JPWO2007007689A1 - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1A 基板(第一の基板)
2 CF基板
2A 基板(第二の基板)
3 シール材
4 メタル配線(遮光部(A))
5 BM(ブラックマトリックス、遮光部(B))
6 液晶層
7 透明膜
8 ディンプル部
9 透明膜
15 ゲート絶縁膜(透明膜)
15A 第一のゲート絶縁膜(透明膜)
15B 第二のゲート絶縁膜(透明膜)
25 下層層間絶縁膜(透明膜)
26 上層層間絶縁膜(透明膜)
D1 透明膜の厚さ
D2 メタル配線の基部から遮光領域の頂部までの高さ
W メタル配線の幅
α 光の回り込みの大きさ
本発明の一実施形態について図1ないし図4に基づいて説明すると以下の通りである。図1は本実施形態に係る液晶表示装置の要部の概略構成を示す断面図である。なお、本実施形態に係る上記液晶表示装置のパネル部分を平面から見た時の概略構成は、基本的には前記図8に示した通りであり、本実施形態では、その図示を省略する。図1は、図8に示す液晶表示装置のB−B線断面図に相当する。但し、端子部の図示は省略している。図2はアレイ基板の概略構成を示す平面図である。図3は図2に示すアレイ基板のA−A線矢視断面図である。図4は光を照射する光照射装置の概略を示す断面図である。なお、本発明において、「透明」とは、「物体が光等の電磁波を通す」こと、つまり、光透過性を有することを示す。
本発明の他の実施の形態について図5に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、図中において、実施の形態1で示した構成要素と同等のものについては同一符号を付すと共に詳細な説明は省略する。本実施の形態では、透明膜の材質が透明樹脂の替わりに窒化シリコン(SiNx)であることを除いて、上述の実施の形態1と同様である。
本発明のさらに他の実施の形態について図6に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、図中において、実施の形態1および2で示した構成要素と同等のものについては同一符号を付すと共に詳細な説明は省略する。本実施の形態では、透明膜9におけるシール材3と接する面に凹凸が形成されていることを除いて実施の形態2と同様である。
本発明のさらに他の実施の形態について図7に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、図中において、実施の形態1ないし3で示した構成要素と同等のものについては同一符号を付すと共に詳細な説明は省略する。本実施の形態では、透明膜が二層積層されてアレイ基板1とシール材3との間に形成されていることを除いて上記実施の形態1ないし3と同様である。
本発明のさらに他の実施の形態について図10(a)〜図10(c)に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、図中において、実施の形態1ないし4で示した構成要素と同等のものについては同一符号を付すと共に詳細な説明は省略する。
本発明のさらに他の実施の形態について図13に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、図中において、実施の形態1ないし5で示した構成要素と同等のものについては同一符号を付すと共に詳細な説明は省略する。本実施の形態では、透明膜が二層積層されてアレイ基板1とシール材3との間に形成されていると共に、アレイ基板1周縁部(シール部)におけるメタル配線4がソースライン22と同層に設けられており、このソースライン22およびメタル配線4の下にゲート絶縁膜15が設けられており、TFT13を覆う層間絶縁膜、および、上記メタル配線4を覆う透明膜が、下層層間絶縁膜25および上層層間絶縁膜26からなることを除いて上記実施の形態1ないし5と同様である。
本発明のさらに他の実施の形態について図14に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、図中において、実施の形態1ないし6で示した構成要素と同等のものについては同一符号を付すと共に詳細な説明は省略する。本実施の形態では、透明膜が三層積層されてアレイ基板1とシール材3との間に形成されていると共に、アレイ基板1周縁部(シール部)におけるメタル配線4がゲートライン23と同層に設けられており、このメタル配線4の上に、一層目の透明膜としてゲート絶縁膜15が設けられており、TFT13を覆う層間絶縁膜、および、上記メタル配線4を上記ゲート絶縁膜15を介して覆う二層目および三層目の透明膜が、下層層間絶縁膜25および上層層間絶縁膜26からなることを除いて上記実施の形態1ないし4、6と同様である。
本発明のさらに他の実施の形態について図15に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、図中において、実施の形態1ないし7で示した構成要素と同等のものについては同一符号を付すと共に詳細な説明は省略する。本実施の形態では、透明膜が四層積層されてアレイ基板1とシール材3との間に形成されていると共に、アレイ基板1周縁部(シール部)におけるメタル配線4がゲートライン23と同層に設けられており、このゲートライン23およびメタル配線4の上に、ゲート絶縁膜が二層設けられており、TFT13を覆う層間絶縁膜、および、上記メタル配線4を上記二層のゲート絶縁膜を介して覆う三層目および四層目の透明膜が、下層層間絶縁膜25および上層層間絶縁膜26からなることを除いて上記実施の形態1ないし4、6、7と同様である。
本発明のさらに他の実施の形態について図16に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、図中において、実施の形態1ないし8で示した構成要素と同等のものについては同一符号を付すと共に詳細な説明は省略する。本実施の形態では、透明膜が三層積層されてアレイ基板1とシール材3との間に形成されていると共に、アレイ基板1周縁部(シール部)におけるメタル配線4がゲートライン23と同層に設けられており、このゲートライン23およびメタル配線4の上に、ゲート絶縁膜が二層設けられており、TFT13を覆う層間絶縁膜、および、上記メタル配線4を上記二層のゲート絶縁膜を介して覆う三層目の透明膜が、下層層間絶縁膜25からなることを除いて上記実施の形態1ないし4、6ないし8と同様である。
また、上記液晶表示装置は、上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、上記透明膜のうちの少なくとも一層は、平坦化膜であることが好ましい。
Claims (39)
- 互いに対向配置された第一の基板および第二の基板と、両基板の間に設けられた液晶層とを有し、上記両基板が、光硬化性材料(a)を含むシール材で接着されてなる液晶表示装置であって、
上記第一の基板における上記第二の基板との対向面側の一部に遮光部(A)が形成されていると共に、シール材と上記遮光部(A)との間に、透明膜が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 上記シール材は、枠状に連続して配置されており、
上記液晶層は、上記両基板とシール材とで液晶が封入されてなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜が複数層で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 上記遮光部(A)の基部からの上記透明膜の膜厚は、上記第一の基板の背向面側から入射される光が上記遮光部(A)により遮光される遮光領域の、上記遮光部(A)の基部からの高さ以上であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜における上記シール材と接する部分に、光を散乱させるための凹凸が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜のうちの少なくとも一層は、有機化合物を含む材料(b)からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記材料(b)は、樹脂を含むことを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜における、樹脂を含む材料(b)からなる層のうち少なくとも一層の膜厚は2μm以上、4μm以下であることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置。
- 上記樹脂が、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリウレタン、およびポリシロキサンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜のうちの少なくとも一層は、窒化シリコンを含む材料からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜のうちの少なくとも一層は、酸化シリコンを含む材料からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜のうちの少なくとも一層は、スピンオングラス材料を含む材料からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜における、スピンオングラス材料を含む材料からなる層のうち少なくとも一層の膜厚は2μm以上、4μm以下であることを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜のうちの少なくとも一層は、透明電極材料からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜が、無機化合物を含む層と有機化合物を含む層とを、各々、少なくとも一層含んでいることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜全体の膜厚が2μm以上、4μm以下であることを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置。
- 上記有機化合物を含む層のうち少なくとも一層が樹脂を含み、かつ、上記透明膜における樹脂を含む層のうち少なくとも一層の膜厚が2μm以上、4μm以下であることを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置。
- 上記有機化合物を含む層のうち少なくとも一層が樹脂を含み、かつ、上記透明膜における樹脂を含む層のうち少なくとも一層の膜厚が2μm以上、4μm以下であり、上記透明膜全体の膜厚が4μm以下であることを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜のうち無機化合物を含む層が、最下層であることを特徴とする請求項17記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜のうちの少なくとも一層は、層間絶縁膜を兼ねることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜における層間絶縁膜を兼ねる層のうち少なくとも一層は、樹脂を含み、かつ、2μm以上、4μm以下の膜厚を有していることを特徴とする請求項22に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜のうちの少なくとも一層は、ゲート絶縁膜であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜のうちの少なくとも一層は、平坦化膜であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜の屈折率は第一の基板の屈折率以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜のうちの少なくとも一層の屈折率は第一の基板の屈折率よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜のうちの少なくとも一層は、有機化合物を含む材料からなり、かつ、上記透明膜のうち有機化合物を含む材料からなる層の屈折率は、第一の基板の屈折率よりも小さいことを特徴とする請求項27に記載の液晶表示装置。
- 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜全体の膜厚が1.5μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜全体の膜厚が1.7μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜一層の膜厚は4μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜全体の膜厚が1.5μm以上、4μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記透明膜が、一層または複数層で形成されており、かつ、
上記透明膜全体の膜厚が2μm以上、4μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記遮光部(A)は、上記第一の基板における上記第二の基板との対向面側における上記シール材と上記液晶層との境界下の部分を含む部分に設けられており、
上記透明膜は、少なくとも、上記シール材が上記液晶層に接する部分と、上記遮光部(A)との間に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記遮光部(A)が、メタル配線、メタルにより形成されたダミーパターン、およびブラックマトリックスからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 上記第二の基板に遮光部(B)が形成されており、かつ、
上記遮光部(B)の少なくとも一部が上記シール材と重畳する位置に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 上記遮光部(B)がブラックマトリックスであることを特徴とする請求項36に記載の液晶表示装置。
- 互いに対向配置された第一の基板および第二の基板と、両基板の間に設けられた液晶層とを有し、上記両基板が、光硬化性材料(a)を含むシール材で接着されてなる液晶表示装置の製造方法であって、
上記第二の基板との対向面側の一部に遮光部(A)が形成された第一の基板の周縁部に光硬化性材料を含むシール材を配置するシール材配置工程と、
上記シール材で囲まれた領域に液晶層を形成する液晶層形成工程と、
シール材を介して上記第一の基板と第二の基板とを接着する基板接着工程とを有するとともに、
上記シール材配置工程の前に、上記第一の基板の対向面側における少なくとも上記遮光部(A)上に透明膜を形成する透明膜形成工程をさらに有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 上記基板接着工程の後に、上記シール材に上記第一の基板側から光を照射して上記シール材を硬化させるシール材硬化工程をさらに有することを特徴とする請求項38に記載の液晶表示装置の製造方法。
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