した第一の絶縁膜１４１も同時に所定のパターンにパターニングする。そしてこの工程のパターニングによって、第二の絶縁膜１４２と第一の絶縁膜１４１の所定の箇所に開口部を形成する。開口部を形成する箇所は前記のとおりである。

次に、図１１（ｆ）に示すように、表示領域１１１内に絵素電極１５９を形成する。そしてこの工程と併せて、図１１（ｌ）に示すように検査配線部１２ｓ，１２ｌには、所定の配線どうしを接続する導体３５２，３５３，３６２を形成する。これらの導体３５２，３５３，３６２を形成する箇所も前記のとおりである。そしてこの工程によって、各スイッチング素子３１１，３２１のソース電極から引き出される配線３１１２，３２１２と各検査用配線３１３，３２３とが電気的に接続される。このため、この工程以降は、これらの間には放電が発生するような電位差が生じなくなる。

以上のような工程を経て、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃを得る。このような構成においても、第一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。

次に第四実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｄについて説明する。図１２は、第四実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｄの構成を模式的に示した平面図である。第四実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｄの構成は、短辺の検査配線部１２ｌの構成を除き第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃと同じ構成が適用できる。したがって、相違する部分について説明し、共通する部分は説明を省略する。また、第三実施形態と共通の構成または共通の機能を有する要素には同じ符号を付して説明する。

図１２に示すように、短辺の検査配線部１２ｌには、検査用入力パッド３２２と、検査用配線３２３と、検査用スイッチング素子（薄膜トランジスタ）３２１と、検査用スイッチング素子３２１のゲート電極から引き出される配線３２１１およびソース電極から引き出される配線３２１２とが設けられる。

検査用入力パッド３２２は、点灯検査において検査用信号を入力する電極である。検査用入力パッド３２２には次の四種類が含まれる。１．赤色絵素のデータ信号線３４２ｒに接続されるスイッチング素子３２１のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を入力する検査用入力パッド３２２ｒ、２．緑色絵素のデータ信号線３４２ｇに接続されるスイッチング素子３２１のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を入力する検査用入力パッド３２２ｇ、３．青色絵素のデータ信号線３４２ｂに接続されるスイッチング素子３２１のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を入力する検査用入力パッド３２２ｂ、４．各色の絵素のデータ信号線３４２（３４２ｒ，３４２ｇ，３４２ｂ）に伝送する信号を入力する検査用入力パッド３２２ｔ。

検査用配線３２３は、各検査用入力パッド３２２に入力された各検査用の信号を、検査用スイッチング素子３２１または検査用スイッチング素子３２１を介して各データ信号線３４２に伝送する配線である。検査用配線３２３には、次の四種類が含まれる。１．赤色絵素のデータ信号線３４２ｒに接続されるスイッチング素子３２１のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を伝送する検査用配線３２３ｒ、２．緑色絵素のデータ信号線３４２ｒに接続されるスイッチング素子３２１のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を伝送する検査用配線３２３ｇ、３．青色絵素のデータ信号線３４２ｂに接続されるスイッチング素子３２１のＯＮ／ＯＦＦを切り替える信号を伝送する検査用配線３２３ｂ、４．検査用スイッチング素子３２１を介して各色の絵素のデータ信号線３４２（３４２ｒ，３４２ｇ，３４２ｂ）に検査用信号を伝送する検査用配線３２３ｔ。そしてこれらの検査用配線３２３が互いに略平行に設けられる。

各検査用配線３２３の第一の部分３２３１は表示領域１１１の外縁に沿って所定の長さに形成され、複数の第一の部分３２３１が直列的に配列される。換言すると、短辺の検査配線部１２ｌには、各検査用配線３２３の複数の第一の部分３２３１が浮島状に配列される。各検査用配線３２３の第一の部分３２３１どうしの間には、第一の絶縁膜（図示せず）を挟んで検査用配線３２３の第二の部分３２３２が設けられる。そして各第一の部分３２３１と各第二の部分３２３２とは、所定の導体３５２によって電気的に接続される。

そして、各検査用スイッチング素子のソース電極から引き出される配線３１１２は、各色の絵素のデータ信号線３４２に検査用信号を伝送する検査用配線３２３ｔと電気的に接続する。ゲート電極から引き出される配線３２１１は、他の所定検査用配線３２３ｒ，３２３ｇ，３２３ｂのいずれかに接続する。

図１３は、短辺の検査配線部１２ｌの断面構造を模式的に示した図である。図１３に示すように短辺の検査配線部１２ｌには、透明基板１３の表面に各検査用入力パッド３２２と、各検査用配線３２３の第二の部分３２３２と、各検査用スイッチング素子３２１のゲート電極（図示せず）と、ゲート電極から引き出される配線３２１１とが形成され、それらの表面を覆うように第一の絶縁膜１４１が形成される。

第一の絶縁膜１４１の表面には、検査用配線３２３の第一の部分３２３１と、各検査用スイッチング素子３２１のソース電極（図示せず）と、これらのソース電極から引き出される配線３２１２（図示せず）とが設けられる。そしてこれらを覆うように第二の絶縁膜１４２が形成される。

各検査用配線３２３の第一の部分３２３１の各端部近傍には、第一の絶縁膜１４１に開口部が形成される。第一の絶縁膜１４１と第二の絶縁膜１４２には、各検査用配線３２３の各第二の部分３２３２の各端部近傍に、開口部が形成される。また、各検査用入力パッド３２２に重畳する部分にも開口部が形成される。そしてこれらの開口部の間に跨るように導体３５１，３５２，３５３が形成される。この導体３５１，３５２，３５３により、各検査用配線３２３の各第一の部分３２３１と第二の部分３２３２とが電気的に接続され、各検査用入力パッド３２２と検査用配線３２３の第二の部分３２３２とが電気的に接続される。

そして、各検査用配線３２３の第一の部分３２３１と、各検査用スイッチング素子３２１のゲート電極から引き出される配線３２１１とは、第一の絶縁膜１４１を挟んで重畳および／または交差する。そして、所定の検査用配線３２３の第一の部分３２３１と、所定の検査用スイッチング素子３２１のゲート電極から引き出される配線３２１１とが重畳または交差する箇所にスルーホールが設けられ、これらのスルーホールによってこれらが電気的に接続される。

このような構成であっても、第三実施形態かかる表示パネル用の基板１ｃと同様の作用効果を奏することができる。

第四実施形態かかる表示パネル用の基板１ｄの短辺の検査配線部１２ｌの形成工程は、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃとほぼ同じ工程が適用できる。ただし、第三実施形態の「検査用配線の第一の部分」を形成する工程に相当する工程においては、「検査用配線の第二の部分」を形成し、「検査用配線の第二の部分」を形成する工程に相当する工程おいては、「検査用配線の第一の部分」を形成する。

第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃまたは第四実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｄを適用した表示パネルの構成と製造方法は、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１ａを適用した表示パネルの構成と製造方法とほぼ同じであることから、説明は省略する。ただし、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃまたは第四実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｄを適用した表示パネルは、点灯検査後に検査配線部１２を切断する必要はない。

この第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１ｃを適用した表示パネルの構成および点灯検査の方法は、本出願人の先の日本国特許出願（出願番号：特願平１１−７２６４１号、公開番号：特開平１１−３３８３７６号）に記載のとおりである。

以上、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明したが、本発明は前記各実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において種々の改変が可能であることはいうまでもない。

たとえば、検査用入力パッドの数は、前記構成に限定されるものではない。前記構成は、一つの検査用パッドのグループに、赤色絵素の検査用信号、緑色絵素の検査用信号、青色絵素の検査用信号を入力する検査用パッドを一個ずつ備える構成を示したが、これ以外の構成も適用できる。たとえば、隣り合う絵素どうしに異なる極性のデータ信号を入力して駆動する構成（たとえばライン反転駆動やドット反転駆動）の表示パネルであれば、互いに極性の異なる信号を入力できるように、六個の検査用入力パッドと配線を備える構成とすることができる。

また、表示領域から引き出される配線束に含まれる配線の本数も、限定されるものではない。一つの配線束に含まれる配線の本数は、たとえば表示パネルの解像度（データ信号線の本数）や、この表示パネルに実装されるドライバＩＣなどに応じて適宜設定できる。

このように、検査用入力パッドや第一〜第三の配線の本数は適宜設定でき、前記構成に限定されるものではない。要は、絶縁膜を挟んで互いに重なり合う部分を有する配線どうしの面積差を小さくすることによって、放電の発生を防止できる構成であればよい。

また、前記ＴＦＴアレイ基板やカラーフィルタの構成や製造方法は一例であり、前記構成または製造方法に限定されるものではない。

Claims (10)

1. 検査用の信号を入力する端子と、表示領域のバスラインから引き出される配線と、絶縁膜と、該絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する部分を有し前記検査用の信号を入力する端子と前記バスラインから引き出される配線とを電気的に接続する検査用の配線とを備え、前記バスラインから引き出される配線の面積と前記検査用の配線の面積が、
   Ｖ＞｜Ｑ_ＸＳ_Ｘ／Ｃ_Ｘ−Ｑ_ＹＳ_Ｙ／Ｃ_Ｙ｜
   Ｖ：絶縁膜の耐電圧
   Ｑ_Ｘ：バスラインから引き出される配線の単位面積あたりの帯電量
   Ｓ_Ｘ：バスラインから引き出される配線の面積
   Ｃ_Ｘ：バスラインから引き出される配線の容量
   Ｑ_Ｙ：検査用の配線の単位面積あたりの帯電量
   Ｓ_Ｙ：検査用の配線の面積
   Ｃ_Ｙ：検査用の配線の容量
   を充足することを特徴とする表示パネル用の基板。
2. 検査用の信号を入力する端子と、表示領域のバスラインから引き出される配線と、絶縁膜と、該絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有し前記検査用の信号を入力する端子と前記バスラインから引き出される配線とを電気的に接続する検査用の配線とを備え、前記検査用の配線は別体に形成される複数の部分と、該複数の部分を互いに電気的に接続する導体とを備えることを特徴とする表示パネル用の基板。
3. 前記検査用の配線は、前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分と、前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有しない部分とを備え、前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分と前記バスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有しない部分とが別体に形成され、前記導体によって電気的に接続されることを特徴とする請求項２に記載の表示パネル用の基板。
4. 前記検査用の配線の前記バスラインから引き出される配線に前記絶縁膜を挟んで重畳および／または交差する箇所を有する部分の面積と、前記バスラインから引き出される配線の面積の関係が、
   Ｖ＞｜Ｑ_ＸＳ_Ｘ／Ｃ_Ｘ−Ｑ_ＹＳ_Ｙ／Ｃ_Ｙ｜
   Ｖ：絶縁膜の耐電圧
   Ｑ_Ｘ：バスラインから引き出される配線の単位面積あたりの帯電量
   Ｓ_Ｘ：バスラインから引き出される配線の面積
   Ｃ_Ｘ：バスラインから引き出される配線の容量
   Ｑ_Ｙ：検査用の配線の絶縁膜を挟んでバスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分の単位面積あたりの帯電量
   Ｓ_Ｙ：検査用の配線の絶縁膜を挟んでバスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分の面積
   Ｃ_Ｙ：検査用の配線の絶縁膜を挟んでバスラインから引き出される配線に重畳および／または交差する箇所を有する部分の容量
   を充足することを特徴とする請求項２または請求項３に記載の表示パネル用の基板。
5. 前記バスラインから引き出される配線に重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分および前記バスラインから引き出される配線は同じ材料により同じ層に形成されることを特徴とする請求項２から請求項４のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
6. バスラインとして少なくともゲートバスラインとソースバスラインとを備え、前記検査用の前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分および前記バスラインから引き出される配線はソースバスラインと同じ材料により同じ層に形成され、前記検査用の配線の前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線と重畳および／または交差する箇所を有する部分はソースバスラインと同じ材料により同じ層に形成され、前記検査用の配線の前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する部分と前記バスラインから引き出される配線とを電気的に接続する導体および前記検査用の配線の前記絶縁膜を挟んで前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分と有しない部分とを電気的に接続する導体は絵素電極と同じ材料により形成されることを特徴とする請求項２から請求項５のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
7. 請求項１から請求項６のいずれかに記載の表示パネル用の基板を備えることを特徴とする表示パネル。
8. 表示領域のバスラインから引き出される配線および検査用の配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分を形成する工程と、前記表示領域のバスラインから引き出される配線および検査用の配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分を覆う絶縁膜を形成する工程と、該絶縁膜の表面に検査用の配線の前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分を形成する工程と、前記検査用の配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分と前記バスラインから引き出される配線および前記検査用の配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分と有しない部分とを電気的に接続する導体を形成する工程と、を含むことを特徴とする表示パネル用の基板の製造方法。
9. 少なくともゲートバスラインを形成する工程と、ゲート絶縁膜を形成する工程と、ソースバスラインを形成する工程と、パッシベーション膜を形成する工程と、絵素電極を形成する工程とを備え、前記ゲートバスラインを形成する工程において同時に前記バスラインから引き出される配線および前記検査用の配線の前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分を形成し、前記ゲート絶縁膜を形成する工程において同時に前記バスラインから引き出される配線および前記検査用の配線の前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有しない部分を覆う第一の絶縁膜を形成し、前記ソースバスラインを形成する工程において同時に前記検査用の配線の前記バスラインから引き出される配線と重畳および／または交差する箇所を有する部分を形成し、前記パッシベーション膜を形成する工程において同時に前記検査用の配線の前記バスラインから引き出される配線と重畳および／または交差する箇所を有する部分を覆う第二の絶縁膜を形成し、前記絵素電極を形成する工程において同時に前記検査用の配線の前記バスラインと重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分と前記バスラインから引き出される配線および前記検査用の配線の前記バスラインから引き出される配線と重畳ならびに／または交差する箇所を有する部分と有しない部分とを電気的に接続する導体を形成することを特徴とする請求項８に記載の表示パネル用の基板の製造方法。
10. 請求項８または請求項９に記載の表示パネル用の基板の製造方法を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。

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