JP3992273B2 - ウェーハエッジ洗浄装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウェーハエッジ研磨後のウェーハエッジ洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ウェーハは、エッジ部のチッピング防止やエピタキシャル成長時のクラウン防止等のため、ダイヤモンド砥石でエッジ部の面取り加工が施される。そして、この面取り加工後に残った加工歪み層をエッチングにより除去している。このエッチング処理した表面は波状やうろこ状の凹凸になって汚れが残り易い。そこで、ウェーハの面取り加工したエッジ部を平滑化するためのエッジ研磨が行なわれている。エッジ研磨したウェーハには研磨スラリが付着しているため、洗浄により除去し、その後に乾燥させている。即ち、エッジ研磨工程、洗浄工程、乾燥工程が行なわれる。
【0003】
従来、ウェーハのエッジを洗浄するウェーハエッジ洗浄装置として、特開平6−45302号公報(以下、公知例1という)、特開平11−625号公報(以下、公知例2という)、特開2001−212528号公報(以下、公知例3という)が挙げられる。
【0004】
公知例1及び公知例2のエッジ洗浄ブラシは、ウェーハの中心線と平行な軸線を中心として回転させられる柔軟で圧縮性を有しており、ウェーハのエッジ部にエッジ洗浄ブラシを圧接させ、ウェーハ及びエッジ洗浄ブラシが回転してエッジ部に付着した研磨スラリ等の不純物を洗浄する。
【0005】
公知例3のエッジ洗浄ブラシは、回転中心がウェーハと同等の位置になるように配置し、エッジ洗浄ブラシの毛ブラシがウェーハのエッジに侵入するようになっている。エッジ洗浄ブラシが回転すると、毛ブラシの一方側(例えば左側)はウェーハの表面の平坦部よりエッジ部にかけて摺擦し、毛ブラシの他方側(例えば右側)はウェーハの裏面の平坦部よりエッジ部にかけて摺擦し、エッジ部に付着した研磨スラリ等の不純物を洗浄する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
公知例1及び公知例2は、エッジ洗浄ブラシの一定部分を常にウェーハのエッジに接触させるので、エッジ洗浄ブラシの磨耗が著しく、寿命の点で問題があった。
【0007】
公知例3は、エッジ洗浄ブラシの回転中心がウェーハと同等位置に配置した構造であるので、毛ブラシに限定される。また毛ブラシが軟質材であると切れ易く、長期の使用に耐えられなく、硬質材であるとウェーハに傷を付ける。また毛ブラシがウェーハの表面よりエッジに移動する時、毛ブラシが弾かれて裏面に移動した時に元に戻るので、エッジが良好に洗浄できない。毛ブラシがウェーハの裏面側よりエッジに移動する時も同様である。この点、公知例1及び公知例2のエッジ洗浄ブラシは、ウェーハの中心線と平行な軸線を中心として回転させられるので、公知例3のような問題は生じない。
【0008】
本発明の第1の課題は、ウェーハの中心線と平行な軸線を中心として回転させられるエッジ洗浄ブラシを有するウェーハエッジ洗浄装置において、エッジ洗浄ブラシの消耗を防ぐことができるように、ウェーハ側面との圧接部を変えることができるウェーハエッジ洗浄装置を提供することにある。
【0009】
本発明の第2の課題は、前記第1の課題を達成するのに、エッジ洗浄ブラシを上下動させるための駆動源を特別に必要としないウェーハエッジ洗浄装置を提供することにある。
【0010】
本発明の第3の課題は、エッジ洗浄ブラシとウェーハとの相対的な周速を変えることができ、洗浄効果を向上させることができるウェーハエッジ洗浄装置を提供することにある。
【0011】
本発明の第4の課題は、ウェーハの外周面(エッジ部)に多少の凹凸があっても良好に洗浄することができるウェーハエッジ洗浄装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記第1及び第2の課題を解決するための本発明の請求項1は、回転駆動されるウェーハの側面部分に洗浄液を供給する洗浄ノズルと、ウェーハの側面に圧接し該ウェーハの中心線と平行な軸線を中心として回転させられる柔軟で圧縮性を有するエッジ洗浄ブラシとを備えたウェーハエッジ洗浄装置において、ウェーハの外周を保持して回転する複数個のウェーハ保持ローラとを有し、前記複数個のウェーハ保持ローラの1つは下方部にギア部を有するギア付ウェーハ保持ローラであり、該ギア付ウェーハ保持ローラを回転駆動させる駆動源と、前記ギア付ウェーハ保持ローラのギア部に直接又は間接に噛合して回転させられるギア部材と、上下動及び回転可能で前記ギア部材に載置され、前記エッジ洗浄ブラシを有するブラシホルダとを備え、前記ギア部材と前記ブラシホルダとの当接面には、いずれか一方にカム部が形成されていることを特徴とする。
【0014】
上記第1、第2及び第3の課題を解決するための本発明の請求項2は、上記請求項2において、前記ギア部材には、前記エッジ洗浄ブラシに圧接するブラシ回転ピンが設けられていることを特徴とする。
【0015】
上記第1、第2及び第4の課題を解決するための本発明の請求項3は、上記請求項2において、前記エッジ洗浄ブラシは、ウェーハ方向に揺動可能で、かつウェーハ側に付勢されていることを特徴とする。
【0016】
上記第1及び第2の課題を解決するための本発明の請求項4は、回転駆動されるウェーハの側面部分に洗浄液を供給する洗浄ノズルと、ウェーハの側面に圧接し該ウェーハの中心線と平行な軸線を中心として回転させられる柔軟で圧縮性を有するエッジ洗浄ブラシとを備えたウェーハエッジ洗浄装置において、ウェーハの外周を保持して回転する複数個のウェーハ保持ローラと、前記エッジ洗浄ブラシを有し、下面にカム部が形成されたブラシホルダと、このブラシホルダと共に回転可能で、かつ該ブラシホルダが上下動可能に嵌挿された回転軸と、位置固定で前記ブラシホルダのカム部が載置される部材と、前記複数個のウェーハ保持ローラの1つと前記回転軸を駆動させる駆動源とを備えたことを特徴とする。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施の形態を図1乃至図4により説明する。なお、図示しないが、本装置は従来と同様に、ウェーハ1の表面側及び裏面側を洗浄するブラシと、表面側及び裏面側に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルを備えている。
【0018】
ウェーハ1は、1個のギア付ウェーハ保持ローラ2と、3個のウェーハ保持ローラ3、4、5によって支持される。ギア付ウェーハ保持ローラ2は、上方部の外周がV字状に形成されたウェーハ保持部2aと、このウェーハ保持部2aより下方が広がるようにテーパ状に形成されたウェーハ支持部2bと、下方部にギアが形成されたギア部2cとからなっている。ウェーハ保持ローラ3、4、5は、それぞれ上方部の外周がV字状に形成されたウェーハ保持部3a、4a、5aと、このウェーハ保持部3a、4a、5aより下方が広がるようにテーパ状に形成されたウェーハ支持部3b、4b、5bを有している。
【0019】
ギア付ウェーハ保持ローラ2は、支持板10に軸受11を介して回転自在に支承された回転軸12の上端に固定されている。ウェーハ保持ローラ3は、支持板10に軸受13を介して回転自在に支承された回転軸14の上端に固定されている。ウェーハ保持ローラ4、5は、支持板15にそれぞれ軸受16、17を介して回転自在に支承された回転軸18、19の上端に固定されている。支持板10と15は、接近及び離反する相反する方向に図示しない駆動手段で同時に移動させられ、ウェーハ保持ローラ2、3と4、5とが開閉するようになっている。
【0020】
回転軸12の下端部にはプーリ20が固定されており、プーリ20に対応して支持板10の下面にはブラケット21を介して駆動モータ22が固定されている。駆動モータ22の出力軸にはプーリ23が固定され、プーリ20と23にはベルト24が掛け渡されている。
【0021】
支持板10の上面にはブラケット30が固定され、ブラケット30には前記ギア付ウェーハ保持ローラ2の下面側に伸びた支持板31が固定されている。支持板31には、2個の支持軸32、33が固定されている。支持軸32には、ギア付ウェーハ保持ローラ2のギア部2cに螺合するギア部34aと、このギア部34aより小径のギア部34bを有する減速ギア34が回転自在に支承されている。支持軸33には、減速ギア34のギア部34bに噛合するギア部35aと、このギア部35aの上面の円周部に形成されたカム部35bを有するカムギア35が回転自在に支承されている。
【0022】
ブラケット30及び支持板31には、それぞれ上下に相対向して支持板40、41が固定され、支持板40、41には支持軸42が固定されている。支持軸42には、ウェーハ1の側面に圧接する圧縮性のある柔軟なPVA又はナイロンよりなるエッジ洗浄ブラシ43を有するブラシホルダ44が回転及び上下動自在に嵌挿されており、ブラシホルダ44の下端部分は、前記カムギア35のカム部35bに自重により載置されるようになっている。カムギア35には、エッジ洗浄ブラシ43に圧接するようにブラシ回転ピン45が固定されている。
【0023】
次に作用について説明する。エッジ洗浄ブラシ43がウェーハ1の側面に圧接する位置より離れ、ウェーハ保持ローラ2、3、4、5のウェーハ支持部2b、3b、4b、5bがウェーハ1を支持する位置にある状態で、図示しない吸着パッドに吸着保持されたウェーハ1が上方よりウェーハ保持ローラ2、3、4、5上に供給される。これにより、ウェーハ1は図2及び図3に1aで示すようにウェーハ支持部2b、3b、4b、5bに支持される。
【0024】
次に図示しない洗浄液供給ノズルよりウェーハ1の表面側及び裏面側に洗浄液が供給されると共に、駆動モータ22が回転させられる。駆動モータ22が回転させられると、プーリ23、ベルト24、プーリ20を介して回転軸12と共にギア付ウェーハ保持ローラ2が回転させられる。この状態で支持板10と15がウェーハ1側に移動させられる。これにより、ウェーハ1は、ウェーハ保持ローラ2、3、4、5のウェーハ支持部2b、3b、4b、5bに沿って押し上げられ、図2及び図3に1bで示すようにウェーハ保持部2a、3a、4a、5aで保持され、またエッジ洗浄ブラシ43がウェーハ1のエッジ部に圧接する。前記したように、エッジ洗浄ブラシ43は、圧縮性の柔軟な材料よりなるので、図4に示すようにウェーハ1のエッジ部及び表裏ベベル面に圧接する。また図示しないウェーハ1の表面側及び裏面側を洗浄するブラシがウェーハ1の表面側及び裏面側に圧接する。
【0025】
前記したように、ギア付ウェーハ保持ローラ2が回転すると、該ギア付ウェーハ保持ローラ2のウェーハ保持部2aによりウェーハ1が回転させられる。またギア付ウェーハ保持ローラ2が回転すると、減速ギア34を介してカムギア35が回転させられる。カムギア35が回転すると、カムギア35のカム部35bのプロフィルにより、エッジ洗浄ブラシ43は上下動させられる。ウェーハ1はギア付ウェーハ保持ローラ2によって回転させられているので、エッジ洗浄ブラシ43はウェーハ1によって回転させられながらウェーハ1のエッジ部及び表裏ベベル面を洗浄すると共に、表面側及び裏面側のブラシによって表面側及び裏面側が洗浄される。
【0026】
洗浄が完了すると、駆動モータ22は停止し、図示しない吸着パッドが下降してウェーハ1を吸着保持する。その後、支持板10と15は離反する方向に移動させられ、ウェーハ保持ローラ2、3、4、5はウェーハ1より離れる。続いて前記吸着パッドはウェーハ1を吸着保持した状態で上昇及び次工程に移動させられる。これにより、一連の洗浄サイクルが終了する。
【0027】
このように、ウェーハ1を回転させながら該ウェーハ1のエッジ部及び表裏ベベル面にエッジ洗浄ブラシ43を圧接することにより、ウェーハ1のエッジ部及びベベル面を洗浄することができる。またウェーハ1を回転させるギア付ウェーハ保持ローラ2が回転して減速ギア34を介してカムギア35を回転させ、カムギア35に設けられたカム部35bでエッジ洗浄ブラシ43を上下動させてウェーハ1のエッジ部及び表裏ベベル面を洗浄する。即ち、エッジ洗浄ブラシ43がウェーハ1のエッジ部に当たる面が自動的に変えられるので、エッジ洗浄ブラシ43の消耗を防ぐことができる。このエッジ洗浄ブラシ43の上下動は、前記したようにギア付ウェーハ保持ローラ2を回転させる駆動モータ22によって行われ、別個に上下駆動源を必要としないので、安価に製作できる。
【0028】
またカムギア35が1回転する毎にブラシ回転ピン45がエッジ洗浄ブラシ43に圧接して該エッジ洗浄ブラシ43を強制的に回転させる。このエッジ洗浄ブラシ43の回転により、該エッジ洗浄ブラシ43とウェーハ1との周速が変化するので、ウェーハ1の洗浄効果が向上する。
【0029】
本発明の第2の実施の形態を図5乃至図8により説明する。なお、前記第1の実施の形態と同じ又は相当部材には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。前記実施の形態は、ブラケット30を支持板10に固定した。本実施の形態は、ブラケット30を支持板10に揺動自在に設け、ウェーハ1の外周面に凹凸があってもエッジ洗浄ブラシ43がウェーハ1に追従してウェーハ1を良好に洗浄を行うようにしたものである。即ち、ブラケット30の揺動構造及びそれに関連する構造が前記実施の形態と異なるのみであり、その他の構造は前記実施の形態と同じである。
【0030】
図6及び図7に示すように、支持板10上には、ブラケット保持板50が固定されており、ブラケット保持板50には支軸51が回転自在に支承されている。支軸51にはブロック52が固定されており、ブロック52にはブラケット30が固定されている。ブラケット30には、ウェーハ1の下方に伸びた錘支持レバー53の一端部が固定されており、錘支持レバー53の他端部には錘54が固定されている。
【0031】
図5に示すように、エッジ洗浄ブラシ43の両側には、位置ずれ防止ピン60が配設されており、2個の位置ずれ防止ピン60は、図7及び図8に示すように、エッジ洗浄ブラシ43に干渉しない形状に形成されたピン支持ブロック61に回転自在に支承されている。ピン支持ブロック61は、支柱62の上端に設けられたフランジ部62aに前後位置調整可能に固定されており、支柱62は支持板10上に固定されている。支柱62のフランジ部62aには、ブラケット30側に伸びたブラケットストッパ63が固定されている。ブラケットストッパ63は、ブラケット30に設けられた穴30aに挿通され、ブラケット30の外側側面に係合する係合部63aが形成されている。
【0032】
次に作用について説明する。支持板10と15が十分に開いた状態においては、ブラケット30及び支持板40、41は、錘54の付勢力によって支軸51を中心として矢印E方向に揺動してブラケットストッパ63の係合部63aより離れ、減速ギア34はギア付ウェーハ保持ローラ2のギア部2cに十分に噛み合った状態にある。この状態より、ウェーハ保持ローラ2、3、4、5のウェーハ支持部2b、3b、4b、5bがウェーハ1を支持する位置に移動する。この状態で、図示しない吸着パッドに吸着保持されたウェーハ1が上方よりウェーハ保持ローラ2、3、4、5上に供給される。これにより、ウェーハ1は図2及び図3に1aで示すようにウェーハ支持部2b、3b、4b、5bに支持される。
【0033】
次に図示しない洗浄液供給ノズルよりウェーハ1の表面側及び裏面側に洗浄液が供給されると共に、駆動モータ22が回転させられる。この状態で支持板10と15がウェーハ1側に移動させられる。これにより、ウェーハ1は、ウェーハ保持ローラ2、3、4、5のウェーハ支持部2b、3b、4b、5bに沿って押し上げられ、また位置ずれ防止ピン60及びエッジ洗浄ブラシ43が錘54の付勢力でウェーハ1のエッジ部に圧接した直後に、図2及び図3に1bで示すようにウェーハ保持部2a、3a、4a、5aで保持される。
【0034】
前記したように駆動モータ22が回転させられると、前記実施の形態で説明したように、ギア付ウェーハ保持ローラ2が回転させられ、ギア付ウェーハ保持ローラ2のウェーハ保持部2aによりウェーハ1が回転させられると共に、カムギア35のカム部35bのプロフィルにより、エッジ洗浄ブラシ43は上下動させられる。前記したように、エッジ洗浄ブラシ43は、圧縮性の柔軟な材料よりなるので、図4に示すようにウェーハ1のエッジ部及び表裏ベベル面に圧接する。また図示しないウェーハ1の表面側及び裏面側を洗浄するブラシがウェーハ1の表面側及び裏面側に圧接する。ウェーハ1はギア付ウェーハ保持ローラ2によって回転させられているので、エッジ洗浄ブラシ43はウェーハ1によって回転させられながらウェーハ1のエッジ部及び表裏ベベル面を洗浄すると共に、表面側及び裏面側のブラシによって表面側及び裏面側が洗浄される。
【0035】
このように、エッジ洗浄ブラシ43は矢印E,F方向に揺動自在に設けられているので、ウェーハ1の外周面に凹凸があってもウェーハ1の外周面に追従し、ウェーハ1のエッジ部及びベベル面を良好に洗浄することができる。
【0036】
なお、上記各実施の形態においては、カムギア35にカム部35bを設けたが、カムギア35をカム部35bを有しないギア部材とし、このギア部材に載置されるブラシホルダ44の下面にカム部を形成してもよい。
【0037】
本発明の第3の実施の形態を図9により説明する。前記各実施の形態は、駆動モータ22によって駆動されるギア付ウェーハ保持ローラ2の回転により減速ギア34、カムギア35を介してエッジ洗浄ブラシ43を上下動させた。またエッジ洗浄ブラシ43は、ウェーハ1の回転力によって回転させられるように構成した。本実施の形態は、前記各実施の形態のギア付ウェーハ保持ローラ2をギア部2cを有しないウェーハ保持ローラ2とし、ウェーハ保持ローラ2を駆動する駆動モータ22でエッジ洗浄ブラシ43を回転駆動させると共に、駆動モータ22で回転させられるエッジ洗浄ブラシ43の回転を利用して該エッジ洗浄ブラシ43を上下駆動させるようにしたものである。
【0038】
支持板10には、軸受70を介して回転軸71が回転自在に支承されており、回転軸71には、ブラシホルダ44が回転軸71と共に回転可能で、かつ回転軸71に上下動可能に嵌挿されている。ブラシホルダ44には、PVA又はナイロンよりなるエッジ洗浄ブラシ43が固定されている。ブラシホルダ44の下面の内側には凹部44bが形成され、下面の円周部は、カム部44aとなっており、カム部44aは、自重によってローラ72に圧接している。
【0039】
回転軸71には、ストッパ73が固定されている。ここで、カム部44aの最下面44a1がローラ72に圧接した状態、即ち、ブラシホルダ44が最も上方に押し上げられた状態では、凹部44bの上面44b1とストッパ73との長さZ1は、カム部44aの最下面44a1と最上面44a2の長さZ2より小さくなるようにストッパ73は回転軸71に固定されている。従って、カム部44aの最上面44a2がローラ72の上方に位置した時は、ブラシホルダ44の凹部44bの上面44b1がストッパ73に当接し、カム部44aの最上面44a2はローラ72に当接しない。
【0040】
支持板10の上方には、図示しない架台に固定されたベース板74が配設されており、ベース板74には、回転軸12、14、71が貫通する長穴74aが設けられてる。長穴74aは、支持板10の移動に干渉しないように、支持板10の移動方向、即ち紙面に垂直に伸びた穴となっている。ベース板74上には、ローラ72を回転自在に支承するブラケット75が固定されている。ベース板74の下面には、支持板10の移動方向(紙面に垂直方向)に伸びたシリンダ76が固定されており、シリンダ76の作動ロッドは支持板10に固定されたブロック77に連結されている。
【0041】
支持板10の下面には、ブラケット21を介して駆動モータ22が固定されており、駆動モータ22の出力軸にはギア80が固定されている。回転軸12、71の下端部には、それぞれギア81、82が固定されており、ギア81、82はギア80に螺合している。
【0042】
前記したように、ベース板74は移動しなく、支持板10は、ウェーハ1を洗浄する位置と、ウェーハ1を供給・排出する位置に移動、即ち紙面に垂直方向に移動する。そこで、支持板10がウェーハ1の供給・排出位置にある時は、ブラシホルダ44のカム部44aはローラ72より離れ、ブラシホルダ44の凹部44bの上面44b1がストッパ73に当接している。この状態においては、ブラシホルダ44のカム部44aの最上面44a2がローラ72に対応した状態となっており、ブラシホルダ44のカム部44aがローラ72の上方に移動した時にローラ72に干渉しないようになっている。
【0043】
そこで、シリンダ76の作動ロッドが引っ込んだ状態よりシリンダ76が作動し、ウェーハ保持ローラ2、3及び4、5(図1参照)のウェーハ支持部2b、3b及び4b、5bがウェーハ1を支持する位置に支持板10を移動させ、ウェーハ1がウェーハ支持部2b、3b及び4b、5bで支持された後、駆動モータ22を回転させる。続いてシリンダ76を作動させて支持板10を移動させ、ウェーハ保持ローラ2、3及び4、5のウェーハ保持部2a、3a及び4a、5aでウェーハ1を保持させる。
【0044】
前記したように、駆動モータ22が回転させられると、ギア81、82を介して回転軸12、71と共にウェーハ保持ローラ2及びエッジ洗浄ブラシ43が回転し、ウェーハ保持ローラ2で保持されたウェーハ1は回転させられる。またブラシホルダ44はローラ72で支持され、回転軸71と共に回転自在で、かつ該回転軸71に上下動可能に嵌挿されているので、ブラシホルダ44が回転すると、エッジ洗浄ブラシ43は、回転しながらブラシホルダ44のカム部44aのプロフィルにより上下動させられ、ウェーハ1のエッジ部及びベベル部を洗浄する。
【0045】
本実施の形態においても、前記各実施の形態と同様に、エッジ洗浄ブラシ43がウェーハ1のエッジ部に当たる面が自動的に変えられるので、エッジ洗浄ブラシ43の消耗を防ぐことができる。このエッジ洗浄ブラシ43の上下動は、ウェーハ保持ローラ2を回転させる駆動モータ22によって行われ、別個に上下駆動源を必要としないので、安価に製作できる。
【0046】
なお、上記各実施の形態においては、エッジ洗浄ブラシ43の上下駆動は、ギア付ウェーハ保持ローラ2又はギア2c無しのウェーハ保持ローラ2を回転させる駆動モータ22でエッジ洗浄ブラシ43を上下動させるように構成したが、エッジ洗浄ブラシ43を上下動させるウェーハ上下駆動手段を別個に設け、エッジ洗浄ブラシ43を単独で上下駆動させるようにしてもよい。しかし、本実施の形態のように単一の駆動モータ22でギア付ウェーハ保持ローラ2又はギア2c無しのウェーハ保持ローラ2とエッジ洗浄ブラシ43を駆動させると、安価に製作できる。また上記各実施の形態においては、1個のエッジ洗浄ブラシ43を設けた場合について説明したが、複数個のエッジ洗浄ブラシ43を設けると、洗浄効果が向上することは言うまでもない。
【0048】
【発明の効果】
本発明の請求項1及び4によれば、エッジ洗浄ブラシはブラシ上下駆動手段によって上下動させられるので、ウェーハ側面との圧接部を変えることができ、エッジ洗浄ブラシの消耗を防ぐことができる。またエッジ洗浄ブラシの上下動は、ウェーハ保持ローラを回転させる駆動源によって行われ、別個に上下駆動源を必要としないので、安価に製作できるという効果が得られる。
【0049】
本発明の請求項2によれば、エッジ洗浄ブラシをブラシ回転ピンで強制的に回転させるので、上記請求項1の効果の他に、エッジ洗浄ブラシとウェーハとの相対的な周速を変えることができ、洗浄効果を向上させることができるという効果が得られる。
【0050】
本発明の請求項3によれば、エッジ洗浄ブラシは、ウェーハ方向に揺動可能で、かつウェーハ側に付勢されているので、上記請求項2の効果の他に、ウェーハの外周面に多少の凹凸があっても良好に洗浄することができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のウェーハエッジ洗浄装置の第1の実施の形態を示す平面図である。
【図2】図1のA−A線断面展開図である。
【図3】図1のB−B線断面図である。
【図4】ウェーハとエッジ洗浄ブラシとの圧接状態を示す拡大説明図である。
【図5】本発明のウェーハエッジ洗浄装置の第2の実施の形態を示す平面図である。
【図6】図5のC−C線断面展開図である。
【図7】図5のD−D線断面図である。
【図8】ピン部分を示し、(a)は平面図、(b)は正面図である。
【図9】本発明のウェーハエッジ洗浄装置の第3の実施の形態を示す断面展開図である。
【符号の説明】
1 ウェーハ
2 ギア付ウェーハ保持ローラ
3、4、5 ウェーハ保持ローラ
2a、3a、4a、5a ウェーハ保持部
2b、3b、4b、5b ウェーハ支持部
2c ギア部
10 支持板
12 回転軸
14 支持板
20 プーリ
22 駆動モータ
23 プーリ
24 ベルト
34 減速ギア
34a、34b ギア部
35 カムギア
35a ギア部
35b カム部
42 支持軸
43 エッジ洗浄ブラシ
44 ブラシホルダ
44a カム部
45 ブラシ回転ピン
50 ブラケット歩時板
51 支軸
53 錘支持レバー
54 錘
60 位置ずれ防止ピン
61 ピン支持ブロック
62 支柱
63 ブラケットストッパ
71 回転軸
72 ローラ
73 ストッパ
74 ベース板
75 ブラケット
80、81、82 ギア

Claims (4)

  1. 回転駆動されるウェーハの側面部分に洗浄液を供給する洗浄ノズルと、ウェーハの側面に圧接し該ウェーハの中心線と平行な軸線を中心として回転させられる柔軟で圧縮性を有するエッジ洗浄ブラシとを備えたウェーハエッジ洗浄装置において、ウェーハの外周を保持して回転する複数個のウェーハ保持ローラとを有し、前記複数個のウェーハ保持ローラの1つは下方部にギア部を有するギア付ウェーハ保持ローラであり、該ギア付ウェーハ保持ローラを回転駆動させる駆動源と、前記ギア付ウェーハ保持ローラのギア部に直接又は間接に噛合して回転させられるギア部材と、上下動及び回転可能で前記ギア部材に載置され、前記エッジ洗浄ブラシを有するブラシホルダとを備え、前記ギア部材と前記ブラシホルダとの当接面には、いずれか一方にカム部が形成されていることを特徴とするウェーハエッジ装置。
  2. 前記ギア部材には、前記エッジ洗浄ブラシに圧接するブラシ回転ピンが設けられていることを特徴とする請求項1記載のウェーハエッジ洗浄装置。
  3. 前記エッジ洗浄ブラシは、ウェーハ方向に揺動可能で、かつウェーハ側に付勢されていることを特徴とする請求項1記載のウェーハエッジ洗浄装置。
  4. 回転駆動されるウェーハの側面部分に洗浄液を供給する洗浄ノズルと、ウェーハの側面に圧接し該ウェーハの中心線と平行な軸線を中心として回転させられる柔軟で圧縮性を有するエッジ洗浄ブラシとを備えたウェーハエッジ洗浄装置において、ウェーハの外周を保持して回転する複数個のウェーハ保持ローラと、前記エッジ洗浄ブラシを有し、下面にカム部が形成されたブラシホルダと、このブラシホルダと共に回転可能で、かつ該ブラシホルダが上下動可能に嵌挿された回転軸と、位置固定で前記ブラシホルダのカム部が載置される部材と、前記複数個のウェーハ保持ローラの1つと前記回転軸を駆動させる駆動源とを備えたことを特徴とするウェーハエッジ装置。
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KR100916687B1 (ko) 2006-03-30 2009-09-11 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 기판처리장치 및 기판처리방법
CN104386477B (zh) * 2014-10-31 2017-03-29 昆山迈致治具科技有限公司 一种插头自动化清洗按压装置
CN108606337B (zh) * 2018-05-10 2020-09-29 蓬莱佳峰食品有限公司 一种节水型高效水果加工装置
CN112191564A (zh) * 2020-08-27 2021-01-08 衡阳迈特制动系统有限公司 一种清洁效果好的刹车片生产用钢背清洗装置
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