JPWO2006132097A1 - チタン酸化物、排ガス処理用触媒および排ガスの浄化方法 - Google Patents
チタン酸化物、排ガス処理用触媒および排ガスの浄化方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2006132097A1 JPWO2006132097A1 JP2007509779A JP2007509779A JPWO2006132097A1 JP WO2006132097 A1 JPWO2006132097 A1 JP WO2006132097A1 JP 2007509779 A JP2007509779 A JP 2007509779A JP 2007509779 A JP2007509779 A JP 2007509779A JP WO2006132097 A1 JPWO2006132097 A1 JP WO2006132097A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- catalyst
- oxide
- exhaust gas
- composite oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 187
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 136
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000746 purification Methods 0.000 title description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 72
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 50
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 22
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 15
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 13
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- 241000282994 Cervidae Species 0.000 claims description 7
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ti] Chemical compound [Si].[Ti] UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RSNKHMHUYALIHE-UHFFFAOYSA-N [Mo].[Si].[Ti] Chemical compound [Mo].[Si].[Ti] RSNKHMHUYALIHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N titanium tungsten Chemical compound [Ti].[W] MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PMTRSEDNJGMXLN-UHFFFAOYSA-N titanium zirconium Chemical compound [Ti].[Zr] PMTRSEDNJGMXLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 74
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 53
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 abstract description 18
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 16
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 13
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 26
- 229910004339 Ti-Si Inorganic materials 0.000 description 25
- 229910010978 Ti—Si Inorganic materials 0.000 description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 13
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 11
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910006295 Si—Mo Inorganic materials 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 8
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 7
- XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z decaazanium;dioxido(dioxo)tungsten;hydron;trioxotungsten Chemical compound [H+].[H+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O.[O-][W]([O-])(=O)=O XAYGUHUYDMLJJV-UHFFFAOYSA-Z 0.000 description 7
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 7
- 150000003681 vanadium Chemical class 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 6
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 6
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 description 5
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 102100025490 Slit homolog 1 protein Human genes 0.000 description 4
- 101710123186 Slit homolog 1 protein Proteins 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 3
- 239000000295 fuel oil Substances 0.000 description 3
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 2
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000006193 liquid solution Substances 0.000 description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004045 organic chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- IBSQPLPBRSHTTG-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1Cl IBSQPLPBRSHTTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVRPFIJEJYOFN-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6-tetrachlorophenol Chemical class OC1=C(Cl)C=C(Cl)C(Cl)=C1Cl VGVRPFIJEJYOFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 2-bromophenol Chemical class OC1=CC=CC=C1Br VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical class OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 150000002751 molybdenum Chemical class 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013558 reference substance Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000009283 thermal hydrolysis Methods 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
- C01G23/047—Titanium dioxide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8621—Removing nitrogen compounds
- B01D53/8625—Nitrogen oxides
- B01D53/8628—Processes characterised by a specific catalyst
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
- B01D53/8662—Organic halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/92—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases
- B01D53/94—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases by catalytic processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/002—Mixed oxides other than spinels, e.g. perovskite
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/24—Chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/28—Molybdenum
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/24—Chromium, molybdenum or tungsten
- B01J23/30—Tungsten
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/60—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their surface properties or porosity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/003—Titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
- C01G23/047—Titanium dioxide
- C01G23/053—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts
- C01G23/0536—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts by hydrolysing chloride-containing salts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2255/00—Catalysts
- B01D2255/20—Metals or compounds thereof
- B01D2255/207—Transition metals
- B01D2255/20707—Titanium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
- B01J23/20—Vanadium, niobium or tantalum
- B01J23/22—Vanadium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2523/00—Constitutive chemical elements of heterogeneous catalysts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/60—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their surface properties or porosity
- B01J35/61—Surface area
- B01J35/613—10-100 m2/g
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/60—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their surface properties or porosity
- B01J35/61—Surface area
- B01J35/615—100-500 m2/g
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
Description
X線源 CuKα/45kV/40mA
検出器 高速半導体検出器
受光側フィルタ Niフィルタ
モノクロメータ 湾曲結晶モノクロメータ
発散スリット 1°
散乱スリット 1°
受光スリット 0.5mm
ステップ 0.017°
計測時間 5秒/ステップ
本発明のチタン酸化物においては、そのBET(Brunaer−Emett−Teller)比表面積(以下、単に「比表面積」とい
うこともある。)が85〜250m2/gの範囲内にあり、かつアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ia(カウント)〕が、基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ib(カウント)〕に対する比〔(Ia/Ib)×100〕で15〜145%、好ましくは25〜130%、より好ましくは35〜120%の範囲にあること、また本発明の触媒においては、その比表面積が50〜200m2/gの範囲内にあり、かつアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ia(カウント)〕が、基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ib(カウント)〕に対する比〔(Ia/Ib)×100〕で15〜145%、好ましくは25〜130%、より好ましくは35〜120%の範囲にあることが最も重要である。比表面積が小さすぎると十分な触媒活性が得られず、また比表面積が大きすぎても触媒活性はそれほど向上しないが、触媒被毒成分の蓄積が増加したり触媒寿命が低下するなどの弊害が生じるおそれがある。また、比表面積を高めようとするとアナターゼ型チタンの結晶化度が低下する傾向がある。一般に、アナターゼ型チタンの結晶化度はある程度高い方が触媒性能が向上すると予想されるが、従来の結晶化度の高い触媒では比表面積が低くなるため十分な触媒性能が得られず、またSO2酸化率が高くなるため、好ましくない。本発明においては、比表面積とアナターゼ型チタンの結晶化度との最適化を図り、高活性かつ選択性の高い触媒を得るに至った。
X線源 CuKα/45kV/40mA
検出器 高速半導体検出器
受光側フィルタ Niフィルタ
モノクロメータ 湾曲結晶モノクロメータ
発散スリット 1°
散乱スリット 1°
受光スリット 0.5mm
ステップ 0.017°
計測時間 5秒/ステップ
実施例1
<酸化チタン粉体の調製>
10質量%アンモニア水700リットルに四塩化チタンの水溶液(TiO2として200g/リットル)210リットルを、十分な攪拌下、液温が40℃超えないように冷却しながら、徐々に滴下した。得られたゲルを3時間放置後、濾過、水洗し、続いて100℃で10時間乾燥した。これを400℃で4時間焼成し、さらにハンマーミルを用いて粉砕して酸化チタン粉体を得た。この酸化チタン粉体のBET比表面積、アナターゼ結晶を示すピークの強度(ピーク強度)およびアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ia(カウント)〕の基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ib(カウント)〕に対する比率(ピーク強度比)〔(Ia/Ib)×100〕を表1に示す。
<バナジウムおよびタングステンの添加>
メタバナジン酸アンモニウム0.3kg、シュウ酸0.4kg、モノエタノールアミン0.1kgを水1リットルに混合・溶解させ、均一溶液を調製した。このバナジウム含有溶液とパラタングステン酸アンモニウムの10質量%メチルアミン水溶液(WO3として400g/リットル)5リットルを成形助剤と適量の水とともに、先に調製した酸化チタン粉体20kgに加え、ニーダーで混練した後、外形80mm角、長さ500mm、目開き6.25mm、肉厚0.75mmのハニカム状に押し出し成形した。その後、80℃で乾燥した後、450℃で3時間焼成し、触媒Aを得た。
<Ti−Si複合酸化物粉体の調製>
シリカゾル(SiO2として20質量%含有)5kgと10質量%アンモニア水140kgを混合した液に、硫酸チタニルの硫酸溶液(TiO2として125g/リットル、硫酸濃度550g/リットル)60リットルを、十分な攪拌下に、液温が40℃超えないように冷却しながら、徐々に滴下し、沈殿を生成させた。このスラリーを熟成、ろ過、洗浄した後、150℃で10時間乾燥した。これを550℃で6時間焼成し、さらにハンマーミルを用いて粉砕し、Ti−Si複合酸化物粉体を得た。このTi−Si複合酸化物粉体のBET比表面積、アナターゼ結晶を示すピークの強度(ピーク強度)(Ia)およびアナターゼ結晶を示すピークの強度の基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度(Ib)に対する比率(ピーク強度比)を表1に示す。
メタバナジン酸アンモニウム0.9kg、シュウ酸1.1kg、モノエタノールアミン0.3kgを水3リットルに混合・溶解させ、均一溶液を調製した。このバナジウム含有溶液とパラタングステン酸アンモニウムの10質量%メチルアミン水溶液(WO3として400g/リットル)5リットルを成形助剤と適量の水とともに、先に調製したTi−Si複合酸化物粉体20kgに加え、ニーダーで混練した後、外形80mm角、長さ500mm、目開き6.25mm、肉厚0.75mmのハニカム状に押し出し成形した。その後、80℃で乾燥した後、450℃で3時間焼成し、触媒Bを得た。
実施例2において、Ti−Si複合酸化物粉体調製時の焼成温度を400℃、焼成時間を3時間としたこと以外は実施例2に述べた方法と同様の調製法により触媒Cを得た。このTi−Si複合酸化物のBET比表面積、アナターゼ結晶を示すピークの強度(ピーク強度)(Ia)およびアナターゼ結晶を示すピークの強度の基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度(Ib)に対する比率(ピーク強度比)を表1に示す。
実施例2において、Ti−Si複合酸化物粉体調製時の焼成温度を700℃、焼成時間を8時間としたこと以外は、実施例2に述べた方法と同様の調製法により触媒Dを得た。このTi−Si複合酸化物のBET比表面積、アナターゼ結晶を示すピークの強度(ピーク強度)(Ia)およびアナターゼ結晶を示すピークの強度の基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度(Ib)に対する比率(ピーク強度比)を表1に示す。
メタバナジン酸アンモニウム0.9kg、シュウ酸1.1kgおよびモノエタノールアミン0.3kgを水3リットルに混合・溶解させ、均一溶液を調製した。このバナジウム含有溶液とパラタングステン酸アンモニウムの10質量%メチルアミン水溶液(WO3として400g/リットル)5リットルを成形助剤と適量の水とともに、実施例2で用いたTi−Si複合酸化物粉体14kgと市販の酸化チタン粉体(DT−51(商品名)、ミレニアム社製)6kgとの混合粉体に加え、ニーダーで混練した後、外形80mm角、長さ500mm、目開き6.25mm、肉厚0.75mmのハニカム状に押し出し成形した。その後、80℃で乾燥した後、450℃で3時間焼成し、触媒Eを得た。上記Ti−Si複合酸化物と市販の酸化チタンとの混合物のBET比表面積、アナターゼ結晶を示すピークの強度(ピーク強度)(Ia)およびアナターゼ結晶を示すピークの強度の基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度(Ib)に対する比率(ピーク強度比)を表1に示す。
メタバナジン酸アンモニウム0.9kg、シュウ酸1.1kgおよびモノエタノールアミン0.3kgを水3リットルに混合・溶解させ、均一溶液を調製した。このバナジウム含有溶液とパラタングステン酸アンモニウムの10質量%メチルアミン水溶液(WO3として400g/リットル)5リットルを成形助剤と適量の水とともに、市販の酸化チタン粉体(DT−51(商品名)、ミレニアム社製)20kgに加え、ニーダーで混練した後、外形80mm角、長さ500mm、目開き6.25mm、肉厚0.75mmのハニカム状に押し出し成形した。その後、80℃で乾燥した後、450℃で3時間焼成し、触媒Fを得た。なお、上記酸化チタンのBET比表面積、アナターゼ結晶を示すピークの強度(ピーク強度)(Ia)およびアナターゼ結晶を示すピークの強度の基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度(Ib)に対する比率(ピーク強度比)を表1に示す。
実施例1〜5および比較例1で得られた触媒A〜Fを用いて、下記の条件で脱硝性能試験およびSO2酸化率の測定を行なった。
ガス温度 :380℃
空間速度(STP) :6,125hr−1
ガス組成
NOx :220ppm,dry
NH3 :220ppm,dry
SO2 :500ppm,dry
O2 :4%,dry
H2O :8%,wet
N2 :balance
脱硝率およびSO2酸化率は下記式に従って求めた。
<Ti−Si−Mo混合酸化物粉体の調製>
シリカゾル(SiO2として30質量%含有)10kgと25質量%アンモニア水103kgと水53リットルを混合した液にモリブデン酸1.1kgを加え、よく攪拌してモリブデン酸を完全に溶解させ、均一溶液を調製した。この溶液に硫酸チタニルの硫酸溶液(TiO2として70g/リットル、硫酸濃度287g/リットル)228リットルをよく攪拌しながら徐々に滴下し、沈殿を生成させた後、適量のアンモニア水を加えてpHを4に調整した。このスラリーを熟成、濾過、洗浄した後、100℃で10時間乾燥した。これを550℃で4時間焼成し、さらにハンマーミルを用いて粉砕し、粉体を得た。このようにして調製したTi−Si−Mo混合酸化物粉体の組成は、TiO2:SiO2:MoO3=80:15:5(質量比)であった。このTi−Si−Mo混合酸化物のBET比表面積、アナターゼ結晶を示すピークの強度(ピーク強度)(Ia)およびアナターゼ結晶を示すピークの強度(Ib)の基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度に対する比率(ピーク強度比)を表1に示す。
メタバナジン酸アンモニウム1.9kg、シュウ酸2.4kgおよびモノエタノールアミン0.6kgを水7リットルに混合・溶解させ、均一溶液を調製した。このバナジウム含有溶液を成形助剤と適量の水とともに、先に調製したTi−Si−Mo混合酸化物粉体20kgに加え、ニーダーで混練した後、外形80mm角、長さ500mm、目開き3.65mm、肉厚0.6mmのハニカム状に押し出し成形した。その後、80℃で乾燥した後、450℃で3時間焼成し、触媒Gを得た。
市販の酸化チタン粉体(DT−51(商品名)、ミレニアム社製)20kgに、メタバナジン酸アンモニウム2.2kg、シュウ酸2.7kgおよびモノエタノールアミン0.6kgを水8リットルに溶解させた溶液と、パラモリブデン酸アンモニウム2.9kgおよびモノエタノールアミン1.1kgを水3リットルに溶解させた溶液とを加え、成形助剤とともにニーダーで混練した後、外形80mm角、長さ500mm、目開き3.65mm、肉厚0.6mmのハニカム状に押し出し成形した。その後、80℃で乾燥した後、450℃で3時間焼成し、触媒Hを得た。
実施例6および比較例2で得られた触媒GおよびHを用いて、下記の条件で有機塩素化合物分解性能試験およびSO2酸化率の測定をおこなった。なお、処理対象となる有機塩素化合物としてはo−クロロトルエン(以下、CTと略す)を用いた。
ガス温度 :250℃
空間速度(STP) :7,950hr−1
ガス組成
CT :200ppm,dry
SO2 :500ppm,dry
O2 :9%,dry
H2O :10%,wet
N2 :balance
CT分解率は、下記式に従って求めた。
<Ti−Si複合酸化物粉体の調製>
シリカゾル(SiO2として20質量%含有)5kgとアンモニアとを混合した液に、四塩化チタンの水溶液(TiO2として200g/リットル)38リットルをよく攪拌しながら徐々に滴下し、沈殿を生成させた。このスラリーを熟成、濾過、洗浄した後、150℃で10時間乾燥した。これを500℃で5時間焼成し、さらにハンマーミルを用いて粉砕し、Ti−Si複合酸化物粉体を得た。このTi−Si複合酸化物粉体のBET比表面積は156m2/gであり、アナターゼ結晶を示すピークの強度(Ia)は357カウントであり、アナターゼ結晶を示すピークの強度の基準試料のアナターゼ結晶を示すピークの強度(Ib)に対する比率は43.4%であった。
メタバナジン酸アンモニウム0.6kg、シュウ酸0.7kgおよびモノエタノールアミン0.2kgを水2リットルに混合・溶解させ、均一溶液を調製した。このバナジウム含有溶液とパラタングステン酸アンモニウムの10質量%メチルアミン水溶液(WO3として400g/リットル)5リットルを成形助剤と適量の水とともに、先に調製したTi−Si複合酸化物粉体20kgに加え、ニーダーで混練した後、外形80mm角、長さ500mm、目開き6.25mm、肉厚0.75mmのハニカム状に押し出し成形した。その後、80℃で乾燥した後、450℃で3時間焼成し、触媒Iを得た。
メタバナジン酸アンモニウム0.75kg、シュウ酸0.9kgおよびモノエタノールアミン0.25kgを水2.5リットルに混合・溶解させ、均一溶液を調製した。このバナジウム含有溶液とパラタングステン酸アンモニウムの10質量%メチルアミン水溶液(WO3として400g/リットル)5リットルを成形助剤と適量の水とともに、実施例7で調製したTi−Si複合酸化物粉体20kgに加え、ニーダーで混練した後、外形80mm角、長さ500mm、目開き6.25mm、肉厚0.75mmのハニカム状に押し出し成形した。その後、80℃で乾燥した後、450℃で3時間焼成し、触媒Jを得た。
実施例1〜5および比較例1で得られた触媒A〜Fにおけると同様の条件で脱硝性能試験およびSO2酸化率の測定をおこなった。結果を表4に示す。
Claims (21)
- 排ガス処理用触媒に用いるチタン酸化物であって、該チタン酸化物のBET比表面積が85〜250m2/gの範囲内にあり、かつ該チタン酸化物において、粉末X線回折の2θ=24.7°〜25.7°の間に存在するアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ia(カウント)〕が、基準試料としての純粋なアナターゼ型二酸化チタン(関東化学株式会社製、試薬鹿1級)15質量%と純粋なルチル型二酸化チタン(関東化学株式会社製、試薬特級)85質量%とからなる混合物の粉末X線回折の2θ=24.7°〜25.7°の間に存在するアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ib(カウント)〕に対する比〔(Ia/Ib)×100〕が15〜145%の範囲にあることを特徴とするチタン酸化物。
- 該チタン酸化物が、(a)二酸化チタン、(b)(i)チタンと(ii)ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、タングステンおよびモリブデンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素との複合酸化物または混合酸化物、または(c)上記(a)と(b)との混合物である請求項1に記載のチタン酸化物。
- 該チタン酸化物が、(b)(i)チタンと(ii)ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、タングステンおよびモリブデンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素との複合酸化物ある請求項2に記載のチタン酸化物。
- 該複合酸化物がチタン−ケイ素複合酸化物、チタン−ジルコニウム複合酸化物、チタン−タングステン複合酸化物およびチタン−ケイ素−モリブデン複合酸化物からなる群より選ばれた少なくとも1種のものである請求項3に記載のチタン酸化物。
- 該複合酸化物中のチタン含有比は50モル%以上である請求項3または4に記載のチタン酸化物。
- 該比〔(Ia/Ib)×100〕が25〜130%である請求項1〜5のいずれか一つに記載のチタン酸化物。
- 該比〔(Ia/Ib)×100〕が35〜120%である請求項1〜5のいずれか一つに記載のチタン酸化物。
- 該BET比表面積が90〜220m2/gである請求項1〜7のいずれか一つに記載のチタン酸化物。
- チタン酸化物および触媒活性成分を含む排ガス処理用触媒であって、該触媒のBET比表面積が50〜200m2/gの範囲内にあり、かつ該触媒において、粉末X線回折の2θ=24.7°〜25.7°の間に存在するアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ia(カウント)〕が、基準試料としての、純粋なアナターゼ型二酸化チタン(関東化学株式会社製、試薬鹿1級)15質量%と純粋なルチル型二酸化チタン(関東化学株式会社製、試薬特級)85質量%とからなる混合物の粉末X線回折の2θ=24.7°〜25.7°の間に存在するアナターゼ結晶を示すピークの強度〔Ib(カウント)〕に対する比〔(Ia/Ib)×100〕が15〜145%の範囲にあることを特徴とする排ガス処理用触媒。
- 該チタン酸化物が、(a)二酸化チタン、(b)(i)チタンと(ii)ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、タングステンおよびモリブデンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素との複合酸化物または混合酸化物、または(c)上記(a)と(b)との混合物である請求項9に記載の触媒。
- 該チタン酸化物が、(b)(i)チタンと(ii)ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、タングステンおよびモリブデンからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素との複合酸化物ある請求項10に記載の触媒。
- 該複合酸化物がチタン−ケイ素複合酸化物、チタン−ジルコニウム複合酸化物、チタン−タングステン複合酸化物およびチタン−ケイ素−モリブデン複合酸化物からなる群より選ばれた少なくとも1種のものである請求項11に記載の触媒。
- 該複合酸化物中のチタン含有比は50モル%以上である請求項11または12に記載の触媒。
- 該比〔(Ia/Ib)×100〕が25〜180%である請求項9〜13のいずれか一つに記載の触媒。
- 該比〔(Ia/Ib)×100〕が35〜120%である請求項9〜13のいずれか一つに記載の触媒。
- 該BET比表面積が60〜180m2/gである請求項9〜16のいずれか一つに記載の触媒。
- 該触媒活性成分は、バナジウム、タングステン、およびモリブデンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の元素の化合物である請求項9〜17のいずれか一つに記載の触媒。
- 該触媒活性成分は、該チタン酸化物100質量部当り0.1〜20質量部である請求項9〜17のいずれか一つに記載の触媒。
- 該触媒活性成分は、バナジウムおよび/またはタングステンの化合物である請求項9〜17のいずれか一つに記載の触媒。
- 該バナジウム化合物とタングステン化合物との原子比は、1:0.1〜1:20である請求項19に記載の触媒。
- 請求項9〜19のいずれか一つに記載の触媒を用いて、有害物質を含む排ガスを処理してなる排ガスの浄化方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005169310 | 2005-06-09 | ||
JP2005169310 | 2005-06-09 | ||
PCT/JP2006/310533 WO2006132097A1 (ja) | 2005-06-09 | 2006-05-26 | チタン酸化物、排ガス処理用触媒および排ガスの浄化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006132097A1 true JPWO2006132097A1 (ja) | 2009-01-08 |
Family
ID=37498299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007509779A Pending JPWO2006132097A1 (ja) | 2005-06-09 | 2006-05-26 | チタン酸化物、排ガス処理用触媒および排ガスの浄化方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8173098B2 (ja) |
JP (1) | JPWO2006132097A1 (ja) |
KR (1) | KR100944464B1 (ja) |
CN (1) | CN101151096B (ja) |
TW (1) | TWI362288B (ja) |
WO (1) | WO2006132097A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5038006B2 (ja) * | 2007-04-16 | 2012-10-03 | 株式会社日本触媒 | 排ガス処理用触媒、当該触媒の製造方法及び当該触媒を用いた排ガス中の有機ハロゲン化合物の処理方法 |
DE102007061776A1 (de) * | 2007-12-20 | 2009-06-25 | Argillon Gmbh | Verfahren zur Trocknung von keramischen Wabenkörpern |
KR100969650B1 (ko) * | 2008-02-21 | 2010-07-14 | 성균관대학교산학협력단 | 비표면적이 증가된 신규한 이산화티탄 촉매를 사용하여voc를 분해하는 방법 |
US7879759B2 (en) * | 2009-02-16 | 2011-02-01 | Augustine Steve M | Mobile DeNOx catalyst |
US8545796B2 (en) * | 2009-07-31 | 2013-10-01 | Cristal Usa Inc. | Silica-stabilized ultrafine anatase titania, vanadia catalysts, and methods of production thereof |
JP2012139625A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | チタン含有粉末、排ガス処理触媒及びチタン含有粉末の製造方法 |
JP2012206058A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Nippon Shokubai Co Ltd | 脱硝触媒および脱硝方法 |
JP5681990B2 (ja) * | 2011-06-13 | 2015-03-11 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 脱硝触媒の製造方法 |
SG11201501096QA (en) | 2012-08-24 | 2015-03-30 | Cristal Usa Inc | Catalyst support materials, catalysts, methods of making them and uses thereof |
JP2015147165A (ja) * | 2014-02-05 | 2015-08-20 | イビデン株式会社 | ハニカム触媒及びハニカム触媒の製造方法 |
JP6522916B2 (ja) * | 2014-09-26 | 2019-05-29 | 株式会社日本触媒 | 排水処理用触媒およびこれを用いた排水の処理方法 |
DE102016110374A1 (de) * | 2016-06-06 | 2017-12-07 | Huntsman P&A Germany Gmbh | Titandioxid-Sol, Verfahren zu dessen Herstellung und daraus gewonnene Produkte |
US20170348671A1 (en) | 2016-06-06 | 2017-12-07 | Huntsman P&A Germany Gmbh | Process for reducing the sulphur content of anatase titania and the so-obtained product |
CN106179319B (zh) * | 2016-06-28 | 2019-03-29 | 重庆远达催化剂制造有限公司 | 一种适用于高砷烟气的蜂窝式脱硝催化剂及其制备方法 |
JP6093101B1 (ja) | 2016-09-12 | 2017-03-08 | 中国電力株式会社 | 脱硝触媒、及びその製造方法 |
US20220064016A1 (en) * | 2019-05-14 | 2022-03-03 | Tayca Corporation | Titanium oxide powder and method for manufacturing same |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08281103A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-10-29 | Babcock Hitachi Kk | 窒素酸化物除去用触媒およびその製造方法 |
JPH10235191A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-09-08 | Nippon Shokubai Co Ltd | 有機ハロゲン化合物除去用触媒、その調製方法および有機ハロゲン化合物の除去方法 |
JP2002079112A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-19 | Nippon Shokubai Co Ltd | 有機ハロゲン化合物分解触媒および有機ハロゲン化合物の処理方法 |
JP2003112047A (ja) * | 2001-10-01 | 2003-04-15 | Nippon Shokubai Co Ltd | 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法 |
JP2004243307A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-09-02 | Showa Denko Kk | 高活性光触媒粒子およびその製造方法ならびにその用途 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE183112T1 (de) * | 1994-05-30 | 1999-08-15 | Siemens Ag | Katalysator zur stickoxidminderung in einem strömungsmedium und verfahren zu seiner herstellung |
DE69711349T2 (de) * | 1996-12-27 | 2002-11-07 | Nippon Catalytic Chem Ind | Verwendung eines Katalysator zur Entfernung von organischen Chlorverbindungen und Verfahren zur Entfernung von organischen Chlorverbindungen |
JP3648125B2 (ja) * | 1999-06-25 | 2005-05-18 | 株式会社日本触媒 | 有機ハロゲン化合物の除去用触媒および有機ハロゲン化合物の除去方法 |
US6638486B2 (en) * | 2000-03-08 | 2003-10-28 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for purification of exhaust gases, production process therefor, and process for purification of exhaust gases |
EP2316568A1 (en) * | 2001-12-21 | 2011-05-04 | Showa Denko K.K. | Photocatlyst particles comprising a condensed phosphate |
US7414009B2 (en) * | 2001-12-21 | 2008-08-19 | Showa Denko K.K. | Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof |
JP4538198B2 (ja) | 2002-04-18 | 2010-09-08 | 日揮触媒化成株式会社 | ハニカム状排ガス処理触媒用二酸化チタン粉末およびその二酸化チタン粉末を使用したハニカム状排ガス処理触媒 |
KR100627621B1 (ko) * | 2004-11-19 | 2006-09-25 | 한국화학연구원 | 루타일형 티타니아 나노 졸의 제조방법 |
-
2006
- 2006-05-26 US US11/886,462 patent/US8173098B2/en active Active
- 2006-05-26 CN CN200680009838.0A patent/CN101151096B/zh active Active
- 2006-05-26 KR KR1020077002541A patent/KR100944464B1/ko active IP Right Grant
- 2006-05-26 WO PCT/JP2006/310533 patent/WO2006132097A1/ja active Application Filing
- 2006-05-26 JP JP2007509779A patent/JPWO2006132097A1/ja active Pending
- 2006-06-01 TW TW095119294A patent/TWI362288B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08281103A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-10-29 | Babcock Hitachi Kk | 窒素酸化物除去用触媒およびその製造方法 |
JPH10235191A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-09-08 | Nippon Shokubai Co Ltd | 有機ハロゲン化合物除去用触媒、その調製方法および有機ハロゲン化合物の除去方法 |
JP2002079112A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-19 | Nippon Shokubai Co Ltd | 有機ハロゲン化合物分解触媒および有機ハロゲン化合物の処理方法 |
JP2003112047A (ja) * | 2001-10-01 | 2003-04-15 | Nippon Shokubai Co Ltd | 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法 |
JP2004243307A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-09-02 | Showa Denko Kk | 高活性光触媒粒子およびその製造方法ならびにその用途 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8173098B2 (en) | 2012-05-08 |
TW200642753A (en) | 2006-12-16 |
KR20080011641A (ko) | 2008-02-05 |
KR100944464B1 (ko) | 2010-03-03 |
WO2006132097A1 (ja) | 2006-12-14 |
TWI362288B (en) | 2012-04-21 |
CN101151096B (zh) | 2014-05-07 |
US20080152560A1 (en) | 2008-06-26 |
CN101151096A (zh) | 2008-03-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPWO2006132097A1 (ja) | チタン酸化物、排ガス処理用触媒および排ガスの浄化方法 | |
JP4113090B2 (ja) | 排ガス処理方法 | |
JP4098703B2 (ja) | 窒素酸化物除去用触媒および窒素酸化物除去方法 | |
KR100456748B1 (ko) | 배기가스 처리용 촉매, 그 제조방법 및 배기가스 처리방법 | |
JP4822740B2 (ja) | 排ガス処理触媒および排ガス処理方法 | |
JP2006150352A (ja) | 排ガス処理用触媒および排ガスの処理方法 | |
JP2006255641A (ja) | 排ガス処理触媒、その製造方法および排ガス処理方法 | |
JP3860707B2 (ja) | 燃焼排ガスの処理方法 | |
JP3860734B2 (ja) | 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法 | |
JP3860708B2 (ja) | 燃焼排ガスの処理方法 | |
JP4098698B2 (ja) | 排ガス処理方法 | |
JP3739659B2 (ja) | 排ガス処理用触媒、排ガスの処理方法、および排ガス処理用触媒の製造方法 | |
JP3749078B2 (ja) | 脱硝触媒および脱硝方法 | |
JP2012206058A (ja) | 脱硝触媒および脱硝方法 | |
JP4002437B2 (ja) | 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法 | |
JP6016572B2 (ja) | 排ガス処理触媒および排ガス処理方法 | |
JP5038006B2 (ja) | 排ガス処理用触媒、当該触媒の製造方法及び当該触媒を用いた排ガス中の有機ハロゲン化合物の処理方法 | |
JP3739032B2 (ja) | 有機ハロゲン化合物の除去用触媒、その製造方法および有機ハロゲン化合物の除去方法 | |
JP4283092B2 (ja) | 排ガス処理用触媒および排ガス処理方法 | |
JP3860706B2 (ja) | 燃焼排ガスの処理方法 | |
JP3868246B2 (ja) | 排ガス処理用触媒、および排ガス処理方法 | |
JP4098697B2 (ja) | 排ガス処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081030 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120316 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120515 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120807 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120814 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20120907 |