JPWO2006082639A1 - マーク画像処理方法、プログラム及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
撮像装置の撮像条件を変化させながらワーク上のマークを複数回撮像する撮像制御ステップと、
複数の画像と予め登録されたマークのテンプレート画像との相関を演算して最適なマーク位置を検出する画像認識ステップと
を備えたことを特徴とする。
撮像装置の撮像条件変化させながらワーク上のマークを複数回撮像する撮像制御ステップと、
複数の画像と予め登録されたマークのテンプレート画像との相関を演算して最適なマーク位置を検出する画像認識ステップと、
を実行させることを特徴とする。
撮像装置の撮像条件変化させながらワーク上のマークを複数回撮像する撮像制御部と、
複数の画像と予め登録されたマークのテンプレート画像との相関を演算して最適なマーク位置を検出する画像認識部と、
を備えたことを特徴とする。
Claims (18)
- 撮像装置の撮像条件変化させながらワーク上のマークを複数回撮像する撮像制御ステップと、
前記複数の画像と予め登録された前記マークのテンプレート画像との相関を演算して最適なマーク位置を検出する画像認識ステップと、
を備えたことを特徴とするマーク画像処理方法。
- 請求項1記載のマーク画像処理方法に於いて、前記撮像制御ステップは、照明強度を所定範囲で変化させながら前記マークを複数回撮像することを特徴とするマーク画像処理方法。
- 請求項1記載のマーク画像処理方法に於いて、前記撮像制御ステップは、露光時間を所定範囲で変化させながら前記マークを複数回撮像することを特徴とするマーク画像処理方法。
- 請求項1記載のマーク画像処理方法に於いて、前記撮像制御ステップは、照明装置の照明強度と露光時間とを所定範囲で変化させながら前記マークを複数回撮像することを特徴とするマーク画像処理方法。
- 請求項1記載のマーク画像処理方法に於いて、前記画像認識ステップは、所定範囲で撮像条件を変化させて前記マークを撮像する毎に、画像に対しテンプレート画像をスライドさせながら各スライド位置で相関を演算し、相関値が最小となるスライド位置からマーク位置を検出してその相関値と共に保存し、前記所定範囲で撮像条件を変化させた撮像の終了時に保存している複数の相関値の中から最小の相関値をもつマーク位置を最適値として検出することを特徴とするマーク画像処理方法。
- 請求項1記載のマーク画像処理方法に於いて、前記マークは基板またはチップ上に微細加工により形成されたアライメントマークであることを特徴とするマーク画像処理方法。
- コンピュータに、
撮像装置の撮像条件変化させながらワーク上のマークを複数回撮像する撮像制御ステップと、
前記複数の画像と予め登録された前記マークのテンプレート画像との相関を演算して最適なマーク位置を検出する画像認識ステップと、
を実行させることを特徴とするプログラム。
- 請求項7記載のプログラムに於いて、前記撮像制御ステップは、照明強度を所定範囲で変化させながら前記マークを複数回撮像することを特徴とするプログラム。
- 請求項7記載のプログラムに於いて、前記撮像制御ステップは、露光時間を所定範囲で変化させながら前記マークを複数回撮像することを特徴とするプログラム。
- 請求項7記載のプログラムに於いて、前記撮像制御ステップは、照明装置の照明強度と露光時間とを所定範囲で変化させながら前記マークを複数回撮像することを特徴とするプログラム。
- 請求項7記載のプログラムに於いて、前記画像認識ステップは、所定範囲で撮像条件を変化させて前記マークを撮像する毎に、画像に対しテンプレート画像をスライドさせながら各スライド位置で相関を演算し、相関値が最小となるスライド位置からマーク位置を検出してその相関値と共に保存し、前記所定範囲で撮像条件を変化させた撮像の終了時に保存している複数の相関値の中から最小の相関値をもつマーク位置を最適値として検出することを特徴とするプログラム。
- 請求項7記載のプログラムに於いて、前記マークは基板またはチップ上に微細加工により形成されたアライメントマークであることを特徴とするプログラム。
- 撮像装置の撮像条件変化させながらワーク上のマークを複数回撮像する撮像制御部と、
前記複数の画像と予め登録された前記マークのテンプレート画像との相関を演算して最適なマーク位置を検出する画像認識部と、
を備えたことを特徴とするマーク画像処理装置。
- 請求項13記載のマーク画像処理装置に於いて、前記撮像装置は、照明強度を所定範囲で変化させながら前記マークを複数回撮像することを特徴とするマーク画像処理装置。
- 請求項13記載のマーク画像処理装置に於いて、前記撮像装置は、露光時間を所定範囲で変化させながら前記マークを複数回撮像することを特徴とするマーク画像処理装置。
- 請求項13記載のマーク画像処理装置に於いて、前記撮像装置は、照明装置の照明強度と露光時間とを所定範囲で変化させながら前記マークを複数回撮像することを特徴とするマーク画像処理装置。
- 請求項13記載のマーク画像処理装置に於いて、前記画像認識部は、所定範囲で撮像条件を変化させて前記マークを撮像する毎に、画像に対しテンプレート画像をスライドさせながら各スライド位置で相関を演算し、相関値が最小となるスライド位置からマーク位置を検出してその相関値と共に保存し、前記所定範囲で撮像条件を変化させた撮像の終了時に保存している複数の相関値の中から最小の相関値をもつマーク位置を最適値として検出することを特徴とするマーク画像処理装置。
- 請求項13記載のマーク画像処理装置に於いて、前記マークは基板またはチップ上に微細加工により形成されたアライメントマークであることを特徴とするマーク画像処理装置。
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JP2010191593A (ja) * | 2009-02-17 | 2010-09-02 | Honda Motor Co Ltd | 対象物の位置検出装置及び位置検出方法 |
JP2010191590A (ja) * | 2009-02-17 | 2010-09-02 | Honda Motor Co Ltd | 対象物の位置検出装置及び位置検出方法 |
JP5506634B2 (ja) * | 2010-11-05 | 2014-05-28 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 位置合わせ用照明装置及び該照明装置を備えた露光装置 |
JP5326148B2 (ja) * | 2012-09-18 | 2013-10-30 | ボンドテック株式会社 | 転写方法および転写装置 |
JP5256410B2 (ja) * | 2012-09-18 | 2013-08-07 | ボンドテック株式会社 | 転写方法および転写装置 |
CN105260733A (zh) * | 2015-09-11 | 2016-01-20 | 北京百度网讯科技有限公司 | 用于处理图像信息的方法和装置 |
US10665260B2 (en) * | 2018-01-30 | 2020-05-26 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Optical disc recording device and optical disc recording method |
JP7317579B2 (ja) | 2019-06-07 | 2023-07-31 | キヤノン株式会社 | 位置合わせ装置、位置合わせ方法、リソグラフィ装置、および、物品の製造方法 |
US20220230314A1 (en) * | 2021-01-15 | 2022-07-21 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Intelligent pattern recognition systems for wire bonding and other electronic component packaging equipment, and related methods |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07220058A (ja) * | 1991-07-12 | 1995-08-18 | Omron Corp | 照明条件設定支援装置および方法 |
JPH09218935A (ja) * | 1996-02-08 | 1997-08-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 画像による外観検査方法 |
JPH1082613A (ja) * | 1996-09-09 | 1998-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 視覚認識方法及び装置 |
JPH1173513A (ja) * | 1997-06-25 | 1999-03-16 | Matsushita Electric Works Ltd | パターン検査方法及びその装置 |
WO1999059104A1 (fr) * | 1998-05-12 | 1999-11-18 | Omron Corporation | Procede d'aide a l'enregistrement de modeles, dispositif d'aide a l'enregistrement de modeles utilisant ledit procede, et processeur d'images |
JP2000259830A (ja) * | 1999-03-05 | 2000-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 画像認識装置および画像認識方法 |
WO2002045023A1 (fr) * | 2000-11-29 | 2002-06-06 | Nikon Corporation | Procede et dispositif de traitement d'images, procede et dispositif de detection et procede et systeme d'exposition |
JP2002352232A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 画像入力装置 |
JP2003329596A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-19 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4629313A (en) * | 1982-10-22 | 1986-12-16 | Nippon Kogaku K.K. | Exposure apparatus |
US5525808A (en) * | 1992-01-23 | 1996-06-11 | Nikon Corporaton | Alignment method and alignment apparatus with a statistic calculation using a plurality of weighted coordinate positions |
JP3224041B2 (ja) * | 1992-07-29 | 2001-10-29 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置 |
JP3491346B2 (ja) * | 1994-08-22 | 2004-01-26 | 株式会社ニコン | 位置合わせ方法及びそれを用いた露光方法、並びに位置合わせ装置及びそれを用いた露光装置 |
US5552611A (en) * | 1995-06-06 | 1996-09-03 | International Business Machines | Pseudo-random registration masks for projection lithography tool |
JPH11307449A (ja) * | 1998-02-20 | 1999-11-05 | Canon Inc | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP3927774B2 (ja) * | 2000-03-21 | 2007-06-13 | キヤノン株式会社 | 計測方法及びそれを用いた投影露光装置 |
JP3548501B2 (ja) * | 2000-05-15 | 2004-07-28 | ペンタックス株式会社 | カメラの操作部材 |
US7349580B2 (en) * | 2003-06-03 | 2008-03-25 | Topcon Corporation | Apparatus and method for calibrating zoom lens |
US7164518B2 (en) * | 2003-10-10 | 2007-01-16 | Yuping Yang | Fast scanner with rotatable mirror and image processing system |
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-
2007
- 2007-06-29 US US11/771,587 patent/US20070253616A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07220058A (ja) * | 1991-07-12 | 1995-08-18 | Omron Corp | 照明条件設定支援装置および方法 |
JPH09218935A (ja) * | 1996-02-08 | 1997-08-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 画像による外観検査方法 |
JPH1082613A (ja) * | 1996-09-09 | 1998-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 視覚認識方法及び装置 |
JPH1173513A (ja) * | 1997-06-25 | 1999-03-16 | Matsushita Electric Works Ltd | パターン検査方法及びその装置 |
WO1999059104A1 (fr) * | 1998-05-12 | 1999-11-18 | Omron Corporation | Procede d'aide a l'enregistrement de modeles, dispositif d'aide a l'enregistrement de modeles utilisant ledit procede, et processeur d'images |
JP2000259830A (ja) * | 1999-03-05 | 2000-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 画像認識装置および画像認識方法 |
WO2002045023A1 (fr) * | 2000-11-29 | 2002-06-06 | Nikon Corporation | Procede et dispositif de traitement d'images, procede et dispositif de detection et procede et systeme d'exposition |
JP2002352232A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 画像入力装置 |
JP2003329596A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-19 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
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