JPWO2006080323A1 - ヘテロ6員環化合物及びその用途 - Google Patents
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Abstract
Description
<1> 一般式(I):
Vは、(1)C(RO5)(RO6)、(2)酸素原子、又は(3)硫黄原子を示し;
RO1、RO2、RO3、RO4、RO5、及びRO6は、それぞれ独立に(1)水素原子又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
AはA1又はA2を示し;
A1は、(1)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜8個の直鎖アルキレン基、(2)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜8個の直鎖アルケニレン基、又は(3)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜8個の直鎖アルキニレン基のいずれかを示し;
A2は、−G1−G2−G3−基を示し;
G1は、(1)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、(2)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基、又は(3)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルキニレン基のいずれかを示し;
G2は、(1)−Ar1−基、(2)−Y−Ar1−基、(3)−Ar1−Y−基、又は(4)−Y−基のいずれかを示し、Yは、(1)−S−基、(2)−S(O)−基、(3)−S(O)2−基、(4)−O−基、又は(5)−N(RG1)−基のいずれかを示し;
RG1は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)炭素数2〜6個のアシル基のいずれかを示し;
基Ar1は、(1)炭素環化合物の残基(ca1)、又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa1)を示し;基Ar1は、1個又は同一若しくは異なる2〜4個の基R1で置換されてもよく;
基R1は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、又は(3)ハロゲン原子のいずれかを示し;
G3は、(1)単結合、(2)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、(3)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基、又は(4)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルキニレン基のいずれかを示し(ただし、G2が−Ar1−Y−基、又は−Y−基を示すとき、G3は、単結合以外を示す);
Dは、D1、又はD2を示し;
D1は、(1)−COORD1基、(2)テトラゾール−5−イル基、又は(3)−C(O)N(RD2)SO2RD3基のいずれかを示し;
RD1は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、(3)フェニル基、(4)フェニル基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(5)ビフェニル基のいずれかを示し;
RD2は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
RD3は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(2)フェニル基を示し;
D2は、(1)−CH2ORD4基、(2)−ORD4基、(3)ホルミル基、(4)−C(O)NRD5RD6基、(5)−C(O)N(RD5)SO2RD7基、(6)−C(O)−Mm−OH基、(7)−O−Mm−H基、(8)−COORD8基、(9)−OC(O)−RD9基、(10)−COO−Z1−Z2−Z3基、又は(11)次式の置換基群:
RD4は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
RD5及びRD6は、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示すか、あるいは、(3)RD5がRD6と繋がってそれらが結合する窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb1)を形成してもよく;
RD7は、フェニル基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
RD8は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群から選ばれる1〜3個の置換基で置換されてもよいビフェニル基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群から選ばれる1〜3個の置換基で置換されてもよいビフェニル基を示し;
RD9は、(1)フェニル基、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
Mは、アミノ基及びカルボキシル基を有する化合物から該アミノ基の水素原子及び該カルボキシル基の水酸基を除いて得られる2価基を示し;
mは、整数1、又は2を示し;
Z1は、(1)炭素数1〜8個のアルキレン基、(2)炭素数2〜8個のアルケニレン基、又は(3)炭素数2〜8個のアルキニレン基を示し;
Z2は、(1)−C(O)−基、(2)−OC(O)−基、(3)−COO−基、(4)−C(O)N(RZ1)−基、(5)−N(RZ2)C(O)−基、(6)−O−基、(7)−S−基、(8)−S(O)2−基、(9)−S(O)2N(RZ2)−基、(10)−N(RZ2)S(O)2−基、(11)−N(RZ3)−基、(12)−N(RZ4)C(O)N(RZ5)−基、(13)−N(RZ6)C(O)O−基、(14)−OC(O)N(RZ7)−基、又は(15)−OC(O)O−基のいずれかを示し;
Z3は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、(3)炭素数2〜4個のアルケニル基、(4)炭素数2〜4個のアルキニル基、(5)環Z、又は(6)炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、−N(RZ8)(RZ9)基、又は環Zで置換された炭素数1〜4個のアルキル基のいずれかを示し;
環Zは、(1)炭素環化合物の残基(ca2)、又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa2)を示し;
RZ1、RZ2、RZ3、RZ4、RZ5、RZ6、RZ7、RZ8、及びRZ9は、それぞれ独立して水素原子、又は炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
また、RZ1とZ3は、それらが結合している窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb2)を形成してもよく;
Xは、(1)エチレン基、(2)トリメチレン基、又は(3)−CH2CH=CH−基のいずれかを示し;
Eは、(1)−CH(OH)−基、又は(2)−C(O)−基のいずれかを示し;
Wは、(1)次式:
RW1及びRW2は、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)フッ素原子のいずれかを示すか、あるいは(4)RW1がRW2と繋がってそれらが結合する炭素原子とともに3〜7員環の飽和シクロアルカン(cb)を形成してもよく;
飽和シクロアルカン(cb)は、1個又は同一若しくは異なる2〜4個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよく;
U1は、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個のアルキレン基、(3)炭素数2〜4個のアルケニレン基、又は(4)炭素数2〜4個のアルキニレン基を示し;
U2は、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個のアルキレン基、(3)炭素数2〜4個のアルケニレン基、(4)炭素数2〜4個のアルキニレン基、(5)−O−基、(6)−S−基、(7)−S(O)−基、(8)−S(O)2−基、(9)−N(RU1)−基、(10)−C(O)−基、(11)−C(O)N(RU2)−基、(12)−N(RU2)C(O)−基、(13)−S(O)2N(RU2)−基、又は(14)−N(RU2)S(O)2−基を示し;
RU1は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)炭素数2〜6個のアシル基のいずれかを示し;
RU2は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
U3は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、及び−N(RU3)(RU4)基からなる群から選ばれる1個又は同一若しくは異なる2〜4個の置換基で置換されてもよい炭素数1〜8個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、及び−N(RU3)(RU4)基からなる群から選ばれる1個又は同一若しくは異なる2〜4個の置換基で置換されてもよい炭素数2〜8個のアルケニル基、(3)炭素数1〜4個のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、及び−N(RU3)(RU4)基からなる群から選ばれる1個又は同一若しくは異なる2〜4個の置換基で置換されてもよい炭素数2〜8個のアルキニル基、(4)基Ar3で置換されている炭素数1〜8個のアルキル基、又は(5)基Ar3のいずれかを示し;
RU3及びRU4は、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示すか、(3)RU3がRU4と繋がってそれらが結合する窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb3)を形成してもよく;
基Ar2、及び基Ar3は、それぞれ独立して(1)炭素環化合物の残基(ca3)又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa3)を示し;
基Ar2、及び基Ar3は、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2で置換されてもよく;
R2は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)炭素数1〜4個のアルキルチオ基、(4)ハロゲン原子、(5)水酸基、(6)ニトロ基、(7)−N(RA1)(RA2)基、(8)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(9)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(10)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(11)−N(RA1)(RA2)基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(12)基Ar4、(13)−O−Ar4基、(14)基Ar4で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(15)基Ar4で置換された炭素数2〜4個のアルケニル基、(16)基Ar4で置換された炭素数2〜4個のアルキニル基、(17)基Ar4で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(18)−O−Ar4基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(19)−COORA3基、(20)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(21)ホルミル基、(22)水酸基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(23)炭素数2〜6個のアシル基、(24)オキソ基、又は(25)チオキソ基のいずれかを示し;
RA1及びRA2は、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示すか、あるいは(3)RA1がRA2と繋がってそれらが結合する窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb4)を形成してもよく;
RA3は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
基Ar4は、(1)炭素環化合物の残基(ca4)、又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa4)を示し;
炭素環化合物の残基ca1、ca2、ca3、及びca4は、それぞれ独立して完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい炭素数3〜11個の単環式化合物の残基を示すか、あるいは炭素数8〜11個の縮合二環式の炭素環化合物の残基を示し;
基Ar4は、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3で置換されてもよく;
R3は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数2〜4個のアルケニル基、(3)炭素数2〜4個のアルキニル基、(4)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(5)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(6)ハロゲン原子、(7)水酸基、(8)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(9)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
ヘテロ環化合物の残基qa1、qa2、qa3、及びqa4は、それぞれ独立して完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい環構成原子数3〜11個の単環式化合物の残基(該単環式化合物は、環構成原子として、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる同一又は異なるヘテロ原子を1個以上含む)を示すか、あるいは環構成原子数7〜11個の縮合二環式のヘテロ環化合物(qa)の残基を示し、ヘテロ環化合物(qa)は環構成原子として、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる同一又は異なるヘテロ原子を1〜4個含み;
単環式飽和ヘテロ環化合物の残基qb1、qb2、qb3、及びqb4は、それぞれ独立して5〜7員環の含窒素単環式飽和ヘテロ環化合物(qb)の残基を示し、ヘテロ環化合物(qb)は、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子をさらに1個含んでもよく、また1個又は同一若しくは異なる2〜4個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい。]で表される化合物〔以下、単に「本発明化合物(I)」と称することがある〕又はその塩。
G1aは、炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基を示し;
G3aは、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、又は(3)炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基のいずれかを示し;
D1aは(1)−COORD1基、又は(2)テトラゾール−5−イル基を示し;
W1は、(1)次式:
RW1a及びRW2aは、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)フッ素原子であるか、あるいは(4)RW1aがRW2aと繋がってそれらが結合する炭素原子とともに3〜7員環の飽和シクロアルカン(cb)を形成する置換基を示し;
U1aは、(1)単結合、又は(2)炭素数1〜4個のアルキレン基を示し;
U2aは、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個のアルキレン基、(3)−O−基、(4)−S−基、(5)−S(O)−基、(6)−S(O)2−基、又は(7)−N(RU1)−基のいずれかを示し;
U3aは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、及び−N(RU3)(RU4)基からなる群から選ばれる1個又は同一若しくは異なる2〜4個の置換基で置換されてもよい炭素数1〜8個のアルキル基、(2)基Ar3で置換されている炭素数1〜8個のアルキル基、又は(3)基Ar3のいずれかを示し;
T、Ar1、Y、RD1、Ar2、RU1、RU3、RU4、及びAr3は前記と同義である。]で表される上記<1>又は<2>のいずれかに記載の化合物又はその塩。
G1bは、(1)メチレン基、(2)エチレン基、又は(3)トリメチレン基のいずれかを示し;
基Ar1aは、(1)完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい炭素数3〜7の単環式炭素環化合物の残基(ca1m)、あるいは(2)環構成原子として、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる同一又は異なるヘテロ原子を1〜3個含む、完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい環構成原子数3〜7個の単環式ヘテロ化合物の残基(qa1m)を示し;
Yaは、(1)−O−基、又は(2)−S−基を示し;
G3bは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、又は(4)エテニレン基のいずれかを示し;
G3cは、(1)メチレン基、(2)エチレン基、又は(3)エテニレン基のいずれかを示し;
D1bは、−COORD1b基、又はテトラゾール−5−イル基を示し;
RD1bは(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
W2は、(1)次式:
RW1b及びRW2bは、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)メチル基を示すか、あるいは(3)RW1bがRW2bと繋がってそれらが結合する炭素原子とともにシクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、又はシクロヘキサンのいずれかを形成する置換基を示し;
U1bは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、又は(4)トリメチレン基のいずれかを示し;
U2bは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、(4)トリメチレン基、(5)−O−基、(6)−S−基、又は(7)−N(RU1')−のいずれかを示し;
RU1'は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基のいずれかを示し;
基Ar2a、及び基Ar3aは、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、ベンゼン、アズレン、ナフタレン、ジヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、アダマンタン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、フラザン、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、オキサジン、オキサジアジン、チアジン、チアジアジン、インドリン、イソインドリン、ジヒドロベンゾフラン、クロマン、4H−クロメン、ベンゾフラン、ベンゾ〔b〕チオフェン、インダン、インドール、イソインドール、インドリジン、1H−インダゾール、2H−インダゾール、1H−ベンズイミダゾール、1,3−ジヒドロベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ジヒドロ−3H−ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔d〕イソオキサゾール、ベンゾ〔c〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ジヒドロ−3H−ベンゾチアゾール、ベンゾ〔d〕イソチアゾール、ベンゾ〔c〕イソチアゾール、1H−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔1,2,5〕チアジアゾール、キノリン、ジヒドロ−1H−キノリン、イソキノリン、ジヒドロ−2H−イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、及びフタラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar2a、及び基Ar3aは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2aで置換されていてもよく;
R2aは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)水酸基、(5)−N(RA10)(RA20)基、(6)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(7)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(8)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(9)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(10)水酸基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(11)基Ar4a、(12)−O−Ar4a基、(13)基Ar4aで置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(14)−O−Ar4a基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
RA10及びRA20は、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)メチル基、又は(3)エチル基を示すか、あるいは(3)RA10がRA20と繋がってそれらが結合する窒素原子とともにピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン、又はモルホリンのいずれかを形成する置換基を示し;
基Ar4aは、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、ベンゼン、アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリン、イミダゾリジン、トリアゾリン、トリアゾリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン、アゼピン、ジアゼピン、モルホリン、チオモルホリン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、フラザン、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、及びピラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar4aは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3aで置換されていてもよく;
R3aは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)水酸基、(5)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(6)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基のいずれかを示す。]で表される上記<1>から<3>のいずれかに記載の化合物又はその塩。
基Ar1bは、ベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、及びピラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
W3は、(1)次式:
RW1c及びRW2cは、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)メチル基を示すか、あるいは(3)RW1cがRW2cと繋がってそれらが結合する炭素原子とともにシクロプロパンを形成する置換基を示し;
U1cは、(1)単結合、(2)メチレン基、又は(3)エチレン基のいずれかを示し;
U2cは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、(4)−O−基、又は(5)−S−基のいずれかを示し;
基Ar2b、及び基Ar3bは、ベンゼン、ナフタレン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ベンゾフラン、ベンゾ〔b〕チオフェン、インダン、インドール、1H−インダゾール、1H−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔d〕イソオキサゾール、ベンゾ〔c〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔d〕イソチアゾール、ベンゾ〔c〕イソチアゾール、1H−ベンゾトリアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、及びフタラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar2b、及び基Ar3bは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2bで置換されていてもよく;
R2bは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(5)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(6)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(7)水酸基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(8)基Ar4b、(9)−O−Ar4b基、(10)基Ar4bで置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(11)−O−Arb基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基のいずれかを示し;
基Ar4bはベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、及びピラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar4bは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3aで置換されていてもよく;
G1b、G3b、G3c、Ya、及びR3aは前記と同義である。]で表される上記<1>から<4>のいずれかに記載の化合物又はその塩。
基Ar1cは、次式:
基Ar3cは、ベンゼン、ナフタレン、フラン、チオフェン、ピリジン、ベンゾフラン、ベンゾ〔b〕チオフェン、インダン、インドール、1H−インダゾール、1H−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、及びフタラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar3cは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2cで置換されていてもよく;
R2cは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メトキシメチル基、メトキシエチル基、トリフルオロメチル基、ジクロロエチル基、又はヒドロキシエチル基のいずれかを示すか、あるいは基Ar4c、又は−O−Ar4c基のいずれかを示し;
基Ar4cは1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3bで置換されていてもよいフェニル基を示し;
R3bは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、トリフルオロメチル基、ジクロロエチル基、又はトリフルオロメチルオキシ基のいずれかを示し;
G1b、G3b、G3c、Ya、RD1b、U1c、U2c、RW1c、及びRW2cは前記と同義である。]で表される上記<1>から<5>のいずれかに記載の化合物又はその塩。
基Ar2cは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2cで置換されていてもよく;
A2d、RD1b、及びR2cは前記と同義である。]で表される上記<1>から<5>のいずれかに記載の化合物又はその塩。
基Ar1dは、次式:
G1b、G3b、G3c、Ya、RD1b、U1c、U2c、Ar3c、Ar4c、RW1c、及びRW2cは前記と同義である。]で表される上記<1>から<6>のいずれかに記載の化合物又はその塩。
<12> 一般式(Ia−10):
<24−3> 一般式(I−F)において、Tが酸素原子であり、−A2−D1が−CH2CH2−Ph−CO2RD1bであり、−X−E−Wが−CH2CH2−CH(OH)−W3である化合物又はその塩。但し、RD1b及びW3は前記と同義であり、−CH2CH2−Ph−CO2RD1bにおいて、−CH2CH2−基と−CO2RD1b基とはパラ位の関係にある。
<24−4> 一般式(I−F)において、Tが酸素原子であり、−A2−D1が−CH2CH2−Ph−CO2RD1bであり、−X−E−Wが−CH2CH2−CH(OH)−C(RW1c)(RW2c)(RW3c)である化合物又はその塩。但し、RD1b、RW1c、RW2c及びRW3cは前記と同義であり、−CH2CH2−Ph−CO2RD1bにおいて、−CH2CH2−基と−CO2RD1b基とはパラ位の関係にある。
Y”は、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)酸素原子、又は(4)硫黄原子を示し;
Jは、(1)酸素原子、又は(2)硫黄原子を示し、
RD1b及びW3は前記と同義である)で表される上記<1>に記載の化合物又はその塩。
<27> 上記の一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩を有効成分として含有する医薬が提供される。
上記の医薬は、骨形成促進剤として用いることができる。本発明の医薬は、骨疾患の予防及び/又は治療に適応可能であり、例えば、骨粗鬆症、骨軟化症、線維性骨炎、無形成骨、透析性骨症、腫瘍に起因する骨量減少症、薬剤投与に起因する骨量減少症、炎症に起因する骨量減少症及び関節炎、歯周病、癌骨転移、高カルシウム血症、骨ページェット病、硬直性脊椎炎、骨欠損(歯槽骨欠損、下顎骨欠損、小児期突発性骨欠損など)、骨折、再骨折、慢性関節リウマチ、並びに変形性関節症等の予防及び/又は治療剤として有用であり、さらにはそれらの類似疾患における関節組織の破壊等の予防及び/又は治療にも有用である。
<28> 上記の医薬の製造のための上記の一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩の使用;並びに、
<29> 骨形成を促進させる方法であって、上記の一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩の有効量をヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法;
<30> 骨粗鬆症又は骨折などの骨疾患の予防及び/又は治療方法であって、上記の一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩の有効量をヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法;
<31> 外科的医療行為の際に骨再生を促進させる方法であって、上記の一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩の有効量を、ヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法;
<33> 緑内障、眼圧亢進症、胃潰瘍・十二指腸潰瘍などの消化管潰瘍、潰瘍性大腸炎の予防及び/又は治療方法であって、上記の一般式(1)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩の有効量を、ヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法;
<34> 緑内障、潰瘍性大腸炎の予防及び/又は治療方法であって、上記の一般式(1)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩の有効量を、ヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法;
<35> 上記<32>〜<34>の各疾患が、EP4が関与している疾患である、上記の一般式(1)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩の有効量を、ヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法
が提供される。
本明細書において、炭素原子を単に“C”で、水素原子を“H”で、酸素原子を“O”で、イオウ原子を“S”で、また窒素原子を“N”で表すことがある。またカルボニル基を単に“−C(O)−”で、カルボキシル基を“−COO−”で、スルフィニル基を“−S(O)−”で、スルホニル基を“−S(O)2−で、エーテル結合を“−O−”で、チオエーテル結合を“−S−”で表すことがある(この場合の“−”は結合を表す)。
本明細書中、炭素数2〜8個の直鎖アルキレン基としては、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、又はオクタメチレン基等が挙げられる。
本明細書中、炭素数2〜8個の直鎖アルケニレン基としては、基中に1個以上の二重結合を有している直鎖アルケニレン基であれば特に限定されないが、基中に1個又は2個の二重結合を有している直鎖アルケニレン基が好ましく、例えば、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ペンタジエニレン基、ヘキセニレン基、ヘキサジエニレン基、ヘプテニレン基、ヘプタジエニレン基、オクテニレン基、又はオクタジエニレン基等が挙げられる。
本明細書中、炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基とは、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、及びテトラメチレン基を示す。
本明細書中、炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基とは、基中に1個又は2個の二重結合を有している、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、及びブタジエニレン基を示す。
本明細書中、炭素数2〜4個の直鎖アルキニレン基とは、基中に1個又は2個の三重結合を有している、エチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、及びブタジイニレン基を示す。
本明細書中、炭素数1〜4個のアルコキシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、及びそれらの異性体を示す。
本明細書中、炭素数1〜4個のアルキルチオ基とは、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、及びそれらの異性体を示す。
本明細書中、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を示す。
本明細書中、ビフェニル基とは、2−フェニルフェニル基、3−フェニルフェニル基、及び4−フェニルフェニル基を示す。
アミノ基とカルボキシル基とを有する化合物としては、構造式内に少なくとも一つのアミノ基と一つのカルボキシル基とを有する化合物であれば特に限定されない。好適な例としてアミノ酸が挙げられる。アミノ酸は、天然のアミノ酸又は異常アミノ酸のいずれであってもよく、例えば、グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、システイン、メチオニン、プロリン、アスパラギン、グルタミン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リジン、アルギニン、ヒスチジン、β−アラニン、シスタチオニン、シスチン、ホモセリン、ノルロイシン、ランチオニン、ノルバリン、オルニチン、ザルコシン、又はチロニン等が含まれる。また、これらアミノ酸が保護基によって保護されたものも例として挙げられる。
本明細書中、「環状化合物の残基」としては、1又は2価以上の基が挙げられる。具体的には、任意の環の環構成原子に結合する任意の位置の1又は2個以上の水素原子を、これらの基の価数に応じて除くことにより形成される1又は2以上の価数の残基が挙げられる。具体的な例としては、1価のAr基「Ar−」の場合には、Ar環から任意の位置の水素原子1個を除けばよく、2価のAr基「−Ar−」の場合には、Ar環から任意の位置の水素原子2個を除けばよい。
本明細書中、ca1mで表される、完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい炭素数3〜7の単環式炭素環化合物の残基を構成する炭素環化合物の具体例としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、又はベンゼンなどが挙げられる。
Tは、(1)酸素原子又は(2)硫黄原子を表し、これらはいずれも好ましく、特に好ましくは酸素原子である。また、硫黄原子が好ましい別の態様もある。
Vは、(1)C(RO5)(RO6)、(2)酸素原子、又は(3)硫黄原子を表し、いずれも好ましく、特に好ましくはC(RO5)(RO6)である。また酸素原子も特に好ましい。
RO1、RO2、RO3、RO4、RO5、及びRO6は、それぞれ独立に(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を表す。このうち、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子、又はメチル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
Aは、A1又はA2を表し、これらはいずれも好ましい。A1は、(1)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜8個の直鎖アルキレン基、(2)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜8個の直鎖アルケニレン基、又は(3)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜8個の直鎖アルキニレン基のいずれかを表す。A1のうち好ましい例としては、炭素数5〜7個の直鎖アルキレン基、又は炭素数5〜7個の直鎖アルケニレン基が挙げられ、特に好ましい例としては、ヘキサメチレン基、又はヘキセニレン基が挙げられる。
G1は、(1)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、(2)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基、又は(3)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルキニレン基のいずれかを表す。G1のうち好ましい例としては、炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基が挙げられ、特に好ましい例としては、メチレン基、エチレン基、又はトリメチレン基が挙げられる。
G2は、(1)−Ar1−基、(2)−Y−Ar1−基、(3)−Ar1−Y−基、又は(4)−Y−基のいずれかを表し、これらはいずれも好ましい例である。基Ar1は、(1)炭素環化合物の残基(ca1)、又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa1)を表し、これらはいずれも好ましい例である。特に好ましい例としては、完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい炭素数3〜7の単環式炭素環化合物の残基(ca1m)、あるいは環構成原子として窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる同一又は異なるヘテロ原子を1〜3個含む、完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい環構成原子数3〜7個の単環式ヘテロ化合物の残基(qa1m)が挙げられる。具体的には、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、ベンゼン、アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリン、イミダゾリジン、トリアゾリン、トリアゾリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン、アゼピン、ジアゼピン、モルホリン、チオモルホリン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、フラザン、オキサジアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジンなどの環状化合物の残基が挙げられる。基Ar1のうちさらに好ましい例としては、ベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、又はピラジン等のいずれかの環状化合物の残基が挙げられ、なかでもベンゼン、フラン、チオフェン、オキサゾール、又はチアゾールなどの環状化合物の残基は非常に好ましい例である。さらには、ベンゼン、フラン、又はチオフェンなどの環状化合物の残基はさらに非常に好ましい例として挙げられ、なかでもベンゼンの残基は最も好ましい例である。フランの残基が最も好ましい別の態様、チオフェンの残基がもっとも好ましい別の態様もある。
Yは、(1)−S−基、(2)−S(O)−基、(3)−S(O)2−基、(4)−O−基、又は(5)−N(RG1)−基のいずれかを表し、これらはいずれも好ましい例である。RG1は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)炭素数2〜6個のアシル基のいずれかを表し、これらはいずれも好ましい例である。Yのうち特に好ましい例としては、−O−、又は−S−等が挙げられる。
G3は、(1)単結合、(2)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、(3)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基、又は(4)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルキニレン基のいずれかを表すが、G3が結合するG2が−Ar1−Y−基、又は−Y−基を示す場合、すなわちG3がYと結合する場合、G3は単結合以外の置換基を表す。G3のうち好ましい例としては、単結合、炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、又は炭素数1〜4個の直鎖アルケニレン基などが挙げられる。G2が−Ar1−基、又は−Y−Ar1−基のいずれかを示すとき、G3のうち単結合、メチレン基、エチレン基、又はエテニレン基が特に好ましい例として挙げられ、G2が−Ar1−Y−基、又は−Y−基のいずれかを示すとき、G3のうちメチレン基、エチレン基、又はトリメチレン基が特に好ましい例として挙げられる。
D1は、(1)−COORD1基、(2)テトラゾール−5−イル基、又は(3)−C(O)N(RD2)SO2RD3基のいずれかを表す。ここでRD1は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、(3)フェニル基、(4)フェニル基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(5)ビフェニル基のいずれかを表し、水素原子、又は炭素数1〜4個のアルキル基等が好ましい。
RD2は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を表し、水素原子、又はメチル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。
RD3は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(2)フェニル基を表し、メチル基、又はフェニル基が好ましく、フェニル基が特に好ましい。また、メチル基が好ましい別の態様もある。
D1として好ましくは、−COORD1基、又はテトラゾール−5−イル基等が挙げられ、特に好ましくは、テトラゾール−5−イル基、カルボキシル基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、カルボキシブチル基、又はそれらの異性体が挙げられ、さらに好ましくはカルボキシル基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、カルボキシブチル基、又はそれらの異性体等が挙げられる。
RD4は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を表し;
RD5及びRD6は、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を表すか、あるいは、(3)RD5がRD6と繋がってそれらが結合する窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb1)を形成してもよく;
RD7は、フェニル基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基を表し;
RD8は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群から選ばれる1〜3個の置換基で置換されてもよいビフェニル基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群から選ばれる1〜3個の置換基で置換されてもよいビフェニル基を表し;
RD9は、(1)フェニル基、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を表し;
Mは、アミノ基とカルボキシル基を有する化合物から該アミノ基の水素原子とカルボキシル基の水酸基を除いて得られる2価基を表し;
mは、整数1、又は2を表し;
Z1は、(1)炭素数1〜8個のアルキレン基、(2)炭素数2〜8個のアルケニレン基、又は(3)炭素数2〜8個のアルキニレン基を表し;
Z2は、(1)−C(O)−基、(2)−OC(O)−基、(3)−COO−基、(4)−C(O)N(RZ1)−基、(5)−N(RZ2)C(O)−基、(6)−O−基、(7)−S−基、(8)−S(O)2−基、(9)−S(O)2N(RZ2)−基、(10)−N(RZ2)S(O)2−基、(11)−N(RZ3)−基、(12)−N(RZ4)C(O)N(RZ5)−基、(13)−N(RZ6)C(O)O−基、(14)−OC(O)N(RZ7)−基、又は(15)−OC(O)O−基のいずれかを表し;
Z3は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、(3)炭素数2〜4個のアルケニル基、(4)炭素数2〜4個のアルキニル基、(5)環Z、又は(6)炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、−N(RZ8)(RZ9)基、又は環Zで置換された炭素数1〜4個のアルキル基のいずれかを表し;
環Zは、(1)炭素環化合物の残基(ca2)、又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa2)を示し;
RZ1、RZ2、RZ3、RZ4、RZ5、RZ6、RZ7、RZ8、及びRZ9は、それぞれ独立して水素原子、又は炭素数1〜4個のアルキル基を表し;
また、RZ1とZ3は、それらが結合している窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb2)を形成してもよい。
Z1として好ましくは、炭素数1〜8個のアルキレン基であり、特に好ましくは、炭素数1〜4個のアルキレン基である。
Z2として好ましくは、−C(O)−基、−OC(O)−基、−COO−基、−C(O)N(RZ1)−基、−OC(O)N(RZ7)−基、−OC(O)O−基であり、特に好ましくは、−OC(O)−基、−OC(O)N(RZ7)−基、又は−OC(O)O−基である。
Z3として好ましくは、炭素数1〜4個のアルキル基、環Z、環Zで置換された炭素数1〜4個のアルキル基であり、特に好ましくは、炭素数1〜4個のアルキル基である。
RZ1及びRZ7は、それぞれ独立して水素原子、又は炭素数1〜4個のアルキル基を表し、これらはいずれも好ましい例である。RZ1とZ3は、それらが結合している窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb2)を形成してもよく、ヘテロ環のうち好ましい例としては、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン、又はモルホリンなどが挙げられる。環Zは、(1)炭素環化合物の残基(ca2)又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa2)を表し、好ましい環状化合物の例としては、ベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、又はピラジンなどが挙げられる。
Xは、(1)エチレン基、(2)トリメチレン基、又は(3)−CH2CH=CH−基のいずれかを表し、これらはいずれも好ましい例であり、エチレン基は特に好ましい例として挙げられる。
Eは、(1)−CH(OH)−基、又は(2)−C(O)−基のいずれかを表し、これらはいずれも好ましい例であり、−CH(OH)−基は特に好ましい例である。
RW1及びRW2は、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)フッ素原子のいずれかを表すか、あるいは(4)RW1がRW2と繋がってそれらが結合する炭素原子とともに3〜7員環の飽和シクロアルカン(cb)を形成してもよく;
飽和シクロアルカン(cb)は、1個又は同一若しくは異なる2〜4個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい。
RW1及びRW2として、好ましくは、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基、又はフッ素原子が挙げられ、特に好ましくは、水素原子、又はメチル基が挙げられる。またRW1がRW2と繋がって、それらが結合する炭素原子とともに3〜7員環の飽和シクロアルカン基(cb)を形成する場合も好ましい例として挙げられ、飽和シクロアルカン基(cb)のうち、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、又はシクロヘキサンなどが特に好ましい例として挙げられる。RW1及びRW2としてさらに好ましくは、それぞれ独立して水素原子、又はメチル基を表すか、あるいはRW1がRW2と繋がってそれらが結合する炭素原子とともにシクロプロパン環を形成する場合が挙げられる。
U1として好ましくは、単結合、又は炭素数1〜4個のアルキレン基が挙げられ、特に好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、又はトリメチレン基が挙げられ、さらに好ましくは、単結合、メチレン基、又はエチレン基が挙げられる。
U2は、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個のアルキレン基、(3)炭素数2〜4個のアルケニレン基、(4)炭素数2〜4個のアルキニレン基、(5)−O−基、(6)−S−基、(7)−S(O)−基、(8)−S(O)2−基、(9)−N(RU1)−基、(10)−C(O)−基、(11)−C(O)N(RU2)−基、(12)−N(RU2)C(O)−基、(13)−S(O)2N(RU2)−基、又は(14)−N(RU2)S(O)2−基を表す。ここでRU1は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)炭素数2〜6個のアシル基のいずれかを表し、これらはいずれも好ましい例であり、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基などは特に好ましい例である。
RU2は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を表す。
U2として好ましくは、単結合、炭素数1〜4個のアルキレン基、−O−基、−S−基、−S(O)−基、−S(O)2−基、又は−N(RU1)−が挙げられ、特に好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、−O−基、−S−基、又は−N(RU1)−が挙げられ、さらに好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、−O−基、又は−S−基が挙げられる。
RU3及びRU4は、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を表すか、あるいは(3)RU3がRU4と繋がってそれらが結合する窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb3)を形成してもよく、これらはいずれも好ましい例である。
RA3は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を表し、これらはいずれも好ましい例である。
基Ar2、及び基Ar3に、環構成原子としてニ級窒素原子が存在する場合、その窒素原子にR2としてアルキル基、ホルミル基、アシル基、又は基Ar4などが置換してもよい。
基Ar4は、(1)炭素環化合物の残基(ca4)又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa4)を表し、これらはいずれも好ましい例である。
炭素環化合物の残基ca1、ca2、ca3及びca4は、それぞれ独立して完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい炭素数3〜11個の単環式化合物の残基、又は炭素数8〜11個の縮合二環式の炭素環化合物の残基を表す。
単環式飽和ヘテロ環化合物の残基qb1、qb2、qb3、及びqb4は、それぞれ独立して5〜7員環の含窒素単環式飽和ヘテロ環化合物(qb)の残基を表し、ヘテロ環化合物(qb)は、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子をさらに1個含んでもよく、また1個又は同一若しくは異なる2〜4個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい。
一般式(I−A):
一般式(I−B):
一般式(I−D):
G1aは、炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基を表し;
G3aは、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、又は(3)炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基のいずれかを表し;
D1aは(1)−COORD1基、又は(2)テトラゾール−5−イル基を表し;
W1は、(1)次式:
RW1a及びRW2aは、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)フッ素原子であるか、あるいは(4)RW1aがRW2aと繋がってそれらが結合する炭素原子とともに3〜7員環の飽和シクロアルカン基(cb)を形成する置換基を表し;
U1aは、(1)単結合、又は(2)炭素数1〜4個のアルキレン基を表し;
U2aは、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個のアルキレン基、(3)−O−基、(4)−S−基、(5)−S(O)−基、(6)−S(O)2−基、又は(7)−N(RU1)−基のいずれかを表し;
U3aは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、及び−N(RU3)(RU4)基からなる群から選ばれる1個又は同一若しくは異なる2〜4個の置換基で置換されてもよい炭素数1〜8個のアルキル基、(2)基Ar3で置換されている炭素数1〜8個のアルキル基、又は(3)基Ar3のいずれかを表し;
T、Ar1、Y、RD1、Ar2、RU1、RU3、RU4、及びAr3は前記と同義である。]で表される化合物が挙げられる。
G1bは、(1)メチレン基、(2)エチレン基、又は(3)トリメチレン基のいずれかを表し;
基Ar1aは、(1)完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい炭素数3〜7の単環式炭素環化合物の残基(ca1m)、あるいは(2)環構成原子として、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる同一又は異なるヘテロ原子を1〜3個含む、完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい環構成原子数3〜7個の単環式ヘテロ化合物の残基(qa1m)を表し;
Yaは、(1)−O−基、又は(2)−S−基を表し;
G3bは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、又は(4)エテニレン基のいずれかを表し;
G3cは、(1)メチレン基、(2)エチレン基、又は(3)エテニレン基のいずれかを表し;
D1bは、−COORD1b基、又はテトラゾール−5−イル基を表し;
RD1bは(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を表し;
W2は、(1)次式:
RW1b及びRW2bは、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)メチル基を表すか、あるいは、(3)RW1bがRW2bと繋がってそれらが結合する炭素原子とともにシクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、又はシクロヘキサンのいずれかを形成する置換基を表し;
U1bは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、又は(4)トリメチレン基のいずれかを表し;
U2bは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、(4)トリメチレン基、(5)−O−基、(6)−S−基、又は(7)−N(RU1')−のいずれかを表し;
RU1'は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基のいずれかを表し;
基Ar2a、及び基Ar3aは、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、ベンゼン、アズレン、ナフタレン、ジヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、アダマンタン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、フラザン、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、オキサジン、オキサジアジン、チアジン、チアジアジン、インドリン、イソインドリン、ジヒドロベンゾフラン、クロマン、4H−クロメン、ベンゾフラン、ベンゾ〔b〕チオフェン、インダン、インドール、イソインドール、インドリジン、1H−インダゾール、2H−インダゾール、1H−ベンズイミダゾール、1,3−ジヒドロベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ジヒドロ−3H−ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔d〕イソオキサゾール、ベンゾ〔c〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ジヒドロ−3H−ベンゾチアゾール、ベンゾ〔d〕イソチアゾール、ベンゾ〔c〕イソチアゾール、1H−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔1,2,5〕チアジアゾール、キノリン、ジヒドロ−1H−キノリン、イソキノリン、ジヒドロ−2H−イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、及びフタラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を表し;
基Ar2a、及び基Ar3aは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2aで置換されていてもよく;
R2aは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)水酸基、(5)−N(RA10)(RA20)基、(6)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(7)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(8)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(9)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(10)水酸基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(11)基Ar4a、(12)−O−Ar4a基、(13)基Ar4aで置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(14)−O−Ar4a基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基を表し;
RA10及びRA20は、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)メチル基、又は(3)エチル基を示すか、あるいは(3)RA10がRA20と繋がってそれらが結合する窒素原子とともにピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン、又はモルホリンのいずれかを形成する置換基を表し;
基Ar4aは、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、ベンゼン、アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリン、イミダゾリジン、トリアゾリン、トリアゾリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン、アゼピン、ジアゼピン、モルホリン、チオモルホリン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、フラザン、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、及びピラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を表し;
基Ar4aは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3aで置換されていてもよく;
R3aは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)水酸基、(5)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(6)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基のいずれかを表す。]で表される化合物が挙げられる。
基Ar1bは、ベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、及びピラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を表し;
W3は、(1)次式:
RW1c及びRW2cは、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)メチル基を表すか、あるいは(3)RW1cがRW2cと繋がってそれらが結合する炭素原子とともにシクロプロパン環を形成する置換基を表し;
U1cは、(1)単結合、(2)メチレン基、又は(3)エチレン基のいずれかを表し;
U2cは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、(4)−O−基、又は(5)−S−基のいずれかを表し;
基Ar2b、及び基Ar3bは、ベンゼン、ナフタレン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ベンゾフラン、ベンゾ〔b〕チオフェン、インダン、インドール、1H−インダゾール、1H−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔d〕イソオキサゾール、ベンゾ〔c〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔d〕イソチアゾール、ベンゾ〔c〕イソチアゾール、1H−ベンゾトリアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、及びフタラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を表し;
基Ar2b、及び基Ar3bは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2bで置換されていてもよく;
R2bは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(5)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(6)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(7)水酸基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(8)基Ar4b、(9)−O−Ar4b基、(10)基Ar4bで置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(11)−O−Arb基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基のいずれかを表し;
基Ar4bはベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、及びピラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を表し;
基Ar4bは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3aで置換されていてもよく;
G1b、G3b、G3c、Ya、及びR3aは前記と同義である。]で表される化合物が挙げられる。
基Ar1cは、次式:
基Ar3cは、ベンゼン、ナフタレン、フラン、チオフェン、ピリジン、ベンゾフラン、ベンゾ〔b〕チオフェン、インダン、インドール、1H−インダゾール、1H−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、及びフタラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を表し;
基Ar3cは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2cで置換されていてもよく;
R2cは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メトキシメチル基、メトキシエチル基、トリフルオロメチル基、ジクロロエチル基、又はヒドロキシエチル基のいずれかを表すか、あるいは基Ar4c、又は−O−Ar4c基のいずれかを表し;
基Ar4cは1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3bで置換されていてもよいフェニル基を表し;
R3bは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、トリフルオロメチル基、ジクロロエチル基、又はトリフルオロメチルオキシ基のいずれかを表し;
G1b、G3b、G3c、Ya、RD1b、U1c、U2c、RW1c、及びRW2cは前記と同義である。]で表される化合物が好ましい。
基Ar2cは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2cで置換されていてもよく;
A2d、RD1b、及びR2cは前記と同義である。]で表される化合物は好ましい例である。
基Ar1dは、次式:
G1b、G3b、G3c、Ya、RD1b、U1c、U2c、Ar3c、Ar4c、RW1c、及びRW2cは前記と同義である。]で表される化合物は非常に好ましい例である。
また、一般式(I−A−1b3)において、基Ar1dをベンゼンの残基に限定した化合物は大変に好ましい例である。別の態様として、基Ar1dをフランの残基に限定した化合物も大変に好ましい例として挙げられる。さらに別の態様として、基Ar1dをチオフェンの残基に限定した化合物も大変に好ましい例として挙げられる。中でもさらに、Ar3cがベンゼン、又はナフタレンの残基を表す化合物は好ましく、特に、Ar3cがベンゼンの残基を表す化合物が大変に好ましい。
Z2aは、(1)−OC(O)−基、(2)−OC(O)N(RZ7)−基、又は(3)−OC(O)O−基のいずれかを表し;
Z3aは、炭素数1〜4個のアルキル基を表し;
A2b、及びW2の記号は前記と同義である。]で表される化合物が挙げられる。
T、D1a、及びW1は前記と同義である。]で表される化合物が挙げられる。
D1b、及びW2は前記と同義である。]で表される化合物が挙げられる。
Y”は、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)酸素原子、又は(4)硫黄原子を示し;
Jは、(1)酸素原子、又は(2)硫黄原子を示し、
RD1b及びW3は前記と同義である)で表される化合物が挙げられる。
また、一般式(Iae2)において、Jが酸素原子である化合物はさらに非常に好ましい例として挙げられる。中でもさらに、Ar3cがベンゼン、又はナフタレンの残基を表す化合物は好ましく、特に、Ar3cがベンゼンの残基を表す化合物が大変に好ましい。
Qは、水素原子を表すか、又はアミノ基(NH)の保護基Rp4を表し、これらはいずれも好ましい例であり、水素原子が好ましい場合もあれば、Rp4が好ましい場合もある。
Rp1は、例えば炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数2〜4個のアルケニル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基などが挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、t−ブチル基、アリル基、メトキシエチル基、トリクロロエチル基などが挙げられる。また、Rp1として例えば、基−Ap1−Rp5なども挙げられる。基−Ap1−Rp5のAp1は単結合、メチレン基、又は−CH2C(O)−を表し、Rp5は1個又は同一若しくは異なる2個以上のXpで置換されていてもよいフェニル基を表す。置換基Xpは炭素数1〜4個のアルキル基、水酸基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、又は炭素数1〜4個のモノ若しくはジアルキルアミノ基を表す。−Ap1−Rp5の具体的な例としては、フェニル基、メチルフェニル基、クロロフェニル基、ベンジル(Bn)基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、フルオロベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ニトロベンジル基、メトキシフェニル基、N−メチルアミノベンジル基、N,N−ジメチルアミノベンジル基、又はフェナシル基などが挙げられる。このうち炭素数1〜4個のアルキル基などは特に好ましい例として挙げられる。
Rp4は、例えば1個又は同一若しくは異なる2個以上の基−Ap1−Rp5、基−C(O)Rp6、基−COORp6などを表す。具体的にはベンジル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、フルオロベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ニトロベンジル基、メトキシフェニル基、N−メチルアミノベンジル基、N,N−ジメチルアミノベンジル基、フェナシル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、アリルオキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル(Boc)基、1−メチル−1−(4−ビフェニル)エトキシカルボニル(Bpoc)基、9−フルオレニルメトキシカルボニル基、ベンジルオキシメチル(BOM)基、又は2−(トリメチルシリル)エトキシメチル(SEM)基などが挙げられる。
もっとも、カルボキシル基、水酸基、ホルミル基、及びアミノ基の保護基はこれらに限定されるものではなく、通常の化学文献、例えばプロテクティブ・グループ・イン・オーガニック・シンセシス第三版(Protective Groups In Organic Synthesis THIRD EDITION)(John Wiley&Sons社出版)、又は当文献記載の参考文献などから保護基の導入及び脱保護方法を参照し検討することで選択することができる。
本発明化合物(I)及び本発明化合物(II)は、例えば、下記の諸方法の反応を用いて製造することができる。ただし、本発明化合物、あるいはその製造中間体の構造中にカルボキシル(COOH)基、水酸(OH)基、チオール(SH)基、ホルミル(CHO)基を含むケトン又はカルボニル(C(O))基、あるいはアミノ(NH)基が含まれる場合、必要に応じてそれらの置換基は保護基によって保護されてもよい。本発明化合物、あるいはその製造中間体の構造中に、例えばインドール環やインダゾール環のように環中にNHを含む複素環が含まれる場合、該NHも保護されてもよいアミノ基である。
(1)アルカリ加水分解による脱保護反応は、例えば極性溶媒中塩基と反応せしめることで行われる。ここで用いる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、又はカリウムt−ブトキシドなどのアルカリ金属塩基や、トリエチルアミンなどの有機塩基が挙げられる。これらの使用量は反応物に対し、アルカリ金属塩基の場合、通常は1〜20倍モル量、好ましくは1〜10倍モル量が例示され、また、有機塩基の場合、1倍モル〜大過剰量が例示される。反応溶媒は、通常、反応を妨げない不活性媒体、好ましくは極性溶媒中で反応せしめることが好ましい。極性溶媒としては水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、又はジオキサン等が挙げられ、必要に応じてこれらを混合して用いることができる。反応温度は、例えば−10℃〜溶媒の還流温度までの適当な温度が選択される。反応時間はアルカリ金属塩基を用いた場合、通常は0.5〜72時間で、好ましくは1〜48時間が例示され、有機塩基を用いた場合、通常は5時間〜14日間が例示されるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は目的化合物の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
(3)加水素分解による脱保護反応は、例えば溶媒[エーテル系(テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、又はジエチルエーテル等)、アルコール系(メタノール、又はエタノール等)、ベンゼン系(ベンゼン、又はトルエン等)、ケトン系(アセトン、又はメチルエチルケトン等)、ニトリル系(アセトニトリル等)、アミド系(ジメチルホルムアミド等)、エステル系(酢酸エチル等)、水、酢酸、又はそれらの2種類以上の混合溶媒等]中、触媒(パラジウム炭素粉末、酸化白金(PtO2)、活性化ニッケル等)の存在下、常圧又は加圧下の水素ガス、ギ酸アンモニウム、又はヒドラジン水和物などの水素源存在下、−10〜60℃での温度で行なわれる。
(4)シリル基の脱保護反応は、例えば水と混和しうる有機溶媒(テトラヒドロフラン、又はアセトニトリル等)中、テトラ−n−ブチルアンモニウムフルオリド等を用いて、−10〜60℃の温度で行なわれる。
(6)金属錯体を用いた脱保護反応は、例えば有機溶媒(ジクロロメタン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジオキサン、又はエタノール等)、水又はそれらの混合溶媒中、トラップ試薬(水素化トリブチルスズ、トリエチルシラン、ジメドン、モルホリン、ジエチルアミン、又はピロリジン等)、有機酸(酢酸、ギ酸、又は2−エチルヘキサン酸等)及び/又は有機酸塩(2−エチルヘキサン酸ナトリウム、又は2−エチルヘキサン酸カリウム等)の存在下、ホスフィン系試薬(トリフェニルホスフィン等)の存在下又は非存在下、金属錯体[テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、二塩化ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、酢酸パラジウム(II)、又は塩化トリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)等]を用いて、−10〜60℃の温度で行なわれる。
また上記以外にも通常の化学文献、例えば前記のプロテクティブ・グループ・イン・オーガニック・シンセシスあるいは当文献記載の参考文献など参照し検討することで脱保護反応を行うことができる。
当業者には容易に理解できることではあるが、これらの保護−脱保護反応を組み合わせ、また使い分けることにより、目的とする本発明化合物に容易に誘導することができる。
目的化合物の中間体である一般式(V)で表される化合物〔以下、単に「化合物(V)」と称する〕の製造方法としては、一般式(III)で表される化合物〔以下、単に「化合物(III)」と称する〕を不活性溶媒中、一般式(IV)で表される化合物〔以下、単に「化合物(IV)」と称する〕と必要に応じて塩基の存在下、縮合する方法が挙げられる。化合物(IV)の使用量は、化合物(III)に対し、通常は0.9〜10倍モル量、好ましくは1〜3倍モル量が例示される。ここで用いられる不活性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、あるいはアセトニトリル等が例示される。これらは単独、あるいは混合溶媒として用いることができる。上記の反応においては、用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、又はナトリウムメチラート等のアルカリ金属化合物、あるいはピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、又はN−メチルモルフォリン等の有機第3級アミンが例示される。これらの使用量は化合物(III)に対し、通常は1〜20倍モル量、好ましくは1〜10倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には−30〜120℃、好ましくは−20〜50℃が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは0.5〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(V)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(II−p)の製造方法としては、化合物(V)を不活性溶媒中必要に応じて塩基の存在下反応せしめる方法が挙げられる。ここで用いられる不活性溶媒及び塩基については前工程(1−a1)と同様のものを用いることができる。反応温度は、一般的には0〜120℃、好ましくは20〜80℃が例示される。反応時間は一般的には1〜72時間、好ましくは1〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(II−p)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。この反応は、工程(1−a1)により得られる化合物(V)を単離した後行ってもよいが、同条件のまま、あるいは反応温度を昇温して、又は/さらには塩基を追加して、反応時間を延長することで行ってもよい。
化合物(II−h)の製造方法としては、化合物(II−p)におけるアミノ基の保護基Rp4を脱保護する方法が挙げられる。脱保護の方法としては、前述した例が挙げられるが、例えばRp4がt−ブトキシカルボニル(Boc)基である場合、化合物(II−p)をジクロロメタンなどの不活性溶媒下、トリフルオロ酢酸で反応せしめることで化合物(II−h)を得ることができる。トリフルオロ酢酸の使用量は化合物(II−p)に対し、通常は0.1倍〜大過剰量、好ましくは1〜20倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には−30℃〜室温が例示される。反応時間は一般的には0.2〜24時間、好ましくは0.5〜1時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(II−h)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(I’−A−o2)の製造方法としては、化合物(II−h)を不活性溶媒中必要に応じて塩基又は酸の存在下、一般式(VI)で表される化合物〔以下、単に「化合物(VI)」と称する〕と反応せしめる方法が挙げられる。化合物(VI)の使用量は化合物(II−h)に対し、通常は1〜20倍モル量、好ましくは1〜10倍モル量が例示される。ここで用いられる不活性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素、メタノール、又はエタノール等のアルコール系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、あるいは水等が例示される。これらは単独、あるいは混合溶媒として用いることができる。上記の反応において塩基が用いられる場合の塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、又はナトリウムメチラート等のアルカリ金属化合物、あるいはピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、又はN−メチルモルフォリン等の有機第3級アミンが例示される。また、酸が用いられる場合、酸としては、酢酸、あるいは酢酸銅(II)又は塩化第二鉄等のルイス酸が例示される。これらの使用量は化合物(II−h)に対し、通常は触媒量〜20倍モル量、好ましくは1〜10倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には−30〜120℃、好ましくは−20〜50℃が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは1〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(I’−A−o2)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(I’−A−h2)の製造方法としては、化合物(I’−A−o2)中のケトン又はカルボニル基を極性溶媒中、適当な還元剤を用いて還元する方法が挙げられる。極性溶媒としては水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、又はジオキサン等が挙げられ、必要に応じてこれらを混合して用いることができる。上記の反応において、用いられる還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素亜鉛、又は水素化ホウ素トリエチルリチウムなどが例示される。これらの使用量は化合物(I’−A−o2)に対し、通常は触媒量〜10倍モル量、好ましくは0.5〜3倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には−50〜50℃、好ましくは−20℃〜室温が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは1〜24時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(I’−A−h2)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
不斉還元についてはこれらの方法に限定されるものではなく、通常の化学文献、例えば第4版実験化学講座(日本化学会編、丸善株式会社出版)、26巻、23〜68頁に記載の方法、あるいは当文献記載の参考文献などに記載の方法に準じて製造することができる。
化合物(III)、(IV)及び(VI)は、市販であるか、又は公知の方法あるいは公知の方法に準じて合成することができる。
目的化合物の中間体である、一般式(VIII)で表される化合物〔以下、単に「化合物(VIII)」と称する〕の製造方法としては、前記の化合物(II−h)を不活性溶媒中、一般式(VII)で表される化合物〔以下、単に「化合物(VII)」と称する〕と必要に応じて塩基の存在下、縮合する方法が挙げられる。縮合反応としては前記の製造法1の工程(1−a1)と同様の方法が例として挙げられる。
化合物(VII)は、市販であるか、又は公知の方法あるいは公知の方法に準じて合成することができる。
一般式(IX)で表される化合物〔以下、単に「化合物(IX)」と称する〕の製造方法としては、化合物(VIII)の三重結合について例えば通常の化学文献記載の還元反応を行い単結合に変化せしめる方法が挙げられる。例えば、メタノールなどのアルコール系溶媒や酢酸エチルなどのエステル系溶媒の単独又は混合溶媒中、パラジウム炭素粉末、酸化白金(PtO2)、又は活性化ニッケルなどの触媒存在下、水素ガス、ギ酸アンモニウム、又はヒドラジン水和物などの水素源を用いて水素添加し、化合物(VIII)の三重結合を単結合に変化せしめる方法などがある。
工程(2−c):
化合物(I’−A−h3)の製造方法としては、化合物(IX)の水酸基の保護基であるRp2基を脱保護する方法が挙げられる。脱保護方法については前述と同様の方法が例として挙げられる。
目的化合物の中間体である一般式(X−c)で表される化合物〔以下、単に「化合物(X−c)」と称する〕の製造方法としては、前記の化合物(VIII)の三重結合について、例えば通常の化学文献記載の還元反応を行ってシス型二重結合に変換する方法が挙げられる。例えば、メタノールなどのアルコール系溶媒や酢酸エチルなどのエステル系溶媒の単独又は混合溶媒中、パラジウム/炭酸バリウム、パラジウム/炭酸カルシウム、又はパラジウム/炭酸カルシウム−酢酸鉛(Lindler触媒)、パラジウム/炭酸バリウム−キノリンなどの触媒存在下、水素ガス、ギ酸アンモニウム、又はヒドラジン水和物などの水素源を用いて水素添加し、化合物(VIII)の三重結合をシス型二重結合に変換する方法などがある。
一般式(X−t)で表される化合物〔以下、単に「化合物(X−t)」と称する〕の製造方法としては、前記の化合物(VIII)の三重結合について、例えば通常の化学文献記載の還元反応を行いトランス型二重結合に変換する方法が挙げられる。例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、又はトルエンなどの単独又は混合溶媒中、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム(Red−Al)などと反応することにより化合物(VIII)の三重結合をトランス型二重結合に変換する方法などがある。
工程(3−b):
化合物(I’−A−h2c)又は化合物(I’−A−h2t)の製造方法としては、化合物(X−c)又は化合物(X−t)を前記の製造法2の工程(2−c)と同様の方法で水酸基の保護基であるRp2基を脱保護する方法が挙げられる。
目的化合物の中間体である一般式(XIII)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XIII)」と称する〕の製造方法としては、前記の化合物(XI)を不活性溶媒中、一般式(XII)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XII)」と称する〕と必要に応じて塩基の存在下で縮合する方法が挙げられる。縮合反応としては前記の製造法1の工程(1−a1)と同様の方法が例として挙げられる。
工程(4−b):
一般式(XIV)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XIV)」と称する〕の製造方法としては、化合物(XIII)のアミノ基に通常の化学文献記載のニトロソ化反応を行う方法が挙げられる。ニトロソ化反応としては、例えば、酢酸、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの単独又は混合溶媒中、酢酸、硫酸、硝酸、又は塩酸など酸の存在下、化合物(XIII)を亜硝酸ナトリウム等と反応させる方法が挙げられる。
一般式(XV)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XV)」と称する〕の製造方法としては、化合物(XIV)のニトロソ基に通常の化学文献記載のニトロソ基に対する還元反応を行う方法が挙げられる。ニトロソ基に対する還元反応としては、例えば酢酸、あるいは酢酸と水、メタノールなどの極性溶媒との混合溶媒中、亜鉛末により還元する方法が挙げられる。
工程(4−d):
一般式(XVI)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XVI)」と称する〕の製造方法としては、化合物(XV)を極性溶媒中、塩基の存在下で閉環する方法が挙げられる。極性溶媒としてはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、又はアセトニトリル等が挙げられ、必要に応じてこれらを混合して用いることができる。用いられる塩基としては、アルカリ金属−アルコキシドなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、マグネシウムエチラート、カリウムt−ブトキシドなどが例示される。これらの使用量は化合物(XV)に対し、通常は0.5〜10倍モル量、好ましくは1〜5倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には−30〜100℃、好ましくは0〜50℃が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは1〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(XVI)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(I’−A)の製造方法としては、化合物(XVI)を有機溶媒中、塩基の存在下、一般式(XVII)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XVII)」と称する〕と縮合する方法が挙げられる。化合物(XVII)の使用量としては、化合物(XVI)に対し、通常は1〜20倍モル量、好ましくは1〜5倍モル量が例示される。用いられる有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、又はアセトニトリル等が挙げられ、必要に応じてこれらを混合して用いることができる。用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、又はカリウムt−ブトキシドなどが例示される。これらの使用量としては、化合物(XVI)に対し、通常は1〜10倍モル量、好ましくは1〜3倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には−30〜100℃、好ましくは0〜50℃が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは1〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(I’−A)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(XI)、化合物(XII)、及び化合物(XVII)は、市販であるか、又は公知の方法あるいは公知の方法に準じて合成することができる。
目的化合物の中間体である一般式(XIX)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XIX)」と称する〕の製造方法としては、一般式(XVIII)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XVIII)」と称する〕を前記の製造法4の工程(4−b)と同様の方法でニトロソ化した後、製造法4の工程(4−c)と同様の方法でニトロソ基を還元する方法が挙げられる。
化合物(XVIII)は、公知の方法あるいは公知の方法に準じて合成することができる。
工程(5−c):
一般式(XX)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XX)」と称する〕の製造方法としては、化合物(XIX)の水酸基又はチオール基の保護基であるRp2’を前記の脱保護反応を行う方法が挙げられる。
一般式(XXI)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XXI)」と称する〕の製造方法としては、化合物(XX)を有機溶媒中、塩基の存在下、カルボニル化剤で処理して環化する方法が挙げられる。用いられる有機溶媒としては、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、又はジメチルホルムアミド等が挙げられ、必要に応じてこれらを混合して用いることができる。用いられる塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、又はピリジンなどが例示される。これらの使用量としては、化合物(XX)に対し、通常は1〜10倍モル量、好ましくは1〜3倍モル量が例示される。用いられるカルボニル化剤としては、トリホスゲン、1,1’−カルボ二ルジイミダゾール(CDI)、又はホスゲン等が挙げられ、これらの使用量としては、化合物(XX)に対し、通常は1〜10倍モル量、好ましくは1〜3倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には−30〜100℃、好ましくは0〜50℃が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは1〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(XXI)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
工程(5−e):
化合物(I’−V’)の製造方法としては、化合物(XXI)を製造法4の工程(4−e)と同様の方法で化合物(XVII)と縮合する方法が挙げられる。
目的化合物の中間体である一般式(XXIV)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XXIV)」と称する〕の製造方法としては、有機溶媒中、前記の化合物(XIX)と一般式(XXIII)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XXIII)」と称する〕とを還元的アミノ化反応に付する方法が挙げられる。化合物(XXIII)の使用量は化合物(XIX)に対し、通常は0.5〜10倍モル量、好ましくは0.9〜2倍モル量が例示される。用いられる有機溶媒としてはジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、又はジエチルエーテル等が挙げられ、必要に応じてこれらを混合して用いることができる。用いられる還元剤としては、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素化ナトリウム、又はピリジンボランなどが例示される。これらの使用量は化合物(XIX)に対し、通常は1〜5倍モル量、好ましくは1〜3倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には−10〜100℃、好ましくは0〜50℃が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは1〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(XXIV)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(XXIII)は、市販であるか、又は公知の方法あるいは公知の方法に準じて合成することができる。
一般式(XXV)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XXV)」と称する〕の製造方法としては、化合物(XXIV)の水酸基又はチオール基の保護基であるRp2’を前記の脱保護反応を行う方法が挙げられる。
工程(6−c):
化合物(I’−V’)の製造方法としては、化合物(XXV)を製造法5の工程(5−d)と同様の環化する方法が挙げられる。
化合物(I’−S)の製造方法としては、化合物(I’−O)を不活性溶媒中、チオカルボニル化する方法が挙げられる。ここで用いられる不活性溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、又はトルエン等が例示され、これらは単独、あるいは混合溶媒として用いることができる。チオカルボニル化試薬としては、ローソン試薬[2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン−2,4−ジスルフィド]、又は五酸化二リン等が挙げられ、これらの使用量は化合物(I’−O)に対し、通常は1〜20倍モル量、好ましくは1〜5倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には室温〜溶媒の還流温度までの適当な温度が選択される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは1〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(I’−S)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(I’−Hy)の製造方法としては、一般式(I’−Es)で表される化合物〔以下、単に「化合物(I’−Es)」と称する〕を不活性溶媒中で還元する方法が挙げられる。上記還元反応は公知であり、例えば有機溶媒(テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、ジオキサン、メタノール、エタノール、又はイソプロパノール等)中又はその水溶液中、還元剤(水素化ホウ素ナトリウム、又は水素化ホウ素リチウム等)の存在下、−10〜70℃で反応させることにより行うことができる。
化合物(I’−Al)の製造方法としては、化合物(I’−Hy)を不活性溶媒中で酸化する方法が挙げられる。この酸化反応は公知であり、例えば(1)スワン(Swern)酸化を用いる方法、(2)デス−マーチン(Dess−Martin)試薬を用いる方法、又は(3)テンポ(TEMPO) 試薬を用いる方法等が挙げられる。
これらの方法を具体的に説明すると、
(1)スワン酸化を用いる方法は、例えば有機溶媒(クロロホルム、又はジクロロメタン等)中、オキザリルクロリドとジメチルスルホキシドを−78℃で反応させ、得られた溶液に化合物(I’−Hy)を反応させ、さらに三級アミン(トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、N−エチルピペリジン、又はジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセ−7−エン等)と−78〜20℃で反応させることにより行なわれる。
(2)デス−マーチン試薬を用いる方法は、例えば有機溶媒(クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、又はt−ブチルアルコール等の単独、あるいは混合溶媒)中、デス−マーチン試薬[1,1,1,−トリアセトキシ−1,1−ジヒドロ−1,2−ベンゾヨードキソール−3−(1H)−オン]の存在下、塩基(ピリジン等)の存在下又は非存在下、0〜40℃で反応させることにより行なわれる。
酸化反応としては、上記した以外にも容易に且つ選択的にアルコールをアルデヒドヘ酸化できるものであれば特に限定されない。例えばジョーンズ酸化、PCCによる酸化、三酸化イオウ・ピリジン錯体を用いる酸化等の諸反応や通常の化学文献、例えば第4版実験化学講座(日本化学会編、丸善株式会社出版)、23巻に記載の方法、あるいは当文献記載の参考文献などに記載の方法に準じて検討を行い選択するができる。
化合物(I’−Dc)の製造方法としては、化合物(I’−Dh)の水酸基を次式:
HO−(M)m−H (Dc−I)
(式中、M、及びmは前記と同義である)で示される化合物(Dc−I)〔以下、単に「化合物(Dc−I)」と称する〕、又は次式:
HO2C−RD9 (Dc−II)
(式中、RD9は前記と同義である)で示される化合物(Dc−II)〔以下、単に「化合物(Dc−II)」と称する〕を用いてエステル化する方法が挙げられる。
(1)酸ハライドを用いる方法は、例えばカルボン酸を有機溶媒(クロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、又はトルエン等の単独、あるいは混合溶媒)中又は無溶媒で、酸ハライド化剤(オキザリルクロリド、又は塩化チオニル等)と−20℃〜溶媒の還流温度までの適当な温度で反応させ、得られた酸ハライドを塩基(ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、又はジイソプロピルエチルアミン等)の存在下、不活性有機溶媒(クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、又はテトラヒドロフランの単独、あるいは混合溶媒)中、−10〜40℃の温度でアルコールと反応させることにより行なわれる。また、有機溶媒(ジオキサン、又はテトラヒドロフラン等)中、アルカリ水溶液(重曹水又は水酸化ナトリウム溶液等)を用いて、酸ハライドと−10〜40℃の温度で反応させることにより行うこともできる。
(3)縮合剤を用いる方法は、例えばカルボン酸とアルコールとを、有機溶媒(クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、又はテトラヒドロフラン等の単独、あるいは混合溶媒)中又は無溶媒で、塩基(ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、又はジイソプロピルエチルアミン等)の存在下又は非存在下、縮合剤{1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、1−エチル−3−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]カルボジイミド(EDC)、1,1’−カルボニルジイミダゾール(CDI)、2−クロロ−1−メチルピリジニウムヨウ素、又は1−プロピルホスホン酸環状無水物(PPA)等を用い、必要に応じて1−ヒドロキシベンズトリアゾール(HOBT)等を用いて、−10〜40℃の温度で反応させることにより行なわれる。
その他のエステル化反応として、通常の化学文献、例えば新実験化学講座(日本化学会編、丸善株式会社出版)、14巻、1002頁に記載の「アルコールによるエステル化」、同書籍同巻、1002頁に記載の「O−アルキル化剤によるエステル化」、同書籍同巻、1008頁に記載の「ハロゲン化アルキルによるエステル化」、同書籍22巻、45頁に記載の「脱水剤を用いるエステル化反応」などが知られており、それらに記載の方法、あるいは当文献記載の参考文献などに記載の方法に準じて検討を行い選択するができる。
化合物(I’−De)の製造方法としては、化合物(I’−Ca)をエステル化する方法が挙げられる。化合物(I’−Ca)のカルボキシル基を次式:
R50−RD1’ (De−I)
(式中、R50は水酸基、又はハロゲン原子を示し、RD1’は前記と同義である)で示される化合物(De−I)〔以下、単に「化合物(De−I)」と称する〕、次式:
R50−RD8 (De−II)
(式中、R50、及びRD8は前記と同義である)で示される化合物(De−II)〔以下、単に「化合物(De−II)」と称する〕、又は次式:
R50−Z1’−Z2’−Z3’ (De−III)
(式中、R50、Z1’、Z2’、及びZ3’は前記と同義である)で示される化合物(De−III)〔以下、単に「化合物(De−III)」と称する〕とエステル化反応に付し、必要に応じて保護基の脱保護反応に付すことにより製造することができる。
化合物(De−I)、化合物(De−II)、及び化合物(De−III)においてR50がハロゲン原子を表わす場合のエステル化反応は、例えば、有機溶媒(N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、又はジメチルアセトアミド等の単独、あるいは混合溶媒)中、塩基(炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、又は水酸化ナトリウム等)の存在下、0〜150℃で反応させることにより行うことができる。
化合物(I’−Da)の製造方法としては、化合物(I’−Ca)をアミド化する方法が挙げられる。化合物(I’−Ca)のカルボキシル基を次式:
H−N(RD2)SO2RD3 (Da−I)
(式中、RD2、及びRD3は前記と同義である)で示される化合物(Da−I)〔以下、単に「化合物(Da−I)」と称する〕、次式:
H−NRD5RD6 (Da−II)
(式中、RD5、及びRD6は前記と同義である)で示される化合物(Da−II)〔以下、単に「化合物(Da−II)」と称する〕、次式:
H−(RD5)SO2RD7 (Da−III)
(式中、RD5、及びRD7は前記と同義である)で示される化合物(Da−III)〔以下、単に「化合物(Da−III)」と称する〕、又は次式:
H−(M)m−OH (Da−IV)
(式中、M、及びmは前記と同義である)で示される化合物(Da−IV)〔以下、単に「化合物(Da−IV)」と称する〕とアミド化反応に付し、必要に応じて保護基の脱保護反応に付すことにより製造することができる。
(1)酸ハライドを用いる方法は、例えばカルボン酸を有機溶媒(クロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、又はトルエン等の単独、あるいは混合溶媒)中又は無溶媒で、酸ハライド化剤(オキザリルクロリド、又は塩化チオニル等)と−20℃〜溶媒の還流温度までの適当な温度で反応させ、得られた酸ハライドを塩基(ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、又はジイソプロピルエチルアミン等)の存在下、アミンあるいはスルホンアミドと不活性有機溶媒(クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、又はテトラヒドロフランの単独、あるいは混合溶媒)中、−10〜40℃の温度で反応させることにより行なわれる。また、有機溶媒(ジオキサン、又はテトラヒドロフラン等)中、アルカリ水溶液(重曹水又は水酸化ナトリウム溶液等)を用いて、酸ハライドと−10〜40℃の温度で反応させることにより行うこともできる。
(3)縮合剤を用いる方法は、例えばカルボン酸とアミン又はスルホンアミドとを、有機溶媒(クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、又はテトラヒドロフラン等の単独、あるいは混合溶媒)中又は無溶媒で、塩基(ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、又はジイソプロピルエチルアミン等)の存在下又は非存在下、縮合剤{1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、1−エチル−3−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]カルボジイミド(EDC)、1,1’−カルボニルジイミダゾール(CDI)、2−クロロ−1−メチルピリジニウムヨウ素、又は1−プロピルホスホン酸環状無水物(PPA)等を用い、必要に応じて1−ヒドロキシベンズトリアゾール(HOBT)等を用いて、−10〜40℃の温度で反応させることにより行なわれる。
その他のアミド化反応として、通常の化学文献、例えば新実験化学講座(日本化学会編、丸善株式会社出版)、14巻、1136頁に記載の「カルボン酸とアミン又はアンモニアの反応」、同書籍同巻、1141頁に記載の「アミド化剤との反応」、同書籍同巻、1142頁に記載の「酸ハロゲン化物からの合成」などが知られており、それらに記載の方法、あるいは当文献記載の参考文献などに記載の方法に準じて検討を行い選択するができる。
目的化合物の中間体である一般式(V−v’)で表される化合物の製造方法としては、前記の製造法1の工程(1−a1)と同様の方法が例として挙げられる。
化合物(IV−v’)は、市販であるか、又は公知の方法あるいは公知の方法に準じて合成することができる。
工程(11−a2):
化合物(II−V’−p)の製造方法としては、前記の製造法1の工程(1−a2)と同様の方法が例として挙げられる。
工程(11−b):
化合物(II−V’−h)の製造方法としては、前記の製造法1の工程(1−b)と同様の方法が例として挙げられる。
工程(11−c):
化合物(I’−V’−o2)の製造方法としては、前記の製造法1の工程(1−c)と同様の方法が例として挙げられる。
工程(11−d):
化合物(I’−V’−h2)の製造方法としては、前記の製造法1の工程(1−d)と同様の方法が例として挙げられる。
不斉還元についてはこれらの方法に限定されるものではなく、通常の化学文献、例えば第4版実験化学講座(日本化学会編、丸善株式会社出版)、26巻、23〜68頁に記載の方法、あるいは当文献記載の参考文献などに記載の方法に準じて製造することができる。
化合物(IV−v’)は、市販であるか、又は公知の方法あるいは公知の方法に準じて合成することができる。
目的化合物の中間体である一般式(XXVII)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XXVII)」と称する〕の製造方法としては、有機溶媒中、前記の製造法1、及び製造法12と同様の方法で製造できる化合物(II−V−h)〔以下、「化合物(II−V−h)」と称する〕と化合物(XXVI)とを還元的アミノ化反応に付する方法が挙げられる。化合物(XXVI)の使用量は化合物(II−V−h)に対し、通常は0.5〜10倍モル量、好ましくは0.9〜2倍モル量が例示される。用いられる有機溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、又はジエチルエーテル類等が例示される。これらは単独、あるいは混合溶媒として用いることができる。用いられる還元剤としては、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素化ナトリウム、又はピリジンボランなどが例示される。これらの使用量は化合物(II−V−h)に対し、通常は1〜5倍モル量、好ましくは1〜3倍モル量が例示される。必要に応じて、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、モレキュラーシーブス、テトラメチルオルソホルメート等の乾燥剤を用いることができる。反応温度は、一般的には−10〜100℃、好ましくは0〜50℃が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは1〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(XXVII)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(XXVI)は、市販であるか、又は公知の方法あるいは公知の方法に準じて合成することができる。
一般式(XXVIII)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XXVIII)」と称する〕の製造方法としては、有機溶媒中、前記の化合物(XXVII)を酸の存在下、脱保護反応に付する方法が挙げられる。ここで用いられる有機溶媒としては、例えば、ジクロロメタン又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はジエチルエーテル等のエーテル類、メタノール又はエタノール等のアルコール類が例示される。これらは単独、あるいは混合溶媒として用いることができる。上記の反応においては、用いられる酸としては、例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、又はp−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸等の有機酸あるいは塩酸、又は硫酸等の無機酸が例示される。これらの使用量は化合物(XXVII)に対し、通常は1〜20倍モル量、好ましくは1〜10倍モル量が例示される。反応温度は、−10〜100℃が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは0.5〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(XXVIII)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
一般式(XXIX)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XXIX)」と称する〕の製造方法としては、有機溶媒中、前記の化合物(XXVIII)を(1)ホスフィン及びジアゾカルボニル化合物の存在下で閉環する方法、又は(2)塩基及びスルホン酸ハロゲン化物の存在下で閉環する方法が挙げられる。
(1)ここで用いられる有機溶媒としては、例えば、ジクロロメタン又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はジエチルエーテル等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、あるいはアセトニトリル等が例示される。これらは単独、あるいは混合溶媒として用いることができる。上記の反応においては、用いられるホスフィンとしては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン等が例示される。これらの使用量は化合物(XXVIII)に対し、通常は1〜20倍モル量、好ましくは1〜10倍モル量が例示される。反応に用いられるジアゾカルボニル化合物としては、N,N,N’,N’−テトラメチルアゾジカルボキサミド、ジ−t−ブチルアゾジカルボキシレート、ジエチルアゾジカルボキシレート、又はジイソプロピルアゾジカルボキシレート等が例示される。これらの使用量は化合物(XXVIII)に対し、通常は1〜20倍モル量、好ましくは1〜10倍モル量が例示される。反応温度は、一般的には−30〜120℃、好ましくは−20〜100℃が例示される。反応時間は一般的には0.5〜72時間、好ましくは0.5〜48時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(XXIX)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(I’−V−h4)の製造方法としては、有機溶媒中、前記の化合物(XXIX)を一般式(XXX)で表される化合物〔以下、単に「化合物(XXX)」と称する〕で開環する方法が挙げられる。ここで用いられる有機溶媒としては、例えば、ジクロロメタン又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はジエチルエーテル等のエーテル類等が例示される。これらは単独、あるいは混合溶媒として用いることができる。化合物(XXX)の使用量は化合物(XXIX)に対し通常は1〜10倍モル量、好ましくは1〜5倍モル量が例示される。必要に応じて、ヨウ化銅(I)、塩化銅(I)、シアン化銅、四塩化銅酸リチウム等の銅試薬を触媒として用いることができる。反応温度は、一般的には−50〜50℃、好ましくは−30〜30℃が例示される。反応時間は一般的には0.25〜48時間、好ましくは0.5〜24時間であるが、薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等により反応経過を追跡することが可能であるから、通常は化合物(I’−V−h4)の収量が最大となるところで適宜反応を終了させればよい。
化合物(XXX)は、市販であるか、又は公知の方法あるいは公知の方法に準じて合成することができる。
本発明化合物(I)のうちEに不斉炭素を含む化合物、又はE以外の部分に不斉炭素を含む化合物の製造法の例としては、先にあげた不斉還元による製造方法以外に、不斉炭素にあたる部分があらかじめ光学活性である市販の(あるいは公知の方法又は公知の方法に準じて調製可能な)原料化合物を用いる方法が挙げられる。また本発明化合物又はその前駆体を常法により光学的に活性な異性体として分離する方法もある。その方法としては、例えば光学活性カラムを用いた高速液体クロマトグラフィー(HPLC)によるもの、光学活性な試薬と塩を形成して分別結晶化等を用いて分離した後、該塩の形成を解除する古典的な光学分別結晶法、又は光学活性な試薬と縮合し生成するジアステレオマーを分離精製した後、再び分解する方法などがある。前駆体を分離し光学活性体とした場合、その後に先に示した製造法を実施することにより光学的に活性な本発明化合物(I)を製造することができる。
また、本発明化合物(I)のうち、化合物中に含まれるアミノ基と、あるいはそれ以外に塩基性官能基を含む場合、又はそれ自体塩基性の性質を持つ芳香環(例えばピリジン環など)を含む場合、それらを公知の手段によって薬学上許容される塩(例えば塩酸、硫酸等の無機酸との塩又は酢酸、クエン酸等の有機酸との塩)とすることも可能である。例えば、無機酸との塩を得る場合、本発明化合物(I)を所望の少なくとも1当量の無機酸を含有する水溶液に溶解することが好ましい。該反応には、メタノール、エタノール、アセトン、又はジオキサンなどの水混和性の不活性有機溶媒を混合してもよい。例えば、塩酸を用いることにより塩酸塩の溶液が得られる。
固形塩が所望の場合、該溶液を蒸発させるか、又はさらにn−ブタノール、エチルメチルケトンなどのようなある程度極性のある水混和性有機溶媒を加え、その固形塩を得ればよい。
本発明に記載の種々の化合物は、公知の方法、例えば、各種クロマトグラフィー(カラム、フラッシュカラム、薄層、高速液体)により精製を行うことができる。
本発明の化合物又は薬学上許容される塩は、全身性に骨密度増加及び骨強度増加作用を示し、又は局所的な骨誘導/骨再生を促進する作用を示すことが期待し得る。本発明の化合物又は薬学上許容される塩が有する骨形成促進作用は、例えばラットなどの実験動物又はヒトから採取され培養された骨髄細胞を用いて、形成される石灰化骨様結節数や骨芽細胞の分化マーカーであるアルカリホスファターゼ活性などを指標として評価することができる。また疾患モデル動物、例えば坐骨神経切除及び卵巣摘出術を施した骨量減少症モデルラットなどを用いて、四肢骨の骨密度や骨強度などを指標に評価することもできる。
骨疾患としては、骨再構築(リモデリング)において骨吸収と骨形成のアンカップリングが様々な原因で生じ、結果として骨密度の低下、及び/又は骨組織の劣化、及び/又は骨強度の低下を示す疾患が挙げられる。このような骨疾患の代表的な例として骨粗鬆症が挙げられる。
骨粗鬆症とは骨量の減少、骨微細構造の崩壊、又は骨脆弱性の増大による易骨折性を特徴とする疾患で、1996年世界骨粗鬆症会議(開催地:アムステルダム)で定義された疾患を指す(山本吉蔵“骨粗鬆症の定義と我が国の診断基準”CLINICAL CALCIUM.第11巻.19−24頁.2001年)。骨粗鬆症は一般的に、基礎疾患の存在しない原発性骨粗鬆症と、種々の内分泌疾患や血液疾患などの他の疾患に伴う続発性骨粗鬆症とに分類される。
続発性骨粗鬆症としては、長期臥床や無重力刺激による不動性骨粗鬆症、コルチコステロイドなどの長期服用による薬物性骨粗鬆症、内因性ステロイドの過剰分泌を主因とするクッシング症候群やその他の性腺機能不全症、あるいは原発性副甲状腺機能亢進症や続発性副甲状腺機能亢進症、甲状腺機能亢進症、副甲状腺機能低下症、腎性骨異栄養症、糖尿病などの内分泌疾患が原因である骨粗鬆症、多発性骨髄腫や悪性リンパ腫などの血液疾患が原因である骨粗鬆症、リウマチ様関節炎などの炎症性疾患が原因である骨粗鬆症、さらに骨形成不全症、ホモシスチン尿症、マルファン症候群など遺伝的疾患が原因である骨粗鬆症などが例示される。
さらにその他の骨疾患として、力学的負荷によって生じた骨組織の異常も含まれる。このような骨疾患としては例えば、骨折、再骨折などが挙げられる。骨粗鬆症を原因疾患とする大腿骨頸部骨折、脊椎椎体圧迫骨折、橈骨遠位端骨折、上腕骨近位端骨折なども上記範疇に含まれる。
上記以外の疾患であっても、骨再構築(リモデリング)において骨吸収と骨形成のアンカップリングが生じ、結果として骨密度の低下、及び/又は骨組織の劣化、及び/又は骨強度の低下を示す疾患であれば、全て本明細書において用いられる「骨疾患」の用語に包含され、本発明の医薬による予防及び/又は治療の対象となる。
またさらに、関節置換術、脊柱管修復術(脊椎融合術、脊柱管固定術、脊柱後方固定術(PLIF))、脊柱管拡大術、骨切り術、骨延長術、歯科再建術、頭蓋欠損補填術、頭蓋形成術、骨性支持による腸骨スペーサー固定術、異種間骨移植術、同種間骨移植術、自家骨移植術なども外科的医療行為として例示される。また骨移植代替療法も該医療行為に包含される。本明細書において用いられる「外科的医療行為」という用語は、脳外科、胸部外科、又は腹部外科などの外科領域、整形外科領域、形成外科領域などにおいて行なわれる観血的手術(例えば開胸手術や人工関節置換手術など)、非観血的処置(例えば骨折部位のギブスによる固定など)などを含めて最も広義に解釈しなければならず、いかなる意味においても限定的に解釈してはならない。
さらに上記以外の医療行為であっても、骨形成を促進することで患者の生命予後やQOL、ADLに改善が見込まれる医療行為であれば、全て本発明の医薬の適用対象となる。
Ki値の比率(倍)=各受容体に対する解離定数Ki/EP4に対する解離定数Ki。
PGE2には発痛作用や子宮収縮作用など長期間継続して投与するには回避すべき副作用が存在することから、本発明化合物としてはEP4に高い特異性を持つことが求められ、好ましくはKi値の比率≧1000倍、さらに好ましいKi値の比率は≧3000倍であり、さらにKi値の比率≧10000倍であることがより大変好ましい。従って、本発明の医薬は、EP4作動薬として種々の疾患に対する適応が可能であり、例えば、緑内障、眼圧亢進症、涙腺関連疾患、心筋虚血、高血圧、気管支炎、肺線維症、肺気腫、慢性閉塞性呼吸器疾患、血栓症、肝炎、腎炎(腎不全)、口内炎、胃潰瘍・十二指腸潰瘍などの消化管潰瘍、潰瘍性大腸炎、クローン病、喘息、神経細胞死、関節炎、免疫疾患(慢性関節リウマチ、多発性硬化症、筋萎縮性側索硬化症、シェーグレン症候群、全身性エリテマトーデスなどの自己免疫疾患、臓器移植後の拒絶反応など)、全身性炎症反応症候群、敗血症、血球貪食症候群、マクロファージ活性化症候群、Still病、川崎病、熱傷、全身性肉芽腫、多臓器不全、ショック、子宮頸管障害、睡眠異常、禿頭症、又は脱毛症などの予防及び/又は治療剤として有用である。特に、緑内障、眼圧亢進症、胃潰瘍・十二指腸潰瘍などの消化管潰瘍、潰瘍性大腸炎の予防及び/又は治療剤として有用であり、なかでも緑内障、潰瘍性大腸炎の予防及び/又は治療剤として大変に有用である。
さらに本発明化合物は、優れた代謝安定性を示すことからも医薬の有効成分として有用である。
本発明の医薬は、一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩を有効成分として含む医薬として調製することができるが、例えばプロドラッグとして投与された化合物又はその塩が生体内で代謝を受けて一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩を生成する場合も、本発明の医薬の範囲に包含される。
本発明の医薬としては、一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩をそのまま用いてもよいが、一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩に1種又は2種以上の薬学上許容される担体を添加して医薬組成物を調製して投与することが好ましい。また、本発明の医薬の有効成分としては一般式(I)で表される化合物又は薬学上許容されるその塩の水和物又は溶媒和物を用いてもよい。
生体内分解性高分子重合物は1種でもよく、また2種以上の共重合物(例えばポリD,L−乳酸/グリコール酸共重合体(PLGA)など)、あるいは複合体(PLGA/ゼラチンスポンジ複合体)や単なる混合物でもよく、重合の形式もランダム、ブロック、グラフトの何れでもよい。
また本発明の医薬を適当な溶媒又は適当な担体と共に、生体適合性に優れた素材(金属、カルシウム、セラミックス、高分子材料など)からなる人工骨(インプラント)や骨補填材料(ハイドロキシアパタイト、β−リン酸三カルシウムなど)などに塗布又は吸着させることによって、又はその中に包埋させることによって局所に投与することも可能である。
さらに本発明の医薬は薬物代謝酵素に与える影響(阻害または誘導)が極めて低く、また複数の代謝経路を有することから、併用薬との相互作用において問題がなく、ヒトを含む脊椎動物、好ましくはヒトを含む哺乳動物に対して安全に用いることができる。
さらに本発明の医薬は一般薬理試験における諸症状(一般症状及び行動、中枢神経系、自律神経系及び平滑筋、呼吸器及び循環器系、消化器系、水及び電解質代謝)の観察によって高い安全性を有することが証明されており、ヒトを含む脊椎動物、好ましくはヒトを含む哺乳動物に対して安全に用いることができる。
また、例えば外科的医療行為の際の骨再生を促進させるために、骨折部位や骨修復術、骨再建術などの局所に本発明の医薬を直接投与する場合には、一般的には成人1回あたり0.01〜1000mgの有効成分を投与することができる。その場合の投与頻度は6ヶ月に1回から連日投与が可能であり、好ましくは1回/3ヶ月から1回/月、若しくは1回/週である。
1日及び/又は1回投与量、投与期間、投与頻度は患者の年齢、体重、身体的健康度、及び治療すべき疾患の種類や重篤度、投与経路、剤型(担体の持つ有効成分の徐放性など)などの条件に応じて適宜増減させてよい。
本発明の医薬と併用できる骨活性化薬としては、例えば、calcitriol、alfacalcidol、OCT、2MD、又はED−71などのビタミンD又はビタミンD誘導体が挙げられ、骨形成促進薬としては、例えば、menatetrenone、teriparatide、somatropin、insulin−like growth factor−I(IGF−I)、Bone Morphogenetic Proteins(BMPs)、basic Fibroblast growth factor(bFGF)、Transforming growth factor−β(TGF−β)、EP2作動薬、LRP5作動薬、抗SOST抗体、GSK−3阻害剤、Dkk1阻害剤、Calcilytics、又はgrowth hormone secretagoguesなどが挙げられ、骨吸収抑制薬としては、例えば、elcatonin、calcitonin salmon、etidronate、pamidronate、clodronate、alendronate、incadronate、risedronate、minodronate、ibandronate、カテプシンK阻害薬、osteoprotegerin、又は抗RANKL抗体などが挙げられ、骨代謝改善薬としては、例えば、fluoride、strontium ranelate、又はipriflavoneなどが挙げられ、性ホルモン製剤としては、例えば、estriol、estradiol、conjugated estrogen、progesterone、medroxyprogesterone、testosterone、metyltestosterone、mestanolone、stanozolol、metenolone、nandrolone、選択的エストロゲン受容体調節薬(SERM:raloxifen、lasofoxifene、bazedoxifene、ospemifene、arzoxifene、CHF4227、PSK−3471など)、又は選択的アンドロゲン受容体調節薬(SARM)などが挙げられ、カルシウム製剤としては、例えば、炭酸カルシウム、乳酸カルシウム、グルコン酸カルシウム、酢酸カルシウム、塩化カルシウム、クエン酸カルシウム、リン酸水素カルシウム、又はL−アスパラギン酸カルシウムなどが挙げられる。さらに将来的に創製される各種の骨疾患用薬剤と併用することもできる。これらの併用薬は、臨床的に意義のある組み合わせであれば何ら限定されるものではない。
本発明の医薬をEP4作動薬として用いる場合には、対象とする種々の疾患、例えば緑内障、眼圧亢進症、涙腺関連疾患、心筋虚血、高血圧、気管支炎、肺線維症、肺気腫、慢性閉塞性呼吸器疾患、血栓症、肝炎、腎炎(腎不全)、口内炎、胃潰瘍・十二指腸潰瘍などの消化管潰瘍、潰瘍性大腸炎、クローン病、喘息、神経細胞死、関節炎、免疫疾患(慢性関節リウマチ、多発性硬化症、筋萎縮性側索硬化症、シェーグレン症候群、全身性エリテマトーデスなどの自己免疫疾患、臓器移植後の拒絶反応など)、全身性炎症反応症候群、敗血症、血球貪食症候群、マクロファージ活性化症候群、Still病、川崎病、熱傷、全身性肉芽腫、多臓器不全、ショック、子宮頸管障害、睡眠異常、禿頭症、脱毛症などの疾患の予防及び/又は治療を目的として一般に用いられる薬剤の1又は2種と同時に、又は時間を変えて併用することができる。さらに本発明の医薬は、上記薬剤とともにいわゆる合剤として調製して投与することも可能である。該合剤としては、典型的な組成物のように活性成分の完全な混合物としての投与形態のみならず、各活性成分を配した複数の容器から別々に投与する非混合的組み合わせによる投与形態、キット、パッケージングも包含している。
例えば消化管潰瘍を予防及び/又は治療する目的では、本発明の医薬は、ステロイドホルモン、サラゾスルファピリジン、免疫抑制剤、あるいは将来的に創製される各種の消化管潰瘍用薬剤と併用することができる。また、例えば緑内障を予防及び/又は治療する目的では、本発明の医薬は、キサラタンなどのプロスタグランジンF2α誘導体、β遮断剤、炭酸脱水酵素阻害剤、α1遮断剤、αβ遮断剤、アンジオテンシンII拮抗剤、あるいは将来的に創製される各種の緑内障用薬剤と併用することができる。これらの併用薬は、臨床的に意義のある組み合わせであれば何ら限定されるものではない。
本発明の医薬は、本発明の医薬の予防及び/又は治療の目的以外の、種々の異常や疾患に対する予防薬又は治療薬とともに投与できることは言うまでもない。
実施例中、薄層クロマトグラフィー(TLC)はPrecoated silica gel 60 F254(メルク社製、製品番号5715−1M)を使用した。クロロホルム:メタノール(1:0〜1:1)、アセトニトリル:酢酸:水(200:1:1〜100:4:4)、又は、酢酸エチル:ヘキサン(1:0〜0:1)により展開後、UV(254nm)照射、ニンヒドリン又はジニトロフェニルヒドラジン塩酸溶液による呈色により確認した。
カラムクロマトグラフィーのうち「Quad」と記載したものについては「Quad1分取システム」(Biotage社製)を用い、カラムは同社製KP−Sil−12M、40S又は40Mのいずれかのカートリッジカラムを試料の量に応じて1本又は数本使用したことを示す。また「Flash」と記載したものについては「Flashカラムシステム」(Biotage社製)を用い、カラムは前記の同社製カラムを試料の量に応じて1本又は数本使用したことを示す。また「フラッシュカラムクロマトグラフィー」と記載したものについては通常のカラムクロマトグラフィーをシリカゲル60N(球状、中性、40〜100μm、関東化学社製)をサンプル量に応じて使用して行ったことを示す。
質量分析は、以下に示したA法、又はB法にて測定した。測定データとして「RT」値は液体クロマトの保持時間(分)を示す。なお液体クロマトグラフ質量分析スペクトル(LCMS)のデータ値に溶出条件を記載しない場合はA法で測定を行い、それ以外の条件で測定した場合はその条件を記す。
A法;液体クロマトグラフ質量分析スペクトル(LCMS)にて測定した。質量分析装置としてPlatform−LC型質量分析装置[マイクロマス(Micromass)社製]を用いエレクトロスプレー(ESI)法により測定した。液体クロマト装置としてウォータース(Waters)社製の装置を使用した。分離カラムはDevelosil C30−UG−5(50×4.6mm)(野村化学社製)を用いた。溶出は一般には、流速2ml/分、溶媒としてA液=水[0.1%(v/v)酢酸含有]、B液=アセトニトリル[0.1%(v/v)酢酸含有]を用いた。溶出条件は、0分から4分までB液を5〜98%(v/v)直線グラジェントしたのち6分までB液を98%で溶出した。
B法;質量分析装置としてPlatform−LC型質量分析装置[マイクロマス(Micromass)社製]を用いエレクトロスプレー(ESI)法により測定した。液体クロマト装置としてギルソン(GILSON)社製の装置を使用した。分離カラムはDevelosil C30−UG−5(50×4.6mm)(野村化学社製)を用いた。溶出は、流速2ml/分、溶媒としてA液=水[0.1%(v/v)酢酸含有]、B液=アセトニトリル[0.1%(v/v)酢酸含有]を用い、0分から5分までB液を5〜98%(v/v)直線グラジェントしたのち5分までB液を98%で溶出した。
C法;質量分析装置としてJEOL−JMS−SX102(日本電子社製)を用い、高速原子衝突マススペクトラム(FAB−MS)により測定した。
有機溶媒の乾燥には無水硫酸マグネシウムあるいは無水硫酸ナトリウムを使用した。
使用した試薬の製造元については以下の略号で示す場合がある。東京化成社製;「TCI」、アルドリッチ社製;「ALD」、関東化学社製;「KANT」、和光純薬社製;「WAKO」、国産化学社製「KOKUSAN」、ランカスター社製;「LANC」、Maybridge社製;「MAYB」、OAKWOOD社製;「OA」、Matrix Scientific社製;「MS」、Alfa Aesar社製;「ALF」、ASDI社製;「ASDI」、Asta Tech社製;「AST」。
使用した試薬、溶媒などの名称は以下の略号で示す場合がある。テトラヒドロフラン;THF、N,N−ジメチルホルムアミド;DMF、ジメチルスルホキシド;DMSO、トリエチルアミン;TEA、ジイソプロピルエチルアミン;DIEA、トリフルオロ酢酸;TFA、N−エチル−N’−3−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩;WSC・HCl、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール;HOBT。
4−(2−ブロモエチル)安息香酸メチル(中間体ia−01)の合成(製造法ia−1)
4−(2−ブロモエチル)安息香酸(4.58g、TCI)のジクロロメタン(50ml)とメタノール(50ml)の混合溶液に(トリメチルシリル)ジアゾメタン/ヘキサン2.0M溶液(11.0ml、ALD)を室温にて10分間かけて滴下し2時間撹拌した。反応溶液を減圧下濃縮した後、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=15:1)で精製し、標記化合物(中間体ia−01;4.32g)を得た。
t−ブチル2−{2−[(4−メトキシカルボニル)フェニル]エチル}ヒドラジンカルボキシレート(中間体ia−02)の合成(製造法ia−2)
中間体ia−01(4.28g)のアセトニトリル(50ml)溶液に、カルバジン酸t−ブチル(11.64g、WAKO)、炭酸水素ナトリウム(7.40g)、及びヨウ化ナトリウム(700mg)を加え、24時間加熱還流した。不溶物をろ取した後、ろ液を減圧下濃縮した。残渣に酢酸エチル(150ml)を加え、精製水(75ml)、及び飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=5:1)で精製し、標記化合物(中間体ia−02;3.67g)を得た。
中間体ia−02(1.0g)のアセトニトリル(20ml)溶液に氷冷下、炭酸カリウム(939mg)、及び4−クロロブチリルクロリド(419μl、WAKO)を順次に加え、室温まで昇温し30分間攪拌した。反応混合液に水(50ml)を加え、酢酸エチル(50ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣のDMF(20ml)溶液に氷冷下、60%水素化ナトリウム(89mg、KANTO)のDMF(10ml)溶液を加え、室温まで昇温し30分間攪拌した。反応混合液に水(100ml)を加え、酢酸エチル(50ml×3)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し標記化合物(化合物番号II−a1;995mg)を得た。Mass(LCMS):363(M++1)、RT=4.60。
4−[2−(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸メチル(化合物番号II−a02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a01(200mg)のジクロロメタン(2ml)溶液に氷冷下、TFA(2ml)を加え、室温まで昇温し1時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した後、残渣に飽和重曹水を加えて酢酸エチル(50ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し標記化合物(化合物番号II−a2;140mg)を得た。Mass(LCMS):263(M++1)、RT=3.55。
N−メトキシ−N−メチル−2−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]アセトアミド(中間体pa−01)の合成(製造法pa−1)
3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(1.00g、TCI)のDMF(15ml)溶液にWSC・HCl(1.28g、KOKUSAN)、HOBT(794mg、KOKUSAN)、及びDIEA(1.02ml、ALD)を加え室温にて30分攪拌した。反応混合液にあらかじめN,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(956mg、WAKO)のDMF(5ml)溶液にDIEA(1.74ml)を加え室温にて20分攪拌したものを加え、室温にて16時間攪拌した。反応混合液に酢酸エチル(150ml)を加え、1規定塩酸水、精製水、飽和重曹水、及び飽和食塩水で順次洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し標記化合物(中間体pa−01;893mg)を得た。
中間体pa−01(542mg)の無水THF(15ml)溶液にアルゴンガス雰囲気下−40℃に冷却してビニルマグネシウムブロミド/THF1M溶液(2.4ml、ALD)を10分間かけて滴下し10分間撹拌し室温まで昇温しさらに30分間攪拌した。反応混合液を飽和塩化アンモニウム水溶液(40ml)に注ぎ酢酸エチル(40ml×3)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。この残渣のエタノール(5ml)溶液に化合物番号II−a2(115mg)、及びTEA(0.12ml)を加え、室温で20分間攪拌した後、2時間加熱還流した。反応溶液を減圧下濃縮した後、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製し、標記化合物(化合物番号IAO−E001;120mg)を得た。Mass(LCMS):477(M++1)、RT=4.83。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸メチル(化合物番号IAH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAO−E001(110mg)のメタノール(3ml)溶液に塩化セリウム・7水和物(86mg、Wako)の精製水(1ml)溶液を加え−15℃に冷却した後、水素化ホウ素ナトリウム(11mg、WAKO)を加え15分間攪拌した。反応溶液に飽和食塩水(25ml)を加え、酢酸エチル(50ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=5:1)で精製し、標記化合物(化合物番号IAH−E001;90mg)を得た。Mass(LCMS):475(M++1)、RT=4.71。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸(化合物番号IAH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−E001(80mg)のメタノール(1ml)及びTHF(1ml)の混合溶液に2規定水酸化ナトリウム水溶液(418μl)を加え、窒素ガス雰囲気下室温で16時間撹拌した。反応混合液に氷冷下1規定塩酸水(940μl)を加え、酢酸エチル(50ml)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し乾燥後、溶媒を減圧下留去して標記化合物(化合物番号IAH−H001;76mg)を得た。Mass(LCMS):465(M++1)、RT=4.23。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸の光学活性体(化合物番号IAH−H001a及び化合物番号IAH−H001b)のHPLC分取(製造法1−1f)
化合物番号IAH−H001(13.6mg)をエタノールに1.0mlで溶解した溶液を一回当たり25μlづつ用いてCHIRALCEL AD(4.6mm×250mm、ダイセル化学工業社製)カラムを用いたHPLCによる分取を行い標記化合物[化合物番号IAH−H001a;5.3mg(HPLC保持時間21.83分、光学純度100ee%)、及び化合物番号IAH−H001b;5.4mg(HPLC保持時間25.50分、光学純度96.5ee%)]を得た。HPLCの条件としては、カラム温度は40℃、254nmにおけるUV吸収でモニター、溶出溶媒はノルマルヘキサン[0.1%(v/v)TFA含有]:エタノール[0.1%(v/v)TFA含有]=85:15、流速0.5ml/分にて行った。
4−{2−[2−(3−オキソ−3−フェニルプロピル)−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル]エチル}安息香酸メチル(化合物番号IAO−E002)の合成(製造法1−1c’)
化合物番号II−a2(100mg)、のアセトニトリル(2ml)溶液にβ−クロロプロピオフェノン(64mg、TCI)、及び炭酸カリウム(105mg)を加え、50℃で16時間攪拌した。反応溶液の不溶物をろ取した後、精製水10mlを加え、酢酸エチル(30ml)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=7:1)で精製し、標記化合物(化合物番号IAO−E002;29mg)を得た。Mass(LCMS):395(M++1)。
4−{2−[2−(3−ヒドロキシ−3−フェニルプロピル)−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル]エチル}安息香酸メチル(化合物番号IAH−E002)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに化合物番号IAO−E002(28mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAH−E002;28mg)を得た。ただし反応は氷冷下にて30分間、室温にて30分間行った。Mass(LCMS):397(M++1)。
4−{2−[2−(3−ヒドロキシ−3−フェニルプロピル)−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル]エチル}]安息香酸(化合物番号IAH−H002)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−H001の替わりに化合物番号IAH−E002(28mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAH−H002;13mg)を得た。 Mass(LCMS):383(M++1)、RT=3.83。
4−(2−{2−[3−オキソ−3−(4−フルオロフェニル)プロピル]−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル}エチル)安息香酸メチル(化合物番号IAO−E003)の合成(製造法1−1c’)
化合物番号IAO−E002の合成法に記載の手順に従って、β−クロロプロピオフェノンの替わりに3−クロロ−4’−フルオロプロピオフェノン(64mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAO−E003;50mg)を得た。Mass(LCMS):413(M++1)。
4−(2−{2−[3−ヒドロキシ−3−(4−フルオロフェニル)プロピル]−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル}エチル)安息香酸メチル(化合物番号IAH−E003)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに化合物番号IAO−E003(49mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAH−E003;48mg)を得た。ただし反応は氷冷下にて30分間、室温にて30分間行った。Mass(LCMS):415(M++1)。
4−(2−{2−[3−ヒドロキシ−3−(4−フルオロフェニル)プロピル]−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル}エチル)安息香酸(化合物番号IAH−H003)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−H001の替わりに化合物番号IAH−E003(48mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAH−H003;27mg)を得た。 Mass(LCMS):401(M++1)、RT=3.89。
N−メトキシ−N−メチル−2−[3−(4−フルオロフェニル)フェニル]アセトアミド(中間体pa−02)の合成(製造法pa−1)
中間体pa−01の合成法に記載の手順に従って、3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸の替わりに3−(4−フルオロフェニル)安息香酸(1.0g、Array−BioPharm,Inc.製)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体pa−02;758mg)を得た。
4−[2−(2−{3−オキソ−3−[3−(4−フルオロフェニル)フェニル]プロピル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸メチル(化合物番号IAO−E004)の合成(製造法1−1c)
化合物番号IAO−E001の合成法に記載の手順に従って、中間体pa−01の替わりに中間体pa−02(492mg)を用い、反応させ処理し、さらに化合物番号II−a2(100mg)と反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAO−E004;183mg)を得た。Mass(LCMS):489(M++1)。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−3−[3−(4−フルオロフェニル)フェニル]プロピル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸メチル(化合物番号IAH−E004)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに化合物番号IAO−E004(50mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAH−E004;49mg)を得た。ただし反応は氷冷下にて30分間、室温にて30分間行った。Mass(LCMS):491(M++1)。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−3−[3−(4−フルオロフェニル)フェニル]プロピル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸(化合物番号IAH−H004)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−H001の替わりに化合物番号IAH−E004(48mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAH−H004;14mg)を得た。 Mass(LCMS):477(M++1)、RT=4.45。
t−ブチル3−{2−(4−メトキシカルボニルフェニル)エチル}−2−オキソ−2H−テトラヒドロ−1,3,4−オキサジアジン−4−カルボキシレート(化合物番号II−b01)の合成(製造法1−1a)
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、4−クロロブチリルクロリドの替わりにクロロぎ酸−2−クロロエチル(174mg、TCI)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−b01;347mg)を得た。Mass(LCMS):365(M++1)、RT=4.59。
4−{2−(2−オキソ−2H−テトラヒドロ−1,3,4−オキサジアジン−3−イル)エチル}安息香酸メチル(化合物番号II−b02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりに化合物番号II−b01(347mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−b02;236mg)を得た。Mass(LCMS):265(M++1)、RT=3.06。
2−[2−(1−{4−メトキシカルボニル}フェネチル)t−ブトキシカルボニルヒドラジン−1−カルボニル]メルカプトエチル オクタノエート(中間体ia−02)の合成(中間体ia−06)の合成(製法id−1)
2−メルカプトエチル オクタノエート(115.6μl、WAKO)のジクロロメタン(2.75ml)溶液を−4℃に冷却し、ピリジン(44μl、KANT)とトリホスゲン(53.4mg、TCI)を加え、−4℃で1時間攪拌した。その後、中間体ia−02(147mg)を加え、−4℃で2時間攪拌した。反応混合物に飽和重曹水(2ml)を加え、ジクロロメタン(10ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精製し、標記化合物(ia−06;225.8mg)を得た。
2−[2−(1−{4−メトキシカルボニル}フェネチル)t−ブトキシカルボニルヒドラジン−1−カルボニル]メルカプトエタノール(中間体ia−07)の合成(製法id−2)
中間体ia−06(225.8mg)のメタノール(4.3ml)溶液を0℃に冷却し、ナトリウムメチラートメタノール溶液(10.5μl、28%メタノール溶液、WAKO)を加えて、0℃で4時間攪拌した。反応混合物に1N塩酸水溶液(100μl)を加えて中和した後、精製水(2ml)を加え、クロロホルム(20ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し、標記化合物(中間体ia−07)を得た。
中間体ia−07のジクロロメタン(4.3ml)溶液に、トリエチルアミン(120μl、TCI)、トシルクロライド(164mg、TCI)を加え、室温で18時間攪拌した。反応混合物に精製水を加え、ジクロロメタンで抽出した。乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、得られた化合物のDMF(3ml)溶液に氷冷下、60%水素化ナトリウム(14.3mg、KANT)を加え、室温まで昇温して3時間攪拌した。反応混合液に水(1ml)を加え、酢酸エチル(20ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し標記化合物(化合物番号II−bs01;81.7mg)を得た。Mass(LCMS):381(M++1)、RT=4.67。
3−[4−(4−メトキシカルボニル)フェネチル−2−オキソ−2H−テトラヒドロキシ−1,3,4−チアジアジン(化合物番号II−bs02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−bs01(81.7mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−bs02;47mg)を得た。Mass(LCMS):281(M++1)、RT=3.27。
化合物番号IAO−E005〜IAH−H056の製造についてはTable−A−1〜A−9に示した。Table中の記号の意味については以下に示すとおりである。「Exp.」;実施例化合物番号、「Syn.」;製造方法、「SM1」;原料化合物1、「SM2」;原料化合物2。「SM2」についてはTable−CA−1に対応する記号、試薬名及び製造元を示した。「製造元」の欄に「合成品」と示した原料は国際公開第WO00/03980号パンフレットに記載の手順に従って合成した。
「V」、「RD1」、「E」、「W」は次式;
「LCMS」は液体クロマトグラフ質量分析スペクトルのデータを示し、「RTime」の欄には液体クロマトの保持時間を記した。「Mass」の欄にはマススペクトルのデータを記した。「Method」の欄には先述の液体クロマトグラフ質量分析スペクトルの測定条件を示した。
<実施例IAO−E005>
4−(2−{2−[3−オキソ−4−(3−メトキシフェニル)ブチル]−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル}エチル)安息香酸メチル(化合物番号IAO−E005)の合成(製造法1−1g)
3−メトキシフェニル酢酸(665mg、TCI)(Table中の「SM2」に相当する)のDCM(15ml)溶液にWSC・HCl(920mg、KOKUSAN)、N,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(780mg、WAKO)、ジメチルアミノピリジン(48mg、TCI)、及びDIEA(1.65g、ALD)を加え、室温にて5時間攪拌した。反応混合液を1規定塩酸水、精製水、飽和重曹水、及び飽和食塩水で順次洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。この残渣の無水THF(15ml)溶液にアルゴンガス雰囲気下−40℃に冷却してビニルマグネシウムブロミド/THF1M溶液(4.8ml、ALD)を10分間かけて滴下し10分間撹拌し室温まで昇温しさらに30分間攪拌した。反応混合液を飽和塩化アンモニウム水溶液(40ml)に注ぎ酢酸エチル(40ml×3)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。この残渣のエタノール(5ml)溶液に化合物番号II−a02(148mg)(Table中の「SM1」に相当する)、及びTEA(0.15ml)を加え、室温で20分間攪拌した後、2時間加熱還流した。反応溶液を減圧下濃縮した後、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、酢酸エチル)で精製し、標記化合物(化合物番号IAO−E005;190mg)を得た。Mass(LCMS):439(M++1)、RT=4.54。
4−(2−{2−[3−ヒドロキシ−4−(3−メトキシフェニル)ブチル]−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル}エチル)安息香酸メチル(化合物番号IAH−E005)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIAO−E005(190mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAH−E005;184mg)を得た。Mass(LCMS):441(M++1)、RT=3.89。
<実施例IAH−H005>
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりにIAH−E005(200mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAH−H005;133mg)を得た。Mass(LCMS):426(M++1)、RT=3.88。
化合物番号IAO−E057〜IAH−H074の製造についてはTable−A−10〜A−12に示した。Table中の記号の意味について、「Exp.」、「Syn.」、「SM1」は前述と同義である。「SM2」についてはTable−CA−1〜CA−2に対応する記号、試薬名及び製造元を示した。「製造元」の欄に「合成品」と示した原料は国際公開第WO00/03980号パンフレットに記載の手順に従って合成し、「合成品2」と示した原料は下記の手順に従って合成した。
2−(2,3−ジヒドロ−1H−インデン−1−イル)酢酸(原料化合物CA52)の合成
2−(2,3−ジヒドロインデン−1−イル−インデン)酢酸エチル(中間体pb−01)の合成(製造法pb−1)
水素化ナトリウム(2.72g、WAKO)の無水ジメトキシエタン(32.5mL)溶液に氷冷下、ジエチルホスホノ酢酸エチル(23.4ml、TCI)を滴下し、10分間攪拌後1−インダノン(TCI、5.00g)の無水DME溶液(32.5ml)を滴下した。5分攪拌後加熱還流下にて18時間攪拌した。反応液を濃縮後、反応溶液に水および酢酸エチルでを加え、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥後減圧下溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー(ヘキサンのみから)で精製し標記化合物(中間体pb−01;5.24g)を得た。
中間体pb−01(3.28g)のエタノール(32ml)溶液に10%パラジウム炭素(32mg、Merck)を加え、水素雰囲気下室温にて3時間撹拌した。反応混合液を濾過し濾液の溶媒を減圧下留去することで標記化合物(中間体pb−02;3.32g)を得た。
2−(2,3−ジヒドロ−1H−インデン−1−イル)酢酸(原料化合物CA52)の合成(製造法pb−3)
中間体pb−02(3.32g)のメタノール(82ml)溶液に2規定水酸化ナトリウム水溶液(16.4ml)を加え60℃で1時間撹拌した。反応混合液を減圧下濃縮後、氷冷下1規定塩酸水で中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し乾燥後、溶媒を減圧下留去し標記化合物(原料化合物CA52;2.84g)を得た。
2−(5−フルオロ−2,3−ジヒドロインデン−1−イル−インデン)酢酸エチル(中間体pb−01)の合成(製造法pb−1)
中間体pb−01の合成法に記載の手順に従って、1−インダノンの替わりに5−フルオロ−1−インダノン(5.32g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体pc−01;5.24g)を得た。
2−(5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−1H−インデン−1−イル)酢酸エチル(中間体pc−02)の合成(製造法pb−2)
中間体pb−02の合成法に記載の手順に従って、中間体pb−01の替わりに中間体pc−01(2.54g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体pc−02;2.10g)を得た。
2−(5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−1H−インデン−1−イル)酢酸(原料化合物CA53)の合成(製造法pb−3)
実施例CA52の合成法に記載の手順に従って、中間体pb−02の替わりに中間体pc−02(1.09g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(原料化合物CA53;890mg)を得た。
2−ヒドロキシベンゾトリフルオリド(3.00g、TCI)のDMF(16.5ml)−エタノール(1.8ml)混合溶液に水酸化ナトリウム(1.5g、WAKO)及びブロモ酢酸(2.6g、TCI)を加え、85℃にて24時間攪拌した。反応混合液にジエチルエーテル及び飽和食塩水を加え、1規定塩酸水及び飽和炭酸ナトリウム水溶液で順次洗浄した。水層と油層の間に生じた層を乾燥し標記化合物の粗生成物(化合物番号CA54;2.36g)を得た。
3−[2−(トリフルオロメチル)フェニル]アクリル酸エチル(中間体pd−01)の合成(製造法pb−1)
中間体pb−01の合成法に記載の手順に従って、1−インダノンの替わりに2−トリフルオロメチルベンズアルデヒド(TCI、3.19ml)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体pd−01;5.92g)を得た。
3−[2−(トリフルオロメチル)フェニル]プロピオン酸エチル(中間体pd−02)の合成(製造法pb−2)
中間体pb−02の合成法に記載の手順に従って、中間体pb−01の替わりに中間体pd−01(5.92g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体pd−02;5.95g)を得た。
原料化合物CA52の合成法に記載の手順に従って、中間体pb−02の替わりに中間体pd−02(5.92g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(原料化合物CA55;5.00g)を得た。 「V」、「RD1」、「E」、「W」は次式;
「LCMS」は液体クロマトグラフ質量分析スペクトルのデータを示し、「RTime」の欄には液体クロマトの保持時間を記した。「Mass」の欄にはマススペクトルのデータを記した。「Method」の欄には先述の液体クロマトグラフ質量分析スペクトルの測定条件を示した。
2−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)アセトアルデヒド(中間体ia−03)の合成(製法ic−03)
2−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)エタノール(530mg、ALD)のジクロロメタン(50ml)溶液にデスマーチンペルヨージナン[1,1,1−トリアセトキシ−1,1−ジヒドロ−1,2−ベンズヨードキソール−3(1H)オン](2.23g、LANC)を加え、室温で2時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィー(フラッシュカラムクロマトグラフィー、ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製し、標記化合物(ia−03)を得た。
中間体ia−03のジクロロエタン(25ml)溶液に化合物番号II−a02(655mg)、テトラメチルオルソホルメート(547μl、ALD)、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム(1.06g、ALD)、酢酸(286μl)を加え、窒素雰囲気下、室温で18時間攪拌した。反応混合物に飽和重曹水(10ml)を加え、中和した後、酢酸エチル(20ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し、標記化合物(ia−04)を得た。
中間体ia−04のメタノール(25ml)溶液にp−トルエンスルホン酸1水和物(475.5mg、WAKO)を加え、室温で18時間攪拌した。飽和重曹水(10ml)を加え、中和した後、酢酸エチル(20ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、クロロホルム:メタノール=30:1)で精製し、標記化合物(ia−05、683.7mg)を得た。
中間体ic−05(683mg)のクロロホルム(65ml)溶液にトリフェニルホスフィン(562mg、WAKO)とジエチルアゾジカルボキシレート(338μl、LANC)を加え、80℃で18時間攪拌した。精製水(40ml)を加え、クロロホルム(50ml)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、クロロホルム:メタノール=100:1)で精製し、標記化合物(IAH−CE01;483mg)を得た。Mass(LCMS):333(M++1)、RT=3.88。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸メチル(化合物番号IAH−E024a)の合成(製法1−1l)
ヨウ化銅(82.5mg、WAKO)の無水THF(1.5ml)溶液に窒素雰囲気下−30℃に冷却して3−クロロフェニルマグネシウムブロミド/THF0.5M溶液(1.73ml、ALD)を5分間かけて滴下し15分間撹拌した。その後化合物番号IAH−CE01(120mg)の無水THF(0.9ml)を−30℃で5分間かけて滴下し、0℃まで徐々に昇温しながら2時間攪拌した。反応混合液に飽和塩化アンモニウム水溶液(2ml)を加えクロロホルム(10ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去して、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、クロロホルム:メタノール=200:1)で精製し、標記化合物(化合物番号IAH−E024b;146mg)を得た。Mass(LCMS):445(M++1)、RT=4.60。
4−[2−(2−{4−[3−クロロフェニル]−3−ヒドロキシブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸(化合物番号IAH−H024b)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりにIAH−E024b(143mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IAH−H024b;69.6mg)を得た。Mass(LCMS):431(M++1)、RT=4.11。
化合物番号IAH−E075〜IAH−H077の製造についてはTable−Ae−1に示した。Table中の記号の意味について、「Exp.」、「Syn.」、「SM1」は前述と同義である。「SM2」についてはTable−MG−1に対応する記号、試薬名及び調製法を示した。調製法については以下に示した。
(ベンゾ[b]チオフェン−5−イル−)マグネシウムブロミド(化合物番号MG01)の合成(調製法mr−01)
マグネシウム(34mg、WAKO)の脱水THF(0.7ml)溶液に、アルゴン雰囲気下5−ブロモベンゾ[b]チオフェン(149.2mg、MAYB)とジブロモエタン(30μl、WAKO)の脱水THF(0.7ml)溶液を滴下し、室温で2時間攪拌し、標記化合物のTHF溶液(化合物番号MG01)を得た。
1H−インダゾール−5−アミン(15.32g、TCI)の氷水(300ml)溶液を−5℃に冷却し濃塩酸(52.5ml、KOKUSAN)を滴下した後、亜硝酸ナトリウム(8.74g、WAKO)の精製水(45ml)溶液を滴下し、−5℃で20分攪拌した。ヨウ化カリウム(22.9g、WAKO)の精製水(75ml)溶液を−5℃で滴下し、90℃で1.5時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、固体をろ取した。得られた固体を酢酸エチル(400ml)に溶解してろ過し、ろ液を10%亜硫酸ナトリウム水溶液(300ml×3)、飽和食塩水で順次洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。この残渣のDMF(50ml)溶液を、脱水THFで洗浄した水素化ナトリウム(1.05g、脱水THF洗浄前、WAKO)のDMF(20ml)溶液に0℃で滴下し、30分攪拌した。ヨウ化メチル(1.87ml、TCI)を滴下し、0℃で15分攪拌した後、室温まで昇温して14.5時間攪拌した。反応混合物に0℃で精製水(100ml)を加え、酢酸エチル(150ml×3)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。この粗物(129mg)の脱水THF(5ml)溶液を0℃に冷却し、i−プロピルマグネシウムブロミド(0.76MTHF溶液、855μl、ALD)を滴下し、室温で3時間攪拌して、標記化合物のTHF溶液(化合物番号MG02)を得た。
化合物番号MG01の合成法に記載の手順に従って、5−ブロモベンゾ[b]チオフェンの替わりに(ブロモメチル)シクロブタン(104.3mg、ALD)を用い、反応させることにより標記化合物のTHF溶液(化合物番号MG03)を得た。
「V」、「RD1」、「W」は次式;
「LCMS」は液体クロマトグラフ質量分析スペクトルのデータを示し、「RTime」の欄には液体クロマトの保持時間を記した。「Mass」の欄にはマススペクトルのデータを記した。「Method」の欄には先述の液体クロマトグラフ質量分析スペクトルの測定条件を示した。
t−ブチル2−{[3−(メトキシカルボニルメチルオキシ)フェニル]メチル}−3−オキソテトラヒドロピリダジン−1−カルボキシレート(化合物番号II−c01)の合成
2−[(3−ブロモメチル)フェニルオキシ]酢酸メチル(中間体ic−01)の合成(製造法ia−1)
中間体ia−01の合成法に記載の手順に従って、4−(2−ブロモエチル)安息香酸の替わりに3−(ブロモメチル)フェノキシ酢酸(5.0g、LANC)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ic−01;5.2g)を得た。
t−ブチル2−{[3−(メトキシカルボニルメチルオキシ)フェニル]メチル}ヒドラジン−1−カルボキシレート(中間体ic−02)の合成(製造法ia−2)
中間体ia−02の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−01の替わりに中間体ic−01(5.2g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ic−02;710mg)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにic−02(355mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−c01;194mg)を得た。Mass(LCMS):379(M++1)、RT=3.93(LCMS測定条件;B法)。
2−{3−[(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニルオキシ}酢酸メチル(化合物番号II−c02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−c01(194mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−c02;143mg)を得た。Mass(LCMS):279(M++1)、RT=3.33。
3−(2−ブロモエチルオキシ)安息香酸メチル(中間体id−01)の合成(製造法ib−1)
1,2−ジブロモエタン(15.4g、TCI)のアセトン(50ml)溶液に炭酸カリウム(13.6g)を加え、3−ヒドロキシ安息香酸メチル(5.0g、TCI)のアセトン(20ml)溶液を滴下後24時間加熱還流した。不溶物をろ取した後、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、標記化合物(中間体id−01;3.18g)を得た。
中間体ia−02の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−01の替わりに中間体id−01(3.18g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体id−02;1.58g)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにid−02(790mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−d01;693mg)を得た。Mass(LCMS):379(M++1)、RT=4.59。
3−[2−(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチルオキシ]安息香酸メチル(化合物番号II−d02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−d01(693mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−d02;511mg)を得た。Mass(LCMS):279(M++1)、RT=3.57。
t−ブチル3−{2−[3−(メトキシカルボニル)フェニルオキシ]エチル}−2−オキソ−2H−テトラヒドロ1,3,4−オキサジアジン−4−カルボキシレート(化合物番号II−do01)の合成(製造法1−1a)
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにid−02(3.5g)、4−クロロブチリルクロリドの替わりにクロロぎ酸−2−クロロエチル(1.78g、TCI)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−do01;3.73g)を得た。Mass(FAB−MS):381(M++1)、測定条件;C法。
3−[2−(2−オキソ−2H−テトラヒドロ−1,3,4−オキサジアジン−3−イル)エチルオキシ]安息香酸メチル(化合物番号II−do02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−do01(3.73g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−d02;2.9g)を得た。Mass(LCMS):281(M++1)、RT=3.55。
4−(2−ブロモエチルオキシ)安息香酸メチル(中間体ie−01)の合成(製造法ib−1)
3−ヒドロキシ安息香酸メチルの替わりに4−ヒドロキシ安息香酸メチル(5.0g、TCI)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ie−01;3.29g)を得た。
中間体ia−02の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−01の替わりに中間体ie−01(3.29g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ie−02;1.97g)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにie−02(985mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−e01;911mg)を得た。Mass(LCMS):379(M++1)、RT=4.54。
4−[2−(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチルオキシ]安息香酸メチル(化合物番号II−e02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−e01(911mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−e02;624mg)を得た。Mass(LCMS):279(M++1)、RT=3.52。
3−(2−ホルミルエチル)安息香酸エチル(中間体if−01)の合成(製造法ib−2)
ジャーナル・オブ・オーガニックケミストリー57巻11号3218ページ記載の手順に従って、4−ヨード安息香酸メチルの替わりに3−ヨード安息香酸エチル(4.0g、TCI)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体if−01;539mg)を得た。
ジャーナル・オブ・オーガニックケミストリー68巻18号6899ページ記載の手順に従って、1−[(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−5−オキソペンタン−2−イル]アセテートの替わりに中間体if−01(539mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体if−02;788mg)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにif−02(788mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−f01;860mg)を得た。Mass(LCMS):391(M++1)、RT=4.87(LCMS測定条件;B法)。
3−[3−(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]安息香酸エチル(化合物番号II−f02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−f01(860mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−f02;638mg)を得た。Mass(LCMS):291(M++1)、RT=3.41(LCMS測定条件;B法)。
4−(2−ホルミルエチル)安息香酸エチル(中間体ig−01)の合成(製造法ib−2)
ジャーナル・オブ・オーガニックケミストリー57巻11号3218ページ記載の手順に従って、4−ヨード安息香酸メチルの替わりに4−ヨード安息香酸エチル(4.0g、TCI)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ig−01;2.8g)を得た。
ジャーナル・オブ・オーガニックケミストリー68巻18号6899ページ記載の手順に従って、1−[(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−5−オキソペンタン−2−イル]アセテートの替わりに中間体ig−01(2.0g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ig−02;2.1g)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにig−02(2.1g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−g01;2.5g)を得た。Mass(LCMS):391(M++1)、RT=4.85(LCMS測定条件;B法)。
4−[3−(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]安息香酸エチル(化合物番号II−g02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−g01(2.5g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−g02;1.8g)を得た。Mass(LCMS):291(M++1)、RT=3.33(LCMS測定条件;B法)。
t−ブチル3−{3−[4−(エトキシカルボニル)フェニル]プロピル}−2−オキソ−2H−テトラヒドロ1,3,4−オキサジアジン−4−カルボキシレート(化合物番号II−go01)の合成(製造法1−1a)
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにig−02(8.36g)、4−クロロブチリルクロリドの替わりにクロロぎ酸−2−クロロエチル(4.08g、TCI)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−go01;8.42g)を得た。Mass(FAB−MS):393(M++1)、測定条件;C法。
4−[3−(2−オキソ−2H−テトラヒドロ−1,3,4−オキサジアジン−3−イル)プロピル]安息香酸エチル(化合物番号II−go02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−go01(8.42g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−g02;6.44g)を得た。Mass(LCMS):293(M++1)、RT=3.89。
t−ブチル2−{3−[5−(メトキシカルボニル)フラン−2−イル]プロピル)−3−オキソテトラヒドロピリダジン−1−カルボキシレート
5−(2−ホルミルエチル)フラン−2−カルボン酸メチル(中間体ih−01)の合成(製造法ib−4)
5−ブロモ−2−フランカルボン酸メチルエステル(816mg、MAYB)のDMF(3ml)溶液にテトラn−ブチルアンモニウムクロリド(1.1g、TCI)、炭酸水素ナトリウム(688mg)、酢酸パラジウム(10.4mg、WAKO)、及びアリルアルコール(346mg、TCI)を加え60℃で20時間攪拌した。反応溶液に蒸留水(30ml)、酢酸エチル(20ml)を加え不溶物をろ取し、ろ液を酢酸エチル(50ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後ろ液を減圧下濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製し、標記化合物(中間体ih−01;204mg)を得た。
ジャーナル・オブ・オーガニックケミストリー68巻18号6899ページ記載の手順に従って、1−[(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−5−オキソペンタン−2−イル]アセテートの替わりに中間体ih−01(204mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ih−02;118mg)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにih−02(118mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−h01;76mg)を得た。Mass(LCMS):367(M++1)、RT=4.02(LCMS測定条件;B法)。
5−(3−(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル)フラン−2−カルボン酸メチル(化合物番号II−h02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−h01(76mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−h02;40mg)を得た。Mass(LCMS):291(M++1)、RT=2.73(LCMS測定条件;B法)。
2−[2−(ベンジルオキシ)エトキシ]イソニコチン酸エチル(中間体ii−01)の合成(製法id−1)
エチル 2−ブロモイソニコチネート(575mg、MATRIX)のTHF(25ml)溶液にエチレングリコール モノベンジルエーテル(710μl、TCI)を加え、0℃に冷却し、カリウム−t−ブトキシド(420mg、TCI)を加え、室温で3時間攪拌した。反応混合物に精製水(15ml)を加えて、酢酸エチル(30ml×2)で抽出した。有機層をあわせて飽和食塩水で洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、ヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精製し、標記化合物(中間体ii−01)を得た。
2−(2−ヒドロキシエトキシ)イソニコチン酸エチル(中間体ii−02)の合成(製法id−2)
中間体ii−01のメタノール(10.8ml)、酢酸エチル(2.2ml)混合溶液に、Pd/C(39mg、Merck)を加え、濃塩酸を2滴滴下し、水素雰囲気下室温で18時間攪拌した。セライトろ過し、減圧下溶媒を留去し、標記化合物(中間体ii−02)を得た。
中間体ii−02のジクロロメタン(26ml)溶液にトリフェニルホスフィンポリスチレン(3.54g、NOVABIOCHEM)、四臭化炭素(645mg、TCI)を加えて、50℃で1時間攪拌した。反応混合物をろ過し、減圧下溶媒を留去し、標記化合物(中間体ii−03)を得た。
t−ブチル2−{2−[(4−メトキシカルボニル)ピリジル]オキシエチル}ヒドラジンカルボキシレート(中間体ii−04)の合成(製法ia−2)
中間体ia−02の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−01の替わりに中間体ii−03を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ii−04)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりに中間体ii−04を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−i01;73.4mg)を得た。Mass(LCMS):394(M++1)、RT=3.74(LCMS測定条件;B法)。
2−[2−(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エトキシ]イソニコチン酸エチル(化合物番号II−i02)の合成(製法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりに化合物番号II−i01(73.4mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−i02;38.1mg)を得た。Mass(LCMS):294(M++1)、RT=3.16(LCMS測定条件;A法)。
t−ブチル 2−[4−(ベンジルオキシ)ブチル]ヒドラジン−1−カルボキシレート(中間体ij−02)の合成(製造法ia−2)
中間体ia−02の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−01の替わりにベンジル4−ブロモブチルエーテル(1.2g、ALD)を用い、反応させ処理することにより標記化合物の粗生成物(中間体ij−02;1.33g)を得た。
t−ブチル 2−[4−(ベンジルオキシ)ブチル]−3−オキソテトラヒドロピリダジン−1−カルボキシレート(実施例II−j01)の合成(製造法1−1a)
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにij−02(1.33g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−j01;704mg)を得た。Mass(LCMS):363(M++1)、RT=4.76(LCMS測定条件;B法)。
1−ベンジルオキシ−4−(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)ブタン(実施例II−j02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IIa−01の替わりにII−j01(704mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−j02;391mg)を得た。Mass(LCMS):263(M++1)、RT=3.22(LCMS測定条件;B法)。
2−[4−(ブロモメチル)フェニル]酢酸(中間体ik−00)の合成(製造法1−1n)
国際公開第WO00/03980号パンフレットに記載の手順に従って、m−トリル酢酸の替わりにp−トリル酢酸(10g、TCI)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ik−00;4.7g)を得た。
2−[4−(ブロモメチル)フェニル]酢酸メチル(中間体ik−01)の合成(製造法ia−1)
中間体ia−01の合成法に記載の手順に従って、4−(2−ブロモエチル)安息香酸の替わりに中間体ik−00(4.7g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ik−01;4.7g)を得た。
t−ブチル 2−[4−(2−メトキシ−2−オキソエチル)ベンジル]ヒドラジン−1−カルボキシレート(中間体ik−02)の合成(製造法ia−2)
中間体ia−02の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−01の替わりに中間体ik−01(2.0g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体ik−02;611mg)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにik−02(611mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−k01;219mg)を得た。Mass(LCMS):363(M++1)、RT=4.26(LCMS測定条件;B法)。
2−{4−[(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}酢酸メチル(化合物番号II−k02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−k01(219mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−k02;152mg)を得た。Mass(LCMS):263(M++1)、RT=3.37。
2−[3−(ブロモメチル)フェニル]酢酸メチル(中間体il−01)の合成(製造法ia−1)
中間体ia−01の合成法に記載の手順に従って、4−(2−ブロモエチル)安息香酸の替わりに国際公開第WO00/03980号パンフレットに記載の手順に従って合成した2−[3−(ブロモメチル)フェニル]酢酸(500mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体il−01;471mg)を得た。
t−ブチル 2−[3−(2−メトキシ−2−オキソエチル)ベンジル]ヒドラジン−1−カルボキシレート(中間体il−02)の合成(製造法ia−2)
中間体ia−02の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−01の替わりに中間体il−01(471mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体il−02;121mg)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにil−02(121mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−l01;58mg)を得た。Mass(LCMS):363(M++1)、RT=4.09(LCMS測定条件;B法)。
2−{3−[(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}酢酸メチル(化合物番号II−l02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−l01(58mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−l02;33mg)を得た。Mass(LCMS):263(M++1)、RT=2.73(LCMS測定条件;B法)。
3−p−トリルアクリル酸エチル(中間体im−00)の合成(製造法pb−1)
中間体pb−1の合成法に記載の手順に従って、1−インダノンの替わりにp−トルアルデヒド(3.0g、ADL)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体im−00;4.8g)を得た。
3−[4−(ブロモメチル)フェニル]アクリル酸エチル(中間体im−01)の合成(製造法1−1n)
国際公開第WO00/03980号パンフレットに記載の手順に従って、m−トリル酢酸の替わりに中間体im−00(4.8g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体im−01;3.45g)を得た。
t−ブチル 2−[4−(3−エトキシ−3−オキソプロプ−1−エニル)ベンジル]ヒドラジン−1−カルボキシレート(中間体im−02)の合成(製造法ia−2)
中間体ia−02の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−01の替わりに中間体im−01(3.45g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体im−02;1.17g)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにim−02(1.17g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−m01;1.5g)を得た。Mass(LCMS):389(M++1)、RT=4.66(LCMS測定条件;B法)。
3−{4−[(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}アクリル酸エチル(実施例II−m02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−m01(1.5g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−m02;1.2g)を得た。Mass(LCMS):289(M++1)、RT=3.36(LCMS測定条件;B法)。
3−m−トリルアクリル酸エチル(中間体io−00)の合成(製造法pb−1)
中間体pb−1の合成法に記載の手順に従って、1−インダノンの替わりにm−トルアルデヒド(3.0g、ALD)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体io−00;4.8g)を得た。
3−[3−(ブロモメチル)フェニル]アクリル酸エチル(中間体io−01)の合成(製造法1−1n)
国際公開第WO00/03980号パンフレットに記載の手順に従って、m−トリル酢酸の替わりに中間体io−00(1.0g)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体io−01;184mg)を得た。
t−ブチル 2−[3−(3−エトキシ−3−オキソプロプ−1−エニル)ベンジル]ヒドラジン−1−カルボキシレート(中間体io−02)の合成(製造法ia−2)
中間体ia−02の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−01の替わりに中間体io−01(184mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(中間体io−02;116mg)を得た。
化合物番号II−a01の合成法に記載の手順に従って、中間体ia−02の替わりにio−02(116mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−o01;62mg)を得た。Mass(LCMS):389(M++1)、RT=4.93(LCMS測定条件;B法)。
3−{3−[(6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}アクリル酸エチル(実施例II−o02)の合成(製造法1−1b)
化合物番号II−a02の合成法に記載の手順に従って、化合物番号II−a01の替わりにII−o01(62mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号II−o02;43mg)を得た。Mass(LCMS):289(M++1)、RT=3.84。
2−{3−[(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニルオキシ}酢酸メチル(化合物番号ICO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(524mg)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−c02(143mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号ICO−E001;92mg)を得た。Mass(LCMS):493(M++1)、RT=4.33(LCMS測定条件;B法)。
2−{3−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニルオキシ}酢酸メチル(化合物番号ICH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにICO−E001(92mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号ICH−E001)を得た。Mass(LCMS):495(M++1)、RT=4.26(LCMS測定条件;B法)。
2−{3−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニルオキシ}酢酸(化合物番号ICH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたICH−E001を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号ICH−H001;4mg)を得た。Mass(LCMS):481(M++1)、RT=4.26。
3−[2−(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチルオキシ]安息香酸メチル(化合物番号IDO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(1.1g)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−d02(300mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IDO−E001;35mg)を得た。Mass(LCMS):493(M++1)、RT=4.60(LCMS測定条件;B法)。
3−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチルオキシ]安息香酸メチル(化合物番号IDH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIDO−E001(35mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IDH−E001)を得た。Mass(LCMS):495(M++1)、RT=4.48(LCMS測定条件;B法)。
3−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチルオキシ]安息香酸(化合物番号IDH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたIDH−E001を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IDH−H001;9mg)を得た。Mass(LCMS):481(M++1)、RT=4.27。
化合物番号IDO−E002〜IDH−H007の製造についてはTable−D−1に示した。Table中の記号の意味については前述と同義である。
「V」、「RD1」、「E」、「W」は次式;
「LCMS」は液体クロマトグラフ質量分析スペクトルのデータを示し、「RTime」の欄には液体クロマトの保持時間を記した。「Mass」の欄にはマススペクトルのデータを記した。「Method」の欄には先述の液体クロマトグラフ質量分析スペクトルの測定条件を示した。
4−[2−(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチルオキシ]安息香酸メチル(化合物番号IEO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(1.1g)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−e02(300mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IEO−E001;122mg)を得た。Mass(LCMS):493(M++1)、RT=4.49(LCMS測定条件;B法)。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチルオキシ]安息香酸メチル(化合物番号IEH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIEO−E001(122mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IEH−E001)を得た。Mass(LCMS):495(M++1)、RT=4.44(LCMS測定条件;B法)。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル} −6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチルオキシ]安息香酸(化合物番号IEH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたIEH−E001を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IEH−H001;76mg)を得た。Mass(LCMS):481(M++1)、RT=4.18。
3−[3−(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]安息香酸メチル(化合物番号IFO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(822mg)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−f02(234mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IFO−E001;111mg)を得た。Mass(LCMS):505(M++1)、RT=5.08(LCMS測定条件;B法)。
3−[3−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]安息香酸メチル(化合物番号IFH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIFO−E001(111mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IFH−E001)を得た。Mass(LCMS):507(M++1)、RT=4.98。
3−[3−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]安息香酸(化合物番号IFH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたIFH−E001を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IFH−H001;92mg)を得た。Mass(LCMS):479(M++1)、RT=4.33。
4−[3−(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]安息香酸メチル(化合物番号IGO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(822mg)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−g02(234mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IGO−E001;211mg)を得た。Mass(LCMS):505(M++1)、RT=5.04。
4−[3−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]安息香酸メチル(化合物番号IGH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIGO−E001(211mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IGH−E001)を得た。Mass(LCMS):507(M++1)、RT=4.96。
4−[3−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]安息香酸(化合物番号IGH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたIGH−E001を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IGH−H001;77mg)を得た。Mass(LCMS):479(M++1)、RT=4.25。
化合物番号IGO−E002〜IGH−H010の製造についてはTable−G−1〜G−2に示した。Table中の記号の意味については前述と同義である。
「V」、「RD1」、「E」、「W」は次式;
「LCMS」は液体クロマトグラフ質量分析スペクトルのデータを示し、「RTime」の欄には液体クロマトの保持時間を記した。「Mass」の欄にはマススペクトルのデータを記した。「Method」の欄には先述の液体クロマトグラフ質量分析スペクトルの測定条件を示した。
5−[3−(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]フラン−2−カルボン酸メチル(化合物番号IHO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(153mg)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−h02(40mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IHO−E001;58mg)を得た。Mass(LCMS):481(M++1)、RT=4.57。
5−[3−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]フラン−2−カルボン酸メチル(化合物番号IHH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIHO−E001(58mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IHH−E001)を得た。Mass(LCMS):483(M++1)、RT=4.46。
5−[3−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)プロピル]フラン−2−カルボン酸(化合物番号IHH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたIHH−E001を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IHH−H001;18mg)を得た。Mass(LCMS):469(M++1)、RT=4.07。
2−(2−{2−[3−オキソ−4−(3−トリフルオロメチルフェニル)ブチル]−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル}エトキシ)イソニコチン酸エチル(化合物番号IIO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(476mg)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−i02(56.4mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IIO−E001;68.5mg)を得た。Mass(LCMS):508(M++1)、RT=4.16(LCMS測定条件;B法)。
2−(2−{2−[3−ヒドロキシ−4−(3−トリフルオロメチルフェニル)ブチル]−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル}エトキシ)イソニコチン酸エチル(化合物番号IIH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIIO−E001(68.5mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IIH−E001;68.4mg)を得た。Mass(LCMS):510(M++1)、RT=3.92(LCMS測定条件;B法)。
2−(2−{2−[3−ヒドロキシ−4−(3−トリフルオロメチルフェニル)ブチル]−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル}エトキシ)イソニコチン酸(化合物番号IIH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりにIIH−E001(68.4mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IIH−H001;25.6mg)を得た。Mass(LCMS):482(M++1)、RT=3.64(LCMS測定条件;B法)。
2−[(4−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)ブトキシ]酢酸メチル(実施例IJO−E001)の合成(製造法1−1o)
3−トリフルオロメチルフェニル酢酸(24.9g、TCI)のDCM(240ml)溶液にWSC・HCl(27.6g、KOKUSAN)、N,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(24.1g、ALD)、ジメチルアミノピリジン(1.45g、TCI)、及びDIEA(67.3ml、WAKO)を加え、室温にて14時間攪拌した。反応混合液に酢酸エチルを加え1規定塩酸水、飽和食塩水、飽和重曹水、及び飽和食塩水で順次洗浄し乾燥後、減圧下溶媒を留去した。この残渣のうち4.3gの無水THF(36ml)溶液に窒素ガス雰囲気下−40℃に冷却してビニルマグネシウムブロミド/THF1M溶液(20.9ml、ALD)を滴下後室温まで昇温しさらに60分間攪拌した。反応混合液を飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、エタノールで交換しながら減圧下溶媒を留去した。化合物番号II−j02(381mg)のエタノール(20ml)溶液にTEA(0.41ml)を加え、この残渣のエタノール(1ml)溶液を約半分量加え、1時間加熱還流した。1時間後、残りの半分を加え更に1時間半加熱還流した。反応溶液を放冷した後、この混合溶液に酢酸エチルを加え1規定塩酸水、飽和食塩水、飽和重曹水、及び飽和食塩水で順次洗浄し、減圧下濃縮した後、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、n−ヘキサン/酢酸エチル=1:1から)で精製しカップリング生成物(466mg)を得た。Mass(LCMS):477(M++1)、RT=5.00(LCMS測定条件;B法)。
2−[(4−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)ブトキシ]酢酸メチル(実施例IJH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順の温度条件、0℃から室温を−50℃から0℃へと変更し、これに従って化合物番号IAO−E001の替わりにIJO−E001の混合物(4mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物の粗生成物(化合物番号IJH−E001)を得た。Mass(LCMS):461(M++1)、RT=3.46(LCMS測定条件;B法)。
2−[(4−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)ブトキシ]酢酸(実施例IJH−E001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに化合物番号IJH−E001を用い、反応させ処理することにより標記化合物の粗生成物(化合物番号IJH−H001;1.4mg)を得た。Mass(LCMS):447(M++1)、RT=3.04(LCMS測定条件;B法)。
2−{4−[(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}酢酸メチル(化合物番号IKO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(590mg)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−k02(152mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IKO−E001;195mg)を得た。Mass(LCMS):477(M++1)、RT=4.64。
2−{4−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}酢酸メチル(化合物番号IKO−H001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIKO−E001(195mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IKH−E001;198mg)を得た。Mass(LCMS):479(M++1)、RT=4.49。
2−{4−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}酢酸(化合物番号IKO−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたIKH−E001(198mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IKH−H001;180mg)を得た。Mass(LCMS):465(M++1)、RT=4.12。
2−{3−[(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}酢酸メチル(化合物番号ILO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(128mg)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−l02(33mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号ILO−E001;29mg)を得た。Mass(LCMS):477(M++1)、RT=4.48(LCMS測定条件;B法)。
2−{3−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}酢酸メチル(化合物番号ILO−H001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにILO−E001(29mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号ILH−E001;30mg)を得た。Mass(LCMS):479(M++1)、RT=4.32(LCMS測定条件;B法)。
2−{3−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}酢酸(化合物番号ILO−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたILH−E001(30mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号ILH−H001;24mg)を得た。Mass(LCMS):465(M++1)、RT=4.20。
3−{4−[(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}アクリル酸エチル(実施例IMO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(353mg)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−m02(100mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IMO−E001;50mg)を得た。Mass(LCMS):503(M++1)、RT=4.79(LCMS測定条件;B法)。
3−{4−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}アクリル酸エチル(実施例IMH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIMO−E001(50mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IMH−E001;41mg)を得た。Mass(LCMS):505(M++1)、RT=4.62(LCMS測定条件;B法)。
3−{4−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}アクリル酸(実施例IMH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたIMH−E001(20mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IMH−H001;14mg)を得た。Mass(LCMS):477(M++1)、RT=4.17。
3−{4−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}プロピオン酸エチル(実施例INH−E001)の合成(製造法pb−2)
中間体pb−02の合成法に記載の手順に従って、中間体pb−01の替わりに上記実施例で得られたIMH−E001(20mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号INH−E001;20mg)を得た。Mass(LCMS):507(M++1)、RT=4.66(LCMS測定条件;B法)。
3−{4−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}プロピオン酸(実施例INH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたINH−E001(20mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号INH−H001;12mg)を得た。Mass(LCMS):479(M++1)、RT=4.21。
3−{3−[(2−{3−オキソ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}アクリル酸エチル(実施例IOO−E001)の合成(製造法1−1g)
化合物番号IAO−E005の合成法に記載の手順に従って、3−メトキシフェニル酢酸の替わりに3−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸(152mg)、及び化合物番号II−a02の替わりにII−o02(43mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IOO−E001;67mg)を得た。Mass(LCMS):503(M++1)、RT=4.98。
3−{3−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}アクリル酸エチル(実施例IOH−E001)の合成(製造法1−1d)
化合物番号IAH−E001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAO−E001の替わりにIOO−E001(67mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IOH−E001;64mg)を得た。Mass(LCMS):505(M++1)、RT=4.87。
3−{3−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}アクリル酸(実施例IOH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたIOH−E001(32mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IOH−H001;28mg)を得た。Mass(LCMS):477(M++1)、RT=4.22。
3−{3−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}プロピオン酸エチル(実施例IPH−E001)の合成(製造法pb−2)
中間体pb−02の合成法に記載の手順に従って、中間体pb−01の替わりに上記実施例で得られたIOH−E001(32mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IPH−E001;32mg)を得た。Mass(LCMS):507(M++1)、RT=4.81。
3−{3−[(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)メチル]フェニル}プロピオン酸(実施例IPH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりに上記実施例で得られたIPH−E001(32mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号IPH−H001;24mg)を得た。Mass(LCMS):479(M++1)、RT=4.26。
4−[2−(2−{4−[3−クロロフェニル]−3−ヒドロキシブチル}−6−オキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸の光学活性体(化合物番号IAH−H024a及び化合物番号IAH−H024b)のHPLC分取(製造法1−1f)
化合物番号IAH−H024(10.6mg)をエタノールに1.0mlで溶解した溶液を一回当たり10μlづつ用いてCHIRALCEL AS(4.6mm×250mm、ダイセル化学工業社製)カラムを用いたHPLCによる分取を行い標記化合物[化合物番号IAH−H024a;0.9mg(HPLC保持時間22.32分、光学純度93.4ee%)、及び化合物番号IAH−H024b;1.3mg(HPLC保持時間24.63分、光学純度94.8ee%)]を得た。HPLCの条件としては、カラム温度は40℃、254nmにおけるUV吸収でモニター、溶出溶媒はノルマルヘキサン[0.1%(v/v)TFA含有]:エタノール[0.1%(v/v)TFA含有]=80:20、流速0.5ml/分にて行った。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−チオキソテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸メチル(化合物番号ITH−E001)の合成(製造法1−1h)
化合物番号IAH−E001(23.9mg)のトルエン(500μl)溶液にローソン試薬[2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン−2,4−ジスルフィド](20.2mg)を加え、窒素ガス雰囲気下60℃で2時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷して、溶媒を減圧下留去した後、残渣をカラムクロマトグラフィー(Flash、クロロホルム:メタノール=100:1)で精製し、標記化合物(ITH−E001;24.8mg)を得た。Mass(LCMS):495(M++1)、RT=5.23(LCMS測定条件;B法)。
4−[2−(2−{3−ヒドロキシ−4−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]ブチル}−6−チオキソルテトラヒドロピリダジン−1−イル)エチル]安息香酸(化合物番号ITH−H001)の合成(製造法1−1e)
化合物番号IAH−H001の合成法に記載の手順に従って、化合物番号IAH−E001の替わりにITH−E001(24.8mg)を用い、反応させ処理することにより標記化合物(化合物番号ITH−H001;8.5mg)を得た。Mass(LCMS):481(M++1)、RT=4.53(LCMS測定条件;B法)。
<製剤例1>
試験例2で用いる被験化合物をそれぞれ適切な溶媒(20〜50%PEG400、又は15%シクロデキストリンなど)に溶解した溶解液を調製した。
本発明の化合物の骨形成促進作用を調べるために、培養されたラット骨髄細胞に化合物を作用させて、形成された骨様結節数を計測した。
(1)測定方法
ラット骨髄細胞として大日本製薬より購入したラット骨髄由来間葉系細胞(KEM100)を用いた。液体窒素中で保存された細胞を37℃で融解後、リン酸緩衝生理食塩水中に懸濁し、900rpm、5分間遠心した。上清を除去し、10%ウシ胎児血清(GIBCO社製)を含むαMEM培養液(GIBCO社製)中に細胞を再度懸濁した。細胞数を計測後、1X104細胞/cm2の細胞密度で12ウェルプレート(IWAKI社製)に播種し、37℃、5%CO2インキュベーター中で培養した。
播種翌日より2又は3日毎に10%ウシ胎児血清を含むαMEM培養液で培地交換し、細胞がコンフルエントに到達するまで増殖させた。化合物の添加は細胞がコンフルエントに到達した翌日より実施した。化合物は全てジメチルスルホキシドに100mM濃度で溶解し、10%ウシ胎児血清、5mM−βグリセロリン酸(Sigma社製)、50μg/ml−アスコルビン酸(和光純薬製)を含むαMEM培養液中に0.01nM〜100μM濃度でさらに溶解させた。2又は3日毎に培地交換を行い、化合物添加21〜28日後に細胞をリン酸緩衝ホルマリン溶液で固定し、von Kossa染色を施した後に検鏡、形成された石灰化骨様結節数を計測した。
(2)測定結果
被験化合物(化合物番号IAH−H001)は1nM〜10μM濃度で骨様結節形成促進作用を容量依存的に示し、骨形成促進作用を有することが確認された。また被験化合物は、この濃度で細胞障害作用は示さなかった。
本発明の化合物の骨量増加作用を調べるために、骨粗鬆症モデルラットに投与して骨密度測定を行った。
(1)測定方法
7週齢の雌性SD−IGSラット(日本チャールスリバー社)に、エーテル麻酔下で卵巣摘出術と左坐骨神経切除術を同時に行った。
製剤例1に準じて、化合物はそれぞれ適切な溶媒(20〜50%PEG400、15%シクロデキストリンなど)に溶解し、術後直ちに適切な投与量(0.1mg/kg、又は1mg/kg、又は10mg/kg、又は100mg/kg)を経口投与した。化合物投与は以後、連日1回行った。
実験開始3週間後にラットを安楽死させ、左脛骨を摘出、筋肉などの周囲組織を除去した後、骨塩量測定装置DCS−600EX(ALOKA社製)にて骨密度を測定した。
(2)測定結果
擬似手術群に対して手術+溶媒投与群では骨密度は平均15%低下した。一方、本明細書に記載した目的化合物(I)の代表的化合物投与群(実施例化合物番号IAH−H001a、IAH−H010)では全て擬似手術群に対して、10%低下〜15%増加の範囲内で骨密度を維持又は増加させた。この結果から本発明中の化合物は骨疾患の予防剤及び/又は治療剤として有用であることが確認された。またいずれの化合物投与群でも死亡例は観察されず、またPGE2様副作用も観察されず、本発明化合物は安全に投与できることが示された。
本発明の化合物の骨再生促進作用を調べるために、頭蓋骨部分欠損モデルラットに局所投与して病理学的評価を行った。
(1)測定方法
化合物はジメチルスルホキシド又はエタノールに溶解した後、100mg/ml フィブリノーゲン、0.2mg/ml アプロチニンを含むリン酸緩衝生理食塩水中にさらに溶解させて被験液とし、氷冷保存した。
8週齢の雄性SD−IGSラット(日本チャールスリバー社)の左頭頂骨中央部に、ネンブタール麻酔下、トレパンバー(ミクロ精工株式会社製)にて4.0mmの穴を開け、部分欠損を作成した。その直後、被験液25μlを欠損部に滴下し、ここにさらに100NIH単位/ml スロンビンを含む5mM 塩化カルシウム水溶液を滴下してゲル状に固化させた後、表皮を縫合した。
実験開始3週間後にラットを安楽死させ、右側頭頂骨中央部に同様の欠損を作成後、頭蓋骨を摘出、周囲組織を除去した後に軟X線写真を撮影した。画像解析装置Vidas(Zeiss)にて閾値50で2値化し、全欠損領域(右側欠損面積)に対する骨再生領域(左側欠損部の淡影領域の面積)の割合を求めた。
(2)測定結果
溶媒投与群では平均15%増の骨再生が見られた。一方、本明細書に記載した目的化合物(I)の代表的化合物投与群(実施例化合物番号IAH−H001a、IAH−H010、IAH−H057;各化合物1μg/個体)では20%〜60%増の範囲内で骨再生を促進させた。この結果から本発明中の化合物は外科的医療行為に伴う骨再生促進剤として有用であることが確認された。またいずれの化合物投与群でも死亡例は観察されず、またPGE2様副作用も観察されず、本発明化合物は安全に投与できることが示された。
薬物の血中持続性に大きな影響を及ぼすと考えられている肝臓での被代謝能を評価するため、ヒト肝ミクロソームを用いた本発明化合物の代謝安定性を検討した。
(1)測定方法
被験化合物をバッファー(100mM Tris−HCl緩衝液(pH7.4))中に溶解希釈し、ヒト肝ミクロソーム(5mg/mL:)と、NADPH再生系として13.2mM NADP:320mM G6P:8U/mL G6Pdase:240mM 塩化マグネシウム:200mM UDP−GA:6.6mM β−NAD=1:1:1:1:2:2を添加し、37℃でインキュベートした。20分後、100%アセトニトリルで反応を停止させ、LC/MS又はLC/MS/MSで測定を行った。代謝安定性は肝固有クリアランス(CLint)値で示した。
(2)測定結果
本明細書に記載した目的化合物(I)の代表的化合物の典型的なCLint値はいずれも30mL/min/kg以下の数値を示し、ヒト肝臓での代謝を受けにくく極めて安定な化合物であると考えられた。
本発明の化合物のEP4受容体アゴニスト活性を調べるために、ヒトEP4受容体を安定発現させたHEK293を用いてcAMPの産生の測定を行なった。
(1)測定方法
Refseq Databaseを利用し、Prostaglandin E Receptorを検索した結果、ヒトEP4(NM_000958)受容体の遺伝子情報が得られた。これらの配列情報をもとに、ヒトcDNAを鋳型としたPCR法により、常法に従ってヒトEP4受容体遺伝子のクローニングを行い、ヒトEP4受容体を安定発現させたHEK293を樹立した。本細胞を96well Poly−D−Lysineコートプレートに2x104細胞/wellで播種し、1日間培養した。各wellの培地を吸引除去後、Dulbecco’s Modified Eagle’s Medium80μLを加え、37℃で15分間インキュベーションした。その後、PGE2または試験化合物(最終濃度の5倍濃度)入りのassay medium(100mM HEPES、1mM IBMXを含むDulbecco’s Modified Eagle’s Medium)20μLを添加し反応を開始し、37℃で30分間反応した後、mediumを吸引除去し、cAMP Screen Kit(Applied BIosystems社製)に含まれるAssay/Lysis Buffer100μLを添加して反応を停止させた。その後37℃で30分間インキュベーションさせたものをcAMP定量用サンプルとした。このサンプルを用いて、cAMP Screen Kitに記載されている方法に準じ、サンプル中のcAMP量を定量した。
以下に実施例化合物番号で示した化合物は、試験化合物濃度10μMでcAMPの上昇が認められた。
IAH−H001、IAH−H001a、IAH−H001b、IAH−E001、IAH−H002、IAH−H003、IAH−H004、IAH−H005、IAH−H006、IAH−H009、IAH−H010、IAH−H012、IAH−H013、IAH−H014、ICH−H001、IDH−H001、IEH−H001、IAH−H015、IAH−H016、IAH−H017、IAH−H018、IAH−H019、IAH−H020、IAH−H021、IAH−H022、IAH−H023、IAH−H024、IAH−H024a、IAH−H024b、IAH−H025、IAH−H026、IAH−H027、IAH−H028、IAH−H029、IAH−H030、IAH−H031、IAH−H032、IAH−H033、IAH−H034、IAH−H035、IAH−H036、IAH−H037、IAH−H038、IAH−H039、IAH−H040、IAH−H041、IFH−H001、IGH−H001、IAH−H042、IAH−H043、IAH−H044、IAH−H045、IAH−H046、IAH−H047、IAH−H048、IAH−H049、IAH−H050、IHH−H001、IAH−H051、IAH−H052、IAH−H053、IAH−H054、IAH−H055、IAH−H056、IAH−H060、IAH−H058、ITH−H001、IKH−H001、IOH−H001、IPH−H001、IGH−H002、IAH−H061、IDH−H006、ILH−H001、IAH−H063、IAH−H064、IGH−H003、IGH−H004、IGH−H005、IDH−H002、IDH−H003、IDH−H004、IDH−H005、IAH−H057、IGH−H006、IAH−H059、IGH−H007、IGH−H008、IGH−H009、IGH−H010、IDH−H007、IAH−H062、IAH−H065、IAH−H066、IAH−H067、IAH−H068。
薬物の副作用に大きな影響を及ぼすと考えられている各EP受容体サブタイプへの選択性を評価するため、ヒトEP1、ヒトEP2、ヒトEP3、及びヒトEP4受容体を安定発現させたHEK293に対する試験化合物の[3H]PGE2結合阻害活性の測定を行なった。
(1)測定方法
Refseq Databaseを利用し、Prostaglandin E Receptorを検索した結果、ヒトEP1(NM_000955)、ヒトEP2(NM_000956)、ヒトEP3(NM_198719)、ヒトEP4(NM_000958)の各受容体の情報が得られた。これらの配列情報をもとに、ヒトcDNAを鋳型としたPCR法により、常法に従って各受容体遺伝子のクローニングを行なった。まず、該ヒトEP4受容体の遺伝子を用いてヒトEP4受容体を安定発現させたHEK293を樹立し、膜画分を調製した。その膜画分を試験化合物及び[3H]PGE2を含む反応液(200μL/well)と共に30℃で90分間インキュベートした。反応後、減圧下吸引ろ過して膜画分に結合した[3H]PGE2をUnifilterPlate GF/C(Packard社製)にトラップし、結合放射活性を液体シンチレーターで測定した。
バッファー;10mM MES/NaOH(pH6.0)、10mM MgCl2、1mM EDTA、0.1% BSA
各化合物の解離定数Kiは次式により求めた。なお、[C]は結合阻害試験に用いた[3H]PGE2の濃度(本試験では1nM)を表す。
Ki=IC50/(1+[C]/Kd)。
また、ヒトEP1、ヒトEP2、およびヒトEP3受容体をそれぞれ安定発現させたHEK293を樹立し、膜画分を調製した。それぞれの膜画分を用いて、ヒトEP1、ヒトEP2、およびヒトEP3受容体に対する試験化合物のKi値を上記EP4の方法と同様にして求めた。ヒトEP4に対するKi値と、ヒトEP1、ヒトEP2、ヒトEP3のそれぞれに対するKi値の比率を算出した。すなわち、該比率の値が大きいほどヒトEP4受容体に選択的に結合することを示す。
(2)測定結果
実施例化合物番号IAH−H001aの各受容体間でのKiの比率は、ヒトEP1/ヒトEP4で80000以上、ヒトEP2/ヒトEP4で15000、ヒトEP3/ヒトEP4で45000以上であった。したがって、本発明化合物はEP4に選択的に作用することが証明された。
(1)測定方法
8週齢雌性C57BL/6Jマウスに7%デキストラン硫酸(以下DSSと略記する)溶液を飲料水として10日間自由に摂取させ、炎症性腸疾患モデルを作製した。DSS摂取開始から10日間にわたり、実施例化合物番号IAH−H001a、IAH−H010およびIAH−H057をそれぞれ製剤例1に準じて適切な溶媒(20〜50%PEG400、あるいは15%シクロデキストリンなど)に溶解し、適切な投与量(0.1mg/kg、1mg/kg、10mg/kg、又は100mg/kg)で10日間連日投与した(以下薬物投与群と表記する)。また、DSSを摂取させたマウスに、本発明化合物を溶解した溶媒のみを投与し(以下溶媒群と表記する)、さらにDSSを含まない蒸留水を飲料水として自由に摂取させたマウスに、本発明化合物を溶解した溶媒のみを連日投与した(以下、正常群と表記する)。n数は各群で10匹とした。飲水開始から1日おきに体重およびクリニカルスコアを測定した。クリニカルスコアは下痢スコア(正常:0、軟便:2、下痢:4)および血便スコア(正常:0、出血:2、大出血:4)の合計で算出した。DSS飲水開始後10日目にマウスを屠殺し、大腸の腸管の重量を測定した。
(2)測定結果
実施例化合物番号IAH−H001a、IAH−H010およびIAH−H057の化合物をそれぞれ投与した薬物投与群は、溶媒群に対して有意に下痢スコアおよび血便スコアが改善し、大腸重量の減少を抑制した。よって、本発明化合物は炎症性腸疾患である潰瘍性大腸炎またはクローン病の予防及び/又は治療のための医薬品として有用であることが確認された。
(1)測定方法
体重5〜7.5kg(5〜10才齢)の雄性カニクイザルを実験に供した。実施例化合物番号IAH−H001a、IAH−H010、およびIAH−H057をそれぞれ種々の濃度で、化合物と当量の水酸化ナトリウムを含む水あるいは生理食塩水に溶解した。被験化合物投与直前の眼圧を測定後、それぞれの試験化合物を含む溶液50μLを点眼し、点眼後6時間までの眼圧をそれぞれ経時的に測定した。眼圧測定は、ケタミン(5〜10mg/kg、筋肉内投与)麻酔下で、空圧圧平式眼圧計を用いて行った。各試験化合物で3匹のサルを用い点眼前の眼圧と点眼後の眼圧を比較した。
(2)測定結果
実施例化合物番号IAH−H001a、IAH−H010およびIAH−H057を点眼投与した眼圧はそれぞれ、点眼前の眼圧に対して有意な眼圧降下作用を示した。よって、本発明化合物は緑内障の予防及び/又は治療のための医薬品として有用であることが確認された。
Claims (38)
- 一般式(I):
Vは、(1)C(RO5)(RO6)、(2)酸素原子、又は(3)硫黄原子を示し;
RO1、RO2、RO3、RO4、RO5、及びRO6は、それぞれ独立に(1)水素原子又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
AはA1又はA2を示し;
A1は、(1)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜8個の直鎖アルキレン基、(2)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜8個の直鎖アルケニレン基、又は(3)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜8個の直鎖アルキニレン基のいずれかを示し;
A2は、−G1−G2−G3−基を示し;
G1は、(1)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、(2)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基、又は(3)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルキニレン基のいずれかを示し;
G2は、(1)−Ar1−基、(2)−Y−Ar1−基、(3)−Ar1−Y−基、又は(4)−Y−基のいずれかを示し、Yは、(1)−S−基、(2)−S(O)−基、(3)−S(O)2−基、(4)−O−基、又は(5)−N(RG1)−基のいずれかを示し;
RG1は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)炭素数2〜6個のアシル基のいずれかを示し;
基Ar1は、(1)炭素環化合物の残基(ca1)、又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa1)を示し;基Ar1は、1個又は同一若しくは異なる2〜4個の基R1で置換されてもよく;
基R1は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、又は(3)ハロゲン原子のいずれかを示し;
G3は、(1)単結合、(2)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、(3)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基、又は(4)1〜2個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい炭素数2〜4個の直鎖アルキニレン基のいずれかを示し(ただし、G2が−Ar1−Y−基、又は−Y−基を示すとき、G3は、単結合以外を示す);
Dは、D1、又はD2を示し;
D1は、(1)−COORD1基、(2)テトラゾール−5−イル基、又は(3)−C(O)N(RD2)SO2RD3基のいずれかを示し;
RD1は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、(3)フェニル基、(4)フェニル基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(5)ビフェニル基のいずれかを示し;
RD2は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
RD3は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(2)フェニル基を示し;
D2は、(1)−CH2ORD4基、(2)−ORD4基、(3)ホルミル基、(4)−C(O)NRD5RD6基、(5)−C(O)N(RD5)SO2RD7基、(6)−C(O)−Mm−OH基、(7)−O−Mm−H基、(8)−COORD8基、(9)−OC(O)−RD9基、(10)−COO−Z1−Z2−Z3基、又は(11)次式の置換基群:
RD4は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
RD5及びRD6は、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示すか、あるいは、(3)RD5がRD6と繋がってそれらが結合する窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb1)を形成してもよく;
RD7は、フェニル基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
RD8は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群から選ばれる1〜3個の置換基で置換されてもよいビフェニル基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群から選ばれる1〜3個の置換基で置換されてもよいビフェニル基を示し;
RD9は、(1)フェニル基、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
Mは、アミノ基及びカルボキシル基を有する化合物から該アミノ基の水素原子及び該カルボキシル基の水酸基を除いて得られる2価基を示し;
mは、整数1、又は2を示し;
Z1は、(1)炭素数1〜8個のアルキレン基、(2)炭素数2〜8個のアルケニレン基、又は(3)炭素数2〜8個のアルキニレン基を示し;
Z2は、(1)−C(O)−基、(2)−OC(O)−基、(3)−COO−基、(4)−C(O)N(RZ1)−基、(5)−N(RZ2)C(O)−基、(6)−O−基、(7)−S−基、(8)−S(O)2−基、(9)−S(O)2N(RZ2)−基、(10)−N(RZ2)S(O)2−基、(11)−N(RZ3)−基、(12)−N(RZ4)C(O)N(RZ5)−基、(13)−N(RZ6)C(O)O−基、(14)−OC(O)N(RZ7)−基、又は(15)−OC(O)O−基のいずれかを示し;
Z3は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、(3)炭素数2〜4個のアルケニル基、(4)炭素数2〜4個のアルキニル基、(5)環Z、又は(6)炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、−N(RZ8)(RZ9)基、又は環Zで置換された炭素数1〜4個のアルキル基のいずれかを示し;
環Zは、(1)炭素環化合物の残基(ca2)、又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa2)を示し;
RZ1、RZ2、RZ3、RZ4、RZ5、RZ6、RZ7、RZ8、及びRZ9は、それぞれ独立して水素原子、又は炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
また、RZ1とZ3は、それらが結合している窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb2)を形成してもよく;
Xは、(1)エチレン基、(2)トリメチレン基、又は(3)−CH2CH=CH−基のいずれかを示し;
Eは、(1)−CH(OH)−基、又は(2)−C(O)−基のいずれかを示し;
Wは、(1)次式:
RW1及びRW2は、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)フッ素原子のいずれかを示すか、あるいは(4)RW1がRW2と繋がってそれらが結合する炭素原子とともに3〜7員環の飽和シクロアルカン(cb)を形成してもよく;
飽和シクロアルカン(cb)は、1個又は同一若しくは異なる2〜4個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよく;
U1は、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個のアルキレン基、(3)炭素数2〜4個のアルケニレン基、又は(4)炭素数2〜4個のアルキニレン基を示し;
U2は、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個のアルキレン基、(3)炭素数2〜4個のアルケニレン基、(4)炭素数2〜4個のアルキニレン基、(5)−O−基、(6)−S−基、(7)−S(O)−基、(8)−S(O)2−基、(9)−N(RU1)−基、(10)−C(O)−基、(11)−C(O)N(RU2)−基、(12)−N(RU2)C(O)−基、(13)−S(O)2N(RU2)−基、又は(14)−N(RU2)S(O)2−基を示し;
RU1は、(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)炭素数2〜6個のアシル基のいずれかを示し;
RU2は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
U3は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、及び−N(RU3)(RU4)基からなる群から選ばれる1個又は同一若しくは異なる2〜4個の置換基で置換されてもよい炭素数1〜8個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、及び−N(RU3)(RU4)基からなる群から選ばれる1個又は同一若しくは異なる2〜4個の置換基で置換されてもよい炭素数2〜8個のアルケニル基、(3)炭素数1〜4個のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、及び−N(RU3)(RU4)基からなる群から選ばれる1個又は同一若しくは異なる2〜4個の置換基で置換されてもよい炭素数2〜8個のアルキニル基、(4)基Ar3で置換されている炭素数1〜8個のアルキル基、又は(5)基Ar3のいずれかを示し;
RU3及びRU4は、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示すか、(3)RU3がRU4と繋がってそれらが結合する窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb3)を形成してもよく;
基Ar2、及び基Ar3は、それぞれ独立して(1)炭素環化合物の残基(ca3)又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa3)を示し;
基Ar2、及び基Ar3は、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2で置換されてもよく;
R2は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)炭素数1〜4個のアルキルチオ基、(4)ハロゲン原子、(5)水酸基、(6)ニトロ基、(7)−N(RA1)(RA2)基、(8)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(9)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(10)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(11)−N(RA1)(RA2)基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(12)基Ar4、(13)−O−Ar4基、(14)基Ar4で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(15)基Ar4で置換された炭素数2〜4個のアルケニル基、(16)基Ar4で置換された炭素数2〜4個のアルキニル基、(17)基Ar4で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(18)−O−Ar4基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(19)−COORA3基、(20)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(21)ホルミル基、(22)水酸基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(23)炭素数2〜6個のアシル基、(24)オキソ基、又は(25)チオキソ基のいずれかを示し;
RA1及びRA2は、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示すか、あるいは(3)RA1がRA2と繋がってそれらが結合する窒素原子とともに単環式飽和ヘテロ環(qb4)を形成してもよく;
RA3は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
基Ar4は、(1)炭素環化合物の残基(ca4)、又は(2)ヘテロ環化合物の残基(qa4)を示し;
炭素環化合物の残基ca1、ca2、ca3、及びca4は、それぞれ独立して完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい炭素数3〜11個の単環式化合物の残基を示すか、あるいは炭素数8〜11個の縮合二環式の炭素環化合物の残基を示し;
基Ar4は、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3で置換されてもよく;
R3は、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数2〜4個のアルケニル基、(3)炭素数2〜4個のアルキニル基、(4)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(5)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(6)ハロゲン原子、(7)水酸基、(8)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(9)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
ヘテロ環化合物の残基qa1、qa2、qa3、及びqa4は、それぞれ独立して完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい環構成原子数3〜11個の単環式化合物の残基(該単環式化合物は、環構成原子として、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる同一又は異なるヘテロ原子を1個以上含む)を示すか、あるいは環構成原子数7〜11個の縮合二環式のヘテロ環化合物(qa)の残基を示し、ヘテロ環化合物(qa)は環構成原子として、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる同一又は異なるヘテロ原子を1〜4個含み;
単環式飽和ヘテロ環化合物の残基qb1、qb2、qb3、及びqb4は、それぞれ独立して5〜7員環の含窒素単環式飽和ヘテロ環化合物(qb)の残基を示し、ヘテロ環化合物(qb)は、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子をさらに1個含んでもよく、また1個又は同一若しくは異なる2〜4個の炭素数1〜4個のアルキル基で置換されてもよい。]で表される化合物又はその塩。 - 一般式(I−A−1):
G1aは、炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基を示し;
G3aは、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個の直鎖アルキレン基、又は(3)炭素数2〜4個の直鎖アルケニレン基のいずれかを示し;
D1aは(1)−COORD1基、又は(2)テトラゾール−5−イル基を示し;
W1は、(1)次式:
RW1a及びRW2aは、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)炭素数1〜4個のアルキル基、又は(3)フッ素原子であるか、あるいは(4)RW1aがRW2aと繋がってそれらが結合する炭素原子とともに3〜7員環の飽和シクロアルカン(cb)を形成する置換基を示し;
U1aは、(1)単結合、又は(2)炭素数1〜4個のアルキレン基を示し;
U2aは、(1)単結合、(2)炭素数1〜4個のアルキレン基、(3)−O−基、(4)−S−基、(5)−S(O)−基、(6)−S(O)2−基、又は(7)−N(RU1)−基のいずれかを示し;
U3aは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、及び−N(RU3)(RU4)基からなる群から選ばれる1個又は同一若しくは異なる2〜4個の置換基で置換されてもよい炭素数1〜8個のアルキル基、(2)基Ar3で置換されている炭素数1〜8個のアルキル基、又は(3)基Ar3のいずれかを示し;
T、Ar1、Y、RD1、Ar2、RU1、RU3、RU4、及びAr3は前記と同義である。]で表される請求項1又は2に記載の化合物又はその塩。 - 一般式(I−A−1a):
G1bは、(1)メチレン基、(2)エチレン基、又は(3)トリメチレン基のいずれかを示し;
基Ar1aは、(1)完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい炭素数3〜7の単環式炭素環化合物の残基(ca1m)、あるいは(2)環構成原子として、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる同一又は異なるヘテロ原子を1〜3個含む、完全不飽和、又は一部若しくは全部が飽和されていてもよい環構成原子数3〜7個の単環式ヘテロ環化合物の残基(qa1m)を示し;
Yaは、(1)−O−基、又は(2)−S−基を示し;
G3bは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、又は(4)エテニレン基のいずれかを示し;
G3cは、(1)メチレン基、(2)エチレン基、又は(3)エテニレン基のいずれかを示し;
D1bは、−COORD1b基、又はテトラゾール−5−イル基を示し;
RD1bは(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
W2は、(1)次式:
RW1b及びRW2bは、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)メチル基を示すか、あるいは(3)RW1bがRW2bと繋がってそれらが結合する炭素原子とともにシクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、又はシクロヘキサンのいずれかを形成する置換基を示し;
U1bは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、又は(4)トリメチレン基のいずれかを示し;
U2bは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、(4)トリメチレン基、(5)−O−基、(6)−S−基、又は(7)−N(RU1')−のいずれかを示し;
RU1'は、(1)水素原子、又は(2)炭素数1〜4個のアルキル基のいずれかを示し;
基Ar2a、及び基Ar3aは、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、ベンゼン、アズレン、ナフタレン、ジヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、アダマンタン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、フラザン、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、オキサジン、オキサジアジン、チアジン、チアジアジン、インドリン、イソインドリン、ジヒドロベンゾフラン、クロマン、4H−クロメン、ベンゾフラン、ベンゾ〔b〕チオフェン、インダン、インドール、イソインドール、インドリジン、1H−インダゾール、2H−インダゾール、1H−ベンズイミダゾール、1,3−ジヒドロベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ジヒドロ−3H−ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔d〕イソオキサゾール、ベンゾ〔c〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ジヒドロ−3H−ベンゾチアゾール、ベンゾ〔d〕イソチアゾール、ベンゾ〔c〕イソチアゾール、1H−ベンゾトリアゾール、ベンゾ〔1,2,5〕チアジアゾール、キノリン、ジヒドロ−1H−キノリン、イソキノリン、ジヒドロ−2H−イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、及びフタラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar2a、及び基Ar3aは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2aで置換されていてもよく;
R2aは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)水酸基、(5)−N(RA10)(RA20)基、(6)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(7)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(8)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(9)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(10)水酸基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(11)基Ar4a、(12)−O−Ar4a基、(13)基Ar4aで置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(14)−O−Ar4a基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基を示し;
RA10及びRA20は、それぞれ独立して(1)水素原子、(2)メチル基、又は(3)エチル基を示すか、あるいは(3)RA10がRA20と繋がってそれらが結合する窒素原子とともにピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン、又はモルホリンのいずれかを形成する置換基を示し;
基Ar4aは、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、ベンゼン、アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリン、イミダゾリジン、トリアゾリン、トリアゾリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン、アゼピン、ジアゼピン、モルホリン、チオモルホリン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、フラザン、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、ピラン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、及びピラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar4aは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3aで置換されていてもよく;
R3aは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)水酸基、(5)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(6)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基のいずれかを示す。]で表される請求項1から3のいずれか1項に記載の化合物又はその塩。 - 一般式(I−A−1b):
基Ar1bは、ベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、及びピラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
W3は、(1)次式:
RW1c及びRW2cは、それぞれ独立して(1)水素原子、又は(2)メチル基を示すか、あるいは(3)RW1cがRW2cと繋がってそれらが結合する炭素原子とともにシクロプロパンを形成する置換基を示し;
U1cは、(1)単結合、(2)メチレン基、又は(3)エチレン基のいずれかを示し;
U2cは、(1)単結合、(2)メチレン基、(3)エチレン基、(4)−O−基、又は(5)−S−基のいずれかを示し;
基Ar2b、及び基Ar3bは、ベンゼン、ナフタレン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ベンゾフラン、ベンゾ〔b〕チオフェン、インダン、インドール、1H−インダゾール、1H−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾ〔d〕イソオキサゾール、ベンゾ〔c〕イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾ〔d〕イソチアゾール、ベンゾ〔c〕イソチアゾール、1H−ベンゾトリアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、及びフタラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar2b、及び基Ar3bは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2bで置換されていてもよく;
R2bは、(1)炭素数1〜4個のアルキル基、(2)炭素数1〜4個のアルコキシ基、(3)ハロゲン原子、(4)炭素数1〜4個のアルコキシ基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(5)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(6)1〜3個のハロゲン原子で置換された炭素数1〜4個のアルコキシ基、(7)水酸基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基、(8)基Ar4b、(9)−O−Ar4b基、(10)基Ar4bで置換された炭素数1〜4個のアルキル基、又は(11)−O−Arb基で置換された炭素数1〜4個のアルキル基のいずれかを示し;
基Ar4bはベンゼン、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、及びピラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar4bは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3aで置換されていてもよく;
G1b、G3b、G3c、Ya、及びR3aは前記と同義である。]で表される請求項1から4のいずれか1項に記載の化合物又はその塩。 - 一般式(I−A−1b1):
基Ar1cは、次式:
基Ar3cは、ベンゼン、ナフタレン、フラン、チオフェン、ピリジン、ベンゾフラン、ベンゾ〔b〕チオフェン、インダン、インドール、1H−インダゾール、1H−ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、及びフタラジンからなる群から選ばれる環状化合物の残基を示し;
基Ar3cは、1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR2cで置換されていてもよく;
R2cは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メトキシメチル基、メトキシエチル基、トリフルオロメチル基、ジクロロエチル基、又はヒドロキシエチル基のいずれかを示すか、あるいは基Ar4c、又は−O−Ar4c基のいずれかを示し;
基Ar4cは1個又は同一若しくは異なる2〜4個のR3bで置換されていてもよいフェニル基を示し;
R3bは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、トリフルオロメチル基、ジクロロエチル基、又はトリフルオロメチルオキシ基のいずれかを示し;
G1b、G3b、G3c、Ya、RD1b、U1c、U2c、RW1c、及びRW2cは前記と同義である。]で表される請求項1から5のいずれか1項に記載の化合物又はその塩。 - 請求項1から26のいずれか1項に記載の化合物又は薬学上許容されるその塩を有効成分として含む医薬。
- 骨形成促進剤である請求項27に記載の医薬。
- 骨疾患の予防及び/又は治療のために用いる請求項27に記載の医薬。
- 骨疾患が原発性骨粗鬆症及び/又は続発性骨粗鬆症である請求項29に記載の医薬。
- 骨疾患が骨折及び/又は再骨折である請求項27に記載の医薬。
- 骨疾患が、骨軟化症、線維性骨炎、無形成骨、透析性骨症、腫瘍に起因する骨量減少症、薬剤投与に起因する骨量減少症、炎症に起因する骨量減少症若しくは関節炎、歯周病、癌骨転移、高カルシウム血症、骨ページェット病、硬直性脊椎炎、歯槽骨欠損、下顎骨欠損、小児期突発性骨欠損、慢性関節リウマチ、変形性関節症、又は関節組織の破壊である請求項27に記載の医薬。
- 外科的医療行為の際の骨再生促進のために用いる請求項27に記載の医薬。
- 外科的医療行為が骨修復術及び/又は骨再建術である請求項33に記載の医薬。
- 外科的医療行為が、関節置換術、脊柱管修復術(脊椎融合術、脊柱管固定術、若しくは脊柱後方固定術(PLIF))、脊柱管拡大術、骨切り術、骨延長術、歯科再建術、頭蓋欠損補填術、頭蓋形成術、骨性支持による腸骨スペーサー固定術、異種間骨移植術、同種間骨移植術、自家骨移植術、骨移植代替療法、原発性悪性腫瘍、又は骨転移巣の外科摘出後の骨修復術若しくは骨再建術である請求項33に記載の医薬。
- 請求項1から26のいずれか1項に記載の化合物又は薬学上許容されるその塩を有効成分として含むEP4作動薬。
- 請求項36に記載のEP4作動薬を含む、緑内障又は潰瘍性大腸炎の予防及び/又は治療のための医薬。
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