JPH10328989A - ウエハエッジの鏡面研磨方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エッジの研磨加工時にウエハが占める平面的
スペースを小さくして装置の小形化を図る。 【解決手段】 面取りした外周エッジ１ａを表裏両面に
有する円板形のウエハ１を、鉛直に保持して水平軸線L1
の回りに回転させると共に、研磨のための作業面３１を
外周に備えた２つの円筒形の研磨ドラム３０ａ，３０ｂ
を、ウエハ１の表裏面のエッジ１ａ，１ａに沿う方向に
傾斜させてそれぞれの軸線L30 の回りに回転させなが
ら、上記ウエハ１の表裏面のエッジ１ａ，１ａを２つの
研磨ドラム３０ａ，３０ｂの作業面３１，３１に個別に
且つ同時に接触させて研磨する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハの外
周の面取り加工されたエッジ部分を鏡面研磨（ポリッシ
ュ）するための方法及び装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】シリコンウエハのような半導体ウエハ
は、一般に、エッジのチッピング防止やエピタキシャル
成長時のクラウン防止等のためにその周縁部に面取り加
工が施される。この面取り加工は、ダイヤモンド砥石で
研削することにより行われるが、研削後に加工歪層が残
り易く、このような加工歪層が残っていると、ディバイ
スプロセスにおいて熱処理を繰り返した時に結晶欠陥が
発生することがある。このため通常は、上記加工歪層を
エッチングにより除去しているが、エッチング処理した
表面は波状やうろこ状の凹凸になって汚れが残り易く、
この汚れがディバイスプロセスにおいてウエハ全体に拡
散し、特性を劣化させる大きな原因となる。

【０００３】そこで、近年では、ウエハの面取り加工し
たエッジを鏡面研磨により平滑化するための技術が、ウ
エハの表面の研磨とは全く別の技術として確立され、例
えば特開平１−７１６５６号公報や特開平１−７１６５
７号公報等に開示されているように、エッジを研磨する
ための幾つかの手段が提案されている。

【０００４】しかしながら前者の方法は、円板形のウエ
ハを水平に保持して鉛直軸線の回りに回転させながら、
その表裏両面の外周エッジに回転する２つの研磨リング
を接触させて研磨するものであるため、ウエハの保持に
大きな平面的スペースを必要とし、これによって装置が
大形化するという問題がある。特に最近では、直径が３
０ｃｍや４０ｃｍというような大形のウエハの要求が出
てきているため、装置の大形化が一層大きな問題とな
る。

【０００５】これに対して後者の方法は、ウエハを面取
り角度に応じた角度に傾斜させ、そのエッジを鉛直軸線
の回りに回転する研磨ドラムの側面に押し付けて研磨す
るものであるため、前者の方法よりはウエハが占有する
平面的スペースは小さくて済む。しかしながら、ウエハ
が大形である場合にはその平面的スペースを無視するこ
とはできない。しかも、ウエハの表裏両面にあるエッジ
を流れ作業で研磨する場合には、表面側のエッジを上記
研磨ドラムの一側面に押し付けて研磨した後、ウエハを
表裏反転させて研磨ドラムの反対側の位置に搬送し、こ
の位置で裏面側のエッジを該研磨ドラムに押し付けて研
磨しなければならないため、結果的に、表裏両面のエッ
ジを研磨する際にウエハが占有する総合的な平面スペー
スは大きくなる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる課題
は、エッジの研磨加工時にウエハが占める平面的スペー
スを小さくして装置の小形化を図ることにある。本発明
の他の課題は、ウエハの表裏両面のエッジを簡単且つ確
実にしかも効率良く研磨することができる小形化された
研磨手段を得ることにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、面取りした外周エッジを有する円板形ウ
エハを、ウエハ保持手段によって鉛直に保持し、それを
水平軸線の回りに所要の速度で回転させながら、外周の
エッジを回転する作業面に接触させて鏡面研磨すること
を特徴としている。

【０００８】かくして本発明によれば、ウエハを縦向き
に保持してエッジを研磨することにより、該ウエハを水
平又は斜めに保持して研磨する従来方法に比べ、研磨加
工時にウエハが占める平面的スペースを非常に小さくす
ることができ、これによって装置を小形化することがで
きる。特に、直径が３０ｃｍや４０ｃｍという大形のウ
エハを加工する際に、該ウエハを縦向きに保持する効果
は非常に大きい。

【０００９】本発明においては、ウエハの表裏面のエッ
ジを、接線方向に回転する２つの作業面に個別に且つ同
時に接触させて研磨することが望ましく、これにより、
一回の作業でウエハの両面の外周エッジを同時に効率良
く研磨することができると共に、接触圧の変動がない安
定した研磨を行うことができる。より具体的には、面取
りした外周エッジを両面に有する円板形ウエハを、鉛直
に保持して水平軸線の回りに回転させると共に、研磨の
ための作業面を外周に備えた２つの円筒形研磨ドラム
を、ウエハ両面のエッジに沿う方向に傾斜するように配
置してそれぞれの軸線の回りに回転させながら、上記ウ
エハの表裏面のエッジをこれら２つの研磨ドラムの作業
面に個別に且つ同時に接触させて鏡面研磨することが望
ましい。

【００１０】上記２つの研磨ドラムは、鉛直に保持され
たウエハの下半部の位置でエッジに接触させるようにす
るのが好ましい。こうすることにより、研磨材スラリー
の供給が簡単になると共に、供給した研磨材スラリーが
すぐ下方に排出されてウエハの他の部分に付着すること
が少ないため、該ウエハの汚れや傷等を生じるおそれが
なくなる。

【００１１】本発明においては、上記ウエハ保持手段を
ウエハの軸線方向に移動自在とすることにより、ウエハ
表裏面の２つエッジが２つの作業面に均等に接触できる
ようにしている。また、本発明においては、作業面の偏
摩耗を防ぐため、上記研磨ドラムをウエハに対して相対
的に変移させることにより、エッジとの接触位置を変え
られるようにすることが望ましい。

【００１２】更に、本発明の具体的な構成態様において
は、研磨加工中にウエハを作業面に常時一定の接触圧で
押し付けられるようにするため、接触圧設定手段が設け
られている。この接触圧設定手段は、ウエハ保持手段を
直線的に上下動自在なるように支持するリニアガイド手
段と、ウエハ保持手段に上向きの作用力を付与する付勢
手段とを有し、これらウエハ保持手段の重力と付勢手段
の作用力との差によって接触圧を得るようになってい
る。

【００１３】本発明の研磨装置はまた、２つの研磨ドラ
ムの作業面をエッジが食い込み得る程度に柔軟な面とし
て、該作業面へのエッジの食い込みによってウエハの外
周面を同時に研磨可能とするようにしているが、ウエハ
の外周面を研磨するための第３の作業面を設けてること
もできる。

【００１４】

【発明の実施の形態】図１及び図２は、本発明に係る研
磨装置の主要部である研磨加工部の構成を概略的に示す
ものである。この研磨装置は、上記研磨加工部の前後
に、未処理ウエハを該研磨加工部に供給するためのロー
ディング部と、処理済ウエハを該研磨加工部から取り出
すためのアンローディング部と、各部の間でウエハの受
け渡しを行う搬送手段などを備え、ウエハを一枚ずつ順
次送りながらそのエッジをポリッシュするように構成さ
れている。しかしながら、上記研磨加工部以外の構成は
公知であって、本発明の要旨とは無関係であるから、そ
れらの図示及び説明は省略する。

【００１５】図において１は、θなる角度（図３参照）
に面取りされた外周エッジ１ａ，１ａを表裏両面に有す
る円板形の半導体ウエハ、２は該ウエハ１を鉛直に保持
して水平軸線の回りに所要の速度で回転させるウエハ保
持手段、３は該ウエハ保持手段２に保持されたウエハ１
のエッジ１ａ，１ａを鏡面研磨するための研磨手段を示
している。

【００１６】上記ウエハ保持手段２は、保持フレーム１
０に軸受部材１２で回転自在に支持された水平な主軸１
１と、この主軸１１の先端に固定された円形のチャック
ヘッド１３と、上記保持フレーム１０に固定されたモー
タ１４と、該モータ１４の回転を上記主軸１１に伝える
プーリ１５ａ，１５ｂ及びベルト１６からなる伝動手段
とを有している。ウエハ１は上記チャックヘッド１３
に、バキュームチャックによって鉛直に且つ主軸１１と
同軸状に保持され、エッジ１ａ，１ａの研磨加工中その
軸線L1の回りに、例えば４０〜６０秒に１回転程度のゆ
っくりした速度で回転される。

【００１７】なお、ウエハ１をバキュームチャックする
ための構成として、上記チャックヘッド１３には複数の
吸着穴が設けられ、これらの吸着穴が図示しない真空源
に、上記主軸１１内に設けた通孔及びロータリジョイン
ト等を介してチューブにより接続されているが、それら
の図示は省略されている。

【００１８】上記ウエハ保持手段２の保持フレーム１０
は、ガイドレール１８ａとスライダ１８ｂとからなるリ
ニアガイド機構１８を介して支持部材１９に、直線的に
上下動自在なるように支持されている。そして、上記支
持部材１９の上部には複数の滑車２０が取り付けられ、
これらの滑車２０に、一端が保持フレーム１０に固定さ
れたワイヤ２１が巻き掛けられ、該ワイヤ２１の他端に
ウエート２２が吊り下げられ、このウエート２２の重力
がウエハ保持手段２に上向きに作用するようになってい
る。

【００１９】上記リニアガイド機構１８とウエート２２
及びワイヤ２１は、上記ウエハ１を研磨手段３の作業面
に加工中常に一定の接触圧で押し付けるための接触圧設
定手段４を構成するもので、上記ウエハ保持手段２の重
力とウエート２２の重力との差によって所要の接触圧が
得られるようになっている。なお、ウエハ保持手段２の
重力が不足する場合は、保持フレーム１０に加重用の補
助ウエート２３を載置することもできる。

【００２０】上記ウエハ保持手段２の保持フレーム１０
は、エアシリンダ等の昇降手段２６に連結され、この昇
降手段２６によって上下動自在となっており、チャック
ヘッド１３に対するウエハ１の供給又は取り出しは、該
ウエハ保持手段２が上昇した受け渡し位置において行わ
れる。そして、上記昇降手段２６と保持フレーム１０と
は、ウエハ保持手段２がウエハ１を受け取って下降し、
該ウエハ１が研磨手段３の作業面に接触したあとは、相
互にフリーになるように関係付けられており、これによ
って、ウエハ１と研磨手段３との間に上記接触圧設定手
段４で設定された接触圧が作用するようになっている。

【００２１】上記支持部材１９は、研磨装置の機体６に
リニアガイド機構２７を介してウエハ１の軸線L1方向に
直線的に移動自在なるように支持されており、これによ
りウエハ１が、Ｖ字形に位置する２つの作業面３１，３
１の両方に、その中央の位置で常に均等に接触できるよ
うになっている。

【００２２】上記研磨手段３は、外周面を研磨用の作業
面３１とした２つの円筒形研磨ドラム３０ａ，３０ｂで
構成されている。これらの研磨ドラム３０ａ，３０ｂ
は、縦向きに保持されたウエハ１の下半部側の位置に、
該ウエハの両面のエッジ１ａ，１ａに沿う方向に傾斜さ
せて対称に配設することにより、それらを横から見た場
合に略Ｖ字形に交差して見えるような位置関係に設置さ
れ、それぞれが軸線L30の回りで回転自在且つ軸線L30
方向に揺動自在となっている。そして、一方の研磨ドラ
ム３０ａの作業面３１がウエハ１の一方のエッジ１ａに
接触し、他方の研磨ドラム３０ｂの作業面３１がウエハ
１の他方のエッジ１ａに接触した状態で、エッジ１ａの
接線方向に回転すると共に該エッジ１ａの幅方向に揺動
しながら、これら２つのエッジ１ａ，１ａを個別に且つ
同時に研磨するようになっている。上記研磨ドラム３０
ａ，３０ｂの回転方向は、エッジ１ａの回転に対して順
方向であっても逆方向であっても良いが、研磨効率の点
からは逆方向回転でエッジと接触する方が好ましい。

【００２３】また、上記各研磨ドラム３０ａ，３０ｂ
は、図２に示すように、それぞれの軸線L30 をウエハ１
の中心軸線L1と交わる方向に向けることによってエッジ
１ａと直交する向きに配設されており、これにより作業
面３１を、エッジ１ａの全幅に確実に接触させることが
できるようになっている。

【００２４】具体的構成として上記各研磨ドラム３０
ａ，３０ｂは、図２に一方の研磨ドラム３０ａについて
代表的に示すように、ドラムフレーム３２に軸受部材３
８により回転自在に支持されたドラム軸３３の先端に取
り付けられ、このドラム軸３３に連結されたモータ３４
によって、例えば５００〜１０００ｒ．ｐ．ｍ．程度の
速度で駆動されるようになっている。また、上記ドラム
フレーム３２は、機体６に取り付けられた支持部材３５
に、リニアガイド機構３６を介して研磨ドラム３０ａの
軸線L30 方向に直線的に移動自在に支持され、研磨加工
時に揺動機構３７によってゆっくりした速度で往復揺動
されるようになっている。

【００２５】上記リニアガイド機構３６は、支持部材３
５に設けられたガイド３６ａと、ドラムフレーム３２に
取り付けられたスライダ３６ｂとからなっており、また
上記揺動機構３７は、支持部材３５に取り付けられたボ
ール螺子３７ａと、ドラムフレーム３２に取り付けられ
てこのボール螺子３７ａと噛み合うナット部材３７ｂ
と、上記ボール螺子３７ａを回転させるモータ３７ｃと
からなっている。上記支持部材３５は、機体６に、研磨
ドラム３０ａ，３０ｂの傾斜角度を調整できる方向に傾
動自在に支持されていることが望ましい。

【００２６】上記研磨ドラム３０ａ，３０ｂの作業面３
１は、圧縮性のある柔軟なパッドで形成することによ
り、図３に示すように、研磨作業時にウエハ１のエッジ
１ａをこの作業面３１に若干食い込んだ状態に接触させ
ることができる。そしてこの結果、ウエハ１の外周面１
ｂをこれらの研磨ドラム３０ａ，３０ｂで同時に研磨す
ることができる。しかし、研磨パッドの材質や接触圧等
の条件によっては、同図の右半部に示すように、研磨ド
ラムのウエハ１に対する傾斜角αをエッジ１ａの面取角
θと同じにした場合、作業面３１へのウエハ１の食い込
みが浅くなって外周面１ｂを少ししか研磨することがで
きず、２つの研磨ドラム３０ａ，３０ｂを合わせても外
周面１ｂを全幅にわたり研磨することができない場合が
ある。

【００２７】そこでこのような場合には、図３の左半部
に示すように、２つの研磨ドラム３０ａ，３０ｂの傾斜
角αをエッジ１ａの面取角θより若干大きく設定するこ
とにより、該ウエハ１の外周部分を作業面３１へ深く食
い込ませて、１つの研磨ドラムで外周面１ｂを全幅のほ
ぼ１／２〜２／３程度ずつ研磨できるようにすれば良
く、この結果、２つの研磨ドラム３０ａ，３０ｂによっ
てウエハ１の外周面１ｂを全幅にわたり研磨することが
可能となる。

【００２８】上記２つの研磨ドラム３０ａ，３０ｂは、
図１及び図２から明らかなように、ウエハ１の下半部に
おいてエッジ１ａ，１ａと接触するような位置に配設さ
れており、これによってウエハが、各研磨ドラム３０
ａ，３０ｂに実質的に上方から接触するようになってい
る。なお、図示した実施例では、２つの研磨ドラム３０
ａ，３０ｂがウエハ１の中央から両側にほぼ４５度ずつ
離れた位置に配設されているが、それらはもう少しウエ
ハ１の中央寄りの位置、即ち、ウエハの真下に近い位置
に相互に近接させて配置しても良い。そしてこの場合に
は、両研磨ドラムの軸線L30 を、図２のようにウエハ１
の中心軸線L1と交差する方向に向けることなく、相互に
平行な面内に位置させても良い。

【００２９】上記構成を有する研磨装置において、被処
理ウエハ１は、ウエハ保持手段２のチャックヘッド１３
に鉛直に向けてチャックされ、水平軸線L1の回りに例え
ば４０〜６０秒に１回転程度のゆっくりした速度で回転
されながら、５００〜１０００ｒ．ｐ．ｍ．程度の速度
で回転する２つの研磨ドラム３０ａ，３０ｂの作業面３
１に押し付けられることにより、表裏両面の外周エッジ
１ａ，１ａが同時に研磨される。この場合、図示しない
ノズルから作業面３１に向けて研磨材スラリーが供給さ
れる。

【００３０】上記ウエハ１を各研磨ドラム３０ａ，３０
ｂの作業面３１に押し付ける接触圧は、ウエハ保持手段
２の重力と、該ウエハ保持手段２に上向きに作用するウ
エート２２の重力との差によって得られるものであり、
それらは加工中常に一定に保たれる。

【００３１】かくしてウエハ１を鉛直に保持した状態エ
ッジ１ａ，１ａを研磨することにより、該ウエハを水平
又は斜めに保持して研磨する従来品に比べ、研磨加工時
にウエハが占める平面的スペースは非常に小さくなり、
装置の小形化が実現する。

【００３２】しかも、２つの研磨ドラム３０ａ，３０ｂ
を使用することにより、一回の作業でウエハ１の両面の
外周エッジ１ａ，１ａを同時に効率良く研磨することが
できるため、生産性にも勝れる。また、ウエハ１を縦向
きにしてその下半部に２つの研磨ドラム３０ａ，３０ｂ
を接触させて研磨するようにしているため、研磨材スラ
リーの供給が簡単であると共に、供給した研磨材スラリ
ーがすぐ下方に排出されてウエハの他の部分に付着する
ことが少ないため、該ウエハの汚れや傷等を生じるおそ
れもない。

【００３３】更に、上記研磨ドラム３０ａ，３０ｂをそ
れぞれエッジ１ａと直交する向きに配設することによっ
て、それらの作業面３１をエッジ１ａに接線方向回転で
接触させるようにしたので、例えば特開平１−７１６５
７号の研磨装置のように、２つの研磨リングをエッジに
幅方向回転で接触させた場合に生じ易い、ウエハと両研
磨リングとの間にウエハの引き込み方向又は押し出し方
向の力が作用して、研磨状態や接触圧等が変化するとい
った不都合がなく、常に一定の接触圧のもとで安定的な
エッジ研磨を行うことができる。

【００３４】なお、上記実施例では、接触圧設定手段４
においてウエハ保持手段２を上向きに付勢する付勢手段
として、ウエート２２を使用しているが、このウエート
に代えて、圧力制御手段を備えたエアシリンダのよう
な、他の適宜手段を用いることもできる。例えば、図１
に示されているような滑車２０とワイヤ２１及びウエー
ト２２を省略し、昇降用のシリンダ２６に圧力制御手段
を接続して上記付勢手段として兼用することもできる。

【００３５】また上記実施例では、２つの研磨ドラム３
０ａ，３０ｂの作業面３１にウエハ１を食い込ませるこ
とによって、該ウエハの外周面１ｂも同時に研磨できる
ようにしているが、これとは別に、ウエハ１の外周面１
ｂを第３の作業面で研磨するように構成することもでき
る。

【００３６】この場合には、第３の作業面を備えた図４
及び図５に示すような外周研磨手段４０が付設される。
この外周研磨手段４０は、ウエハの軸線L1と平行に配設
された水平なドラム軸４１の先端に第３の水平研磨ドラ
ム４２を有し、この水平研磨ドラム４２の外周面に上記
第３の作業面４３が形成され、この第３作業面４３がウ
エハ１の外周に上方から接触するようになっている。こ
のとき水平研磨ドラム４２は、その軸線方向に往復揺動
することが望ましい。

【００３７】上記ドラム軸４１は、保持フレーム４５上
の軸受部材４６に回転自在に支持され、該保持フレーム
４５に固定されたモータ４７によりプーリ及びベルトか
らなる伝動手段４８を介して駆動されるようになってお
り、該保持フレーム４５は、ガイドレール５０ａとスラ
イダ５０ｂとからなるリニアガイド機構５０を介して支
持部材５１に、直線的に上下動自在なるように支持され
ている。そして、上記水平研磨ドラム４２をウエハ１に
押し付ける際の接触圧は、上記リニアガイド機構５０と
ウエート５３及びワイヤ５４からなる、上述した接触圧
設定手段４と同様の構成を有する接触圧設定手段５２に
よって得られるようになっている。

【００３８】５６は、保持フレーム４５を上下動させる
昇降手段で、上記ウエハ保持手段２の昇降手段２６と同
様に、水平研磨ドラム４２の下降時に該研磨ドラム４２
がウエハ１に接触したあとは、上記保持フレーム４５と
は相互にフリーになるように設定され、これによって、
上記接触圧設定手段５２で設定された接触圧が水平研磨
ドラム４２とウエハ１との間に作用するようになってい
る。

【００３９】また、上記支持部材５１は、リニアガイド
機構５７とシリンダ５８とによって機体６に、ウエハ１
と平行する方向に移動自在に支持されており、これによ
りウエハの非加工時には、該ウエハ１の受け渡しの邪魔
にならない待機位置に移動するようになっている。

【００４０】なお、上記ウエハ保持手段２と研磨手段３
及び外周研磨手段４２は、実際に研磨装置を製造する際
には互いに競合しないように設計、配置されることは当
然のことである。

【００４１】また、上記実施例では、２つの作業面３１
を２つの研磨ドラム３０ａ，３０ｂ上に個別に形成して
いるが、例えば、ウエハ１と平行な水平軸線の回りに回
転自在に配設された１つの研磨ドラムの外周に台形状の
研磨溝を切り、この研磨溝内にウエハの外周を嵌合させ
ることにより、溝の両側壁を作業面としてウエハ表裏面
のエッジを同時に研磨することもできる。

【００４２】あるいは、外周に作業面を備えた１つの研
磨ドラムだけを設け、この研磨ドラムを、縦向きに保持
されたウエハの表面側のエッジを研磨する第１研磨位置
と、裏面側のエッジを研磨する第２研磨位置とに角度変
更しながらエッジを研磨するようにしても良い。この場
合、必要に応じてそれらの中間に、ウエハの外周面を研
磨する第３研磨位置を設けることもできる。

【００４３】

【発明の効果】このように本発明によれば、ウエハを縦
向きに保持してエッジを研磨することにより、該ウエハ
を水平又は斜めに保持して研磨する従来方法に比べ、研
磨加工時にウエハが占める平面的スペースを非常に小さ
くすることができ、装置の小形化を実現することができ
る。特に、直径が３０ｃｍや４０ｃｍという大形のウエ
ハを加工する際に、該ウエハを縦向きに保持する効果は
大きいものとなる。また、ウエハの表裏面のエッジを２
つの作業面に個別に且つ同時に接触させて研磨すること
により、一回の作業でウエハの両面の外周エッジを同時
に効率良く研磨することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の研磨装置における要部の構成を概略的
に示す側面図である。

【図２】図１の正面図で、異なる要部の構成を概略的に
示すものである。

【図３】ウエハの外周エッジの研磨原理を説明するため
の要部拡大図である。

【図４】本発明の研磨装置に用いられる外周研磨手段の
概略的構成を示す要部側面図である。

【図５】図４の正面図である。

【符号の説明】

１ ウエハ １ａ エッジ １ｂ 外周面 ２ ウエハ保持手
段 ４，５２ 接触圧設定手段 １８ リニアガイド
機構 ２１ ワイヤ ２２ ウエート ３０ａ，３０ｂ 研磨ドラム ３１ 作業面 ４３ 第３の作業面

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】面取りした外周エッジを有する円板形ウエ
   ハを、鉛直に保持して水平軸線の回りに所要の速度で回
   転させながら、上記エッジを回転する作業面に接触させ
   て鏡面研磨することを特徴とするウエハエッジの鏡面研
   磨方法。
2. 【請求項２】請求項１に記載の研磨方法において、上記
   ウエハの表裏面のエッジを、該エッジの接線方向に回転
   する２つの作業面に個別に且つ同時に接触させて研磨す
   ることを特徴とするもの。
3. 【請求項３】面取りした外周エッジを表裏両面に有する
   円板形のウエハを、鉛直に保持して水平軸線の回りに回
   転させると共に、研磨のための作業面を外周に備えた２
   つの円筒形の研磨ドラムを、ウエハの表裏面のエッジに
   沿う方向に傾斜させてそれぞれの軸線の回りに回転させ
   ながら、上記ウエハの表裏面のエッジを２つの研磨ドラ
   ムの作業面に個別に且つ同時に接触させて鏡面研磨する
   ことを特徴とするウエハエッジの鏡面研磨方法。
4. 【請求項４】請求項２又は３に記載の研磨方法におい
   て、上記２つの作業面を、鉛直に保持されたウエハの下
   半部の位置でエッジに接触させて研磨することを特徴と
   するもの。
5. 【請求項５】請求項１乃至４の何れかに記載の研磨方法
   において、上記作業面を、エッジとの接触位置を変える
   ためウエハに対して相対的に変移させる工程を含むも
   の。
6. 【請求項６】面取りした外周エッジを有する円板形ウエ
   ハを、鉛直に保持して水平軸線の回りに回転させるウエ
   ハ保持手段と、 上記ウエハのエッジに接触可能な角度に傾斜させて配設
   された、該エッジを鏡面研磨するための１つ以上の作業
   面と、を有することを特徴とするウエハエッジの鏡面研
   磨装置。
7. 【請求項７】請求項６に記載の研磨装置において、ウエ
   ハの表裏両面に形成された外周エッジに個別に且つ同時
   に接触可能な、各エッジの接線方向に回転自在の２つの
   作業面を備えていることを特徴とするもの。
8. 【請求項８】面取りした外周エッジを表裏両面に有する
   円板形ウエハを、鉛直に保持して水平軸線の回りに回転
   させるウエハ保持手段と、 上記ウエハの表裏面のエッジに沿う方向に傾斜させて配
   設され、それぞれの軸線の回りで駆動回転自在の、外周
   面に上記エッジを研磨するための作業面を備えた２つの
   円筒形研磨ドラムと、を有することを特徴とするウエハ
   エッジの鏡面研磨装置。
9. 【請求項９】請求項７又は８に記載の研磨装置におい
   て、上記２つの作業面が、鉛直に保持されたウエハの下
   半部において外周エッジと接触する位置に配置されてい
   ることを特徴とするもの。
10. 【請求項１０】請求項９に記載の研磨装置において、上
    記ウエハ保持手段をウエハの軸線方向に移動自在とする
    ことにより、ウエハ表裏面のエッジが２つの作業面に均
    等に接触できるようにしたことを特徴とするもの。
11. 【請求項１１】請求項６乃至１０の何れかに記載の研磨
    装置において、上記作業面が、エッジとの接触位置を変
    えるためにウエハに対して相対的に変移可能であること
    を特徴とするもの。
12. 【請求項１２】請求項８乃至１１の何れかに記載の研磨
    装置において、２つの研磨ドラムの作業面をエッジが食
    い込み得る程度に柔軟な面とし、該作業面へのエッジの
    食い込みによってウエハの外周面を同時に研磨可能とし
    たことを特徴とするもの。
13. 【請求項１３】請求項６乃至１１の何れかに記載の研磨
    装置において、ウエハの外周面を研磨するための第３の
    作業面を有することを特徴とするもの。
14. 【請求項１４】請求項６乃至１３の何れかに記載の研磨
    装置において、該研磨装置が、研磨加工中にウエハを作
    業面に常時一定の接触圧で押し付けるための接触圧設定
    手段を有することを特徴とするもの。
15. 【請求項１５】請求項１４に記載の研磨装置において、
    上記接触圧設定手段が、ウエハ保持手段を直線的に上下
    動自在に支持するリニアガイド手段と、上記ウエハ保持
    手段に上向きの作用力を付与する付勢手段とを有し、こ
    れらウエハ保持手段の重力と付勢手段の作用力との差に
    よって接触圧を得ることを特徴とするもの。