JPWO2007080707A1 - 基板洗浄装置、基板洗浄方法、基板処理システムならびに記録媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
このような基板洗浄装置によれば、薬液貯留部に薬液を貯留することにより、被処理基板の周縁部が長時間薬液に浸されることとなり、この被処理基板の周縁部に付着した汚れの当該被処理基板に対する付着力が弱くなる。そして、この被処理基板に対する付着力が弱くなった汚れをブラシにより摺擦しているので、被処理基板の周縁部に付着する汚れを除去することができる。
このような基板洗浄装置によれば、被処理基板の周縁部に付着した汚れはフッ化水素酸に浸されることにより被処理基板に対する付着力がより一層弱まることとなり、被処理基板の周縁部に付着する汚れを除去することができる。
このような基板洗浄装置によれば、被処理基板の周縁部に付着した汚れを薬液に浸す動作とこの汚れをブラシにより除去する動作とを同時に行うことにより、薬液によって付着力が弱くなった汚れをすぐに除去することができ、被処理基板の周縁部に付着する汚れを除去することができる。
このような基板洗浄装置によれば、ブラシにより被処理基板の周縁部の摺擦を行うか否かを、当該被処理基板に対する処理状況に応じて選択することができ、必要なときのみにおいてブラシによる被処理基板の周縁部の摺擦を行うこともできる。
このような基板洗浄装置によれば、第1ノズルから被処理基板の周縁部に向かってガスを吐出することにより、薬液貯留部に貯留された薬液が被処理基板の上面側の半径方向内方に流れることを抑止することができる。
このような基板洗浄装置によれば、被処理基板のリンス工程において当該被処理基板の周縁部にも十分に水を供給することができる。
このような基板洗浄装置によれば、被処理基板の上面側の周縁部に対して更に薬液を供給することができ、被処理基板の周縁部に付着する汚れを除去することができる。
このような基板洗浄装置によれば、被処理基板のリンス工程において当該被処理基板の裏面側にも十分に水を供給することができる。
このような基板洗浄装置によれば、薬液貯留部はブラシと衝突することなしに被処理基板の周縁部の大部分を囲むことができ、被処理基板が回転している間、この被処理基板が薬液に浸る時間を長くすることができる。
このような基板洗浄方法によれば、被処理基板の周縁部を長時間薬液に浸し、この被処理基板の周縁部に付着した汚れの当該被処理基板に対する付着力を弱くしている。そして、この被処理基板に対する付着力が弱くなった汚れをブラシにより摺擦しているので、被処理基板の周縁部に付着する汚れを除去することができる。
以下に示す実施の形態においては、本発明による基板洗浄装置を、略円板状の輪郭を有する半導体ウエハ等の被処理基板の薬液処理、リンス処理(濯ぎ処理)および乾燥処理を行うための洗浄ユニットとして用い、エッチング装置とともに基板処理システムに組み込んだ例を示している。しかしながら、当然に、本発明による基板洗浄装置および基板洗浄方法は、このような適用に限定されるものではない。
以下、基板処理システム10の各構成要素について詳述する。
図7および図8に示すように、本実施の形態においては、載置台11に3つのキャリアCが載置されるようになっている。各キャリアCには蓋体13が設けられており、この蓋体13を開くことによって、その内部にウエハWを収納することができるようになっている。各キャリアC内には、複数の、具体的には例えば25枚の処理前のウエハWが所定間隔を空けて収納されるようになっている。本実施の形態において、ウエハWは表面(半導体デバイスが形成される処理面)が上面となるようにして、略水平状態でキャリアC内に収納されている。
また、本実施の形態においては、洗浄部10cに、合計8つの基板洗浄装置(ウエハ洗浄ユニット)40a〜40hが、それぞれ4個ずつ上下2段に重ねて配置されている。
洗浄処理および乾燥処理が施されたウエハWは再び主ウエハ搬送装置26に受け取られ、第1受け渡しユニット22へ持ち込まれる。この場合、ウエハWは、例えば主ウエハ搬送装置26の上段のウエハ保持アーム27aにより保持され、上段の第1受け渡しユニット22へ持ち込まれる。
このような基板洗浄装置40の各構成要素について、以下に詳述する。
図2および図6に示すように、洗浄槽70は、スピンチャック51を選択的に収容すべく当該スピンチャック51に対して相対的に昇降可能な略円筒形のインナーカップ71と、インナーカップ71を囲むよう設けられた略円筒形のアウターチャンバー72とから構成されている。アウターチャンバー72における隔壁60の開口60aと対向する部位には、ウエハWを搬入出させるための開口73が形成されており、この開口73を開閉するシャッター74が当該開口73に設置されている。シャッター74は環状に形成されており、その内側面には、ウエハWの周囲に飛散した薬液等を受け止めるための下方側に拡開する傾斜面74aが形成されている。また、シャッター74は、図示しない開閉機構、例えばシリンダによってアウターチャンバー72の内壁面に周設されたシール部材75に摺擦しつつ昇降し、閉鎖時においてOリング76を介してアウターチャンバー72に密接されるよう構成されている。シャッター74により開口73が閉塞された場合は、アウターチャンバー72内部の雰囲気は当該開口73から外部に漏出することはない。
また、上部側壁77の上端部は天井78によって塞がれている。天井78には、N2ガス(窒素ガス)あるいはクリーンエア等のダウンフロー用の流体DFを誘導する導入口78aが、天井78の中央と、中央を囲むように複数例えば5箇所に設けられている。
スピンチャック51は、ウエハWを保持する保持プレート51aと、保持プレート51aの下方に連結される回転筒体51bとから構成されている。回転筒体51bの下端は、中空モータ52のシャフト52aの上端に連結されている。中空モータ52を駆動させると、シャフト52aが回転し、回転筒体51b、保持プレート51aが一体的に回転するようになっている。
図2に示すように、中空モータ52は、円筒形のモータ囲繞筒体69の中空部分に収容されている。
主ノズル56は、スピンチャック51により保持されたウエハWの表面に薬液、純水(DIW)あるいは窒素ガス(N2ガス)等を供給する機能を有している。そして、この主ノズル56を支持する主ノズルアーム57の内部には、薬液やN2ガス等の流体供給路59が設けられている(図1参照)。この流体供給路59は主ノズルアーム57の先端部に装着された主ノズル56に開口している。主ノズルアーム57の基端部は、洗浄槽70の外方に配設された回転駆動機構61に連結されており、この回転駆動機構61の駆動によって主ノズルアーム57は基端を中心として水平面内で回動するようになっている。このことにより、主ノズル56は、アウターチャンバー72の外側の待避位置からノズル用開口77aを通過してウエハWの中心部上方に移動され、また、ウエハWの中心部上方からアウターチャンバー72の外側の待避位置に移動される。したがって、主ノズル56は少なくともウエハWの中心部上方から周縁上方までの間を移動することができる。
図5にリング部材53の詳細の構成を示す。なお、図5は、図2の基板洗浄装置の縦断面図における領域Dの拡大図である。
図5に示すように、本体部材53bには、薬液供給管54に連通するとともに上面に開口する薬液供給路53dが設けられている。また、貯留部材53cには、前述の薬液供給路53dに連通するとともに上面に開口する薬液供給路53eが設けられている。薬液供給管54から送られた薬液は、薬液供給路53dおよび薬液供給路53eを介して当該貯留部材53cの上面に送られ、この貯留部材53cの上面において図5の符号Mに示すような状態で貯留されるようになっている。
ここで、図5に示すように、貯留部材53cの上面における薬液供給路53eの開口は、ウエハWの表面側(上面側)に薬液が飛び散ることのないよう、ウエハWの内周側下方に位置するようになっている。
ここで、貯留部材53cの表面の一部53fは、上方に拡がるようなテーパ形状となっている。このことにより、薬液ノズル62aや洗浄水ノズル62bから薬液や純水が吐出された際に、このテーパ形状の表面53fにより跳ね返されることによって、これらの薬液や純水が貯留部材53cの半径方向外方(図5の右方)に回り込むことを抑止することができる。
図5に示すように、薬液ノズル62a、洗浄水ノズル62b、不活性ガスノズル62cはそれぞれ供給管を介して薬液供給源62d、洗浄水供給源62e、不活性ガス供給源62fに接続されており、各供給管には電動バルブ62g、62h、62iが設けられている。これらの電動バルブ62g、62h、62iの開閉は後述する制御コンピュータ90により制御されるようになっている。
図3に示すように、各第2ノズル66は、スピンチャック51の外方であってウエハWの下方に設けられた円環状の支持リング64に支持されている。また、この支持リング64の上面には、円環状の遮断リング65が配設されている。遮断リング65の上端は、スピンチャック51に保持されるウエハWの裏面に対してわずかに離間している。具体的には、この遮断リング65の上端は、ウエハWの裏面に対して例えば1mm離間しており、スピンチャック51に保持されるウエハWの裏面と支持リング64との間の空間をほぼ遮断(区画)している。このような遮断リング65が設けられていることにより、ウエハWの洗浄に用いられる薬液や純水等がウエハWの裏面側で半径方向内方に進入してスピンチャック51に付着することを防止することができ、また、中空モータ52の駆動により発生するパーティクル(粉塵)がシャフト52a付近から半径方向外方に拡散することを防止することができる。
access memory)またはROM(read only memory)のいずれの形式のものであってもよく、また、記録媒体94は、カセット式のROMのようなものであってもよい。要するに、コンピュータの技術分野において知られている任意のものを記録媒体94として用いることが可能である。この記録媒体94に記録されるプログラムは、基板洗浄装置40を制御して以下に詳述するようなウエハWの洗浄方法を実行させるものである。
まず、ウエハWが基板洗浄装置40に送られる前に、ウエハWに対してエッチング処理装置32a、32bによりエッチング処理を施す。
具体的には、前述のように、第2受け渡しユニット28から第3受け渡しユニット30にウエハWが受け渡され、この第3受け渡しユニット30からウエハWがエッチング処理装置32a、32bに持ち込まれる。このようにしてエッチング処理装置32a、32bに持ち込まれたウエハWは当該エッチング処理装置32a、32b内でエッチング処理を受ける。
エッチング処理が施されたウエハWは、再び第3受け渡しユニット30に運び出され、次に第2ウエハ搬送装置28により受け取られ、第2受け渡しユニット24へ搬送される。その後、主ウエハ搬送装置26により受け取られ、この主ウエハ搬送装置26により基板洗浄装置40内へ持ち込まれる。
また、この際に、第1ノズル62の薬液ノズル62aからもウエハWの周縁部に向かってフッ化水素酸等の薬液が吐出される。これにより、洗浄範囲がより制御可能となる。ここで、薬液ノズル62aは不活性ガスノズル62cよりもウエハWの半径方向外方に設けられている。このため、薬液ノズル62aから供給される薬液も不活性ガスノズル62cから吐出される不活性ガスの気流によって、半径方向内方(中心側)に進入することはない。
なお、ブラシ機構55の回転ブラシ55dは、薬液処理および純水によるリンス(濯ぎ)処理の両方に用いられる必要はなく、前述のような薬液処理のみに用いられるようになっていてもよい。また、薬液処理においては回転ブラシ55dが待避状態となっており、純水によるリンス処理時のみにおいて回転ブラシ55dがウエハWの周縁部に当接してこのウエハWの周縁部に対して摺擦を行うようになっていてもよい。どちらの場合であっても、ウエハWの周縁部に付着したCFx等の汚れは薬液に浸されることにより当該ウエハWに対する付着力が弱くなっているので、回転ブラシ55dによる摺擦動作によってこのCFx等の汚れをウエハWの周縁部から除去することができる。
Claims (14)
- 洗浄槽と、
前記洗浄槽内に回転自在に設けられ、被処理基板を保持する保持台と、
前記保持台を回転させる回転駆動部と、
前記保持台に保持された被処理基板の周縁部に沿って薬液を貯留してこの被処理基板の周縁部を薬液に浸すための薬液貯留部と、
前記薬液貯留部に接続され、当該薬液貯留部に前記薬液を供給する薬液供給部と、
前記保持台に保持された被処理基板の周縁部を摺擦するブラシと、
を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記薬液供給部から前記薬液貯留部に供給される薬液はフッ化水素酸であることを特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。
- 前記ブラシは、前記薬液供給部により前記薬液貯留部に薬液が供給されてこの薬液貯留部に貯留された薬液に被処理基板の周縁部が浸された際に当該周縁部を摺擦することを特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。
- 前記ブラシは、前記保持台に保持された被処理基板の周縁部に当接する当接位置と、この周縁部から離間する待避位置との間で往復移動自在となっており、当該ブラシが当接位置にある状態で前記回転駆動部により回転する被処理基板の周縁部がブラシにより摺擦されることを特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。
- 前記薬液貯留部の上方に、前記保持台に保持された被処理基板の上面側の周縁部にガスを吐出してこのガスの吐出により被処理基板の上面側で半径方向外方に流れる気流を形成する第1ノズルが設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。
- 前記第1ノズルは、前記保持台に保持される被処理基板の周縁部に対して水を更に供給することができるようになっていることを特徴とする請求項5記載の基板洗浄装置。
- 前記第1ノズルは、前記保持台に保持される被処理基板の周縁部に対して薬液を更に供給することができるようになっていることを特徴とする請求項5記載の基板洗浄装置。
- 前記保持台に保持される被処理基板の裏面側に、当該被処理基板の周縁部近傍に水を供給する第2ノズルが設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。
- 前記薬液貯留部は、切り欠き領域を残して被処理基板の周縁部を囲むよう環状に形成され、前記ブラシは前記薬液貯留部の切り欠き領域に配設されることを特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。
- 請求項1記載の基板洗浄装置と、
当該基板洗浄装置に連結され、被処理基板に対してエッチング処理を行うエッチング処理装置と、
を備えたことを特徴とする基板処理システム。 - 保持台により被処理基板を保持する工程と、
前記保持台を回転させる工程と、
薬液貯留部に薬液を貯留してこの薬液に被処理基板の周縁部を浸す工程と、
ブラシにより被処理基板の周縁部を摺擦する工程と、
を備えたことを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記ブラシは、前記薬液貯留部に貯留された薬液に被処理基板の周縁部が浸された際に当該周縁部を摺擦することを特徴とする請求項11記載の基板洗浄方法。
- 基板洗浄装置の制御コンピュータにより実行することが可能なプログラムが記録された記録媒体であって、当該プログラムを実行することにより、前記制御コンピュータが前記基板洗浄装置を制御して基板洗浄方法を実行させるものにおいて、
前記基板洗浄方法が、
保持台により被処理基板を保持する工程と、
前記保持台を回転させる工程と、
薬液貯留部に薬液を貯留してこの薬液に被処理基板の周縁部を浸す工程と、
ブラシにより被処理基板の周縁部を摺擦する工程と、
を実施するものであることを特徴とする記録媒体。 - ブラシにより被処理基板の周縁部を摺擦する工程は、前記薬液貯留部に貯留された薬液に被処理基板の周縁部が浸された際に実施されることを特徴とする請求項13記載の記録媒体。
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