JPWO2007099828A1 - 環式基で置換された含窒素複素環誘導体 - Google Patents

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秀勲 三神山
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Abstract

式(I)で示される含窒素複素環誘導体は、NR1/NR2Bの受容体に特異的に結合し、NR2B受容体拮抗薬(特に、癌疼痛等に対する鎮痛剤、神経保護剤)として用いられる。(式中、ZはNまたはCR1であり、A1は環内に−NH−を有する(置換)含窒素芳香族単環式基又は(置換)含窒素芳香族縮合環式基であり、A2は(置換)芳香族炭化水素環式基又は(置換)芳香族複素環式基であり、R1及びR2は各々独立して水素又はヒドロキシ等であり、Ra、Rb、Rc及びRdは各々独立して水素又は低級アルキルであり、wは2または3であり、tは1または2であり、Xは−CONR5(CR3R4)n−、−NR5CO(CR3R4)n−、−NR5COCO(CR3R4)n−、−(CR3R4)mCONR5−等であり、mは1〜4であり、nは0〜4であり、R3及びR4は各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ等であり、R5は各々独立して水素又は低級アルキルである)で示される化合物、もしくはその製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。

Description

本発明は、中枢神経細胞のグルタミン酸受容体、特にNMDA受容体の1種であるNR1/NR2B受容体に対して特異的な拮抗作用を示し、好ましくは運動機能(例:知覚異常)、精神症状(例:精神分裂)などに対する副作用の少ない鎮痛剤等の医薬として有用な含窒素複素環誘導体に関する。
L−グルタミン酸、L−アスパラギン酸などのアミノ酸は、中枢神経系における神経伝達物質として神経細胞活性化のために重要である。しかし、これら興奮性アミノ酸の細胞外での過剰な蓄積は、パーキンソン病、老人性痴呆症、ハンチントン舞踏病、てんかんなどの種々の脳神経学的疾患、ならびに、酸素欠乏時、虚血症、低血糖状態時、頭部または脊髄損傷時などに見られるような精神および運動機能の欠失を引き起こすと考えられている。
上記興奮性アミノ酸の中枢神経細胞に対する活性は、神経細胞上に存在するグルタミン酸受容体を介して作用することが知られており、グルタミン酸受容体拮抗物質は、上記疾患および症状の治療剤、例えば、抗てんかん薬、虚血性脳傷害予防薬、抗パーキンソン病薬として有用であると考えられている。
上記グルタミン酸受容体の1種であるNMDA受容体は、NR1およびNR2の2つのサブユニットから構成されており、NR2サブユニットにはさらに4種(NR2A、2B、2C、2D)のサブファミリーが存在する。NR1/NR2A受容体は専ら記憶形成や学習獲得に関与し、NR1/NR2B受容体は脳虚血時における神経変性細胞死や疼痛の伝達に関与するといわれている。従って、NR1/NR2B受容体に高い親和性を示す薬剤は、副作用の少ない有効な鎮痛剤になる可能性が高い。
なお、本発明化合物と類似の化合物が特許文献1〜20および非特許文献1に記載されているが、本発明に係る化合物はいずれも記載されていない。
国際公開WO03/057688号パンフレット 国際公開WO02/068409号パンフレット 国際公開WO02/080928号パンフレット 国際公開WO02/40466号パンフレット 特開平11−147872号公報 特開平1−079151号公報 特開平2−169569号公報 国際公開WO2003/076420号パンフレット 国際公開WO2003/010159号パンフレット 国際公開WO2006/010968号パンフレット 国際公開WO2006/010964号パンフレット 国際公開WO2003/053366号パンフレット 国際公開WO03/084948号パンフレット 国際公開WO2002/051806号パンフレット 国際公開WO2001/007436号パンフレット 国際公開WO86/00899号パンフレット スイス特許出願公開CH460016号公報 スイス特許出願公開CH460017号公報 米国特許US3538089号公報 Farmaco、1989年、第44巻、第5号、227〜255頁
高活性で、より好ましくはサブタイプ、特にNR1/NR2B受容体に高い親和性を示すNMDA受容体拮抗薬、特に癌疼痛等に対する鎮痛薬を提供する。
本発明は、以下のものを提供する。
(1)式(I):
Figure 2007099828

(式中、
ZはNまたはCRであり、
は置換基を有していてもよい含窒素芳香族単環式基または置換基を有していてもよい含窒素芳香族縮合環式基であり、
該含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基は以下の条件:
i) 保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノおよび置換されていてもよいアミノオキシから選択される少なくとも1個の基を有する
または
ii) 環内に−NH−を含有する
の少なくとも一方を満たすものであり、
は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基または置換基を有していてもよい芳香族複素環式基であり、
およびRは各々独立して水素、ヒドロキシまたは低級アルキルであり、RおよびRは一緒になって単結合を形成していてもよく、
、R、RおよびRは各々独立して水素または低級アルキルであり、複数のR、複数のR、複数のRまたは複数のRが存在するときは、それぞれが異なっていてもよく、
wは2または3であり、tは1または2であり、
Xは
−(CR)m−、
−CO(CR)n−、
−(CR)mCO−、
−CONR(CR)n−、
−NRCO(CR)n−、
−(CR)mNRCO−、
−NRCONR(CR)n−、
−C(=N−OR)(CR)n−、
−(CR)rO(CR)n−、
−(CR)rS(CR)n−、
−(CR)rSO(CR)n−、
−(CR)rSO(CR)n−、
−CR=N−O(CR)n−、
−C(=O)O(CR)n−、
−(CR)mC(=N−OR)−、
−CH(OR)(CR)n−、
−(CR)mCH(OR)−、
−NRCOCO(CR)n−、
−(CR)mNRCOCO−、
−COCONR(CR)n−、
−NRCOCH(OR)(CR)n−、
−CH(OR)(CR)nNRCO−、
−NR(CR)mCO−、
−A−(CR)n−、
−(CR)m−A−、
−A−CR10=CR11(CR)n−、
−CR10=CR11(CR)n−A−、
−A−NR(CR)n−、
−(CR)nNR−A−または
−NR(CR)m−A−であり、
ZがCRのときは
−CONR(CR)m−NR−、
−(CR)mCONR−、
−(CR)mNRCONR−、
−CO(CR)mNR−、
−A−(CR)mNR−でもよく、
mは1〜4の整数であり、nおよびrは0〜4の整数であり、
は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基、置換基を有していてもよい芳香族複素環式基または置換基を有していてもよい非芳香族複素環式基であり、
およびRは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよい低級アルコキシであり、RおよびRが各々複数個存在する場合には各々異なっていてもよく、
、R、R、R、R、R10およびR11は各々独立して水素または低級アルキルであり、
mまたはnが1以上であるとき、Rは、Rが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成してもよい)
で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(1’)式(I):
Figure 2007099828

(式中、
ZはNまたはCRであり、
は置換基を有していてもよい含窒素芳香族単環式基または置換基を有していてもよい含窒素芳香族縮合環式基であり、
該含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基は以下の条件:
i) 保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノおよび置換されていてもよいアミノオキシから選択される少なくとも1個の基を有する
または
ii) 環内に−NH−を含有する
の少なくとも一方を満たすものであり、
は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基または置換基を有していてもよい芳香族複素環式基であり、
およびRは各々独立して水素、ヒドロキシまたは低級アルキルであり、RおよびRは一緒になって単結合を形成していてもよく、
、R、RおよびRは各々独立して水素または低級アルキルであり、複数のR、複数のR、複数のRまたは複数のRが存在するときは、それぞれが異なっていてもよく、
wは2または3であり、tは1または2であり、
Xは−(CR)m−、−CO(CR)n−、−(CR)nCO−、−CONR(CR)n−、−CONR(CR)m−NR−、−(CR)nCONR−、−NRCO(CR)n−、−(CR)nNRCO−、−NRCONR(CR)n−、−(CR)nNRCONR−、−C(=N−OR)(CR)n−、−(CR)rO(CR)n−、−(CR)rS(CR)n−、−(CR)rSO(CR)n−、−(CR)rSO(CR)n−、−CR=N−O(CR)n−、−C(=O)O(CR)n−、−(CR)nC(=N−OR)−、−CH(OR)(CR)n−、−(CR)nCH(OR)−、−NRCOCO(CR)n−、−(CR)nNRCOCO−、−COCONR(CR)n−、−NRCOCH(OR)(CR)n−、−CH(OR)(CR)nNRCO−、−A−(CR)n−、−(CR)n−A−、−A−CR10=CR11(CR)n−、−CR10=CR11(CR)n−A−、−A−(CR)nNR−、−A−NR(CR)n−、−(CR)nNR−A−または−NR(CR)n−A−であり、
mは1〜4の整数であり、nおよびrは0〜4の整数であり、
は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基、置換基を有していてもよい芳香族複素環式基または置換基を有していてもよい非芳香族複素環式基であり、
およびRは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよい低級アルコキシであり、RおよびRが各々複数個存在する場合には各々異なっていてもよく、
、R、R、R、R、R10およびR11は各々独立して水素または低級アルキルであり、
mまたはnが1以上であるとき、Rは、Rが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成してもよい)
で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(1’’)式(I):
Figure 2007099828

(式中、
ZはNまたはCRであり、
は保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノまたは置換されていてもよいアミノオキシを少なくとも1個有し、さらに他の基で置換されていてもよい含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基または
環内に−NH−を含有し、かつその他の環構成原子が、保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノおよび置換されていてもよいアミノオキシ以外の置換基で置換されていてもよい含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基であり、
は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基または置換基を有していてもよい芳香族複素環式基であり、
およびRは各々独立して水素、ヒドロキシまたは低級アルキルであり、RおよびRは一緒になって単結合を形成していてもよく、
、R、RおよびRは各々独立して水素または低級アルキルであり、複数のR、複数のR、複数のRまたは複数のRが存在するときは、それぞれが異なっていてもよく、
wは2または3であり、tは1または2であり、
Xは−(CR)m−、−CO(CR)n−、−(CR)nCO−、−CONR(CR)n−、−(CR)nCONR−、−NRCO(CR)n−、−(CR)nNRCO−、−NRCONR(CR)n−、−(CR)nNRCONR−、−C(=N−OR)(CR)n−、−(CR)nC(=N−OR)−、−CH(OR)(CR)n−、−(CR)nCH(OR)−、−NRCOCO(CR)n−、−(CR)nNRCOCO−、−COCONR(CR)n−、−NRCOCH(OR)(CR)n−、−CH(OR)(CR)nNRCO−、−A−(CR)n−、−(CR)n−A−、−A−CR10=CR11(CR)n−、−CR10=CR11(CR)n−A−、−A−(CR)nNR−または−NR(CR)n−A−であり、
mは1〜4の整数であり、nは0〜4の整数であり、

Figure 2007099828

(式中、破線は結合の存在または不存在を示し、Rは水素または低級アルキルである)
であり、
およびRは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよい低級アルコキシであり、RおよびRが各々複数個存在する場合には各々異なっていてもよく、
、R、R、R、R、R10およびR11は各々独立して水素または低級アルキルであり、
mまたはnが1以上であるとき、Rは、Rが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成してもよい)
で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(1’’’)式(I’):
Figure 2007099828

(式中、
ZはNまたはCRであり、
は保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノまたは置換されていてもよいアミノオキシを少なくとも1個有し、さらに他の基で置換されていてもよい含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基または
環内に−NH−を含有し、かつその他の環構成原子が、保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノおよび置換されていてもよいアミノオキシ以外の置換基で置換されていてもよい含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基であり、
は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基または置換基を有していてもよい芳香族複素環式基であり、
およびRは各々独立して水素、ヒドロキシまたは低級アルキルであり、RおよびRは一緒になって単結合を形成していてもよく、
Xは−(CR)m−、−CO(CR)n−、−(CR)nCO−、−CONR(CR)n−、−(CR)nCONR−、−NRCO(CR)n−、−(CR)nNRCO−、−NRCONR(CR)n−、−(CR)nNRCONR−、−C(=N−OR)(CR)n−、−(CR)nC(=N−OR)−、−CH(OR)(CR)n−、−(CR)nCH(OR)−、−NRCOCO(CR)n−、−(CR)nNRCOCO−、−COCONR(CR)n−、−NRCOCH(OR)(CR)n−、−CH(OR)(CR)nNRCO−、−A−(CR)n−、−(CR)n−A−、−A−CR10=CR11(CR)n−、−CR10=CR11(CR)n−A−、−A−(CR)nNR−または−NR(CR)n−A−であり、
mは1〜4の整数であり、nは0〜4の整数であり、

Figure 2007099828

(式中、破線は結合の存在または不存在を示し、Rは水素または低級アルキルである)
であり、
およびRは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよい低級アルコキシであり、RおよびRが各々複数個存在する場合には各々異なっていてもよく、
、R、R、R、R、R10およびR11は各々独立して水素または低級アルキルであり、
mまたはnが1以上であるとき、Rは、Rが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成してもよい)
で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(2)wが2または3であり、tが1である、上記(1)、(1’)または(1’’)記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(3)Xが−(CR)m−、−CO(CR)n−、−CONR(CR)n−、−(CR)mCONR−、−NRCO(CR)n−、−(CR)mNRCO−、−NRCONR(CR)n−、−C(=N−OR)(CR)n−、−CH(OR)(CR)n−、−NRCOCO(CR)n−、−NRCOCH(OR)(CR)n−、−NR(CR)mCO−、−A−(CR)n−、−A−CR10=CR11(CR)n−または−A−(CR)nNR−である、上記(1)、(1’)、(1’’)、(1’’’)または(2)記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(4)Aが少なくともヒドロキシで置換されたピリジル、少なくともヒドロキシで置換されたキノリル、少なくともヒドロキシで置換されたベンズオキサゾリル、少なくともヒドロキシで置換されたベンズイミダゾリル、少なくとも保護されていてもよいアミノで置換されたピリジル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいイミダゾリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいピロリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいピラゾリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいベンズピラゾリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいベンズイミダゾリルまたは−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいインドリルである、上記(1)、(1’)、(1’’)、(1’’’)、(2)または(3)記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(5)A
Figure 2007099828

である、上記(1)、(1’)、(1’’)、(1’’’)、(2)または(3)記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(6)Xが−CO(CHR)n−、−CONH(CHR)n−、−NHCO(CHR)n−、−NHCONH(CHR)n−、−NHCOCO(CHR)n−または−NR(CR)mCO−である、上記(1)〜(5)、(1’)、(1’’)および(1’’’)のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(7)Xが−CO(CHR−、−CONHCHR−、−CONH(CHR−、−NHCOCHR−、−NHCO(CHR−、−NHCONH−、−NHCOCO−または−NHCHCO−である、上記(1)〜(5)、(1’)、(1’’)および(1’’’)のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(8)ZがCRであり、RおよびRが各々独立して水素またはヒドロキシであるか、RおよびRが一緒になって単結合を形成するか、mまたはnが1以上のとき、RはRが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成する、上記(1)〜(7)、(1’)、(1’’)および(1’’’)のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(9)ZがNである、上記(1)〜(7)、(1’)、(1’’)および(1’’’)のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(10)Aが、それぞれハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロゲノ低級アルキル、低級アルコキシおよびハロゲノ低級アルコキシから選択される1以上の基で置換されていてもよいフェニルまたはピリジルである、上記(1)〜(9)、(1’)、(1’’)および(1’’’)のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(11)Aがパラ置換フェニル、メタ、パラジ置換フェニルまたはメタ、パラトリ置換フェニル(3,4,5−トリ置換フェニル)である、上記(1)〜(10)、(1’)、(1’’)および(1’’’)のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
(12)上記(1)〜(11)、(1’)、(1’’)および(1’’’)のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を含有する医薬組成物。
(13)NMDA受容体拮抗作用を有する、上記(12)記載の医薬組成物。
(14)NR1/NR2B受容体拮抗作用を有する、上記(13)記載の医薬組成物。
(15)上記(1)〜(11)、(1’)、(1’’)および(1’’’)のいずれかに記載の化合物を投与することを特徴とする、痛みの軽減方法または片頭痛、脳卒中、頭部外傷、アルツハイマー病、パーキンソン病、耳鳴り、てんかん、ハンチントン病、運動障害もしくはアルコール依存症の治療方法。
(16)鎮痛剤または片頭痛、脳卒中、頭部外傷、アルツハイマー病、パーキンソン病、耳鳴り、てんかん、ハンチントン病、運動障害もしくはアルコール依存症の治療剤の製造のための、上記(1)〜(11)、(1’)、(1’’)および(1’’’)のいずれかに記載の化合物の使用。
本発明化合物は、脳卒中及び脳外傷のような神経変性治療に用いられるばかりでなく、副作用の少ない鎮痛薬(例:癌疼痛鎮痛薬)等としても有用である。
本明細書中、「保護されていてもよいヒドロキシ」は、例えば低級アルキル(メチル、tert−ブチル等)、アリール低級アルキル(トリフェニルメチル、ベンジル等)、トリ低級アルキルシリル(トリメチルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル等)、低級アルキルジアリールシリル(tert−ブチルジフェニルシリル等)、トリアリール低級アルキルシリル(トリベンジルシリル等)、低級アルコキシ低級アルキル(メトキシメチル、1−エトキシエチル、1−メチル−1−メトキシエチル等)、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル(メトキシエトキシメチル等)、低級アルキルチオ低級アルキル(メチルチオメチル等)、テトラヒドロピラニル(テトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル等)、テトラヒドロチオピラニル(テトラヒドロチオピラン−2−イル等)、テトラヒドロフラニル(テトラヒドロフラン−2−イル等)、テトラヒドロチオフラニル(テトラヒドロチオフラン−2−イル等)、アリール低級アルコキシ低級アルキル(ベンジルオキシメチル等)、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、低級アルキルアリールスルホニル(p−トルエンスルホニル等)およびアシル等から選択される保護基で保護されていてもよいヒドロキシを包含する。好ましい保護基は低級アルキル、アリール低級アルキルまたは低級アルキルスルホニル等である。
「保護されていてもよいアミノ」は、例えば低級アルコキシカルボニル(tert−ブチルオキシカルボニル等)、低級アルケニルオキシカルボニル(ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル等)、ハロゲノ低級アルコキシカルボニル(2−ヨウ化エトキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル等)、アリール低級アルコキシカルボニル(ベンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、o−ニトロベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、フェニルオキシカルボニル等)、トリ低級アルキルシリル(トリメチルシリル、トリエチルシリル、tert−ブチルジメチルシリル等)、ジアゾ、アシル(ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル等)、ハロゲノアシル(トリフルオロアセチル等)、低級アルキルスルホニル(メタンスルホニル等)、ハロゲノ低級アルキルスルホニル(トリフルオロエタンスルホニル等)、アリールスルホニル、低級アルキルアリールスルホニル(トルエンスルホニル、4−tert−ブチルベンゼンスルホニル等)、アリール低級アルキル(トリフェニルメチル等)等から選択される保護基で保護されていてもよいアミノを包含する。好ましい保護基はアシルまたは低級アルキルスルホニル等である。
「置換されていてもよいアミノオキシ」の置換基としては、例えば低級アルキルまたはアシル等が挙げられる。
「含窒素芳香族単環式基」とは、少なくとも1個のNを環内に有し、さらにOまたはSを有していてもよい、5〜6員の芳香環式基を包含する。例えば
Figure 2007099828

等である。
「含窒素芳香族縮合環式基」とは、
a)少なくとも1個のNを環内に有し、さらにOまたはSを有していてもよい5〜6員の芳香環式基に、1個または2個の芳香環または非芳香環(好ましくはベンゼン環または芳香族複素環)が縮合している基、および
b) 少なくとも1個のNを環内に有し、さらにOまたはSを有していてもよい5〜7員の非芳香環式基に、1個または2個のベンゼン環または芳香族複素環が縮合している基を包含し、好ましくはa)である。例えば
Figure 2007099828

が挙げられる。結合手はいずれの環に存在していてもよい。
「i) 保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノおよび置換されていてもよいアミノオキシから選択される少なくとも1個の基を有する」の条件を満たす「置換基を有していてもよい含窒素芳香族単環式基または置換基を有していてもよい含窒素芳香族縮合環式基」、「保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノまたは置換されていてもよいアミノオキシを少なくとも1個有し、さらに他の基で置換されていてもよい含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基」とは、
環上に、保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノおよび置換されていてもよいアミノオキシから選択される少なくとも1個の基を有し、さらに置換基群αから選択される1以上の基で置換されていてもよい上記「含窒素芳香族単環式基」および
環上に、保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノおよび置換されていてもよいアミノオキシから選択される少なくとも1個の基を有し、さらに置換基群αから選択される1以上の基で置換されていてもよい上記「含窒素芳香族縮合環式基」を包含する。
ここで、置換基群αとは、ハロゲン、低級アルキル、ハロゲノ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲノ低級アルコキシ、アシル、アシルオキシ、低級アルキルアミノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノおよびニトロからなる群である。
「少なくともヒドロキシで置換されたピリジル」、「少なくともヒドロキシで置換されたキノリル」、「少なくともヒドロキシで置換されたベンズオキサゾリル」および「少なくともヒドロキシで置換されたベンズイミダゾリル」とは、それぞれ、少なくとも1個のヒドロキシを置換基として有し、さらに置換基群αから選択される1以上の基で置換されていてもよいピリジル、キノリル、ベンズオキサゾリルおよびベンズイミダゾリルを包含する。例えば6−ヒドロキシピリジン−3−イル、2−ヒドロキシピリジン−3−イル、6−ヒドロキシ−4−メチル−ピリジン−3−イル、4−アセチル−2−ヒドロキシ−ベンズオキサゾール−6−イル等である。
「少なくとも保護されていてもよいアミノで置換されたピリジル」とは、少なくとも1個のアミノまたは保護されたアミノを置換基として有し、さらに置換基群αから選択される1以上の基で置換されていてもよいピリジルを包含する。
「ii) 環内に−NH−を含有する」の条件を満たす「置換基を有していてもよい含窒素芳香族単環式基または置換基を有していてもよい含窒素芳香族縮合環式基」、「環内に−NH−を含有し、かつその他の環構成原子が、保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノおよび置換されていてもよいアミノオキシ以外の置換基で置換されていてもよい含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基」とは、上記「含窒素芳香族単環式基」および「含窒素芳香族縮合環式基」のうち、環内に−NH−基を含有する基を包含する。例えば
Figure 2007099828
等が挙げられる。結合手はいずれの環に存在していてもよく、−NH−以外の任意の環構成原子が置換基群βから選択される1以上の基で置換されていてもよい。
ここで置換基群βとはハロゲン、低級アルキル、ハロゲノ低級アルキル、アシル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノおよびニトロである。
「−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいイミダゾリル」、「−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいピロリル」、「−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいピラゾリル」、「−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいベンズピラゾリル」、「−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいベンズイミダゾリル」および「−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいインドリル」とは、それぞれ−NH−以外の任意の環構成原子が置換基群βから選択される1以上の基で置換されていてもよいイミダゾリル、ピロリル、ピラゾリル、ベンズピラゾリル、ベンズイミダゾリルおよびインドリルを包含する。
「芳香族炭化水素環式基」とは、フェニル、ナフチル、フェナンスリル等を包含する。
「置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基」の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、ハロゲノ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲノ低級アルコキシ、低級アルキルスルホニルオキシ、ハロゲノ低級アルキルスルホニルオキシ、アシル、アシルオキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アシルアミノ、ニトロ、シアノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、置換基群γから選択される1以上の基で置換されていてもよい芳香族炭化水素環式基、置換基群γから選択される1以上の基で置換されていてもよいアリールチオ、置換基群γから選択される1以上の基で置換されていてもよいアリールオキシ、置換基群γから選択される1以上の基で置換されていてもよいアリールアミノ、置換基群γから選択される1以上の基で置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ等が挙げられる。
ここで置換基群γとは、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、ハロゲノ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲノ低級アルコキシ、アシル、アシルオキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アシルアミノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノおよびニトロからなる群である。
「置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基」の好ましい例は、パラ位が置換されたフェニルまたはメタ位およびパラ位が置換されたフェニルであり、置換基はハロゲンおよび/またはハロゲノ低級アルキル等が好ましい。
「アリールスルホニル」、「アリールスルホニルオキシ」、「アリールオキシ」、「アリールチオ」、「アリールアミノ」、「アリール低級アルキル」、「低級アルキルジアリールシリル」、「トリアリール低級アルキルシリル」、「アリール低級アルコキシ低級アルキル」、「低級アルキルアリールスルホニル」、「アリール低級アルコキシカルボニル」のアリール部分は上記「芳香族炭化水素環式基」と同様である。好ましくはフェニルである。
「芳香族複素環式基」とは、N、OおよびSからなる群から選択されるヘテロ原子を1〜4個含む5〜6員の芳香族単環式基(例えばピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、イソキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、フリルおよびチエニル等)および芳香族縮合環式基(例えばインドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズピラゾリル、インダゾリル、シンノリニル、フタラジニル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、キナゾリニル、キノリル、イソキノリル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ナフチリジニルおよびピラジノピリダジニル等)を包含する。
「非芳香族複素環式基」とは、N、OおよびSからなる群から選択されるヘテロ原子を1〜4個含む5〜6員の芳香族単環式基(例えばチイラニル、オキシラニル、アゼチジニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、テトラヒドロフリル、ジヒドロフリル、オキサゾリニル、オキサゾリジニル、イソキサゾリニル、イソキサゾリジニル、オキサジアゾリニル、オキサチオラニル、ジオキソラニル、ジオキソリル、テトラヒドロチエニル、ジヒドロチエニル、チアゾリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリニル、イソチアゾリジニル、テトラヒドロピラニル、チアニル、ピペリジニル、ジオキサニル、ピペラジニル、モルホリニル、モルホリノ、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル等)を包含する。
特に、Aにおける「芳香族炭化水素環式基」、「芳香族複素環式基」および「非芳香族複素環式基」は上記「芳香族炭化水素環式基」、「芳香族複素環式基」および「非芳香族複素環式基」の2価の基を包含する。結合手は可能ないずれの位置に存在していてもよく、具体的には以下のような基が挙げられる。
Figure 2007099828

(式中、破線は結合の存在または不存在を示し、Rは水素または低級アルキルである)
「置換基を有していてもよい芳香族複素環式基」及び「置換基を有していてもよい有していてもよい非芳香族複素環式基」の置換基は、上記「置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基」の置換基と同様である。
における「置換基を有していてもよい芳香族複素環式基」の好ましい例は置換基を有していてもよいピリジルであり、好ましい置換基としてはハロゲン、ハロゲノ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲノ低級アルコキシ等が挙げられる。
「ハロゲン」とはF、Cl、Br、Iを包含する。
「ハロゲノ低級アルキル」、「ハロゲノ低級アルコキシ」、「ハロゲノ低級アルコキシカルボニル」、「ハロゲノアシル」、「ハロゲノ低級アルキルスルホニル」、「ハロゲノ低級アルキルスルホニルオキシ」の低級アルキル部分およびハロゲン部分は上記「ハロゲン」と同様である。
「低級アルキル」とは、炭素数が1〜10、好ましくは炭素数1〜6、さらに好ましくは炭素数1〜3までの直鎖状または分岐状のアルキルを包含し、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、n−へプチル、イソヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、n−ノニルおよびn−デシル等が例示される。特に好ましくはメチルまたはエチルである。
「置換基を有していてもよい低級アルキル」の置換基としては、例えばハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲノ低級アルコキシ、アシル、アシルオキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アシルアミノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノ、ニトロ等が挙げられ、置換された低級アルキルの好ましい例としてはトリハロゲノ低級アルキル等である。
「ハロゲノ低級アルキル」、「低級アルコキシ低級アルキル」、「低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル」、「低級アルキルチオ低級アルキル」、「アリール低級アルコキシ低級アルキル」、「低級アルコキシ」、「ハロゲノ低級アルコキシ」、「低級アルコキシカルボニル」、「ハロゲノ低級アルコキシカルボニル」、「アリール低級アルコキシカルボニル」、「低級アルキルカルバモイル」、「低級アルキルスルホニル」、「低級アルキルアリールスルホニル」、「低級アルキルスルホニルオキシ」、「ハロゲノ低級アルキルスルホニル」、「ハロゲノ低級アルキルスルホニルオキシ」、「低級アルキルアミノ」、「アリール低級アルキル」、「トリ低級アルキルシリル」、「低級アルキルジアリールシリル」、「トリアリール低級アルキルシリル」の低級アルキル部分は上記「低級アルキル」と同様である。
「置換基を有していてもよい低級アルコキシ」の置換基は上記「置換基を有していてもよい低級アルキル」の置換基と同様である。
「低級アルケニル」とは、任意の位置に1以上の二重結合を有する炭素数2〜10、好ましくは炭素数2〜8、さらに好ましくは炭素数3〜6の直鎖または分枝状のアルケニルを包含する。具体的にはビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニルおよびデセニル等を包含する。
「低級アルケニルオキシカルボニル」の低級アルケニル部分は上記「低級アルケニル」と同様である。
「アシル」とは、炭素数1〜7の脂肪族アシルおよびアロイルを包含する。具体的には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、アクリロイル、プロピオロイル、メタクリロイル、クロトノイルおよびベンゾイル等が例示される。
「アシルオキシ」、「アシルアミノ」および「ハロゲノアシル」のアシル部分は上記「アシル」と同様である。
「RおよびRは一緒になって単結合を形成」する場合とは、
Figure 2007099828

であることを意味する。
「mまたはnが1以上であるとき、Rは、Rが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成」する場合とは、
Figure 2007099828

(式中、Xは−CO−、−CONR−、−NRCO−、−NRCONR−、−C(=N−OR)−、−(CR)rO−、−(CR)rS−、−(CR)rSO−、−(CR)rSO−、−CR=N−O−、−C(=O)O−、−CH(OR)−、−NRCOCO−、−COCONR−、−NRCOCH(OR)−、−A−、−ANR−または−A−CR10=CR11−であり、その他の記号は前記と同義)
であることを意味する。
本発明化合物(I)は特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体やラセミ体を含むものである。例えば、下記の通り、互変異性体を含有する。
Figure 2007099828
以下に本発明化合物の一般的合成法を示すが、本合成法に限られるものではない。
A法:(II)から(I−a)の合成
塩基存在下、一般式(II)で示されるケトンと一般式(III)または(IV)で示される有機リン化合物を縮合して、一般式(I−a)で示される化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、Xは置換基を有していてもよい低級アルケニレンまたは−A−(CR)sであり、sは0〜3の整数、Zは塩素原子又は臭素原子であり、波線はシスまたはトランス体であることを示し、その他の各記号は前記と同意義である)
一般式(II)で示されるケトンは、後述の参考例8〜9に記載の方法、ならびにそれらに準ずる方法で合成することができる。また、一般式(III)および(IV)で示される有機リン化合物は、新実験化学講座14, 丸善株式会社 (1977).に記載の方法、ならびにそれに準ずる方法で合成することができる。
一般式(II)で示される化合物に対して、一般式(III)または(IV)で示される有機リン化合物を1〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、液体アンモニア等が挙げられる。
塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド、n−ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムアミド等が挙げられる。一般式(II)で示される化合物に対して、1.0〜5モル当量用いることができる。
反応温度としては−70〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−a)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
B法:(I−a)から(I−b)の合成
金属触媒存在下、一般式(I−a)で示される化合物を水素で還元することにより、一般式(I−b)で示される化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
金属触媒としては、5%パラジウム−炭素、10%パラジウム−炭素、酸化白金、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)が挙げられ、一般式(I−a)で示される化合物に対して0.01〜0.5重量パーセント用いることができる。
水素圧は1〜50気圧が挙げられる。
反応温度としては20℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−b)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
C法:(II)から(I−c)の合成
一般式(II)で示されるケトンに一般式(V)で示される有機金属化合物を反応させ、一般式(I−c)で示される化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、Xは置換基を有していてもよい低級アルケニレンまたは−A−(CR)nであり、Lはリチウム、MgCl、MgBrまたはMgIであり、その他の各記号は前記と同意義である)
一般式(II)で示されるケトンに対して、一般式(V)で示される化合物を1〜3モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
反応温度としては−70〜50℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(I−c)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
D法:化合物(VI)から(I−d)の合成
Figure 2007099828
(式中、R13はC1−4アルキルであり、その他の各記号は前記と同意義である)
一般式(VI)および(VII)で示される化合物は、後述の参考例11に記載の方法、ならびにそれらに準ずる方法で合成することができる。

(VI)から(VII)の合成
一般式(VI)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(VII)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(VI)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムを1〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(VII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(VII)から(I−d)の合成
縮合剤存在下、一般式(VII)で示されるカルボン酸と一般式(VIII)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−d)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(VII)で示される化合物に対して、一般式(VIII)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(VII)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾールを縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(VII)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−d)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
E法:化合物(VII)から(I−e)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
一般式(IX)で示されるアルコールは、後述の参考例1〜7に記載の方法、ならびにそれらに準ずる方法で合成することができる。

(IX)から(X)の合成
アゾ化合物と3価のリン化合物の存在下、一般式(IX)で示されるアルコールとフタルイミドを縮合して、一般式(X)で示される化合物を合成することができる。
一般式(IX)で示される化合物に対して、フタルイミドを1〜3モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル等が挙げられる。
アゾ化合物としては、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等が挙げられ、一般式(IX)で示される化合物に対して1〜3モル当量用いることができる。
3価のリン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等が挙げられ、一般式(IX)で示される化合物に対して1〜3モル当量用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(X)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(X)から(XI)の合成
一般式(XI)で示される化合物をヒドラジン水和物と処理することにより、一般式(XI)で示されるアミン化合物を合成することができる。
一般式(X)で示される化合物に対して、ヒドラジン水和物を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XI)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XI)から(I−e)の合成
縮合剤存在下、一般式(XII)で示されるアミン化合物と一般式(X)で示されるカルボン酸を縮合して、一般式(I−e)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XII)で示される化合物に対して、一般式(X)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XII)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾールを縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XI)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−e)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
F法:化合物(XI)から(I−f)の合成
一般式(XI)で示されるアミンに一般式(XIII)で示されるイソシアネート、または(XIV)で示されるカーバメートを反応させ、一般式(I−f)で示される化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、R14はフェニル、4−ニトロフェニルであり、その他の各記号は前記と同意義である)
一般式(XI)で示される化合物に対して、一般式(XIII)または(XIV)で示される化合物を0.5〜3モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、トルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
必要であれば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等のアミンを一般式(XII)で示される化合物に対して0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−f)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
G法:化合物(II)から(I−g)の合成
Figure 2007099828

(式中、Xは(CR)s;その他の各記号前記と同意義である)

(II)から(XVII)の合成
塩基存在下、一般式(II)で示されるケトンと一般式(XV)または(XVI)で示される有機リン化合物を縮合して、一般式(XVII)で示される化合物を合成することができる。
一般式(II)で示される化合物に対して、一般式(XV)または(XVI)で示される有機リン化合物を1〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、液体アンモニア等が挙げられる。
塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド、n−ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムアミド等が挙げられる。一般式(II)で示される化合物に対して、1.0〜5モル当量用いることができる。
反応温度としては−70〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XVII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XVII)から(XVIII)の合成
一般式(XVII)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(XVIII)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(XVII)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XVIII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XVIII)から(I−g)の合成
縮合剤存在下、一般式(XVIII)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−g)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XVIII)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XVIII)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XVIII)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−g)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
H法:化合物(XVII)から(I−h)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)

(XVII)から(XX)の合成
金属触媒存在下、一般式(XVII)で示される化合物を水素で還元することにより、一般式(XX)で示される化合物を合成することができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
金属触媒としては、5%パラジウム−炭素、10%パラジウム−炭素、酸化白金、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)等が挙げられ、一般式(XVII)で示される化合物に対して0.01〜0.5重量パーセント用いることができる。
水素圧は1気圧〜50気圧が挙げられる。
反応温度としては20℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XX)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XX)から(XXI)の合成
一般式(XXI)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(XXI)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(XX)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXI)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXI)から(I−h)の合成
縮合剤存在下、一般式(XXI)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−h)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XXI)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XXI)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XXI)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−h)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
I法:化合物(XVII−a)または(XX−a)から(I−i)の合成
Figure 2007099828

(式中、Xは(CR)vであり、vは0〜2の整数であり、点線は結合の存在または不存在を示し、その他の各記号は前記と同意義である)

(XVII−a)または(XX−a)から(XXII)の合成
還元剤存在下、一般式(XVII−a)または(XX−a)で示される化合物を還元して、一般式(XXII)で示されるアルコールを合成することができる。
反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエン、エタノール等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられ、一般式(XVII−a)または(XX−a)で示される化合物に対して0.5〜6モル当量用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XXII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXII)から(XXIII)の合成
アゾ化合物と3価のリン化合物の存在下、一般式(XXII)で示されるアルコールとフタルイミドを縮合して、一般式(XXIII)で示される化合物を合成することができる。
一般式(XXII)で示される化合物に対して、フタルイミドを1〜3モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル等が挙げられる。
アゾ化合物としては、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等が挙げられ、一般式(XXII)で示される化合物に対して1〜3モル当量用いることができる。
3価のリン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等が挙げられ、一般式(XXII)で示される化合物に対して1〜3モル当量用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XXIII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXIII)から(XXIV)の合成
一般式(XXIII)で示される化合物をヒドラジン水和物と処理することにより、一般式(XXIV)で示されるアミン化合物を合成することができる。
一般式(XXIII)で示される化合物に対して、ヒドラジン水和物を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXIV)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXIV)から(I−i)の合成
縮合剤存在下、一般式(XXIV)で示されるアミン化合物と一般式(XII)で示されるカルボン酸を縮合して、一般式(I−i)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XXIV)で示される化合物に対して、一般式(XII)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XXIV)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾールを縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XXIV)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−i)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
J法:化合物(XXIV)から(I−j)の合成
一般式(XXIV)で示されるアミンに一般式(XIII)で示されるイソシアネート、または(XIV)で示されるカーバメートを反応させ、一般式(I−j)で示される化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
一般式(XXIV)で示される化合物に対して、一般式(XIII)または(XIV)で示される化合物を0.5〜3モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、トルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
必要であれば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等のアミンを一般式(XXV)で示される化合物に対して0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−j)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
K法:化合物(XXII)から(I−k)の合成
Figure 2007099828

(式中、Lはハロゲン原子、C1−4アルキルスルホニルオキシ、C6−9アリールスルホニルオキシであり、その他の各記号は前記と同意義である)

(XXII)から(XXV)の合成
一般式(XXII)で示される化合物とハロゲン化剤、塩化アルキルスルホニルまたは塩化アリールスルホニルを反応して、一般式(XXV)で示される化合物を合成することができる。
反応溶媒としては、アセトニトリル、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、トルエン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
ハロゲン化剤としては、四塩化炭素/トリフェニルホスフィン、四臭化炭素/トリフェニルホスフィン等が挙げられ、一般式(XXII)で示される化合物に対して、四塩化炭素または四臭化炭素は0.5〜4モル当量、トリフェニルホスフィンは0.5〜2モル当量用いることができる。
塩化アルキルスルホニル、塩化アリールスルホニルとしては、メタンスルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド、トルエンスルホニルクロリド等が挙げられ、一般式(XXX)で示される化合物に対して0.5〜2モル当量用いることができる。この時、塩基としては、トリエチルアミン等を、一般式(XXII)で示される化合物に対して1〜6モル当量用いることができる。
反応温度としては20℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XXV)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXV)から(XXVI)の合成
一般式(XXV)で示される化合物とシアン化剤を反応して、一般式(XXVI)で示されるシアン化合物を合成することができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
シアン化剤としては、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化テトラブチルアンモニウム、シアン化テトラメチルアンモニウム等が挙げられ、一般式(XXV)で示される化合物に対して、1〜3モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XXVI)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXVI)から(XXVII)の合成
一般式(XXVI)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(XXVII)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(XXVI)で示される化合物に対して、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜48時間が挙げられる。
得られた一般式(XXVII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXVII)から(I−k)の合成
縮合剤存在下、一般式(XXVII)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−k)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XXVII)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XXVII)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XXVII)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−k)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
L法:化合物(XXII)から(I−l)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)

(XXII)から(XXVIII)の合成
一般式(XXII)で示される化合物を酸化剤と反応させ一般式(XXVIII)で示される化合物を合成することができる。
反応溶媒としては、酢酸エチル、塩化メチレン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
酸化剤としては1−ヒドロキシ−1,2−ベンズヨードオキソール−3(1H)−オン 1−オキシド、1,1−ジヒドロ−1,1,1−トリアセトキシ−1,2−ベンズヨードオキソール−3(1H)−オン等が挙げられ、一般式(XXII)で示される化合物に対して1〜5モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜50℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXVIII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXVIII)から(XXX)の合成
塩基存在下、一般式(XXVIII)で示される化合物と、一般式(XXIX)で示される有機リン化合物を縮合して、一般式(XXX)で示される化合物を合成することができる。
一般式(XXVIII)で示される化合物に対して、一般式(XXIX)で示される有機リン化合物を1〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、液体アンモニア等が挙げられる。
塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド、n−ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムアミド等が挙げられる。一般式(XXVIII)で示される化合物に対して、1.0〜5モル当量用いることができる。
反応温度としては−70〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XXX)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXX)から(XXXI)の合成
一般式(XXX)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(XXXI)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(XXX)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXI)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXI)から(I−l)の合成
縮合剤存在下、一般式(XXXI)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−l)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XXXI)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XXXI)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XXXI)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−l)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
M法:化合物(XXXII)から(I−m)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
一般式(XXXII)で示される化合物は、後述の参考例4〜7に記載の方法、ならびにそれらに準ずる方法で合成することができる。

(XXXII)から(XXXIII)の合成
アゾ化合物と3価のリン化合物の存在下、一般式(XXXII)で示されるアルコールとフタルイミドを縮合して、一般式(XXXIII)で示される化合物を合成することができる。
一般式(XXXII)で示される化合物に対して、フタルイミドを1〜3モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル等が挙げられる。
アゾ化合物としては、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等が挙げられ、一般式(XXXII)で示される化合物に対して1〜3モル当量用いることができる。
3価のリン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等が挙げられ、一般式(XXXII)で示される化合物に対して1〜3モル当量用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXIII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXIII)から(XXXIV)の合成
一般式(XXXIII)で示される化合物をヒドラジン水和物と処理することにより、一般式(XXXIV)で示されるアミン化合物を合成することができる。
一般式(XXXIII)で示される化合物に対して、ヒドラジン水和物を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXIV)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXIV)から(I−m)の合成
縮合剤存在下、一般式(XXXIV)で示されるアミン化合物と一般式(XXXV)で示されるカルボン酸を縮合して、一般式(I−m)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XXXIV)で示される化合物に対して、一般式(XXXV)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XXXIV)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XXXIV)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−m)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
N法:化合物(XVIII)から(I−n)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)

(XVIII)から(XXXVI)の合成
縮合剤存在下、一般式(XVIII)で示されるカルボン酸とN,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩を縮合して、一般式(XXXVI)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XVIII)で示される化合物に対して、N,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩等を0.5〜3モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XVIII)で示される化合物に対して、1〜3モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XVIII)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜3モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜80℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXVI)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXVI)から(I−n)の合成
一般式(XXXVI)で示されるアミド化合物に一般式(XXXVII)で示される有機金属化合物を反応させ、一般式(I−n)で示される化合物を合成することができる。
一般式(XXXVI)で示されるアミド化合物に対して、一般式(XXXVII)で示される化合物を1〜3モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
反応温度としては−70〜50℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(I−n)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
O法:化合物(I−n)から(I−o)の合成
一般式(I−n)で示される化合物を水素で還元することにより、一般式(I−o)で示される化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
金属触媒としては、5%パラジウム−炭素、10%パラジウム−炭素、酸化白金、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)が挙げられ、一般式(I−n)で示される化合物に対して0.01〜0.5重量パーセント用いることができる。
水素圧は1〜50気圧が挙げられる。
反応温度としては20℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−o)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
P法:化合物(I−n)または(I−o)から(I−p)の合成
一般式(I−n)または(I−o)で示されるケトンに一般式(XXXVIII)で示される化合物を反応させ、一般式(I−p)で示されるオキシム化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
一般式(I−n)または(I−o)で示されるケトンに対して、一般式(XXXVIII)で示される化合物を0.5〜3モル当量用いることができる。一般式(XXXVIII)で示される化合物の塩酸塩または硫酸塩を用いてもよい。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
トリエチルアミンなどの塩基や、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の塩を一般式(I−n)または(I−o)で示されるケトンに対して0.5〜5モル当量用いてもよい。
反応温度としては0〜80℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−p)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
Q法:化合物(I−n)または(I−o)から(I−q)の合成
還元剤存在下、一般式(I−n)または(I−o)で示される化合物を還元して、一般式(I−q)で示されるアルコールを合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエン、エタノール等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられ、一般式(I−n)または(I−o)で示される化合物に対して0.5〜6モル当量用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−q)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
R法:化合物(II)から(I−r)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
一般式(XXXIX)で示される化合物は、特開昭62−258342に記載の方法、ならびにそれらに準ずる方法で合成することができる。

(II)から(XXXX)の合成
塩基存在下、一般式(II)で示される化合物と、一般式(XXXIX)で示される有機リン化合物を縮合した後、酸処理することにより一般式(XXXX)で示される化合物を合成することができる。
一般式(II)で示される化合物に対して、一般式(XXXIX)で示される有機リン化合物を1〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、液体アンモニア等が挙げられる。
塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド、n−ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムアミド等が挙げられる。一般式(II)で示される化合物に対して、1.0〜5モル当量用いることができる。
反応温度としては−70〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
酸処理で用いる酸としてはp−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、塩酸、硫酸等が挙げられ、(II)で示される化合物に対して0.1〜10モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、トルエン、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては20〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXX)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXX)から(XXXXI)の合成
一般式(XXXX)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(XXXXI)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(XXXX)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXXI)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXXI)から(I−r)の合成
縮合剤存在下、一般式(XXXXI)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−r)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XXXXI)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XXXXI)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XXXXI)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
なお縮合剤として、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等を使用した場合は、反応時間が短縮されうる。
得られた一般式(I−r)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
S法:化合物(XXXX)から(I−s)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
(XXXX)から(XXXXII)の合成
還元剤存在下、一般式(XXXX)で示される化合物を還元して、一般式(XXXXII)で示されるアルコールを合成することができる。
反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエン、エタノール等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられ、一般式(XXXX)で示される化合物に対して0.5〜6モル当量用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXXII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXXII)から(XXXXIII)の合成
一般式(XXXXII)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(XXXXIII)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(XXXXII)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXXIII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXXIII)から(I−s)の合成
縮合剤存在下、一般式(XXXXIII)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−s)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XXXXIII)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XXXXIII)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XXXXIII)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−s)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
T法:化合物(XXXXII)から(I−t)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
(XXXXII)から(XXXXV)の合成
塩基存在下、一般式(XXXXII)で示される化合物と、一般式(XXXXIV)で示される化合物を反応することにより、一般式(XXXXV)で示される化合物を合成することができる。
一般式(XXXXII)で示される化合物に対して、一般式(XXXXIV)で示される化合物を1〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド、n−ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド等が挙げられる。一般式(XXXXII)で示される化合物に対して、1.0〜5モル当量用いることができる。
反応温度としては−70〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXXV)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXXV)から(XXXXVI)の合成
一般式(XXXXV)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(XXXXVI)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(XXXXV)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXXVI)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXXVI)から(I−t)の合成
縮合剤存在下、一般式(XXXXVI)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−t)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XXXXVI)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XXXXVI)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XXXXVI)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−t)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
U法:化合物(II)から(I−u)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
(II)から(XXXXVIII)の合成
塩基存在下、一般式(II)で示される化合物と、一般式(XXXXVII)で示される化合物を縮合することにより、一般式(XXXXVIII)で示される化合物を合成することができる。
一般式(II)で示される化合物に対して、一般式(XXXXVII)で示される化合物を1〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド、n−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミン、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド等が挙げられる。一般式(II)で示される化合物に対して、1.0〜5モル当量用いることができる。
反応温度としては−100〜20℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXXVIII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXXVIII)から(XXXXIX)の合成
一般式(XXXXVIII)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(XXXXIX)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(XXXXVIII)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(XXXXIX)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(XXXXIX)から(I−u)の合成
縮合剤存在下、一般式(XXXXIX)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−u)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(XXXXIX)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(XXXXIX)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(XXXXIX)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−u)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
V法:化合物(XVII−a)から(I−v)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
(XVII−a)から(L)の合成
一般式(XVII−a)で示される化合物を塩基と処理することにより、一般式(L)で示される化合物を合成することができる。
一般式(XVII−a)で示される化合物に対して、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、n−ブチルリチウム、カリウムtert−ブトキシド、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン等の塩基を0.1〜10モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、トルエン等が挙げられる。
反応温度としては−70〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(L)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(L)から(LI)の合成
一般式(L)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(LI)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(L)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(LI)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(LI)から(I−v)の合成
縮合剤存在下、一般式(LI)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−v)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(LI)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(LI)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(LI)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−v)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
W法:化合物(LII)から(I−w)の合成
塩基存在下、一般式(LII)で示されるアルデヒドと一般式(LIII)または(LIV)で示される有機リン化合物を縮合して、一般式(I−w)で示される化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
一般式(XXXII)で示される化合物は、後述の参考例10に記載の方法、ならびにそれらに準ずる方法で合成することができる。また、一般式(LIII)および(LIV)で示される有機リン化合物は、新実験化学講座14, 丸善株式会社 (1977)に記載の方法、ならびにそれに準ずる方法で合成することができる。
一般式(LII)で示される化合物に対して、一般式(LIII)または(LIV)で示される有機リン化合物を1〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、液体アンモニア等が挙げられる。
塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド、n−ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムアミド等が挙げられる。一般式(LII)で示される化合物に対して、1.0〜5モル当量用いることができる。
反応温度としては−70〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−w)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
X法:化合物(I−w)から(I−x)の合成
金属触媒存在下、一般式(I−w)で示される化合物を水素で還元することにより、一般式(I−x)で示される化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
金属触媒としては、5%パラジウム−炭素、10%パラジウム−炭素、酸化白金、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)が挙げられ、一般式(I−a)で示される化合物に対して0.01〜0.5重量パーセント用いることができる。
水素圧は1〜50気圧が挙げられる。
反応温度としては20℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−x)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
Y法:化合物(II)から(I−y)の合成
一般式(II)で示される化合物と一般式(LV)で示される化合物を還元的に縮合して、一般式(I−y)で示される化合物を合成することができる。
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
一般式(II)で示される化合物に対して、一般式(LV)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、1,2−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
還元剤としては、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられ、一般式(II)で示される化合物に対して0.5〜6モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜80℃が挙げられる。
必要であれば、酸として酢酸等を一般式(II)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
得られた一般式(I−y)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
Z法:化合物(LVI)から(I−z)の合成
Figure 2007099828

(式中、各記号は前記と同意義である)
(LVI)から(LVIII)の合成
塩基存在下、一般式(LVI)で示される化合物と、一般式(LVII)で示される化合物を縮合することにより、一般式(LVIII)で示される化合物を合成することができる。
一般式(LVI)で示される化合物に対して、一般式(LVII)で示される化合物を1〜3モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、トリエチルアミン、モルホリン、N−メチルモルホリン等が挙げられる。一般式(LVI)で示される化合物に対して、1.0〜5モル当量用いることができる。
反応温度としては−10〜50℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(LVIII)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(LVIII)から(LIX)の合成
一般式(LVIII)で示される化合物を加水分解することにより、一般式(LIX)で示されるカルボン酸を合成することができる。
一般式(LVIII)で示される化合物に対して、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を1.0〜5モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。
反応温度としては0℃〜溶媒の還流温度が挙げられる。
反応時間としては0.5〜24時間が挙げられる。
得られた一般式(LIX)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。

(LIX)から(I−z)の合成
縮合剤存在下、一般式(LIX)で示されるカルボン酸と一般式(XIX)で示されるアミン化合物を縮合して、一般式(I−z)で示されるアミド化合物を合成することができる。
一般式(LIX)で示される化合物に対して、一般式(XIX)で示される化合物を0.5〜2モル当量用いることができる。
反応溶媒としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチル−2−ピロリドン等が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられ、一般式(LIX)で示される化合物に対して、0.5〜2モル当量用いることができる。1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を縮合補助剤として0.5〜2モル当量用いてもよい。
塩基としては、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。一般式(LIX)で示される化合物に対して、それぞれ0.05〜2モル当量用いることができる。
反応温度としては0〜100℃が挙げられる。
反応時間としては0.5〜72時間が挙げられる。
なお縮合剤として、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル、塩化チオニル、塩化オキサリル等を使用した場合は、反応時間が短縮されうる。
得られた一般式(I−z)で示される化合物は、公知の手段(例えば、クロマトグラフィー、再結晶など)で単離精製することができる。
なお、Aが保護されているヒドロキシおよび/または保護されているアミノを少なくとも1個有し、さらに他の基で置換されていてもよい含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基または環内に−NH−を含有し、かつその他の環構成原子が、保護されているヒドロキシおよび保護されているアミノ以外の置換基で置換されていてもよい含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基である場合、通常使用される反応条件(例えば、T. W. GreenらProtective Groups in Organic Synthesis, Second Edition, John Wiley & Sons (1991).に記載の方法)で、その保護基を脱保護することができる。
本発明化合物が、光学異性体、立体異性体、位置異性体、回転異性体を含有する場合には、これらも本発明化合物として含有されるとともに、自体公知の合成手法、分離手法によりそれぞれを単品として得ることができる。例えば、本発明化合物に光学異性体が存在する場合には、該化合物から分割された光学異性体も本発明化合物に包含される。該光学異性体は、自体公知の方法により製造することができる。具体的には、光学活性な合成中間体を用いる、または、最終物のラセミ体の混合物を常法に従って光学分割することにより光学異性体を得る。
光学分割法としては、自体公知の方法、例えば、以下に詳述する分別再結晶法、キラルカラム法、ジアステレオマー法等が用いられる。
1)分別再結晶法
ラセミ体と光学活性な化合物(例えば、(+)−マンデル酸、(−)−マンデル酸、(+)−酒石酸、(−)−酒石酸、(+)−1−フェネチルアミン、(−)−1−フェネチルアミン、シンコニン、(−)−シンコニジン、ブルシンなど)と塩を形成させ、これを分別再結晶法によって分離し、所望により、中和工程を経てフリーの光学異性体を得る。
2)キラルカラム法
ラセミ体またはその塩を光学異性体分離用カラム(キラルカラム)にかけて分離する方法。例えば液体クロマトグラフィの場合、ENANTIO−OVM(トーソー社製)あるいは、ダイセル社製 CHIRALシリーズなどのキラルカラムに光学異性体の混合物を添加し、水、種々の緩衝液(例えば、リン酸緩衝液)、有機溶媒(例えば、エタノール、メタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、トリフルオロ酢酸、ジエチルアミンなど)を単独あるいは混合した溶液として展開させることにより、光学異性体を分離する。また、例えば、ガスクロマトグラフィーの場合、CP−Chirasil−DeX CB(ジーエルサイエンス社製)などのキラルカラムを使用して分離する。
3)ジアステレオマー法
ラセミ体の混合物を光学活性な試薬と化学反応によってジアステレオマーの混合物とし、これを通常の分離手段(例えば、分別再結晶、クロマトグラフィ法等)などを経て単一物質とした後、加水分解反応などの化学的な処理により光学活性な試薬部位を切り離すことにより光学異性体を得る方法。例えば、本発明化合物が分子内にヒドロキシまたは1,2級アミノを有する場合、該化合物と光学活性な有機酸(例えば、MTPA〔α−メトキシ−α−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸〕、(−)−メントキシ酢酸等)などとを縮合反応に付すことにより、それぞれエステル体またはアミド体のジアステレオマーを得ることができる。一方、本発明化合物がカルボン酸基を有する場合、該化合物と光学活性アミンまたはアルコール試薬とを縮合反応に付すことにより、それぞれアミド体またはエステル体のジアステレオマーが得られる。分離されたジアステレオマーは、酸加水分解あるいは塩基性加水分解反応に付すことにより、元の化合物の光学異性体に変換される。
本発明化合物の塩としては製薬的に許容される塩が使用可能であり、塩基性付加塩としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩;例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩;例えばアンモニウム塩;例えばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩;ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ブロカイン塩等の脂肪族アミン塩;例えばN,N−ジベンジルエチレンジアミン等のアラルキルアミン塩;例えばピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩、イソキノリン塩等の複素環芳香族アミン塩;例えばテトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩;アルギニン塩;リジン塩等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられる。
酸付加塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、りん酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩;例えばシュウ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石酸塩、りんご酸塩、くえん酸塩、アスコルビン酸塩等の有機酸塩;例えばメタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩;例えばアスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸等を挙げることができる。
化合物(I)は、水、アセトニトリル、アセトン、酢酸エチル、メタノール、エタノール等の溶媒和物であってもよい。又本発明化合物の溶媒和物の溶媒和数は通常、合成方法、精製方法又は結晶化条件等によって変化し得るが、例えば、化合物1分子当り0.5〜5分子の範囲である。
本発明化合物(I)のうち、以下の化合物が特に好ましい。
式(I)において、(CR)wが(CHまたは(CHであり、(CR)tがCHまたはCHMeであり、
1)Aが少なくともヒドロキシで置換されたピリジル、少なくともヒドロキシで置換されたベンズオキサゾリル、少なくともヒドロキシで置換されたベンズイミダゾリル、少なくとも保護されていてもよいアミノで置換されたピリジル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいイミダゾリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいピロリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいピラゾリル、または−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいベンズイミダゾリルである化合物(以下、Aがa1であるとする)、
2)Aがヒドロキシピリジル、ヒドロキシベンズオキサゾリル、ヒドロキシベンズイミダゾリル、ベンズピラゾリル、ベンズイミダゾリル、無置換イミダゾリル、無置換ピロリル、無置換ピラゾリルまたは無置換ベンズイミダゾリルである化合物(以下、Aがa2であるとする)、
3)Aがヒドロキシピリジル、ヒドロキシベンズオキサゾリル、ヒドロキシベンズイミダゾリル、無置換イミダゾリル、無置換ピラゾリルまたは無置換ピロリルである化合物(以下、Aがa3であるとする)、
4)Aがヒドロキシベンズオキサゾリルである化合物(以下、Aがa4であるとする)、
5)Xが−(CHR)m−、−CO(CHR)n−、−CONH(CHR)n−、−NHCO(CHR)n−、−NHCONH−、−NHCOCO−または−NH(CHR)mCO−であり(各々のRは異なっていてもよい)、ZがNまたはCRであり、RおよびRは各々独立して水素、ヒドロキシまたはメチルであるか、RおよびRが一緒になって単結合を形成していてもよく、mまたはnが1以上のとき、RはRが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成してもよい(ZがNであるとき、Rは不存在である。以下も同様)化合物(以下、X、RおよびRがxr1であるとする)、
6)Xが−CO(CHR)n−、−CONH(CHR)n−、−NHCO(CHR)n−、−NHCOCO−または−NH(CHR)mCO−であり、ZがNまたはCRであり、Rは水素またはヒドロキシであり、Rは水素またはメチルである化合物(以下、Xがxr2であるとする)、
7)Xが−CO(CHR)n−、−CONH(CHR)n−または−NHCO(CHR)n−であり、ZがCRであり、RおよびRが一緒になって単結合を形成している化合物(以下、Xがxr3であるとする)、
8)Xが−CO(CHR)n−、−CONH(CHR)n−または−NHCO(CHR)n−であり、ZがCRであり、Rは、Rが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成し、Rが水素である化合物(以下、Xがxr4であるとする)、
9)Xが−CO(CHR−、−CONH(CHR−、−NHCO(CHR−、−NHCOCO−または−NHCHRCO−であり、Rが水素またはメチルであり(各々のRは異なっていてもよい)、ZがNまたはCRであり、Rは水素またはヒドロキシであり、Rは水素またはメチルである化合物(以下、Xがxr5であるとする)、
10)Xが−CO(CHR−、−CONH(CHR−または−NHCO(CHR−であり、Rが水素またはメチルであり(各々のRは異なっていてもよい)、ZがCRであり、RおよびRが一緒になって単結合を形成している化合物(以下、Xがxr6であるとする)、
11)Xが−CO(CHR−、−CONH(CHR−または−NHCO(CHR−であり、Rが水素またはメチルであり(各々のRは異なっていてもよい)、ZがCRであり、Rは、Rが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成し、Rが水素である化合物(以下、Xがxr7であるとする)、
12)Xが−CO(CHR−、−CONH(CHR−、−NHCO(CHR−、−NHCOCO−または−NHCHRCO−であり、Rが水素またはメチルであり(各々のRは異なっていてもよい)、ZがNまたはCHであり、Rが水素である化合物(以下、Xがxr8であるとする)、
13)Xが−CO(CHR−、−CONH(CHR−、−NHCO(CHR−、−NHCOCO−または−NHCHRCO−であり、Rが水素またはメチルであり(各々のRは異なっていてもよい)、ZがCRまたはNである化合物(以下、Xがxr9であるとする)、
14)Aがそれぞれハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロゲノ低級アルキル、低級アルコキシおよびハロゲノ低級アルコキシから選択される1以上の基で置換されていてもよいフェニルまたはピリジルである化合物(以下、Aがa5であるとする)、
15)Aがそれぞれハロゲン、C1〜C3アルキル、ハロゲノC1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシおよびハロゲノC1〜C3アルコキシから選択される1以上の基で置換されていてもよいフェニルまたはピリジルである化合物(以下、Aがa6であるとする)、
16)Aが、それぞれパラ位がハロゲン、C1〜C3アルキル、ハロゲノC1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシまたはハロゲノC1〜C3アルコキシから選択される1以上の基で置換されたフェニルまたはピリジルである化合物(以下、Aがa7であるとする)、
17)Aが、メタ位およびパラ位がそれぞれハロゲン、C1〜C3アルキル、ハロゲノC1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシまたはハロゲノC1〜C3アルコキシから選択される1以上の基で置換されたフェニルである化合物(以下、Aがa8であるとする)、
18)A、X、R、R、Aの組み合わせ(A、xr、A)が以下のものである化合物、
(A、xr、A)=(a1,xr1,a5),(a1,xr1,a6),(a1,xr1,a7),(a1,xr1,a8),(a1,xr2,a5),(a1,xr2,a6),(a1,xr2,a7),(a1,xr2,a8),(a1,xr3,a5),(a1,xr3,a6),(a1,xr3,a7),(a1,xr3,a8),(a1,xr4,a5),(a1,xr4,a6),(a1,xr4,a7),(a1,xr4,a8),(a1,xr5,a5),(a1,xr5,a6),(a1,xr5,a7),(a1,xr5,a8),(a1,xr6,a5),(a1,xr6,a6),(a1,xr6,a7),(a1,xr6,a8),(a1,xr7,a5),(a1,xr7,a6),(a1,xr7,a7),(a1,xr7,a8),(a1,xr8,a5),(a1,xr8,a6),(a1,xr8,a7),(a1,xr8,a8),(a1,xr9,a5),(a1,xr9,a6),(a1,xr9,a7),(a1,xr9,a8),
(a2,xr1,a5),(a2,xr1,a6),(a2,xr1,a7),(a2,xr1,a8),(a2,xr2,a5),(a2,xr2,a6),(a2,xr2,a7),(a2,xr2,a8),(a2,xr3,a5),(a2,xr3,a6),(a2,xr3,a7),(a2,xr4,a5),(a2,xr4,a6),(a2,xr4,a7),(a2,xr4,a8),(a2,xr5,a5),(a2,xr5,a6),(a2,xr5,a7),(a2,xr5,a8),(a2,xr6,a5),(a2,xr6,a6),(a2,xr6,a7),(a2,xr6,a8),(a2,xr7,a5),(a2,xr7,a6),(a2,xr7,a7),(a2,xr7,a8),(a2,xr8,a5),(a2,xr8,a6),(a2,xr8,a7),(a2,xr8,a8),(a2,xr9,a5),(a2,xr9,a6),(a2,xr9,a7),(a2,xr9,a8),
(a3,xr1,a5),(a3,xr1,a6),(a3,xr1,a7),(a3,xr1,a8),(a3,xr2,a5),(a3,xr2,a6),(a3,xr2,a7),(a3,xr2,a8),(a3,xr3,a5),(a3,xr3,a6),(a3,xr3,a7),(a3,xr3,a8),(a3,xr4,a5),(a3,xr4,a6),(a3,xr4,a7),(a3,xr4,a8),(a3,xr5,a5),(a3,xr5,a6),(a3,xr5,a7),(a3,xr5,a8),(a3,xr6,a5),(a3,xr6,a6),(a3,xr6,a7),(a3,xr6,a8),(a3,xr7,a5),(a3,xr7,a6),(a3,xr7,a7),(a3,xr7,a8),(a3,xr8,a5),(a3,xr8,a6),(a3,xr8,a7),(a3,xr8,a8),(a3,xr9,a5),(a3,xr9,a6),(a3,xr9,a7),(a3,xr9,a8),
(a4,xr1,a5),(a4,xr1,a6),(a4,xr1,a7),(a4,xr1,a8),(a4,xr2,a5),(a4,xr2,a6),(a4,xr2,a7),(a4,xr2,a8),(a4,xr3,a5),(a4,xr3,a6),(a4,xr3,a7),(a4,xr3,a8),(a4,xr4,a5),(a4,xr4,a6),(a4,xr4,a7),(a4,xr4,a8),(a4,xr5,a5),(a4,xr5,a6),(a4,xr5,a7),(a4,xr5,a8),(a4,xr6,a5),(a4,xr6,a6),(a4,xr6,a7),(a4,xr6,a8),(a4,xr7,a5),(a4,xr7,a6),(a4,xr7,a7),(a4,xr7,a8),(a4,xr8,a5),(a4,xr8,a6),(a4,xr8,a7),(a4,xr8,a8),(a4,xr9,a5),(a4,xr9,a6),(a4,xr9,a7),(a4,xr9,a8)
式(I)または(I’)において
16)Aが保護されていてもよいヒドロキシまたは保護されていてもよいアミノを少なくとも1個有しているピリジルであり、−X−が−CONH(CHR)n−、−NHCO(CHR)n−または−NHCOCO−であり、nが2以上である化合物、
17)Aが保護されていてもよいヒドロキシまたは保護されていてもよいアミノを少なくとも1個有しているベンズオキサゾリルまたはベンズイミダゾリルであり、Xが−CONH(CHR)n−、−NRCO(CR)n−、−NRCONR−または−NHCOCO−である化合物、
もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
下記式(1)〜(7)において、A、A、Xの組み合わせ(A、A、X)が以下のものである化合物、その製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物も、本発明の好ましい態様である。
Figure 2007099828
Figure 2007099828
Figure 2007099828
Figure 2007099828

(表中、Msはメタンスルホニル、Meはメチル、iPrはイソプロピルを示す)
(A、A、X)=(a1,b1,X1),(a1,b1,X2),(a1,b1,X3),(a1,b1,X4),(a1,b1,X5),(a1,b1,X6),(a1,b1,X7),(a1,b1,X8),(a1,b1,X9),(a1,b1,X10),(a1,b1,X11),(a1,b1,X12),(a1,b1,X13),(a1,b1,X14),(a1,b1,X15),(a1,b1,X16),(a1,b1,X17),(a1,b1,X18),(a1,b2,X1),(a1,b2,X2),(a1,b2,X3),(a1,b2,X4),(a1,b2,X5),(a1,b2,X6),(a1,b2,X7),(a1,b2,X8),(a1,b2,X9),(a1,b2,X10),(a1,b2,X11),(a1,b2,X12),(a1,b2,X13),(a1,b2,X14),(a1,b2,X15),(a1,b2,X16),(a1,b2,X17),(a1,b2,X18),(a1,b3,X1),(a1,b3,X2),(a1,b3,X3),(a1,b3,X4),(a1,b3,X5),(a1,b3,X6),(a1,b3,X7),(a1,b3,X8),(a1,b3,X9),(a1,b3,X10),(a1,b3,X11),(a1,b3,X12),(a1,b3,X13),(a1,b3,X14),(a1,b3,X15),(a1,b3,X16),(a1,b3,X17),(a1,b3,X18),(a1,b4,X1),(a1,b4,X2),(a1,b4,X3),(a1,b4,X4),(a1,b4,X5),(a1,b4,X6),(a1,b4,X7),(a1,b4,X8),(a1,b4,X9),(a1,b4,X10),(a1,b4,X11),(a1,b4,X12),(a1,b4,X13),(a1,b4,X14),(a1,b4,X15),(a1,b4,X16),(a1,b4,X17),(a1,b4,X18),(a1,b5,X1),(a1,b5,X2),(a1,b5,X3),(a1,b5,X4),(a1,b5,X5),(a1,b5,X6),(a1,b5,X7),(a1,b5,X8),(a1,b5,X9),(a1,b5,X10),(a1,b5,X11),(a1,b5,X12),(a1,b5,X13),(a1,b5,X14),(a1,b5,X15),(a1,b5,X16),(a1,b5,X17),(a1,b5,X18),(a1,b6,X1),(a1,b6,X2),(a1,b6,X3),(a1,b6,X4),(a1,b6,X5),(a1,b6,X6),(a1,b6,X7),(a1,b6,X8),(a1,b6,X9),(a1,b6,X10),(a1,b6,X11),(a1,b6,X12),(a1,b6,X13),(a1,b6,X14),(a1,b6,X15),(a1,b6,X16),(a1,b6,X17),(a1,b6,X18),(a1,b7,X1),(a1,b7,X2),(a1,b7,X3),(a1,b7,X4),(a1,b7,X5),(a1,b7,X6),(a1,b7,X7),(a1,b7,X8),(a1,b7,X9),(a1,b7,X10),(a1,b7,X11),(a1,b7,X12),(a1,b7,X13),(a1,b7,X14),(a1,b7,X15),(a1,b7,X16),(a1,b7,X17),(a1,b7,X18),(a1,b8,X1),(a1,b8,X2),(a1,b8,X3),(a1,b8,X4),(a1,b8,X5),(a1,b8,X6),(a1,b8,X7),(a1,b8,X8),(a1,b8,X9),(a1,b8,X10),(a1,b8,X11),(a1,b8,X12),(a1,b8,X13),(a1,b8,X14),(a1,b8,X15),(a1,b8,X16),(a1,b8,X17),(a1,b8,X18),(a1,b9,X1),(a1,b9,X2),(a1,b9,X3),(a1,b9,X4),(a1,b9,X5),(a1,b9,X6),(a1,b9,X7),(a1,b9,X8),(a1,b9,X9),(a1,b9,X10),(a1,b9,X11),(a1,b9,X12),(a1,b9,X13),(a1,b9,X14),(a1,b9,X15),(a1,b9,X16),(a1,b9,X17),(a1,b9,X18),(a1,b10,X1),(a1,b10,X2),(a1,b10,X3),(a1,b10,X4),(a1,b10,X5),(a1,b10,X6),(a1,b10,X7),(a1,b10,X8),(a1,b10,X9),(a1,b10,X10),(a1,b10,X11),(a1,b10,X12),(a1,b10,X13),(a1,b10,X14),(a1,b10,X15),(a1,b10,X16),(a1,b10,X17),(a1,b10,X18),(a1,b11,X1),(a1,b11,X2),(a1,b11,X3),(a1,b11,X4),(a1,b11,X5),(a1,b11,X6),(a1,b11,X7),(a1,b11,X8),(a1,b11,X9),(a1,b11,X10),(a1,b11,X11),(a1,b11,X12),(a1,b11,X13),(a1,b11,X14),(a1,b11,X15),(a1,b11,X16),(a1,b11,X17),(a1,b11,X18),(a1,b12,X1),(a1,b12,X2),(a1,b12,X3),(a1,b12,X4),(a1,b12,X5),(a1,b12,X6),(a1,b12,X7),(a1,b12,X8),(a1,b12,X9),(a1,b12,X10),(a1,b12,X11),(a1,b12,X12),(a1,b12,X13),(a1,b12,X14),(a1,b12,X15),(a1,b12,X16),(a1,b12,X17),(a1,b12,X18),(a1,b13,X1),(a1,b13,X2),(a1,b13,X3),(a1,b13,X4),(a1,b13,X5),(a1,b13,X6),(a1,b13,X7),(a1,b13,X8),(a1,b13,X9),(a1,b13,X10),(a1,b13,X11),(a1,b13,X12),(a1,b13,X13),(a1,b13,X14),(a1,b13,X15),(a1,b13,X16),(a1,b13,X17),(a1,b13,X18),(a1,b14,X1),(a1,b14,X2),(a1,b14,X3),(a1,b14,X4),(a1,b14,X5),(a1,b14,X6),(a1,b14,X7),(a1,b14,X8),(a1,b14,X9),(a1,b14,X10),(a1,b14,X11),(a1,b14,X12),(a1,b14,X13),(a1,b14,X14),(a1,b14,X15),(a1,b14,X16),(a1,b14,X17),(a1,b14,X18),(a1,b15,X1),(a1,b15,X2),(a1,b15,X3),(a1,b15,X4),(a1,b15,X5),(a1,b15,X6),(a1,b15,X7),(a1,b15,X8),(a1,b15,X9),(a1,b15,X10),(a1,b15,X11),(a1,b15,X12),(a1,b15,X13),(a1,b15,X14),(a1,b15,X15),(a1,b15,X16),(a1,b15,X17),(a1,b15,X18),(a1,b16,X1),(a1,b16,X2),(a1,b16,X3),(a1,b16,X4),(a1,b16,X5),(a1,b16,X6),(a1,b16,X7),(a1,b16,X8),(a1,b16,X9),(a1,b16,X10),(a1,b16,X11),(a1,b16,X12),(a1,b16,X13),(a1,b16,X14),(a1,b16,X15),(a1,b16,X16),(a1,b16,X17),(a1,b16,X18),(a1,b17,X1),(a1,b17,X2),(a1,b17,X3),(a1,b17,X4),(a1,b17,X5),(a1,b17,X6),(a1,b17,X7),(a1,b17,X8),(a1,b17,X9),(a1,b17,X10),(a1,b17,X11),(a1,b17,X12),(a1,b17,X13),(a1,b17,X14),(a1,b17,X15),(a1,b17,X16),(a1,b17,X17),(a1,b17,X18),(a1,b18,X1),(a1,b18,X2),(a1,b18,X3),(a1,b18,X4),(a1,b18,X5),(a1,b18,X6),(a1,b18,X7),(a1,b18,X8),(a1,b18,X9),(a1,b18,X10),(a1,b18,X11),(a1,b18,X12),(a1,b18,X13),(a1,b18,X14),(a1,b18,X15),(a1,b18,X16),(a1,b18,X17),(a1,b18,X18),(a1,b19,X1),(a1,b19,X2),(a1,b19,X3),(a1,b19,X4),(a1,b19,X5),(a1,b19,X6),(a1,b19,X7),(a1,b19,X8),(a1,b19,X9),(a1,b19,X10),(a1,b19,X11),(a1,b19,X12),(a1,b19,X13),(a1,b19,X14),(a1,b19,X15),(a1,b19,X16),(a1,b19,X17),(a1,b19,X18),(a1,b20,X1),(a1,b20,X2),(a1,b20,X3),(a1,b20,X4),(a1,b20,X5),(a1,b20,X6),(a1,b20,X7),(a1,b20,X8),(a1,b20,X9),(a1,b20,X10),(a1,b20,X11),(a1,b20,X12),(a1,b20,X13),(a1,b20,X14),(a1,b20,X15),(a1,b20,X16),(a1,b20,X17),(a1,b20,X18),(a1,b21,X1),(a1,b21,X2),(a1,b21,X3),(a1,b21,X4),(a1,b21,X5),(a1,b21,X6),(a1,b21,X7),(a1,b21,X8),(a1,b21,X9),(a1,b21,X10),(a1,b21,X11),(a1,b21,X12),(a1,b21,X13),(a1,b21,X14),(a1,b21,X15),(a1,b21,X16),(a1,b21,X17),(a1,b21,X18),(a1,b22,X1),(a1,b22,X2),(a1,b22,X3),(a1,b22,X4),(a1,b22,X5),(a1,b22,X6),(a1,b22,X7),(a1,b22,X8),(a1,b22,X9),(a1,b22,X10),(a1,b22,X11),(a1,b22,X12),(a1,b22,X13),(a1,b22,X14),(a1,b22,X15),(a1,b22,X16),(a1,b22,X17),(a1,b22,X18),(a1,b23,X1),(a1,b23,X2),(a1,b23,X3),(a1,b23,X4),(a1,b23,X5),(a1,b23,X6),(a1,b23,X7),(a1,b23,X8),(a1,b23,X9),(a1,b23,X10),(a1,b23,X11),(a1,b23,X12),(a1,b23,X13),(a1,b23,X14),(a1,b23,X15),(a1,b23,X16),(a1,b23,X17),(a1,b23,X18),(a1,b24,X1),(a1,b24,X2),(a1,b24,X3),(a1,b24,X4),(a1,b24,X5),(a1,b24,X6),(a1,b24,X7),(a1,b24,X8),(a1,b24,X9),(a1,b24,X10),(a1,b24,X11),(a1,b24,X12),(a1,b24,X13),(a1,b24,X14),(a1,b24,X15),(a1,b24,X16),(a1,b24,X17),(a1,b24,X18),(a1,b25,X1),(a1,b25,X2),(a1,b25,X3),(a1,b25,X4),(a1,b25,X5),(a1,b25,X6),(a1,b25,X7),(a1,b25,X8),(a1,b25,X9),(a1,b25,X10),(a1,b25,X11),(a1,b25,X12),(a1,b25,X13),(a1,b25,X14),(a1,b25,X15),(a1,b25,X16),(a1,b25,X17),(a1,b25,X18),(a1,b26,X1),(a1,b26,X2),(a1,b26,X3),(a1,b26,X4),(a1,b26,X5),(a1,b26,X6),(a1,b26,X7),(a1,b26,X8),(a1,b26,X9),(a1,b26,X10),(a1,b26,X11),(a1,b26,X12),(a1,b26,X13),(a1,b26,X14),(a1,b26,X15),(a1,b26,X16),(a1,b26,X17),(a1,b26,X18),(a1,b27,X1),(a1,b27,X2),(a1,b27,X3),(a1,b27,X4),(a1,b27,X5),(a1,b27,X6),(a1,b27,X7),(a1,b27,X8),(a1,b27,X9),(a1,b27,X10),(a1,b27,X11),(a1,b27,X12),(a1,b27,X13),(a1,b27,X14),(a1,b27,X15),(a1,b27,X16),(a1,b27,X17),(a1,b27,X18),
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(a12,b1,X1),(a12,b1,X2),(a12,b1,X3),(a12,b1,X4),(a12,b1,X5),(a12,b1,X6),(a12,b1,X7),(a12,b1,X8),(a12,b1,X9),(a12,b1,X10),(a12,b1,X11),(a12,b1,X12),(a12,b1,X13),(a12,b1,X14),(a12,b1,X15),(a12,b1,X16),(a12,b1,X17),(a12,b1,X18),(a12,b2,X1),(a12,b2,X2),(a12,b2,X3),(a12,b2,X4),(a12,b2,X5),(a12,b2,X6),(a12,b2,X7),(a12,b2,X8),(a12,b2,X9),(a12,b2,X10),(a12,b2,X11),(a12,b2,X12),(a12,b2,X13),(a12,b2,X14),(a12,b2,X15),(a12,b2,X16),(a12,b2,X17),(a12,b2,X18),(a12,b3,X1),(a12,b3,X2),(a12,b3,X3),(a12,b3,X4),(a12,b3,X5),(a12,b3,X6),(a12,b3,X7),(a12,b3,X8),(a12,b3,X9),(a12,b3,X10),(a12,b3,X11),(a12,b3,X12),(a12,b3,X13),(a12,b3,X14),(a12,b3,X15),(a12,b3,X16),(a12,b3,X17),(a12,b3,X18),(a12,b4,X1),(a12,b4,X2),(a12,b4,X3),(a12,b4,X4),(a12,b4,X5),(a12,b4,X6),(a12,b4,X7),(a12,b4,X8),(a12,b4,X9),(a12,b4,X10),(a12,b4,X11),(a12,b4,X12),(a12,b4,X13),(a12,b4,X14),(a12,b4,X15),(a12,b4,X16),(a12,b4,X17),(a12,b4,X18),(a12,b5,X1),(a12,b5,X2),(a12,b5,X3),(a12,b5,X4),(a12,b5,X5),(a12,b5,X6),(a12,b5,X7),(a12,b5,X8),(a12,b5,X9),(a12,b5,X10),(a12,b5,X11),(a12,b5,X12),(a12,b5,X13),(a12,b5,X14),(a12,b5,X15),(a12,b5,X16),(a12,b5,X17),(a12,b5,X18),(a12,b6,X1),(a12,b6,X2),(a12,b6,X3),(a12,b6,X4),(a12,b6,X5),(a12,b6,X6),(a12,b6,X7),(a12,b6,X8),(a12,b6,X9),(a12,b6,X10),(a12,b6,X11),(a12,b6,X12),(a12,b6,X13),(a12,b6,X14),(a12,b6,X15),(a12,b6,X16),(a12,b6,X17),(a12,b6,X18),(a12,b7,X1),(a12,b7,X2),(a12,b7,X3),(a12,b7,X4),(a12,b7,X5),(a12,b7,X6),(a12,b7,X7),(a12,b7,X8),(a12,b7,X9),(a12,b7,X10),(a12,b7,X11),(a12,b7,X12),(a12,b7,X13),(a12,b7,X14),(a12,b7,X15),(a12,b7,X16),(a12,b7,X17),(a12,b7,X18),(a12,b8,X1),(a12,b8,X2),(a12,b8,X3),(a12,b8,X4),(a12,b8,X5),(a12,b8,X6),(a12,b8,X7),(a12,b8,X8),(a12,b8,X9),(a12,b8,X10),(a12,b8,X11),(a12,b8,X12),(a12,b8,X13),(a12,b8,X14),(a12,b8,X15),(a12,b8,X16),(a12,b8,X17),(a12,b8,X18),(a12,b9,X1),(a12,b9,X2),(a12,b9,X3),(a12,b9,X4),(a12,b9,X5),(a12,b9,X6),(a12,b9,X7),(a12,b9,X8),(a12,b9,X9),(a12,b9,X10),(a12,b9,X11),(a12,b9,X12),(a12,b9,X13),(a12,b9,X14),(a12,b9,X15),(a12,b9,X16),(a12,b9,X17),(a12,b9,X18),(a12,b10,X1),(a12,b10,X2),(a12,b10,X3),(a12,b10,X4),(a12,b10,X5),(a12,b10,X6),(a12,b10,X7),(a12,b10,X8),(a12,b10,X9),(a12,b10,X10),(a12,b10,X11),(a12,b10,X12),(a12,b10,X13),(a12,b10,X14),(a12,b10,X15),(a12,b10,X16),(a12,b10,X17),(a12,b10,X18),(a12,b11,X1),(a12,b11,X2),(a12,b11,X3),(a12,b11,X4),(a12,b11,X5),(a12,b11,X6),(a12,b11,X7),(a12,b11,X8),(a12,b11,X9),(a12,b11,X10),(a12,b11,X11),(a12,b11,X12),(a12,b11,X13),(a12,b11,X14),(a12,b11,X15),(a12,b11,X16),(a12,b11,X17),(a12,b11,X18),(a12,b12,X1),(a12,b12,X2),(a12,b12,X3),(a12,b12,X4),(a12,b12,X5),(a12,b12,X6),(a12,b12,X7),(a12,b12,X8),(a12,b12,X9),(a12,b12,X10),(a12,b12,X11),(a12,b12,X12),(a12,b12,X13),(a12,b12,X14),(a12,b12,X15),(a12,b12,X16),(a12,b12,X17),(a12,b12,X18),(a12,b13,X1),(a12,b13,X2),(a12,b13,X3),(a12,b13,X4),(a12,b13,X5),(a12,b13,X6),(a12,b13,X7),(a12,b13,X8),(a12,b13,X9),(a12,b13,X10),(a12,b13,X11),(a12,b13,X12),(a12,b13,X13),(a12,b13,X14),(a12,b13,X15),(a12,b13,X16),(a12,b13,X17),(a12,b13,X18),(a12,b14,X1),(a12,b14,X2),(a12,b14,X3),(a12,b14,X4),(a12,b14,X5),(a12,b14,X6),(a12,b14,X7),(a12,b14,X8),(a12,b14,X9),(a12,b14,X10),(a12,b14,X11),(a12,b14,X12),(a12,b14,X13),(a12,b14,X14),(a12,b14,X15),(a12,b14,X16),(a12,b14,X17),(a12,b14,X18),(a12,b15,X1),(a12,b15,X2),(a12,b15,X3),(a12,b15,X4),(a12,b15,X5),(a12,b15,X6),(a12,b15,X7),(a12,b15,X8),(a12,b15,X9),(a12,b15,X10),(a12,b15,X11),(a12,b15,X12),(a12,b15,X13),(a12,b15,X14),(a12,b15,X15),(a12,b15,X16),(a12,b15,X17),(a12,b15,X18),(a12,b16,X1),(a12,b16,X2),(a12,b16,X3),(a12,b16,X4),(a12,b16,X5),(a12,b16,X6),(a12,b16,X7),(a12,b16,X8),(a12,b16,X9),(a12,b16,X10),(a12,b16,X11),(a12,b16,X12),(a12,b16,X13),(a12,b16,X14),(a12,b16,X15),(a12,b16,X16),(a12,b16,X17),(a12,b16,X18),(a12,b17,X1),(a12,b17,X2),(a12,b17,X3),(a12,b17,X4),(a12,b17,X5),(a12,b17,X6),(a12,b17,X7),(a12,b17,X8),(a12,b17,X9),(a12,b17,X10),(a12,b17,X11),(a12,b17,X12),(a12,b17,X13),(a12,b17,X14),(a12,b17,X15),(a12,b17,X16),(a12,b17,X17),(a12,b17,X18),(a12,b18,X1),(a12,b18,X2),(a12,b18,X3),(a12,b18,X4),(a12,b18,X5),(a12,b18,X6),(a12,b18,X7),(a12,b18,X8),(a12,b18,X9),(a12,b18,X10),(a12,b18,X11),(a12,b18,X12),(a12,b18,X13),(a12,b18,X14),(a12,b18,X15),(a12,b18,X16),(a12,b18,X17),(a12,b18,X18),(a12,b19,X1),(a12,b19,X2),(a12,b19,X3),(a12,b19,X4),(a12,b19,X5),(a12,b19,X6),(a12,b19,X7),(a12,b19,X8),(a12,b19,X9),(a12,b19,X10),(a12,b19,X11),(a12,b19,X12),(a12,b19,X13),(a12,b19,X14),(a12,b19,X15),(a12,b19,X16),(a12,b19,X17),(a12,b19,X18),(a12,b20,X1),(a12,b20,X2),(a12,b20,X3),(a12,b20,X4),(a12,b20,X5),(a12,b20,X6),(a12,b20,X7),(a12,b20,X8),(a12,b20,X9),(a12,b20,X10),(a12,b20,X11),(a12,b20,X12),(a12,b20,X13),(a12,b20,X14),(a12,b20,X15),(a12,b20,X16),(a12,b20,X17),(a12,b20,X18),(a12,b21,X1),(a12,b21,X2),(a12,b21,X3),(a12,b21,X4),(a12,b21,X5),(a12,b21,X6),(a12,b21,X7),(a12,b21,X8),(a12,b21,X9),(a12,b21,X10),(a12,b21,X11),(a12,b21,X12),(a12,b21,X13),(a12,b21,X14),(a12,b21,X15),(a12,b21,X16),(a12,b21,X17),(a12,b21,X18),(a12,b22,X1),(a12,b22,X2),(a12,b22,X3),(a12,b22,X4),(a12,b22,X5),(a12,b22,X6),(a12,b22,X7),(a12,b22,X8),(a12,b22,X9),(a12,b22,X10),(a12,b22,X11),(a12,b22,X12),(a12,b22,X13),(a12,b22,X14),(a12,b22,X15),(a12,b22,X16),(a12,b22,X17),(a12,b22,X18),(a12,b23,X1),(a12,b23,X2),(a12,b23,X3),(a12,b23,X4),(a12,b23,X5),(a12,b23,X6),(a12,b23,X7),(a12,b23,X8),(a12,b23,X9),(a12,b23,X10),(a12,b23,X11),(a12,b23,X12),(a12,b23,X13),(a12,b23,X14),(a12,b23,X15),(a12,b23,X16),(a12,b23,X17),(a12,b23,X18),(a12,b24,X1),(a12,b24,X2),(a12,b24,X3),(a12,b24,X4),(a12,b24,X5),(a12,b24,X6),(a12,b24,X7),(a12,b24,X8),(a12,b24,X9),(a12,b24,X10),(a12,b24,X11),(a12,b24,X12),(a12,b24,X13),(a12,b24,X14),(a12,b24,X15),(a12,b24,X16),(a12,b24,X17),(a12,b24,X18),(a12,b25,X1),(a12,b25,X2),(a12,b25,X3),(a12,b25,X4),(a12,b25,X5),(a12,b25,X6),(a12,b25,X7),(a12,b25,X8),(a12,b25,X9),(a12,b25,X10),(a12,b25,X11),(a12,b25,X12),(a12,b25,X13),(a12,b25,X14),(a12,b25,X15),(a12,b25,X16),(a12,b25,X17),(a12,b25,X18),(a12,b26,X1),(a12,b26,X2),(a12,b26,X3),(a12,b26,X4),(a12,b26,X5),(a12,b26,X6),(a12,b26,X7),(a12,b26,X8),(a12,b26,X9),(a12,b26,X10),(a12,b26,X11),(a12,b26,X12),(a12,b26,X13),(a12,b26,X14),(a12,b26,X15),(a12,b26,X16),(a12,b26,X17),(a12,b26,X18),(a12,b27,X1),(a12,b27,X2),(a12,b27,X3),(a12,b27,X4),(a12,b27,X5),(a12,b27,X6),(a12,b27,X7),(a12,b27,X8),(a12,b27,X9),(a12,b27,X10),(a12,b27,X11),(a12,b27,X12),(a12,b27,X13),(a12,b27,X14),(a12,b27,X15),(a12,b27,X16),(a12,b27,X17),(a12,b27,X18)。
化合物(I)はNMDA受容体、特にNR1/NR2B受容体に対して親和性が高く、サブタイプ選択性および他の受容体に対する選択性が高いため、副作用(たとえば運動機能への影響など)が軽減された医薬品となり得る。また安定性が高い、経口吸収性が高い、良好なバイオアベイラビリティーを示す、クリアランスが低い、脳移行性が高い、半減期が長い、非タンパク結合率が高い、薬効持続性が高い、および/または肝酵素阻害活性が低い等の利点も有する。
化合物(I)は、医薬、特にNMDA受容体、とりわけNR1/NR2B受容体に起因する各種中枢の疾患(例:脳卒中、脳梗塞、脳外傷、慢性神経変性疾患)に対する予防・治療薬、又は癌疼痛等に対する鎮痛薬として、人を含む動物に経口又は非経口的に投与可能である。投与剤形としては、顆粒剤、錠剤、カプセル剤、注射剤等が例示される。製剤化に際しては、所望により種々の添加剤、例えば賦形剤、崩壊剤、結合剤、滑沢剤、安定化剤、着色剤、コーティング剤を使用できる。投与量は、被験体の年齢、体重、症状や投与方法などにより異なり特に限定されないが、通常、成人1日当たり、経口投与の場合、約1mg〜約5000mgであり、非経口投与の場合、約0.1mg〜約1000mgである。
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。文中に記載した融点は未補正値である。また、1H-NMRは重クロロホルム(CDCl3)あるいは重ジメチルスルホキシド(DMSO-d6)溶媒中、テトラメチルシランを内部標準として測定した。δ値はppmで、結合定数(J)はHzで標記した。データ中、s は一重線、d は二重線、t は三重線、q は四重線、m は多重線、br は幅広線、brs は幅広一重線を意味する。
なお、各略号は以下に示す意味を有する。
THF:テトラヒドロフラン
DMF:N, N-ジメチルホルムアミド
HOBt:1-ヒドロキシベンゾトリアゾール
DMAP:4-ジメチルアミノピリジン
EDC:1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩
IBX:1-ヒドロキシ-1,2-ベンズヨードオキソール-3(1H)-オン 1-オキシド
Me:メチル
Et:エチル
Bu:tert-ブチル
Ts:p -トルエンスルホニル
BINAP:2,2’-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1’-ビナフチル
Pd(dba):ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)
DMPO:1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロ-2(1H)-ピリミジノン
MOM:メトキシメチル
参考例1 化合物3の合成
Figure 2007099828

窒素雰囲気下、化合物 1(576 mg, 5.0 mmol)と化合物 2(985 mg, 6.0 mmol)をDMF(5 ml)に溶解し、炭酸カリウム(829 mg, 6.0 mmol)を加え120℃で24時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に水を加えクロロホルムで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−アセトニトリル)により精製し、化合物 3(671 mg, 収率52%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.40-1.50 (br, 3H), 1.74 (m, 2H), 1.88 (d, J = 12.3Hz, 2H), 2.85 (t, J = 12.3Hz, 2H), 3.56 (d, J = 4.2Hz, 2H), 3.83 (d, J = 12.3Hz, 2H), 7.00 (br, 2H), 7.48 (d, J = 9.0Hz, 2H).
参考例2 化合物5の合成
Figure 2007099828

化合物 1 の代わりに化合物 4 を用いる以外は参考例1と同様の方法で反応を行ない、化合物 5(収率47%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.26-1.39 (m, 2H), 1.56 (q, J = 6.6Hz, 2H), 1.64-1.69 (m, 1H), 1.83 (d, J = 12.6Hz, 2H), 2.87 (t, J = 12.6Hz, 2H), 3.71-3.81 (m, 4H), 6.93 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.46 (d, J = 8.7Hz, 2H).
参考例3 化合物7の合成
Figure 2007099828

化合物 4(646 mg, 5.0 mmol)と化合物 6(908 mg, 5.0 mmol)をDMF(15 ml)に溶解し、炭酸水素ナトリウム(504 mg, 6.0 mmol)を加え80℃で2時間撹拌した。冷後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル)により精製し、化合物 7(1.08 g, 収率78%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.16-1.32 (m, 3H), 1.50-1.60 (m, 2H), 1.68-1.86 (m, 3H), 2.84-2.97 (m, 2H), 3.69-3.78 (m, 2H), 4.34-4.44 (m, 2H), 6.63 (d, J = 9.0Hz, 1H), 7.59 (dd, J = 9.0, 1.5Hz, 1H), 8.37 (d, J = 1.5Hz, 1H).
参考例4 化合物10の合成
Figure 2007099828

窒素雰囲気下、BINAP(187 mg,0.3 mmol)、Pd(dba)(92 mg,0.1 mmol)、ナトリウムtert-ブトキシド(1.19 g,12.0 mmol)、化合物 8(1.14 g,11.2 mmol)、化合物 9(1.36 ml,10.0 mmol)にトルエン(20 ml)を加え、マイクロウエーブ照射下、120℃で1時間反応させた。反応液をセライトを用いてろ過し、固体を酢酸エチルで洗浄した。ろ液、洗液を合わせ減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル)により精製して化合物 10(1.45 g,収率59%)を得た。
mp 97−98℃
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.49-1.56 (m, 2H), 1.62-1.74 (m, 2H), 2.03 (brs, 2H), 3.03-3.10 (m, 2H), 3.63-3.71 (m, 2H), 3.93 (brs, 1H), 6.97 (br, 2H), 7.48 (d, J = 8.7Hz, 2H).
参考例5 化合物12の合成
Figure 2007099828

化合物 11(2.12 g, 15.0 mmol)と化合物 8(1.82 g, 18.0 mmol)をDMF(15 ml)に溶解し、炭酸カリウム(2.52 g, 18.0 mmol)を加え85℃で1時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に水を加えクロロホルムで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−アセトニトリル)により精製し、化合物 12(3.10 g, 収率93%)を得た。
mp 115.6−117℃
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.62-1.74 (m, 2H), 1.99-2.02 (m, 2H), 2.87-2.95 (m, 2H), 3.47-3.54 (m, 2H), 3.82-3.88 (m, 1H), 6.85 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.19 (d, J = 8.7Hz, 2H).
参考例6 化合物13の合成
Figure 2007099828

化合物 12(1.50 g,6.75 mmol)をメタノール(25 ml)に溶解し、10%パラジウム−炭素(150 mg)を加え系内を水素ガスで置換した。室温で2時間撹拌した後、セライトを用いて反応液をろ過し、メタノールで洗浄した。ろ液、洗液を合わせ溶媒を減圧留去し、化合物 13(1.28 g,収率99%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.70-1.80 (m, 2H), 2.07 (br, 2H), 2.84 (br, 2H), 3.37 (br, 3H), 3.85 (br, 1H), 6.65 (d, J = 8.4Hz, 2H), 6.91 (br, 2H).
参考例7 化合物14の合成
Figure 2007099828

化合物 13(1.28 g,6.66 mmol)を6 mol/L塩酸(26 ml)に溶解し、ドライアイス−アセトン浴で-35 〜-40℃に冷却した。亜硝酸ナトリウム(482 mg,6.99 mmol)の水溶液(5 ml)を滴下し、-35 〜-40℃で30分間撹拌した。尿素(100 mg,1.67 mmol)、塩化第一銅(725 mg,7.32 mmol)、塩化第二銅(985 mg,7.32 mmol)を加え60℃で45分間撹拌した。水浴で冷却してアンモニア水を加えアルカリ性とし、クロロホルムを加えた後、不溶物をセライトを用いてろ去した。ろ液をクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製し、化合物 14(1.32 g, 収率94%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.62-1.74 (m, 2H), 1.99-2.02 (m, 2H), 2.87-2.95 (m, 2H), 3.47-3.54 (m, 2H), 3.82-3.88 (m, 1H), 6.85 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.19 (d, J = 8.7Hz, 2H).
参考例8 化合物15の合成
Figure 2007099828

化合物 10(1.50 g,6.12 mmol)を酢酸エチル(45 ml)に溶解し、IBX(5.14 g,18.4 mmol)を加え80℃で8時間撹拌した。氷浴で冷却し、析出した固体をろ去して酢酸エチルで洗浄した。ろ液、洗液を合わせ減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)により精製し、化合物 15(1.34 g, 収率90%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:2.57 (t, J = 6.3Hz, 4H), 3.71 (t, J = 6.3Hz, 4H), 6.97 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.52 (d, J = 8.7Hz, 2H).
参考例9 化合物16の合成
Figure 2007099828

化合物 10 の代わりに化合物 14 を用いる以外は参考例8と同様の方法で反応を行ない、化合物 16(収率92%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:2.57 (t, J = 6.0Hz, 4H), 3.58 (t, J = 6.0Hz, 4H), 6.91 (d, J = 9.0Hz, 2H), 7.24 (d, J = 9.0Hz, 2H).
参考例10 化合物17の合成
Figure 2007099828

化合物 10 の代わりに化合物 3 を用いる以外は参考例8と同様の方法で反応を行ない、化合物 17(収率79%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.72-1.85 (m, 2H), 2.01-2.09 (m, 2H), 2.43-2.52 (m, 1H), 2.95-3.04 (m, 2H), 3.69-3.76 (m, 2H), 6.94 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.48 (d, J = 8.7Hz, 2H), 9.71 (s, 1H).
参考例11 化合物19の合成
Figure 2007099828

化合物 2(3.28 g, 20.0 mmol)と化合物 18(3.77 g, 24.0 mmol)をDMF(10 ml)に溶解し、炭酸カリウム(3.32 g, 24.0 mmol)を加え120℃で24時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に水を加えトルエンで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン−酢酸エチル)により精製し、化合物 19(2.35 g, 収率39%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.27 (t, J = 7.1Hz, 3H), 1.76-1.92 (m, 2H), 1.97-2.08 (m, 2H), 2.42-2.54 (m, 1H), 2.84-2.96 (m, 2H), 3.70-3.79 (m, 2H), 4.16 (q, J = 7.1Hz, 2H), 6.92 (d, J = 9.0Hz, 2H), 7.46 (d, J = 9.0Hz, 2H).
参考例12 化合物21の合成
Figure 2007099828
1-(4-クロロフェニル)ピペラジン塩酸塩 20(1.00 g, 4.3 mmol)をトルエン(5 ml)に溶解し氷浴で冷却した。クロログリオキシ酸エチル(0.64 g, 4.7 mmol)のトルエン(2 ml)溶液を滴下し0℃で0.5時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物 21(1.27 g, 収率100%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.38 (t, J = 7.1Hz, 3H), 3.15-3.20 (m, 4H), 3.60 (t, J = 5.2Hz, 2H), 3.78 (t, J = 5.2Hz, 2H), 4.36 (q, J = 7.1Hz, 2H), 6.84 (d, J = 9.1Hz, 2H), 7.22 (d, J = 9.1Hz, 2H).
参考例13 化合物24の合成
Figure 2007099828
a)化合物23の合成
2-アミノ-5-ニトロフェノール 22(22.20 g, 144 mmol)をTHF(100 ml)に溶解し、系内を窒素ガスで置換し氷浴で冷却した。1,1'-カルボニルジイミダゾール(28.03 g, 173 mmol)のTHF懸濁液(100 ml)を0〜5℃で少量ずつ加え、室温で15時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣に水(144 ml)を加え氷浴で冷却し、2 mol/L塩酸(144 ml, 288 mmol)を加え室温で3時間撹拌した。析出した固体をろ取し、水洗後乾燥して化合物 23(25.81 g, 収率99%)を得た。
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:7.28 (d, J = 8.6Hz, 1H), 8.13 (dd, J = 2.0, 8.6Hz, 1H), 8.19 (d, J = 2.0Hz, 1H), 12.43 (brs, 1H).
b)化合物24の合成
化合物 23(40.00 g, 222 mmol)をTHF−水(9:1)混液(400 ml)に懸濁し、10%−パラジウム−炭素(8.00 g, 53%含水品)を加え水素雰囲気下室温で9時間撹拌した。セライトを用いて反応液をろ過し、残渣をTHF−水(9:1)混液(500 ml)で洗浄した。ろ液、洗液を合わせ96gまで減圧濃縮し、水(100 ml)を加え固体をろ取した。固体を水洗後、乾燥して化合物24(32.20 g, 収率97%)を得た。
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:5.01 (s, 1H), 6.35 (dd, J = 2.0, 8.2Hz, 1H), 6.50 (d, J = 2.0Hz, 1H), 6.74 (d, J = 8.2Hz, 1H), 11.03 (brs, 1H).
化合物(I‐2)の合成
Figure 2007099828

a)化合物25の合成
窒素雰囲気下、参考例2で得られた化合物 5(339 mg,1.46 mmol)をTHF(10 ml)に溶解し、フタルイミド(279 mg, 1.90 mmol)、トリフェニルホスフィン(498 mg, 1.90 mmol)、アゾジカルボン酸ジイソプロピル(0.37 ml, 1.90 mmol)を加え、室温で1時間撹拌した。
溶媒を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン−酢酸エチル)により精製して化合物 25(541 mg,収率92%)を得た。
mp 203−205℃
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.38-1.55 (m, 3H), 1.68 (q, J = 6.6Hz, 2H), 1.92 (d, J = 9.9Hz, 2H), 2.81 (t, J = 11.4Hz, 2H), 3.74-3.80 (m, 4H), 6.96 (br, 2H), 7.46 (d, J = 9.0Hz, 2H), 7.71-7.74 (m, 2H), 7.84-7.87 (m, 2H).
b)化合物21の合成
化合物 26(537 mg, 1.33 mmol)をエタノール(10 ml)に溶解し、ヒドラジン一水和物(0.16 ml, 3.33 mmol)を加え2時間還流した。放冷後、析出した固体をろ去した。ろ液と固体をクロロホルム−メタノール(9:1混液)で加熱しろ過したろ液を合わせ、溶媒を減圧留去した。残渣に1 mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製し、化合物 26(280 mg, 収率77%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.27-1.40 (m, 2H), 1.46-1.60 (m, 3H), 1.79 (d, J = 12.9Hz, 2H), 2.13 (br, 5H), 2.74-2.85 (m, 4H), 3.78 (d, J = 12.6 Hz, 2H), 6.91 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.45 (d, J = 8.7Hz, 2H).
c)化合物(I−2)の合成
化合物 26(276 mg, 1.01 mmol)にDMF(5 ml)、6−ヒドロキシニコチン酸(155 mg, 1.11 mmol)、HOBt(164 mg, 1.11 mmol)、トリエチルアミン(0.17 ml, 1.21 mmol)、DMAP(6 mg, 0.05 mmol)、EDC(232 mg, 1.21 mmol)を加え、室温で2時間撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、得られた残渣に水、2 mol/L塩酸を加えクロロホルム−メタノール(9:1混液)で抽出した。有機層を水、飽和重曹水、水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をメタノール−酢酸エチルより再結晶し、化合物(I−2)(256 mg, 収率65%)を得た。
mp 232−233℃
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:1.14-1.25 (m, 2H), 1.46 (t, J = 6.9Hz, 2H), 1.53 (brs, 1H), 1.77 (d, J = 11.7Hz, 2H), 2.77 (t, J = 11.7Hz, 2H), 3.26 (q, J = 5.7Hz, 2H), 3.85 (d, J = 12.9Hz, 2H), 6.34 (d, J = 9.6Hz, 1H), 7.03 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.46 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.85 (dd, J = 9.6, 2.7Hz, 1H), 7.97 (d, J = 2.4Hz, 1H), 8.19 (t, J = 5.0Hz, 1H), 11.93 (s, 1H).
化合物(I−7)の合成
Figure 2007099828

a)化合物27の合成
窒素雰囲気下、化合物 5(1.37 g,5.0 mmol)を塩化メチレン(15 ml)に溶解し、トリエチルアミン(0.84 ml, 6.0 mmol)を加え氷浴で冷却した。塩化 p-トルエンスルホニル(1.14 g, 6.0 mmol)を加え0℃で45分、室温で3.5時間撹拌した。アンモニア水を加え15分間撹拌した後、水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)により精製して化合物 27(1.74 g,収率81%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.22-1.34 (br, 2H), 1.56-1.73 (m, 5H), 2.46 (s, 3H), 2.75 (t, J = 11.7Hz, 2H), 3.74 (d, J = 12.6Hz, 2H), 4.10 (t, J = 6.0Hz, 2H), 6.91 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.36 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.45 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.80 (d, J = 8.4Hz, 2H).
b)化合物28の合成
窒素雰囲気下、化合物 22(1.74 g, 4.07 mmol)をDMF(17 ml)に溶解し、シアン化ナトリウム(299 mg, 6.11 mmol)を加え60℃で5時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に水を加えトルエンで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン−酢酸エチル)により精製して化合物 28(1.07 g,収率93%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.31-1.42 (m, 2H), 1.64-1.69 (m, 3H), 1.83 (d, J = 13.2Hz, 2H), 2.42 (t, J = 6.9Hz, 2H), 2.78-2.87 (m, 2H), 3.81 (d, J = 13.2Hz, 2H), 6.93 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.47 (d, J = 8.4Hz, 2H).
c)化合物29の合成
化合物 28(1.06 g, 3.75 mmol)をメタノール(10 ml)に溶解し、85%水酸化カリウム(2.31 g, 35.0 mmol)、水(10 ml)を加え20時間還流した。室温まで放冷した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣を5 mol/L塩酸で中和した。析出した固体をろ取し、水洗後乾燥して化合物 29(1.07 g, 収率95%)を得た。
mp 204−206℃ (decompose)
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:1.10-1.22 (m, 2H), 1.45-1.49 (m, 3H), 1.73 (d, J = 13.5Hz, 2H), 2.25 (t, J = 7.5Hz, 2H), 2.75 (t, J = 10.5Hz, 2H), 3.85 (d, J = 13.5Hz, 2H), 7.03 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.46 (d, J = 8.7Hz, 2H).
d)化合物(I−7)の合成
化合物 29(362 mg, 1.2 mmol)にDMF(5 ml)、6−アミノ-3H-ベンズオキサゾール-2-オン(150 mg, 1.0 mmol)、HOBt(162 mg, 1.2 mmol)、トリエチルアミン(0.17 ml, 1.2mmol)、DMAP(6.0 mg, 0.05 mmol)、EDC(230 mg, 1.2 mmol)を加え、室温で15時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣にクロロホルム−メタノール(9:1混液)、飽和重曹水を加え析出した固体をろ取し、水で洗浄後、乾燥して261 mgの固体を得た。また、ろ液をクロロホルム−メタノール(9:1混液)で抽出し、水洗、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製し、66 mgの固体を得た。得られた固体を合わせ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製し、さらにメタノールで再結晶して化合物(I−7)(244 mg, 収率56%)を得た。
mp 254−256℃ (decompose)
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:1.16-1.25 (m, 2H), 1.46-1.52 (m, 1H), 1.55 (t, J = 7.2Hz, 2H), 1.76 (d, J = 12.0Hz, 2H), 2.34 (t, J = 6.6Hz, 2H), 2.78 (t, J = 12.6Hz, 2H), 3.87 (d, J = 13.5Hz, 2H), 7.01 (d, J = 8.4Hz, 1H), 7.04 (d, J = 9.0Hz, 2H), 7.21 (dd, J = 8.4, 1.8Hz, 1H), 7.46 (d, J = 9.0Hz, 2H), 7.69 (d, J = 1.5Hz, 1H), 9.95 (s, 1H), 11.51 (s, 1H).
化合物(I−8)の合成
Figure 2007099828

a)化合物30の合成
窒素雰囲気下、参考例8で得られた化合物 15(1.34 g,5.51 mmol)をTHF(20 ml)に溶解し、ジエチルホスホノ酢酸エチル(1.36 g, 6.06 mmol)、水酸化リチウム(435 mg, 18.2 mmol)を加え2時間還流した。氷浴で冷却した後、2 mol/L塩酸 7 mlを加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)により精製した。ジエチルエーテル−ヘキサンで再結晶し、化合物 30(1.22 g,収率71%)を得た。
mp 71−74℃
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.29 (t, J = 7.2Hz, 3H), 2.46 (t, J = 5.7Hz, 2H), 3.11 (t, J = 5.7Hz, 2H), 3.45 (q, J = 6.0Hz, 4H), 4.17 (q, J = 7.2Hz, 2H), 5.75 (s, 1H), 6.94 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.48 (d, J = 8.7Hz, 2H).
b)化合物31の合成
化合物 30(500 mg, 1.60 mmol)をエタノール(15 ml)に溶解し、10%パラジウム−炭素(50 mg)を加え系内を水素ガスで置換し、室温で1.5時間撹拌した。反応液をろ過して不溶物を除去し、ろ液を減圧留去した。得られた残渣にジエチルエーテルを加え、セライトを用いてろ過し、ジエチルエーテルで洗浄した。ろ液、洗液を合わせ溶媒を減圧留去して、化合物 31(488 mg, 収率97%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.27 (t, J = 7.2Hz, 3H), 1.38-1.46 (m, 2H), 1.84 (d, J = 12.9Hz, 2H), 1.95-2.04 (m, 1H), 2.28 (d, J = 12.9Hz, 2H), 2.84 (dt, J = 2.1, 12.6Hz, 2H), 4.15 (q, J = 7.2Hz, 2H), 6.93 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.46 (d, J = 8.7Hz, 2H).
c)化合物32の合成
化合物 31(485 mg, 1.54 mmol)をメタノール(10 ml)に溶解し、2 mol/L水酸化ナトリウム(2 ml, 4.0 mmol)を加え65℃で45分間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に2 mol/L塩酸を加え酸性とし、析出した結晶をろ取した。水洗後、乾燥して化合物 32(399 mg, 収率96%)を得た。
mp 103−104℃
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.36-1.49 (m, 2H), 1.88 (d, J = 12.3Hz, 2H), 1.97-2.05 (m, 1H), 2.35 (d, J = 6.9Hz, 2H), 2.84 (dt, J = 2.4, 12.6Hz, 2H), 3.79 (d, J = 12.6Hz, 2H), 6.93 (d, J = 9.0Hz, 2H), 7.46 (d, J = 9.0Hz, 2H).
d)化合物(I−7)の合成
化合物 32(388 mg, 1.35 mmol)に塩化メチレン(10 ml)、6−アミノ-3H-ベンズオキサゾール-2-オン(203 mg, 1.35 mmol)、HOBt(219 mg, 1.62 mmol)、トリエチルアミン(0.23 ml, 1.62mmol)、DMAP(8.0 mg, 0.07 mmol)、EDC(311 mg, 1.62 mmol)を加え、室温で19時間撹拌した。飽和重曹水を加え析出した固体をろ取し、水で洗浄後、乾燥して105 mgの固体を得た。また、ろ液をクロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(アセトニトリル−クロロホルム)により精製し、さらにアセトン−イソプロパノールで再結晶して121 mgの固体を得た。得られた固体を合わせ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製し、さらに酢酸エチル−メタノール−イソプロパノールで再結晶して化合物(I−7)(153 mg, 収率27%)を得た。
mp 245−246℃ (decompose)
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:1.23-1.34 (m, 2H), 1.75 (d, J = 12.0Hz, 2H), 1.96-2.06 (m, 1H), 2.25 (d, J = 7.2Hz, 2H), 2.83 (t, J = 12.3Hz, 2H), 3.86 (d, J = 12.0Hz, 2H), 7.02 (t, J = 9.9Hz, 3H), 7.22 (dd, J = 8.7, 1.8Hz, 1H), 7.47 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.70 (d, J = 1.8Hz, 1H), 9.95 (s, 1H), 11.51 (s, 1H).
化合物(I−16)の合成
Figure 2007099828

a)化合物33の合成
化合物 30(376 mg, 1.2 mmol)をメタノール(10 ml)に溶解し、水酸化リチウム(252 mg, 6.0 mmol)、水(1 ml)を加え室温で85分間、65℃で45分間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に水、2 mol/L塩酸を加え酸性とし、析出した結晶をろ取した。水洗後、乾燥して得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製し、化合物 33(286 mg, 収率84%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:2.36 (br, 1H), 3.14 (s, 2H), 3.49 (t, J = 5.7Hz, 2H), 3.86 (br, 1H), 5.73 and 5.79 (s, 1H), 6.90 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.48 (d, J = 8.7Hz, 2H).
b)化合物(I−16)の合成
化合物 33(280 mg, 0.98 mmol)に塩化メチレン(10 ml)、6−アミノ-3H-ベンズオキサゾール-2-オン(147 mg, 0.98 mmol)、HOBt(159 mg, 1.18 mmol)、トリエチルアミン(0.16 ml, 1.18mmol)、DMAP(6.0 mg, 0.05 mmol)、EDC(226 mg, 1.18 mmol)を加え、室温で4日間撹拌した。析出した固体をろ取し、塩化メチレンで洗浄後、乾燥して338 mgの固体を得た。また、ろ液を減圧濃縮し、残渣に飽和重曹水、ジエチルエーテルを加え、固体をろ取した。水、ジエチルエーテルで洗浄後、乾燥して35 mgの固体を得た。得られた固体を合わせ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製し、さらに酢酸エチル−メタノールで再結晶して化合物(I−16)(225 mg, 収率55%)を得た。
mp 203−205℃ (decompose)
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:2.26 (br, 2H), 3.09 (s, 2H), 3.47 (t, J = 5.7Hz, 2H), 3.78 (br, 2H), 5.69 (s, 1H), 7.02 (d, J = 8.1Hz, 1H), 7.03 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.23 (dd, J = 8.4, 1.8Hz, 1H), 7.49 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.69 (d, J = 1.5Hz, 1H), 10.06 (s, 1H), 11.53 (s, 1H).
化合物(I−18)の合成
Figure 2007099828

a)化合物34の合成
参考例11で得られた化合物 19(2.35 g, 7.80 mmol)をメタノール(24 ml)に溶解し、2 mol/L水酸化ナトリウム水溶液(7.8 ml, 15.6 mmol)を加え30分間還流した。溶媒を減圧留去し、残渣に2 mol/L塩酸を加え酸性とし、析出した結晶をろ取した。水洗後、乾燥して化合物 34(2.06 g, 収率97%)を得た。
mp 206−208℃ (decompose)
b)化合物(I−18)の合成
化合物 34(273 mg, 1.0 mmol)にDMF(5 ml)、6−アミノ-3H-ベンズオキサゾール-2-オン(150 mg, 1.0 mmol)、HOBt(162 mg, 1.2 mmol)、トリエチルアミン(0.17 ml, 1.2mmol)、DMAP(12.0 mg, 0.1 mmol)、EDC(230 mg, 1.2 mmol)を加え、室温で41時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和重曹水、水を加え固体をろ取した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−アセトン)により精製し、さらにアセトン−メタノールで再結晶して化合物(I−18)(341 mg, 収率84%)を得た。
mp 302−304℃ (decompose)
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:1.63-1.77 (m, 2H), 1.87 (d, J = 10.2Hz, 2H), 2.53-2.61 (m, 1H), 2.87 (t, J = 9.9Hz, 2H), 3.95 (d, J = 13.2Hz, 2H), 7.01 (d, J = 8.4Hz, 1H), 7.08 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.25 (dd, J = 8.7, 2.1Hz, 1H), 7.49 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.70 (d, J = 2.1Hz, 1H), 9.99 (s, 1H), 11.50 (s, 1H).
化合物(I−23)の合成
Figure 2007099828

a)化合物35の合成
参考例4で得られた化合物 10(981 mg,4.0 mmol)をTHF(40 ml)に溶解し、フタルイミド(765 mg, 5.2 mmol)、トリフェニルホスフィン(1.36 g, 5.2 mmol)、アゾジカルボン酸ジイソプロピル(1.08 ml, 5.2 mmol)を加え、室温で16時間撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、得られた残渣に飽和重曹水、水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をメタノールで洗浄して化合物 35(1.08 g,収率72%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.77-1.86 (m, 2H), 2.55-2.72 (m, 2H), 2.86-2.99 (m, 2H), 3.89-3.99 (m, 2H), 4.27-4.40 (m, 1H), 6.96(d, J = 8.7Hz, 2H), 7.49 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.72 (dd, J = 3.0, 5.6Hz, 2H), 7.84 (dd, J = 3.0, 5.6 Hz, 2H).
b)化合物36の合成
化合物 30(262 mg, 0.7 mmol)をエタノール(7 ml)に溶解し、ヒドラジン一水和物(0.087 ml, 1.75 mmol)を加え2時間還流した。放冷後、析出した固体をろ去し、ろ液を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(アミノカラム、クロロホルム−メタノール)により精製し、化合物 36(125 mg, 収率73%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.30 (brs, 2H), 1.38-1.53 (m, 2H), 1.87-1.98 (m, 2H), 2.82-2.94 (m, 3H), 3.71-3.81 (m, 2H), 6.92 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.45 (d, J = 8.7Hz, 2H).
c)化合物(I−23)の合成
化合物 37(60 mg, 0.22 mmol)をアセトニトリル(2 ml)に溶解し、トリエチルアミン(0.034 ml, 0.24 mmol)を加えた。化合物 36(49 mg, 0.20 mmol)のアセトニトリル(1 ml)溶液を加え6時間還流した。析出した結晶をろ去し、水、酢酸エチルで洗浄後、乾燥し(I−23)(50 mg, 収率59%)を得た。
mp 294−296℃
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:1.31-1.55 (m, 2H), 1.80-2.00 (m, 2H), 2.88-3.10 (m, 2H), 3.60-3.85 (m, 3H), 6.17 (s, 1H), 6.95 (s, 2H), 7.06 (d, J = 5.4Hz, 2H), 7.48 (d, J = 6.0Hz, 2H), 7.54 (s, 1H), 8.35 (s, 1H), 11.35 (brs, 1H).
化合物(I−26)の合成
Figure 2007099828

a)化合物39の合成
窒素雰囲気下、化合物 15(1.18 g,4.85 mmol)、化合物 38(1.45 g, 5.09 mmol)、DMPO(1.80 g, 14.1 mmol)のTHF(10 ml)溶液を氷浴で冷却し、水素化ナトリウム(60% 油性, 204 mg, 5.09 mmol)のTHF(10 ml)懸濁液を滴下した。室温で3時間撹拌した後、氷水を加えジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)により精製して化合物 39(1.43 g,収率79%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.35 (t, J = 6.9Hz, 3H), 2.73 (t, J = 6.0Hz, 2H), 2.79 (t, J = 6.0Hz, 2H), 3.40-3.45 (m, 4H), 3.51 (s, 3H), 4.27 (q, J = 6.9Hz, 2H), 4.85 (s, 2H), 6.93 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.49 (d, J = 8.7Hz, 2H).
b)化合物40の合成
化合物 39(1.43 g, 3.83 mmol)をエタノール(30 ml)に溶解し、p-トルエンスルホン酸一水和物(73 mg, 0.38 mmol)を加え15時間還流した。室温まで放冷した後、溶媒を減圧留去し、残渣に水、飽和重曹水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−アセトニトリル)により精製し、化合物 40(1.19 g,収率95%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.39 (t, J = 7.2Hz, 3H), 1.73-1.87 (m, 2H), 2.06 (d, J = 11.4Hz, 2H), 2.93-3.02 (m, 2H), 3.22-3.32 (m, 1H), 3.77-3.84 (m, 2H), 4.35 (q, J = 7.2Hz, 2H), 6.97 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.48 (d, J = 8.7Hz, 2H).
c)化合物41の合成
化合物 40(329 mg, 1.0 mmol)をエタノール(10 ml)に溶解し、85%水酸化カリウム(99 mg, 1.5 mmol)、水(1 ml)を加え室温で75分間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に氷、2 mol/L塩酸(0.8 ml, 1.6 mmol)を加え酸性とし、析出した固体をろ取した。固体を水洗後、乾燥して粗製の化合物 41(261 mg, 粗収率87%)を得た。
d) 化合物(I−26)の合成
化合物 41(261 mg, 0.87 mmol)にDMF(5 ml)、6−アミノ-3H-ベンズオキサゾール-2-オン(156 mg, 1.04 mmol)、HOBt(140 mg, 1.04 mmol)、トリエチルアミン(0.15 ml, 1.04 mmol)、DMAP(11.0 mg, 0.09 mmol)、EDC(199 mg, 1.04 mmol)を加え、室温で64時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和重曹水、水を加え固体をろ取した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製し、さらにアセトン−酢酸エチルで再結晶して化合物(I−26)(179 mg, 収率48%)を得た。
mp 230−232℃
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:1.48-1.62 (m, 2H), 1.95 (d, J = 11.7Hz, 2H), 2.99 (t, J = 11.7Hz, 2H), 3.53-3.60 (m, 1H), 3.92 (d, J = 12.9Hz, 2H), 7.08 (d, J = 8.7Hz, 3H), 7.49 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.57 (dd, J = 8.7, 1.8Hz, 1H), 7.82 (d, J = 1.8Hz, 1H), 10.63 (s, 1H), 11.64 (s, 1H).
化合物(I−34)の合成
Figure 2007099828

a)化合物42の合成
窒素雰囲気下、ジイソプロピルアミン(0.50 ml, 3.57 mmol)のTHF(5 ml)溶液をドライアイス−アセトン浴で-78℃に冷却し、これに2.67M n-ブチルリチウム−ヘキサン溶液(1.20 ml, 3.09 mmol)を滴下し、-78℃で15分間撹拌した。酢酸エチル(0.30 ml, 3.09 mmol)のTHF(2 ml)溶液を滴下し-78℃で30分間撹拌した後、参考例9で得られた化合物 16(500 mg, 2.38 mmol)のTHF(5 ml)溶液を加え、-78℃で50分間撹拌した。塩化アンモニウム(330 mg, 6.18 mmol)の水(2 ml)溶液を加え室温に昇温した後、水を加えジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−アセトニトリル)により精製して化合物 42(703 mg, 収率99%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.30 (t, J = 7.2Hz, 3H), 1.73-1.84 (m, 4H), 2.51 (s, 2H), 3.20 (t, J = 9.9Hz, 2H), 3.36 (q, J = 7.2Hz, 2H), 3.61 (s, 1H), 6.88 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.20 (d, J = 8.7Hz, 2H).
b)化合物43の合成
化合物 42(703 mg, 2.36 mmol)をメタノール(10 ml)に溶解し、2 mol/L水酸化ナトリウム水溶液(2.4 ml, 4.8 mmol)を加え20分間還流した。酢酸(0.55 ml, 9.6 mmol)を加えた後、溶媒を減圧留去し残渣に水を加え析出した結晶をろ取した。水洗後、乾燥して化合物 43(526 mg, 収率83%)を得た。
mp 130−133℃
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.86-1.98 (m, 4H), 2.61 (s, 2H), 3.27-3.40 (m, 4H), 7.09 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.26 (d, J = 8.7Hz, 2H).
c) 化合物(I−34)の合成
化合物 43(270 mg, 1.0 mmol)にDMF(5 ml)、6−アミノ-3H-ベンズオキサゾール-2-オン(150 mg, 1.0 mmol)、HOBt(162 mg, 1.2 mmol)、DMAP(12.0 mg, 0.1 mmol)、EDC(230 mg, 1.2 mmol)を加え、室温で63時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和重曹水、水を加え固体をろ取した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製し、さらにTHF−酢酸エチルで再結晶して化合物(I−34)(314 mg, 収率78%)を得た。
mp 255−257℃ (decompose)
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:1.63-1.80 (m, 4H), 2.46 (s, 2H), 3.04-3.13 (m, 2H), 3.34-3.40 (m, 2H), 4.75 (s, 1H), 6.94 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.01 (d, J = 8.7Hz, 1H), 7.19 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.13 (dd, J = 8.7, 1.8Hz, 1H), 7.70 (d, J = 1.8Hz, 1H), 9.94 (s, 1H), 11.53 (brs, 1H).
化合物(I−19)の合成
Figure 2007099828

a)化合物45の合成
窒素雰囲気下、化合物 44(7.52 g,16.4 mmol)をTHF(30 ml)に溶解し、カリウムヘキサメチルジシラジド(6.90 g, 32.9 mmol)を加え室温で30分間撹拌した。化合物 15(1.00 g,4.11 mmol)のTHF(10 ml)溶液を加え、室温で3時間撹拌した。水、2 mol/L塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル)により精製して化合物 45(0.48 g,収率34%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.26 (t, J = 7.1Hz, 3H), 2.26-2.32 (m, 2H), 2.34-2.42 (m, 6H), 3.29-3.36 (m, 4H), 4.13 (q, J = 7.1Hz, 2H), 5.20-5.26 (m, 1H), 6.91 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.46 (d, J = 8.7Hz, 2H).
b)化合物46の合成
化合物 45(470 mg, 1.38 mmol)をメタノール(10 ml)に溶解し、1 mol/L水酸化ナトリウム水溶液(2.1 ml, 2.1 mmol)を加え室温で4時間撹拌した。2 mol/L塩酸を加え酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、化合物 46(426 mg,収率99%)を得た。
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:2.12-2.32 (m, 8H), 3.23-3.40 (m, 4H), 5.18-5.27 (m, 1H), 7.05 (d, J = 6.3Hz, 2H), 7.48 (d, J = 6.3Hz, 2H), 12.03 (s, 1H).
c)化合物47の合成
化合物 46(420 mg, 1.34 mmol)、N−メチルモルホリン(0.15 ml, 1.34 mmol)をTHF(8 ml)に溶解し氷浴で冷却した。クロロ炭酸イソブチル(0.17 ml, 1.34 mmol)、トリエチルアミン(0.21 ml, 1.47 mmol)、N,O−ジメトキシアミン塩酸塩(131 mg, 1.34 mmol)のDMF(3 ml)溶液を順に加え0℃で30分間、室温で5時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル)により精製して化合物 47(427 mg,収率89%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:2.26-2.53 (m, 8H), 3.18 (s, 3H), 3.30-3.36 (m, 4H), 3.68 (s, 3H), 5.25-5.30 (m, 1H), 6.91 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.46 (d, J = 8.7Hz, 2H).
d)化合物48の合成
窒素雰囲気下、5-ブロモ-2-tert-ブトキシピリジン(400 mg, 1.74 mmol)をTHF(8 ml)に溶解し、ドライアイス−アセトン浴で-78℃に冷却した。2.6M n-ブチルリチウム−ヘキサン溶液(0.72 ml, 1.86 mmol)を滴下し-78℃で30分間撹拌した後、化合物 42(415 mg, 1.16 mmol)のTHF(4 ml)溶液を加え-78℃で1時間、-40℃で5時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液、水を加え室温に昇温した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−アセトニトリル)により精製して化合物 48(275 mg, 収率53%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.61 (s, 9H), 2.25-2.32 (m, 2H), 2.35-2.42 (m, 2H), 2.43-2.52 (m, 2H), 2.90-2.99 (m, 2H), 3.29-3.34 (m, 4H), 5.26-5.32 (m, 1H), 6.66 (d, J = 8.7Hz, 1H), 6.90 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.46 (d, J = 8.7Hz, 2H), 8.07 (dd, J = 2.6, 8.7Hz, 1H), 8.74 (d, J = 2.6 Hz, 1H).
e)化合物(I−19)の合成
化合物 48(120 mg, 0.27 mmol)をクロロホルム(3 ml)に溶解し、氷浴で冷却した。トリフルオロ酢酸(2 ml)を加え0℃で1.5時間撹拌した後、飽和重曹水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製した。得られた固体をメタノール−水より再結晶して化合物(I−19)(77 mg, 収率73%)を得た。
mp 137−139℃
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:2.19-2.22 (m, 2H), 2.22-2.39 (m, 4H), 2.78-2.92 (m, 2H), 3.20-3.47 (m, 4H), 5.18-5.30 (m, 1H), 6.36 (d, J = 9.6Hz, 1H), 7.04 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.47 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.87 (dd, J = 2.4, 9.6Hz, 1H), 8.22 (d, J = 2.4Hz, 1H), 12.12 (brs, 1H).
化合物(I−20)の合成
Figure 2007099828

a)化合物50の合成
化合物 49(144 mg, 0.32 mmol)を酢酸エチル(5 ml)に溶解し、10%パラジウム−炭素(15 mg)を加え系内を水素ガスで置換し、室温で16時間撹拌した。反応液をセライトを用いてろ過し、ろ液を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル)により精製し、化合物 50(88 mg, 収率61%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:1.23-1.53 (m, 5H), 1.62 (s, 9H), 1.73-1.85 (m, 4H), 2.72-2.84 (m, 2H), 2.48-2.94 (m, 2H), 3.76-3.81 (m, 2H), 6.67 (d, J = 8.7Hz, 1H), 6.91 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.45 (d, J = 8.7Hz, 2H), 8.08 (dd, J = 2.4, 8.7Hz, 1H), 8.75 (d, J = 2.4Hz, 1H).
b)化合物(I−20)の合成
化合物 50(85 mg, 0.19 mmol)をクロロホルム(2 ml)に溶解し、氷浴で冷却した。トリフルオロ酢酸(1 ml)を加え0℃で1.5時間撹拌した後、飽和重曹水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製した。得られた固体をメタノール−水より再結晶して化合物(I−20)(61 mg, 収率82%)を得た。
mp 171−173℃
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:1.08-1.31 (m, 4H), 1.38-1.51 (m, 1H), 1.52-1.65 (m, 2H), 1.65-1.80 (m, 2H), 2.68-2.87 (m, 4H), 3.72-3.90 (m, 2H), 6.37 (d, J = 7.2Hz, 1H), 7.02 (d, J = 6.6Hz, 2H), 7.46 (d, J = 6.6Hz, 2H), 7.87 (dd, J = 1.8, 7.2Hz, 1H), 8.25 (d, J = 1.8Hz, 1H), 12.11 (brs, 1H).
化合物(I-24)の合成
Figure 2007099828
a)化合物52の合成
1-(4-クロロフェニル)ピペラジン塩酸塩 51(2.33 g, 10.0 mmol)を塩化メチレン(20 ml)に溶解し、2 mol/L水酸化ナトリウム水溶液(13.0 ml, 26.0 mmol)を加え氷浴で冷却した。塩化クロロアセチル(1.47 g, 13.0 mmol)の塩化メチレン(5 ml)溶液を加え、0℃で1時間撹拌した後、2 mol/L塩酸(7.0 ml, 14.0 mmol)を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して化合物 52(2.26 g, 収率83%)を得た。
H-NMR(CDCl3 / TMS)δppm:3.15 (t, J = 5.2Hz, 2H), 3.20 (t, J = 5.2Hz, 2H), 3.68 (t, J = 5.2Hz, 2H), 3.78 (t, J = 5.2Hz, 2H), 4.11 (s, 2H), 6.85 (d, J = 9.1Hz, 2H), 7.23 (d, J = 9.1Hz, 2H).
b)化合物(I-244)の合成
化合物 52(546 mg, 2.0 mmol)、6−アミノ-3H-ベンズオキサゾール-2-オン(300 mg, 2.0 mmol)をDMF(10 ml)に溶解し、80℃で1時間、100℃で4時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和重曹水を加え酢酸エチル−THF(1:1)混液で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール)により精製した。アモルファス状物質をメタノールを用いて結晶化させ、ろ取、ジエチルエーテルで洗浄、乾燥して化合物 (I-244)(135 mg, 収率17%)を得た。
mp 211−213℃
H-NMR(DMSO-d6 / TMS)δppm:3.11-3.23 (m, 4H), 3.58-3.68 (m, 4H), 3.93 (d, J = 5.1Hz, 2H), 5.56 (t, J = 5.1Hz, 1H), 6.48 (dd, J = 2.0, 8.6Hz, 1H), 6.70 (d, J = 2.0Hz, 1H), 6.81 (d, J = 8.7Hz, 1H), 6.98 (d, J = 9.1Hz, 2H), 7.26 (d, J = 9.1Hz, 2H), 11.12 (brs, 1H).
以下、同様にしてその他の化合物(I)を合成する。以下に構造式および物理恒数を示す。
Figure 2007099828
Figure 2007099828
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試験例1 NMDA受容体(NR1/NR2B受容体)に対する結合実験
リガンドにNR1/NR2Bサブタイプ受容体特異的な拮抗薬であるIfenprodilを用いて被検化合物との受容体競合実験を実施した。
動物は雄性、Slc:Wistarラットを用い、断頭後脳を摘出し大脳皮質を分画した。
大脳皮質を20倍量の氷冷50mM Tris・HCl緩衝液(pH 7.4)でホモジナイズし、4℃、27,500×gで10分間遠心分離した。得られた沈殿を同緩衝液で懸濁後、再度遠心分離した。この操作を3回繰り返し、得られた沈殿を緩衝液で懸濁後、−80℃で保存した。実験直前に、室温で融解後4℃、27,500×gで10分間遠心分離し、得られた沈殿を緩衝液で懸濁した。さらに緩衝液で10倍に希釈し、これを膜標品として実験に用いた。
結合実験は、470μlの上記膜標品に10μlの異なる濃度の被検化合物、10μlの標識リガンド[3H]-Ifenprodilおよび10μlのGBR-12909を加え、氷温で120分間インキュベーションした。標識リガンドの[3H]-Ifenprodilの濃度は最終5nMとし、GBR-12909の濃度は最終3μMとした。全結合量の測定には溶媒であるDMSOを用い、非特異的結合量の測定には100μMのIfenprodilを使用した。なお、GBR-12909は、[3H]-Ifenprodilの non-polyamine-sensitive siteに対する結合をブロックする為に添加した。インキュベーション後、Whatman GF/C濾紙(Whatman社製)を用いて結合体とフリー体を分離し、2.5mlの氷冷緩衝液で濾紙を4回洗浄した。濾紙をバイアル瓶中で液体シンチレーション(クリアゾルI、ナカライテスク社製)に浸し、液体シンチレーションカウンターで放射活性(dpm)を測定した。測定値より結合阻害率(%)を下式によって求め、結合を50%抑制する用量(IC50)を算出した。被検物質のIC50値を表42に示す。 GBR-12909(バノキセリン)の式を以下に示す。
Figure 2007099828

結合阻害率(%) = 100−[(被検化合物存在下の結合量−非特異的結合量) / (全結合量−非特異的結合量)]×100
Figure 2007099828

以下の化合物はIC50が0.1μM以下を示した。
I-45、I-99、I-84、I-86、I-107、I-114、I-204、I-205、I-206、I-207、I-208、I-209、I-211、I-221、I-225、I-226、I-227、I-228、I-230、I-232、I-233、I-235、I-237、I-238、I-239、I-241、I-247およびI-249。
以上の結果から本発明化合物は、NR1/NR2Bサブタイプ受容体に強い結合性を示すことが明らかとなった。
試験例2 NMDA受容体の発現およびCaイオン流入量測定
マウスNMDA受容体サブユニットの相補的DNA(cDNA)をHEK293細胞に一過性に導入し、導入1日後にグルタミン酸/グリシン惹起細胞内Ca量変化をCaイオン反応性蛍光色素を用いて測定した。
HEK293細胞は、変法ダルベッコ・イーグル培地(DMEM、low glucose)を用いて培養、継代した。
HEK293細胞の20,000個/穴を96穴プレートに播種し、pcDAN3.1プラスミドに組み込んだNMDA受容体のNR1サブユニット及びNR2Bサブユニットを一過性に細胞内へ導入し、サブユニットの共発現を行なった。DNAの導入量は、1穴あたりNR1サブユニット0.025μg、NR2Bサブユニット0.075μgとした。導入後の細胞は、NMDA受容体拮抗薬MK-801の50μMを用いて細胞死を抑制した。
被検化合物の調整、細胞の洗浄にはクレブス・リンガー・へペス緩衝液(KRH、Ca:5mM)を用いた。
導入1日後にNMDA受容体拮抗薬MK-801をKRH緩衝液を用いて洗浄除去し、Caイオン指示蛍光色素Fluo-3/AMを細胞内に取り込ませた。Caイオンの流入はグルタミン酸20μM/グリシン2μMにより惹起した。細胞内へのCaイオン流入による蛍光量変化は蛍光イメージングシステムFDSS3000を用い、励起480nmにて測定した。
通常、被験化合物がNMDA受容体の拮抗作用を示すならば、細胞内へのCaイオンの流入が低下し、蛍光量は低下する。
被験化合物の測定値よりCaイオン流入阻害率(%)を下式によって求め、流入を50%抑制する用量(IC50)を算出した。被検物質のIC50値を表43に示す。

Caイオン流入阻害率(%) = 100−[(被検化合物存在下の蛍光量−バックグラウンド蛍光量) / (全蛍光量−バックグラウンド蛍光量)]×100
Figure 2007099828

以下の化合物はIC50が0.1μM以下を示した。
I-76、I-86、I-87、I-90、I-98、I-99、I-103、I-107、I-111、I-114、I-176、I-177、I-178、I-207、I-208、I-209、I-211、I-212、I-221、I-225、I-227、I-228、I-230、I-233、I-237、I-238およびI-249。
以上の結果から、本発明化合物はNMDA受容体拮抗作用を示すことが明らかとなった。
本発明は、中枢神経細胞のグルタミン酸受容体、特にNMDA受容体の1種であるNR1/NR2B受容体に対して特異的な拮抗作用を示し、運動機能(知覚異常)、精神症状(精神分裂)などに副作用の少ない鎮痛剤および/または神経保護剤として有用である。

Claims (14)

  1. 式(I):
    Figure 2007099828

    (式中、
    ZはNまたはCRであり、
    は置換基を有していてもよい含窒素芳香族単環式基または置換基を有していてもよい含窒素芳香族縮合環式基であり、
    該含窒素芳香族単環式基もしくは含窒素芳香族縮合環式基は以下の条件:
    i) 保護されていてもよいヒドロキシ、保護されていてもよいアミノおよび置換されていてもよいアミノオキシから選択される少なくとも1個の基を有する
    または
    ii) 環内に−NH−を含有する
    の少なくとも一方を満たすものであり、
    は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基または置換基を有していてもよい芳香族複素環式基であり、
    およびRは各々独立して水素、ヒドロキシまたは低級アルキルであり、RおよびRは一緒になって単結合を形成していてもよく、
    、R、RおよびRは各々独立して水素または低級アルキルであり、複数のR、複数のR、複数のRまたは複数のRが存在するときは、それぞれが異なっていてもよく、
    wは2または3であり、tは1または2であり、
    Xは
    −(CR)m−、
    −CO(CR)n−、
    −(CR)mCO−、
    −CONR(CR)n−、
    −NRCO(CR)n−、
    −(CR)mNRCO−、
    −NRCONR(CR)n−、
    −C(=N−OR)(CR)n−、
    −(CR)rO(CR)n−、
    −(CR)rS(CR)n−、
    −(CR)rSO(CR)n−、
    −(CR)rSO(CR)n−、
    −CR=N−O(CR)n−、
    −C(=O)O(CR)n−、
    −(CR)mC(=N−OR)−、
    −CH(OR)(CR)n−、
    −(CR)mCH(OR)−、
    −NRCOCO(CR)n−、
    −(CR)mNRCOCO−、
    −COCONR(CR)n−、
    −NRCOCH(OR)(CR)n−、
    −CH(OR)(CR)nNRCO−、
    −NR(CR)mCO−、
    −A−(CR)n−、
    −(CR)m−A−、
    −A−CR10=CR11(CR)n−、
    −CR10=CR11(CR)n−A−、
    −A−NR(CR)n−、
    −(CR)nNR−A−または
    −NR(CR)m−A−であり、
    ZがCRのときは
    −CONR(CR)m−NR−、
    −(CR)mCONR−、
    −(CR)mNRCONR−、
    −CO(CR)mNR−、
    −A−(CR)mNR−でもよく、
    mは1〜4の整数であり、nおよびrは0〜4の整数であり、
    は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環式基、置換基を有していてもよい芳香族複素環式基または置換基を有していてもよい非芳香族複素環式基であり、
    およびRは各々独立して水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよい低級アルコキシであり、RおよびRが各々複数個存在する場合には各々異なっていてもよく、
    、R、R、R、R、R10およびR11は各々独立して水素または低級アルキルであり、
    mまたはnが1以上であるとき、Rは、Rが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成してもよい)
    で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  2. wが2または3であり、tが1である、請求の範囲第1項記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  3. Xが−(CR)m−、−CO(CR)n−、−CONR(CR)n−、−(CR)mCONR−、−NRCO(CR)n−、−(CR)mNRCO−、−NRCONR(CR)n−、−C(=N−OR)(CR)n−、−CH(OR)(CR)n−、−NRCOCO(CR)n−、−NRCOCH(OR)(CR)n−、−A−(CR)n−、−A−CR10=CR11(CR)n−、−NR(CR)mCO−または−A−(CR)nNR−である、請求項1または2記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  4. が少なくともヒドロキシで置換されたピリジル、少なくともヒドロキシで置換されたキノリル、少なくともヒドロキシで置換されたベンズオキサゾリル、少なくともヒドロキシで置換されたベンズイミダゾリル、少なくとも保護されていてもよいアミノで置換されたピリジル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいイミダゾリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいピロリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいピラゾリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいベンズピラゾリル、−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいベンズイミダゾリルまたは−NH−以外の環構成原子が置換されていてもよいインドリルである、請求項1〜3のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。

  5. Figure 2007099828

    である、請求項1〜3のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  6. Xが−CO(CHR)n−、−CONH(CHR)n−、−NHCO(CHR)n−、−NHCONH(CHR)n−、−NHCOCO(CHR)n−または−NR(CR)nCO−である、請求項1〜5のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  7. Xが−CO(CHR−、−CONHCHR−、−CONH(CHR−、−NHCOCHR−、−NHCO(CHR−、−NHCONH−、−NHCOCO−または−NHCHCO−である、請求項1〜5のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  8. ZがCRであり、RおよびRが各々独立して水素またはヒドロキシであるか、RおよびRが一緒になって単結合を形成するか、mまたはnが1以上のとき、RはRが結合する炭素原子と隣接するCR上のRと一緒になって単結合を形成する、請求項1〜7のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  9. ZがNである、請求項1〜7のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  10. が、それぞれハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロゲノ低級アルキル、低級アルコキシおよびハロゲノ低級アルコキシから選択される1以上の基で置換されていてもよいフェニルまたはピリジルである、請求項1〜9のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  11. がパラ置換フェニル、メタ、パラジ置換フェニルまたはメタ、パラトリ置換フェニルである、請求項1〜10のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物。
  12. 請求項1〜11のいずれかに記載の化合物もしくはその製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物を含有する医薬組成物。
  13. NMDA受容体拮抗作用を有する、請求項12記載の医薬組成物。
  14. NR1/NR2B受容体拮抗作用を有する、請求項13記載の医薬組成物。
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