JPS6218369Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 本考案は両面研摩装置の研摩布をクリーニング
する研摩布クリーニング装置の改良に関する。

〔考案の技術的背景とその問題点〕

一般に両面研摩装置は一対の上定盤と下定盤と
をそなえていて、相互に接離自在で、かつそれぞ
れ回転し、対向した面には研摩布が貼付けられて
いる。そしてこの間に被加工物を介在させて両面
を研摩布で研摩するように構成されている。

このような研摩装置で、加工すると、被加工物
の研摩くずなどが研摩布上に堆積する。特にシリ
コンウエハーをコロイダルシリカ系の研摩剤で両
面研摩する場合、研摩布として不織布タイプのも
のを用いると、不織布の繊維間を研摩剤と研摩く
ずが埋めてしまい、この状態が進行すると、研摩
布の表面は、研摩剤と研摩くずが固まつて、目ず
まりを起し、光沢をおびるに至る場合もある。こ
のような研摩布によつて両面研摩をすると、例え
ば半導体ウエハなどの場合には形状精度は大きく
低下してしまう。従つて研摩布の表面は加工後、
十分クリーニングして目づまりを除去する必要が
ある。

目づまりを除去する方法として、目づまりをし
た部分をナイフ等の刃物で削ぎ落すことが最も簡
便な方法であるが、この方法は、手間がかかり、
そのうえ上定盤の研摩布の目づまりを取るときに
は、無理な姿勢で作業を行なわなければならず、
均一性に乏しく作業性が極めて悪いという不都合
がある。またハンドブラシを用いて、研摩布をこ
すり、目づまりを除去する方法も考えられるが、
研摩布の直径が大きくなると、やはり手間がかか
り、また上定盤側の研摩布の目づまりに対して
は、上記ナイフの方法と同様な欠点がある。

〔考案の目的〕

本考案は作業者の手をわずらわすことなく、迅
速に、均一に研摩布をクリーニングする研摩布ク
リーニング装置を提供することを目的とする。

〔考案の概要〕

本考案は上下両定盤間に半径方向に沿つて円柱
状のブラシを配置し、これを駆動機構により回転
させ上下両定盤の研摩布を同時にクリーニングす
る研摩布クリーニング装置である。

〔考案の実施例〕

以下、本考案の詳細を図示の一実施例により説
明する。まず本実施例の装置を取付けた両面研摩
装置の主要部を説明する。第１図〜第３図におい
て、１は下定盤で、その平坦な円環状の上面２に
は研摩布３が貼付けてあり、回転する中心軸４に
回転自在に嵌合支持され、図示しない下方の駆動
機構により適宜正、逆回転される。この下定盤１
に対向して上方に上定盤８が上下動自在に設けら
れていて、下降により中心軸４に嵌合し、滑りキ
ー９により回転駆動される。そして平坦な下面１
０には研摩布１１が貼付けられていて、上定盤８
の位置および研摩の際の押圧力は図示しない送り
機構およびエアーシリンダなどにより調節され
る。また中心軸４には図示しない駆動軸によつ
て、独立に回転する太陽歯車１２が取付けられて
おり、一方下定盤１の外側を囲んでインターナル
歯車１３が設けられている。そして下定盤１上の
研摩布３上に載置されたキヤリア（図示せず）は
内側に被加工物が遊嵌されているとともに、外側
は歯車となり、上述の太陽歯車１２とインターナ
ル歯車１３にかみ合つて自転しながら公転して研
摩される。さらにまたインターナル歯車１３の外
側を囲んで研摩装置本体１４が設けられている。

さて次に実施例につき説明する。２１はブラシ
体で、軸心体２２に線径0.1mm〜0.5mmの線状体
（材質例えばナイロン等の高分子材質）からなる
円筒状のブラシ２３を取付けて構成されている。
このブラシ体２１は上述の定盤１，８の間に半径
方向に沿つて取付けられていて、軸心体２２の一
方の端部２４は中心軸４に回転自在に嵌合した支
持体２６の軸受部２７により回転自在に支持され
ている。軸心体２２の他方の端部２８は本体１４
上に固定されたブラシ保持装置３１により回転自
在に保持されている。そしてこの軸心体２２は回
転機構３２により回転駆動される。上述の支持体
２６は第３図に拡大して示すように、環状部材２
６ａに例えばテフロンのブツシユ２６ｂを圧入し
て円滑に中心軸４に対し回転自在とし、また側面
から玉軸受２６ｃを取付け、カツプリング２６ｄ
をはめて軸受部２７が構成されている。またブラ
シ保持装置３１は基体３１ａに開閉自在に蓋体３
１ｂを取付け、軸心体２２に回転自在にはめ込ま
れたテフロンブツシユ３１ｃ，…を設けて構成さ
れていて、ブラツシ体２１の着脱が容易になつて
いるとともに、カラー３１ｄによりスラスト方向
の移動を防止している。さらにまた駆動機構３２
は変速装置付きモータ３２ａと、カツプリング３
２ｂ（軸方向に移動させて結合を解除する）とか
ら構成されていてブラツシ体２１の回転を自由に
変えられるようになつている。

次に本実施例の一使用態様を述べると、ブラシ
体２１を下定盤１の上に載置して上述のように組
立て、取付ける。その後上定盤８を降下させ、ブ
ラシ体２１に接触させた状態で位置ぎめする。モ
ータ３２ａを低速回転させて、ブラシ体２１を回
転させるとともに、上、下定盤８，１を互に反対
方向に回転させてブラシ体２１により研摩布を洗
浄する。例えばブラシ体２１の回転速度を5.r.p.
mとし、定盤８，１をそれぞれブラシ体２１とは
反対方向に３０r.p.mで回転させ、ブラシ２３の
先端の変形量を２mmとしてブラツシングを行つた
場合、研摩布表面に厚さ200μｍにわたつて堆積
していた目づまり層を、２分間で除去することが
できた。このブラツシングした研摩布３，１１の
状態でシリコンウエハを両面研摩したときの仕上
りウエハの精度は目づまり前の研摩布３，１１の
状態で研摩したときの精度と同じで、ウエハ厚さ
のばらつきは２μｍであつた。

また研摩毎に必ず本装置によるブラツシングを
実施した場合は、研摩布３，１１の寿命が５倍に
なつた。

〔考案の効果〕

以上詳述したように、本考案の研摩布のクリー
ニング装置は、円柱状のブラシ体を定盤の半径方
向に沿わせて配置し、中心軸に設けた支持体で一
端部を支持し、他端部を下定盤外側に設けた保持
装置で保持して回転するように構成したので、上
下定盤の研摩布を同時に洗浄できるため、極めて
能率がよく目づまり状態を除去でき、また能率よ
く洗浄が行なえるため、従来より洗浄回数を増す
ことができるので、作業能率の向上とともに研摩
布の寿命を向上させる効果も奏するものである。

なお、本実施例においてはブラシ体を１個用い
たが、支持体の軸受部を複数個設けて複数個のブ
ラシ体を同時に用いてもよく、洗浄の際の各部の
回転速度やブラシ体の変形量なども本実施例のも
のに限定されるものではない。

また保持体を半割状に保持したものはブラシ体
の取付け、取外しの際の作業性がよい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例の平面図、第２図は
同じく要部断面正面図、第３図は同じく要部詳細
図である。 １：下定盤、３，１１：研摩布、４：中心軸、
８：上定盤、２１：ブラシ体、２６：支持体、２
７：軸受部、３１：ブラシ保持装置、３１ａ：基
体、３１ｂ：蓋体、３２：駆動機構。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 上定盤および下定盤をそなえかつ上記両定盤
   の対向した面に研摩布をもつた両面研磨盤の上
   記両定盤に摺接し上記両定盤の半径方向に沿つ
   て配設されたブラシ体と、上記上定盤を回転さ
   せる中心軸に回転自在に嵌合して側面に上記ブ
   ラシ体の一方の端部を回転自在に支持する軸受
   部をもつた支持体と、上記下定盤より外側の固
   定部位に設けられて上記ブラシ体の他方の端部
   を回転自在に保持するブラシ保持装置と、上記
   ブラシ体を回転駆動する駆動機構とを具備した
   ことを特徴とする研摩布クリーニング装置。 (2) ブラシ保持装置はブラシ体を半割り状に保持
   する基体と蓋体とを具備することを特徴とする
   実用新案登録請求の範囲第１項記載の研摩布ク
   リーニング装置。 (3) 支持体は複数個の軸受部をもつていることを
   特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項また
   は第２項記載の研摩布クリーニング装置。