JPWO2006064700A1 - ポリイミド多層接着フィルムおよびその製造方法 - Google Patents
ポリイミド多層接着フィルムおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2006064700A1 JPWO2006064700A1 JP2006548787A JP2006548787A JPWO2006064700A1 JP WO2006064700 A1 JPWO2006064700 A1 JP WO2006064700A1 JP 2006548787 A JP2006548787 A JP 2006548787A JP 2006548787 A JP2006548787 A JP 2006548787A JP WO2006064700 A1 JPWO2006064700 A1 JP WO2006064700A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- polyimide
- film
- multilayer
- film thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 208
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims abstract description 119
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 243
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 124
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 103
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims abstract description 87
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 72
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 44
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims abstract description 33
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims description 67
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 5
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 claims description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 45
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 100
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 72
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 39
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 26
- -1 aromatic diamine compound Chemical class 0.000 description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 16
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 10
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 8
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 6
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 6
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 5
- XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminopropyl)piperazin-1-yl]propan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCN(CCCN)CC1 XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 4
- RKFCDGOVCBYSEW-AUUKWEANSA-N tmeg Chemical compound COC=1C(OC)=CC(C(OC(C=2OC)=C34)=O)=C3C=1OC(=O)C4=CC=2O[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O RKFCDGOVCBYSEW-AUUKWEANSA-N 0.000 description 4
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- 229920001646 UPILEX Polymers 0.000 description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methylphenyl)-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- 230000005606 hygroscopic expansion Effects 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 3-[(2,3-dicarboxyphenyl)methyl]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(CC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 3-[1-(2,3-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHYXYOGWAIYVBD-UHFFFAOYSA-N 4-(4-propylphenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(CCC)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KHYXYOGWAIYVBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(3,4-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N N-phenyl amine Natural products NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- WRPSKOREVDHZHP-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1.NC1=CC=C(N)C=C1 WRPSKOREVDHZHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUFJGUQYACFECW-UHFFFAOYSA-L calcium hydrogenphosphate Chemical compound [Ca+2].OP([O-])([O-])=O FUFJGUQYACFECW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 235000019700 dicalcium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N mono-methylamine Natural products NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000009823 thermal lamination Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/03—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor characterised by the shape of the extruded material at extrusion
- B29C48/07—Flat, e.g. panels
- B29C48/08—Flat, e.g. panels flexible, e.g. films
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/25—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C48/92—Measuring, controlling or regulating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/34—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J179/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09J161/00 - C09J177/00
- C09J179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C09J179/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
- C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
- C09J7/25—Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C2948/00—Indexing scheme relating to extrusion moulding
- B29C2948/92—Measuring, controlling or regulating
- B29C2948/92009—Measured parameter
- B29C2948/92114—Dimensions
- B29C2948/92152—Thickness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C2948/00—Indexing scheme relating to extrusion moulding
- B29C2948/92—Measuring, controlling or regulating
- B29C2948/92323—Location or phase of measurement
- B29C2948/92438—Conveying, transporting or storage of articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C2948/00—Indexing scheme relating to extrusion moulding
- B29C2948/92—Measuring, controlling or regulating
- B29C2948/92504—Controlled parameter
- B29C2948/92609—Dimensions
- B29C2948/92647—Thickness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C2948/00—Indexing scheme relating to extrusion moulding
- B29C2948/92—Measuring, controlling or regulating
- B29C2948/92819—Location or phase of control
- B29C2948/92933—Conveying, transporting or storage of articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2479/00—Presence of polyamine or polyimide
- C09J2479/08—Presence of polyamine or polyimide polyimide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2479/00—Presence of polyamine or polyimide
- C09J2479/08—Presence of polyamine or polyimide polyimide
- C09J2479/086—Presence of polyamine or polyimide polyimide in the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0104—Properties and characteristics in general
- H05K2201/0112—Absorbing light, e.g. dielectric layer with carbon filler for laser processing
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/0154—Polyimide
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0183—Dielectric layers
- H05K2201/0191—Dielectric layers wherein the thickness of the dielectric plays an important role
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/16—Inspection; Monitoring; Aligning
- H05K2203/162—Testing a finished product, e.g. heat cycle testing of solder joints
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31721—Of polyimide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
Abstract
Description
このようなポリイミドフィルムを基材とする接着フィルムの製造方法としては、1)基材となる高耐熱性のポリイミドフィルムの片面または両面に、溶液状態の熱可塑性ポリイミド系化合物若しくはその前駆体をロールコータやダイコータなどで塗工し乾燥させて製造る塗工法や、基材となる高耐熱性のポリイミド系化合物の溶液及び/又は前駆体の溶液(以下、「高耐熱性ポリイミド系化合物ワニス」と呼ぶ)と熱可塑性ポリイミド系化合物の溶液及び/又は前駆体の溶液(以下、「熱可塑性ポリイミド系化合物ワニス」と呼ぶ)をそれぞれの押出成型ダイを用いて、フィルムの製膜方向にダイを並列に設置し、フィルムを積層して乾燥させて製造する同時押出製膜法、さらには高耐熱性ポリイミド系化合物ワニスを押出成型ダイで製膜し、熱可塑性ポリイミド系化合物ワニスをロールコータやダイコートで塗工し乾燥させて製造する押出製膜同時塗工法がある。また基材となる高耐熱性のポリイミドフィルムの片面または両面に熱可塑性ポリイミドフィルムとを加熱貼合せ加工し製造する熱ラミネート法が挙げられる。
これらの多層フィルムにおいて、各層の膜厚寸法精度は重要な仕様のひとつで、多層フィルムの各層の膜厚寸法の調整方法は、例えば上述の基材フィルムに樹脂溶液を塗工する塗工法であれば、塗工ダイの吐出量を制御したり、ロールコータと基材フィルムの間隙を制御したりして、塗工膜厚の調整をする方式があり、また上述の押出成型ダイを用いる押出製膜法であれば、多層ダイのリップ部に埋め込んだヒータにより、樹脂温度を制御してフィルムの膜厚寸法を調整する方式や各層の流路断面積をバルブで制御してフィルムの膜厚寸法を調整する方式がある。(例えば、特許文献4)
また、多層フィルムの各層の膜厚寸法が測定できる赤外線吸収方式や光干渉方式の膜厚計で各膜厚寸法を測定し、その膜厚寸法データを膜厚調整手段にフィードバックする方式(例えば、特許文献5)がある。
つまり、前記の製造方法における問題点は、連続的に製造されている多層フィルムの各層の膜厚を該略リアルタイムで調整することが困難なことである。例えば、多層フィルムを切り取ってサンプリングし、断面を顕微鏡等で観察、計測する方法があるが、それでは計測データを概略リアルタイムで製膜工程へフィードバックできないのである。連続的に製造されている多層フィルムの膜厚を該略リアルタイムで調整するためには、多層フィルムの各層の膜厚寸法をオンラインで精度よく測定する必要がある。しかしながら、従来多層フィルムの各層の膜厚をオンラインで精度よく測定することが極めて困難であった。
好ましい実施態様は、特徴的な赤外吸収波長を示す官能基が、メチル基、スルホン基、フルオロメチル基であることを特徴とする、前記の接着フィルムに関する。
さらに詳しくは、1)少なくとも二層以上の、ポリイミド樹脂を含有する多層フィルムの製造方法であって、少なくとも1つ以上の層が特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を有するポリイミド樹脂を主成分とする層である多層フィルムを製膜する工程、該フィルムの厚さ方向に赤外線を照射して赤外線の吸収波長の分布を測定し、各層の特徴的な波長領域の赤外線の吸収量から各層の膜厚寸法を算出する工程、算出した膜厚寸法データを多層フィルムの製膜工程にフィードバックし、製膜工程において各層の膜厚調整操作を加える工程を含むことを特徴とするポリイミド多層フィルムの製造方法。
2)前記多層フィルムが、高耐熱性ポリイミド樹脂を含有する層、および熱可塑性ポリイミド樹脂を含有する層から形成されることを特徴とする、1)に記載のポリイミド多層接着フィルムの製造方法。
3)前記多層フィルムが、高耐熱性ポリイミド樹脂を含有する層の両面に熱可塑性樹脂ポリイミド樹脂を含有する層を配した構造である、2)に記載のポリイミド多層接着フィルムの製造方法。
4)前記特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基が、メチル基、スルホン基、フルオロメチル基から選択される1つ以上の官能基である1)乃至3)に記載のポリイミド多層接着フィルムの製造方法。
5)前記多層フィルムを製膜する工程では、特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を有するポリイミド樹脂またはその前駆体の溶液を共押出−流延塗布製膜法により製膜されることを特徴とする1)乃至4)に記載のポリイミド多層接着フィルムの製造方法。
6)前記多層フィルムを製膜する工程では、少なくとも一層以上のポリイミド樹脂を含む層からなるフィルムの表面に、ポリアミド酸またはポリイミド樹脂を含有する溶液を塗工し、加熱・乾燥する方法により製膜されることを特徴とする1)乃至5)に記載のポリイミド多層接着フィルムの製造方法。
すなはち、本発明のポリイミド多層フィルムの製造は、多層を構成するポリイミドフィルムに特徴的な赤外線吸収波長を有するポリイミド樹脂層で製膜されており、その後の膜厚測定工程において、該多層フィルムの厚さ方向に赤外線を照射し、通過した赤外線の吸収波長の分布を測定し、各層の特徴的な波長領域の赤外線の吸収量から、各層の膜厚寸法を算出し、その得られた膜厚寸法データを製膜工程にフィードバックし、各層の膜厚を制御、調整するので、各層の膜厚寸法が均一で連続生産性の優れたポリイミド多層フィルムが製造できる。
本発明に用いるポリイミド多層フィルムの製造方法は、少なくとも二層以上の、ポリイミド樹脂を含有する多層フィルムの製造方法であって、少なくとも1つ以上の層が特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を有するポリイミド樹脂を主成分とする層である多層フィルムを製膜する工程、該フィルムの厚さ方向に赤外線を照射して赤外線の吸収波長の分布を測定し、各層の特徴的な波長領域の赤外線の吸収量から各層の膜厚寸法を算出する工程、算出した膜厚寸法データを多層フィルムの製膜工程にフィードバックし、製膜工程において各層の膜厚調整操作を加える工程を含むことを特徴としている。
21:支持体
22:乾燥炉
23:テンター炉
24:巻き取り機
25:繰り出し機
31:赤外線吸収方式の膜厚計
32:制御システム
33:膜厚調整手段
40:多層押出ダイ
41:注入路
42:マニホールド
43:ヒーター
44:流路
45:合流部
46:冷媒用流通路
47:モータ方式のリップ幅調整機構
51:塗工ダイ
本発明に用いるポリイミド多層接着フィルムの製造方法は、少なくとも二層以上の、ポリイミド樹脂を含有する多層接着フィルム及びその製造方法である。
本発明に用いるポリイミド多層接着フィルムの製造方法は、少なくとも二層以上の、ポリイミド樹脂を含有する多層フィルムの製造方法であって、少なくとも1つ以上の層が特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を有するポリイミド樹脂を主成分とする層である多層フィルムを製膜する工程、該フィルムの厚さ方向に赤外線を照射して赤外線の吸収波長の分布を測定し、各層の特徴的な波長領域の赤外線の吸収量から各層の膜厚寸法を算出する工程、算出した膜厚寸法データを多層フィルムの製膜工程にフィードバックし、製膜工程において各層の膜厚調整操作を加える工程を含むことを特徴としている。
本発明に係る高耐熱性ポリイミド層とは、非熱可塑性ポリイミド樹脂を90wt%以上含有すれば、その分子構造、膜厚は特に限定されない。高耐熱性ポリイミド層に用いられる非熱可塑性ポリイミドは、ポリアミド酸を前駆体として用いて製造される。ポリアミド酸の製造方法としては公知のあらゆる方法を用いることができ、通常、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンを、実質的等モル量を有機溶媒中に溶解させて、制御された温度条件下で、上記酸二無水物とジアミンの重合が完了するまで攪拌することによって製造される。これらのポリアミド酸溶液は通常5〜35wt%、好ましくは10〜30wt%の濃度で得られる。この範囲の濃度である場合に適当な分子量と溶液粘度を得る。
1)芳香族ジアミンを有機極性溶媒中に溶解し、これと実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させて重合する方法。
2)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過小モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
3)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いてここに芳香族ジアミン化合物を追加添加後、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。
4)芳香族テトラカルボン酸二無水物を有機極性溶媒中に溶解及び/または分散させた後、実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
5)実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの混合物を有機極性溶媒中で反応させて重合する方法。
などのような方法である。これら方法を単独で用いても良いし、部分的に組み合わせて用いることもできる。
本発明において用いられるポリイミドフィルムは、上記の範囲の中で所望の特性を有するフィルムとなるように適宜芳香族酸二無水物および芳香族ジアミンの種類、配合比を決定して用いることにより得ることができる。
1.重合前または途中に重合反応液に添加する方法
2.重合完了後、3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する方法
3.フィラーを含む分散液を用意し、これをポリアミド酸有機溶媒溶液に混合する方法などいかなる方法を用いてもよいが、フィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合する方法、特に製膜直前に混合する方法が製造ラインのフィラーによる汚染が最も少なくすむため、好ましい。フィラーを含む分散液を用意する場合、ポリアミド酸の重合溶媒と同じ溶媒を用いるのが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさない範囲内で用いることもできる。
本発明に係る熱可塑性ポリイミド層は、ラミネート法により有為な接着力が発現されれば、当該層に含まれる熱可塑性ポリイミド樹脂の含有量、分子構造、膜厚は特に限定さない。しかしながら、有為な接着力を発現せしめるためには、実質的には熱可塑性ポリイミド樹脂を50wt%以上含有することが好ましい。
本発明においては、高耐熱性ポリイミド層若しくは接着層の何れか一方が、特徴的な赤外吸収波長を示す官能基を含むポリイミド樹脂を主成分とすることが必須である。高耐熱性ポリイミド層の両面に接着層がある場合、片方の接着層のみ、または、高耐熱性ポリイミド層のみ、または、各層それぞれが、特徴的な赤外吸収波長を示す官能基を含むポリイミド樹脂を主成分としてもよい。本発明において、特徴的な赤外吸収波長を示す官能基とは、400cm-1から4000cm-1の波数の赤外線を照射したときに、膜厚測定装置で明確に検出可能な吸収量を有する官能基であればよく、特に限定はされないが、最終的に得られる接着フィルムの特性を考慮すると、メチル基、スルホン基、フルオロメチル基のいずれかであることが特に好ましい。
1)ポリイミド樹脂を形成するモノマーとして、当該官能基を有するモノマーを使用する方法
2)ポリイミド樹脂若しくはその前駆体のポリアミド酸にグラフトさせる方法
が例示されるが、製造コストを考慮すると、1)の方法が特に好ましく用いられる。1)の方法を用いるにあたり、好ましく用いられるモノマーとしては、酸二無水物では、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、5,5’−2,2,2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチリデン−ビス−1,3−イソベンゾフランジオンが例示され、ジアミンでは、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ヘキサフルオロジメチルビフェニルなどが例示される。
本発明に係るポリイミド多層接着フィルムを得る方法の一例を以下に説明するが、これに限定されるものではない。
先ず、高耐熱性ポリイミドの前駆体を含む溶液と、熱可塑性ポリイミドを含む溶液若しくは熱可塑性ポリイミドの前駆体を含む溶液とを、二層以上の多層ダイ40に供給し、前記多層ダイ40の吐出口から両溶液を複数層10の液膜として押出す。次いで、多層ダイ40から押出された複数層10の液膜を、平滑な支持体21上(図1ではエンドレスベルト)に流延し、前記支持体21上の複数層10の液膜の溶媒の少なくとも一部を乾燥炉22内で揮散せしめることで、自己支持性を有する多層フィルム10が得られる。さらに、当該多層フィルム10を前記支持体21上から剥離し、最後に、当該多層フィルム10をテンター炉23にて高温(250−600℃)で充分に加熱処理することによって、溶媒を実質的に除去すると共にイミド化を進行させることで、目的のポリイミド多層フィルム10が得られ、巻き取り機24にて巻き取る。
この工程で使用することができる膜厚測定装置は、赤外線吸収方式の膜厚測定装置で400cm-1から4000cm-1の波長を持つ赤外線を被測定フィルムの厚み方向に垂直に照射すると、その透過してきた赤外線はその物質固有の波長に膜厚寸法に応じた吸収量の差異が計測され、その吸収量の差異から膜厚を算出する原理のものである。
よって、本発明においては、多層フィルムの少なくとも一層以上が、特徴的な赤外吸収波長を示す官能基を含むポリイミド樹脂を主成分とすることから、ポリイミド樹脂が持つ特有の波長の赤外線吸収量から多層フィルム全体の膜厚が算出でき、特徴的な赤外吸収波長を示す官能基を含むポリイミド樹脂層の赤外吸収量で該ポリイミド樹脂層の膜厚が算出できるのである。
例えば、多層フィルムが高耐熱性ポリイミド層と、当該高耐熱性ポリイミド層の両側の表面に形成される熱可塑性ポリイミドを含有する接着層で構成されており、一方の該接着層が特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を含むポリイミド樹脂が主成分となっており、かつもう一方の該接着層に別の特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を含むポリイミド樹脂が主成分のポリイミド三層フィルムの場合、前述の赤外線吸収方式の膜厚計で膜厚を計測すると、ポリイミド三層フィルムの全体の膜厚寸法と該接着層の各々の膜厚寸法が測定できることになる。そして、ポリイミド三層フィルムの全体の膜厚寸法から該接着層の各々の膜厚寸法を引けば、該高耐熱性ポリイミド層の膜厚寸法が算出されることは自明である。また、要求する該接着層の膜厚寸法が構成する両側の該接着層の膜厚寸法の総和で良かったり、該高耐熱性ポリイミド層の膜厚寸法のみを要求する場合、該接着層又は該高耐熱性ポリイミド層のどちらか一層に特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を含有すれば良い。
赤外線吸収方式の膜厚計31の設置場所は、該多層フィルムが測定できる場所であれば設置可能で、前もって加熱収縮量が解っていれば、多層ダイ40の吐出口の近傍や乾燥炉22の出口近傍に設置が可能であるが、最終的な膜厚寸法を高精度に測定する意味では、テンター炉23でイミド化が完了し、室温程度に冷却された多層フィルム10を測定するのが良く、テンター炉23と巻き取り機24の間に設置するのが好ましい。
膜厚計31で計測され、膜厚制御システム32で算出された各層の膜厚寸法データは、多層ダイ40に組み込まれた膜厚寸法制御手段33にフィードバックされ、所望の膜厚寸法から外れている場合は、所望の膜厚寸法に制御される。
本発明に採用可能な膜厚寸法制御手段33は、前記膜厚計31による各層の膜厚寸法データをフィードバックし、連続的に膜厚制御が可能な種々の膜厚寸法制御手段33が採用できる。
使用する多層ダイは、少なくとも二種類以上のポリイミド樹脂あるいはその前駆体を含む溶液から、ポリイミド多層フィルムを製造することができるものであれば、本発明で使用される多層ダイの層の数や形式は特に限定されない。
まず、ポリイミド樹脂あるいはその前駆体を含む溶液A、B、C(以下単に溶液A、B、Cともいう)は、それぞれ注入路41a、41b、41cを通じてダイ内部に注入される。各ポリイミド樹脂溶液は、注入路41より注入された後、マニホールド42a,42b,42cで幅方向に展開され、その状態で流路44に流入する。一般的に数十〜数百μm程度の薄さの流路44であるので、ポリイミド樹脂あるいはその前駆体を含む溶液には大きな流体抵抗が生じているので、溶液の粘度を低下させれば、溶液の流量は増大する。例えば、流路44aに流入する溶液Aを、流路44aの近傍を発熱体43aで加熱すると、ポリイミド樹脂溶液Aの粘度が低下し、結果として流路44aでの吐出量が増大する。吐出量が増大すれば、合流点45以降の溶液Aのポリイミド樹脂溶液B、Cに対する割合は増加し、液膜中のポリイミド樹脂溶液Aの膜厚が増大する。同様に流路44cに流入する溶液Cの膜厚は発熱体43cで制御できるのである。
また、多層フィルム全体の膜厚を調整するのは、リップ調整機構47であり、発熱体43a、及び43cでポリイミド樹脂溶液A、及びCの膜厚を調整して、リップ調整機構47で全体の膜厚を調整することにより、溶液A、及びCの膜厚割合は変化しないので、ポリイミド樹脂溶液Bの膜厚も調整可能となる。
但し、その場合は、膜厚計を幅方向に制御したいピッチのデータが採取できるよう、膜厚計を幅方向に複数台設置したり、1台の膜厚計を幅方向に移動させて、幅方向の膜厚寸法分布を計測する機構が必要となるが、フィルムの流れ方向と幅方向の膜厚分布を均一に安定化すれば高品質な多層フィルムを作製することができる。
連続的に発熱体を配置する際の、発熱体の間隔については特に制限は無く、制御に必要十分な間隔を選定すればよい。一般的には、発熱体の間隔が近すぎると、相互干渉が起こる恐れがあるため、5〜50mmの間隔で発熱体を配置することが好ましく、膜厚の均一性と相互干渉のバランスが最も良いことから、7〜20mmの間隔がより好ましい。
冷却設備としては、前記の多層ダイ内に冷媒を流通させる方法や多層ダイの外側に管を巻きつけて内部に冷媒を流通さる方法がある。また、多層ダイの外側に空気流を吹き付けても良いし、冷却効果を高める為にフィンを取り付けても良い。
赤外線吸収方式の膜厚計31の設置場所は、前記多層ダイ方式と同様であり、乾燥炉22と巻き取り機24の間に設置するのが好ましい。
塗工方式の膜厚制御方式は、塗工ダイの吐出量を樹脂を供給するポンプで制御したり、ロールコータによる塗工法であれば、基材フィルムとロールコータの間隙を制御したりして、塗工膜厚寸法を制御する方法が採用可能である。
するものではない。
10℃に冷却したDMFを76.2kg、p−フェニレンジアミン(PDA)を3.7kg加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、3,3’4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)を9.8kg徐々に添加し、30分間撹拌した。300gのBPDAを2kgのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が3500poiseに達したところで添加、撹拌をやめ、高耐熱性ポリイミド系化合物の前駆体のポリアミド酸溶液を得た。
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFともいう)239kgに4,4’−オキシジアニリン(以下、ODAともいう)6.9kg、p−フェニレンジアミン(以下、p−PDAともいう)6.2kg、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(以下、BAPPともいう)9.4kgを溶解した後、ピロメリット酸二無水物(以下、PMDAともいう)10.4kgを添加し1時間撹拌して溶解させた。ここに、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下、BTDAともいう)20.3kgを添加し1時間撹拌させて溶解させた。
10℃に冷却したDMFを78kg、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)を11.56kg加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、3,3’4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)を7.87kg徐々に添加した。続いて、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMEG)を380g添加し、30分間撹拌した。300gのTMEGを3kgのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が3000poiseに達したところで添加、撹拌をやめ、熱可塑性ポリイミド系化合物の前駆体のポリアミド酸溶液を得た。
10℃に冷却したDMFを82.1kg、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン(BAPS)を12.18kg加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、3,3’4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)を7.87kg徐々に添加した。続いて、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMEG)を380g添加し、30分間撹拌した。300gのTMEGを3kgのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が3000poiseに達したところで添加、撹拌をやめ、熱可塑性ポリイミド系化合物の前駆体のポリアミド酸溶液を得た。
10℃に冷却したDMFを86.2kg、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE−R)を6.6kg加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、2,3’3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(a−BPDA)を6.9kg徐々に添加した。300gのTPE−Rを3kgのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が3000poiseに達したところで添加、撹拌をやめ、熱可塑性ポリイミド系化合物の前駆体のポリアミド酸溶液を得た。
クラボウ社製多層膜厚測定装置KE−500MLを用いて、フィルム各層の膜厚を測定した。多層フィルムとして認識し、各層の膜厚を測定できた場合○、多層フィルムとして認識できず、各層の膜厚を測定できなかった場合を×とした。
合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液に、以下の化学脱水剤及び触媒を含有せしめた。
1.化学脱水剤:無水酢酸を高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸のアミド酸ユニット1モルに対して2.0モル
2.触媒:イソキノリンを高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸のアミド酸ユニット1モルに対して0.3モル
次いで、リップ幅650mmのマルチマニホールド式の3層共押出多層ダイから、外層が合成例3で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液、内層が高耐熱性ポリイミド溶液の前駆体のポリアミド酸溶液となる順番で形成された多層膜を連続的に押出して、当該Tダイスの下20mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。次いで、この多層膜を130℃×100秒で加熱することで、自己支持性のゲル膜へと転化せしめた。当該ゲル膜には、層間剥離は観察されず、外観良好な形状のゲル膜であった。さらに、エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がしてテンタークリップに固定し、300℃×30秒、400℃×50秒、450℃×10秒で乾燥・イミド化させ、接着フィルムを得た。
このポリイミド接着フィルムをクラボウ社製多層膜厚測定装置KE−500MLでフィルム各層の膜厚を測定した結果、ポリイミド樹脂の特徴である波数1700cm-1近傍の赤外線吸収量から三層フィルムの全膜厚寸法が計測され、メチル基の特徴である波数2900cm-1近傍の赤外吸収量からクラッド層1の膜厚寸法が、スルホン基の特徴である波数1300cm-1近傍の赤外吸収量からクラッド層2の膜厚寸法が、測定できたので、テンターから出た後の工程に、前記膜厚計を設置した。膜厚計は、多層フィルムの幅方向に120mm/秒の速度で可動しながら膜厚が測定できる機構になっている。膜厚計が測定した多層フィルムの各層の膜厚寸法とフィルムの幅方向の位置は、制御システムへ逐次転送され、制御システムは所望の膜厚寸法が得られるよう、発熱体には通電電流、又は通電時間の少なくとも1つ以上の通電信号を、リップ可動モータにはモータ回転角度である回転信号を各々1回/5秒間隔で送り、膜厚寸法制御をおこなった。
合成例3で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を使用する代わりに、合成例4で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を使用することを除いて、実施例1と同様に接着フィルムを作成した。各層の膜厚バラツキは、7%以下であった。
合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を使用する代わりに、合成例2で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を、
合成例3で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を使用する代わりに、合成例5で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を使用することを除いて、実施例1と同様に接着フィルムを作成した。各層の膜厚バラツキは、7%以下であった。
合成例3で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を使用する代わりに、合成例5で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を使用することを除いて、実施例1と同様に接着フィルムを作成した。
合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を使用する代わりに、合成例2で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を使用することを除いて、実施例1と同様に接着フィルムを作成した。
実施例1〜3、比較例1,2の各層の樹脂構成と層厚測定結果を表1に示す。
図3に示すマルチマニホールド式の多層ダイ40に発熱体43を取り付けた形式の三層共押出ダイを用い、ポリイミド三層フィルムの共押出製膜を実施した。コア層、クラッド層のポリイミド樹脂組成については表3に示した。
この三層共押出ダイは、外層(クラッド層1、及び2とする)両側の流路44の一部分が発熱体43(直径6.5mm、電気シースヒーター)で加熱できるようになっている。また、ダイのリップの間隔は0.8mmで、リップの幅調整機構47はモーターでリップの間隔を10μmの精度で可動調整できる機構となっている。これらの膜厚寸法調整機構は多層ダイの幅方向に、12.5mm間隔に設置されている。多層ダイの幅は600mmで、多層ダイに設けられた冷媒用流通孔46に冷媒を流通させ、0℃で冷却されている。
合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液に、以下の化学脱水剤及び触媒を含有せしめた。
1.化学脱水剤:無水酢酸を高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸のアミド酸ユニット1モルに対して2.0モル
2.触媒:イソキノリンを高耐熱性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸のアミド酸ユニット1モルに対して0.3モル
次いで、上記の高耐熱性ポリイミド樹脂溶液の前駆体のポリアミド酸溶液をコア層として、合成例3で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をクラッド層1に、合成例4で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をクラッド層2に、前記三層共押出ダイから、多層膜を連続的に押出して、15m/分の速度で移動するステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。次いで、この多層膜を130℃×100秒で加熱することで、自己支持性のゲル膜へと転化せしめた。当該ゲル膜には、層間剥離は観察されず、外観良好な形状のゲル膜であった。さらに、エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がしてテンタークリップに固定し、テンター炉内で300℃×30秒、400℃×50秒、450℃×10秒で乾燥・イミド化させ、両外層のクラッド層が熱可塑性ポリイミド系化合物であり、中央のコア層が高耐熱性ポリイミド系化合物からなるポリイミド三層フィルムが得られた。
得られたポリイミド三層フィルムをクラボウ社製多層膜厚測定装置KE−500MLでフィルム各層の膜厚を測定した結果、ポリイミド樹脂の特徴である吸収波長1700cm-1近傍の赤外線吸収量から三層フィルムの全膜厚寸法が計測され、メチル基の特徴である吸収波長2900cm-1近傍の赤外吸収量からクラッド層1の膜厚寸法が、スルホン基の特徴である吸収波長1300cm-1近傍の赤外吸収量からクラッド層2の膜厚寸法が、測定できたので、テンター炉から出た後の工程に、前記膜厚計を設置した。膜厚計は、多層フィルムの幅方向に120mm/秒の速度で可動しながら膜厚が測定できる機構になっている。膜厚計が測定した多層フィルムの各層の膜厚寸法とフィルムの幅方向の位置は、制御システムへ逐次転送され、制御システムは所望の膜厚寸法が得られるよう、発熱体には通電電流、又は通電時間の少なくとも1つ以上の通電信号を、リップ可動モータにはモータ回転角度である回転信号を、各々1回/5秒間隔で送り、膜厚寸法制御をおこなった。
その結果、制御システムで膜厚寸法制御をおこなわない時の各層の膜厚寸法のバラツキが20%に対し、膜厚寸法制御をおこなった時の各層の膜厚寸法のバラツキは1%以内であった。なお、膜厚寸法のバラツキは、得られたフィルムの機械的送り方向および幅方向について、クラボウ社製多層膜厚測定装置KE−500MLにて10mmピッチで測定して求めた。
合成例3で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をクラッド層1に使用する代わりに、合成例5で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をクラッド層1に使用し、合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液を使用する代わりに、合成例2で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をコア層に使用することを除いて、実施例1と同様の装置でポリイミド三層フィルムを作成した。コア層、クラッド層のポリイミド樹脂組成については表3に示した。
その結果、制御システムで膜厚寸法制御をおこなわない時の各層の膜厚寸法のバラツキが20%に対し、膜厚寸法制御をおこなった時の各層の膜厚寸法のバラツキは1%以内であった。
合成例4で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をクラッド層2に使用する代わりに、合成例3で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をクラッド層1、及びクラッド層2に使用することを除いて、実施例1と同様の装置でポリイミド三層フィルムを作成した。コア層、クラッド層のポリイミド樹脂組成については表3に示した。
その結果、制御システムで膜厚寸法制御をおこなわない時の各層の膜厚寸法のバラツキが20%に対し、膜厚寸法制御をおこなった時のコア層の膜厚寸法のバラツキは1%以内で、クラッド層の各層の膜厚寸法バラツキは2%以内であった。
合成例2で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液を使用する代わりに、合成例5で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をクラッド層1、及び2に使用することを除いて、実施例1と同様にポリイミド三層フィルムを作成した。コア層、クラッド層のポリイミド樹脂組成については表3に示した。
得られたポリイミド三層フィルムをクラボウ社製多層膜厚測定装置KE−500MLでフィルム各層の膜厚を測定した結果、ポリイミド樹脂の特徴である吸収波長の赤外線吸収量から三層フィルムの全膜厚寸法が計測されたが、各層の膜厚寸法は測定できず、各層の膜厚制御はできなかった。
合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液を使用する代わりに、合成例2で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をコア層に使用し、合成例4で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液を使用する代わりに、合成例3で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液をクラッド層2に使用することを除いて、実施例1と同様の装置でポリイミド三層フィルムを作成した。コア層、クラッド層のポリイミド樹脂組成については表3に示した。
得られたポリイミド三層フィルムをクラボウ社製多層膜厚測定装置KE−500MLでフィルム各層の膜厚を測定した結果、ポリイミド樹脂の特徴である吸収波長の赤外線吸収量から三層フィルムの全膜厚寸法が計測されたが、各層の膜厚寸法は測定できず、各層の膜厚制御はできなかった。
Claims (8)
- 高耐熱性ポリイミド層と、当該高耐熱性ポリイミド層の少なくとも一方の表面に形成される熱可塑性ポリイミドを含有する接着層を有したポリイミド多層接着フィルムであって、高耐熱性ポリイミド層若しくは接着層は、特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を含むポリイミド樹脂を主成分とし、各層の膜厚バラツキが各層の平均厚みの±10%以下となっていることを特徴とする、ポリイミド多層接着フィルム。
- 高耐熱性ポリイミド層と、当該高耐熱性ポリイミド層の少なくとも一方の表面に形成される熱可塑性ポリイミドを含有する接着層有した接着フィルムであって、該接着フィルムは、共押出−流延塗布法により製造されるとともに、高耐熱性ポリイミド層若しくは接着層は、特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を含むポリイミド樹脂を主成分することを特徴とする、ポリイミド多層接着フィルム。
- 高耐熱性ポリイミドと、当該高耐熱性ポリイミド層の両面に形成される熱可塑性ポリイミドを含有する接着層との三層構造からなる接着フィルムであって、上記三層から選ばれる少なくとも二つ以上の層が、それぞれに異なる特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を含むポリイミド樹脂を主成分とする層であることを特徴とする、請求項1または2に記載のポリイミド多層接着フィルム。
- 特徴的な赤外吸収波長を示す官能基が、メチル基、スルホン基、フルオロメチル基であることを特徴とする、請求項1乃至3に記載のポリイミド多層接着フィルム。
- 少なくとも二層以上の、ポリイミド樹脂を含有する多層フィルムの製造方法であって、少なくとも1つ以上の層が特徴的な赤外線吸収波長を示す官能基を有するポリイミド樹脂を主成分とする層であるポリイミド多層接着フィルムを製膜する工程、該フィルムの厚さ方向に赤外線を照射して赤外線の吸収波長の分布を測定し、各層の特徴的な波長領域の赤外線の吸収量から各層の膜厚寸法を算出する工程、算出した膜厚寸法データを多層フィルムの製膜工程にフィードバックし、製膜工程において各層の膜厚調整操作を加える工程を含むことを特徴とするポリイミド多層接着フィルムの製造方法。
- 前記ポリイミド多層フィルムが、高耐熱性ポリイミド樹脂を含有する層、および熱可塑性ポリイミド樹脂を含有する層から形成されることを特徴とする、請求項5に記載のポリイミド多層接着フィルムの製造方法。
- 前記ポリイミド多層フィルムが、高耐熱性ポリイミド樹脂を含有する層の両面に熱可塑性樹脂ポリイミド樹脂を含有する層を配した構造である、請求項6に記載のポリイミド多層接着フィルムの製造方法。
- 前記ポリイミド多層接着フィルムを製膜する工程では、少なくとも一層以上のポリイミド樹脂を含む層からなるフィルムの表面に、ポリアミド酸またはポリイミド樹脂を含有する溶液を塗工し、加熱・乾燥する方法により製膜されることを特徴とする請求項5乃至7に記載のポリイミド多層接着フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006548787A JP4901483B2 (ja) | 2004-12-17 | 2005-12-07 | ポリイミド多層接着フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004366546 | 2004-12-17 | ||
JP2004366535 | 2004-12-17 | ||
JP2004366535 | 2004-12-17 | ||
JP2004366546 | 2004-12-17 | ||
JP2006548787A JP4901483B2 (ja) | 2004-12-17 | 2005-12-07 | ポリイミド多層接着フィルムの製造方法 |
PCT/JP2005/022467 WO2006064700A1 (ja) | 2004-12-17 | 2005-12-07 | ポリイミド多層接着フィルムおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006064700A1 true JPWO2006064700A1 (ja) | 2008-06-12 |
JP4901483B2 JP4901483B2 (ja) | 2012-03-21 |
Family
ID=36587758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006548787A Active JP4901483B2 (ja) | 2004-12-17 | 2005-12-07 | ポリイミド多層接着フィルムの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080138637A1 (ja) |
JP (1) | JP4901483B2 (ja) |
KR (1) | KR20070086748A (ja) |
TW (1) | TWI386477B (ja) |
WO (1) | WO2006064700A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006189596A (ja) * | 2005-01-06 | 2006-07-20 | Central Glass Co Ltd | 光学多層膜フィルタの製造方法及び光学多層膜フィルタ |
KR20080063906A (ko) * | 2007-01-03 | 2008-07-08 | 에스케이씨 주식회사 | 접착력이 개선된 폴리이미드 필름 |
JP2009045821A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Kaneka Corp | ポリイミド前駆体溶液の多層膜及び接着フィルムの製造方法 |
JP2009045820A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Kaneka Corp | ポリイミド前駆体溶液の多層膜及び接着フィルムの製造方法 |
CN102007049B (zh) * | 2008-03-20 | 2013-05-08 | Inmat公司 | 具有纳米复合材料阻隔涂层的收集容器组件 |
JP5274207B2 (ja) * | 2008-11-10 | 2013-08-28 | 株式会社カネカ | ポリイミド系多層フィルムの製造方法 |
JP5549360B2 (ja) * | 2010-05-06 | 2014-07-16 | 東洋紡株式会社 | ポリイミドフィルムの製造方法及びポリイミドフィルムロール |
JP5608049B2 (ja) * | 2010-11-04 | 2014-10-15 | 株式会社カネカ | 多層フィルムの製造方法 |
JP5905738B2 (ja) * | 2012-02-27 | 2016-04-20 | 株式会社カネカ | 多層フィルムの製造方法 |
CN104335391A (zh) * | 2012-05-22 | 2015-02-04 | 日东电工株式会社 | 非水电解质蓄电装置用隔膜的制造方法及环氧树脂多孔膜的制造方法 |
MY171784A (en) | 2012-11-29 | 2019-10-29 | Kaneka Corp | Film manufacturing method, film manufacturing device, and jig |
JP6357838B2 (ja) * | 2014-04-01 | 2018-07-18 | 日本ゼオン株式会社 | 複層フィルムの製造方法、並びに位相差フィルムの製造方法 |
DE102014014511B4 (de) * | 2014-10-06 | 2023-10-19 | Reifenhäuser GmbH & Co. KG Maschinenfabrik | Coextrusionsvorrichtung, Einschichtextrusionsvorrichtung und Nachrüstkit sowie Verfahren zum Messen einer Schichtdicke, zum Herstellen einer Kunststofffolie und zum Nachrüsten einer Extrusionsvorrichtung |
DE102015215204A1 (de) * | 2015-08-10 | 2017-02-16 | Continental Automotive Gmbh | Herstellungsverfahren zum Herstellen eines elektromechanischen Aktors und elektromechanischer Aktor. |
JP6494844B1 (ja) * | 2017-10-31 | 2019-04-03 | 住友化学株式会社 | 樹脂フィルムの製造方法および微小キズが少ない樹脂フィルム |
CN117615526B (zh) * | 2024-01-24 | 2024-04-05 | 开平太平洋绝缘材料有限公司 | 一种覆铜板的制备工艺 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5624131A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Manufacture of thermosetting resin film |
JPH07102661B2 (ja) * | 1989-12-08 | 1995-11-08 | 宇部興産株式会社 | 多層押出ポリイミドフィルムの製法 |
JPH08112852A (ja) * | 1994-10-17 | 1996-05-07 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 層分布自動調整システム |
JPH1024484A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Nippon Paint Co Ltd | 熱可塑性樹脂シートの押出成形におけるバンクサイズの測定方法及び測定装置並びに膜厚制御方法及び膜厚制御装置 |
JP2000071309A (ja) * | 1998-09-01 | 2000-03-07 | Teijin Ltd | フィルムの製造方法 |
JP2002003795A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-09 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規接着剤組成物及びそれを用いた接合部材 |
JP2002321300A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-11-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 接着フィルム及びその製造方法 |
JP2002322276A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規な熱可塑性ポリイミド樹脂 |
JP2002363284A (ja) * | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規な熱可塑性ポリイミド樹脂 |
JP2004269675A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ボンディングシートおよびそれから得られるフレキシブル金属張積層板 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4147639B2 (ja) * | 1998-09-29 | 2008-09-10 | 宇部興産株式会社 | フレキシブル金属箔積層体 |
JP2003027034A (ja) * | 2001-07-17 | 2003-01-29 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 接着性カバーフィルム |
US20030215583A1 (en) * | 2002-05-20 | 2003-11-20 | Eastman Kodak Company | Sulfone films prepared by coating methods |
JP4195590B2 (ja) * | 2002-08-09 | 2008-12-10 | 株式会社カネカ | エポキシ樹脂層を有するボンディングシートおよびその製造方法 |
JP4175060B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2008-11-05 | 宇部興産株式会社 | ボンディングシ−トおよび積層体 |
-
2005
- 2005-12-07 WO PCT/JP2005/022467 patent/WO2006064700A1/ja active Application Filing
- 2005-12-07 KR KR1020077014739A patent/KR20070086748A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-12-07 JP JP2006548787A patent/JP4901483B2/ja active Active
- 2005-12-07 US US11/792,937 patent/US20080138637A1/en not_active Abandoned
- 2005-12-12 TW TW94143878A patent/TWI386477B/zh active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5624131A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Manufacture of thermosetting resin film |
JPH07102661B2 (ja) * | 1989-12-08 | 1995-11-08 | 宇部興産株式会社 | 多層押出ポリイミドフィルムの製法 |
JPH08112852A (ja) * | 1994-10-17 | 1996-05-07 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 層分布自動調整システム |
JPH1024484A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Nippon Paint Co Ltd | 熱可塑性樹脂シートの押出成形におけるバンクサイズの測定方法及び測定装置並びに膜厚制御方法及び膜厚制御装置 |
JP2000071309A (ja) * | 1998-09-01 | 2000-03-07 | Teijin Ltd | フィルムの製造方法 |
JP2002003795A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-09 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規接着剤組成物及びそれを用いた接合部材 |
JP2002321300A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-11-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 接着フィルム及びその製造方法 |
JP2002322276A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規な熱可塑性ポリイミド樹脂 |
JP2002363284A (ja) * | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規な熱可塑性ポリイミド樹脂 |
JP2004269675A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ボンディングシートおよびそれから得られるフレキシブル金属張積層板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200634126A (en) | 2006-10-01 |
TWI386477B (zh) | 2013-02-21 |
KR20070086748A (ko) | 2007-08-27 |
US20080138637A1 (en) | 2008-06-12 |
WO2006064700A1 (ja) | 2006-06-22 |
JP4901483B2 (ja) | 2012-03-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4901483B2 (ja) | ポリイミド多層接着フィルムの製造方法 | |
JP5238489B2 (ja) | 多層ポリイミドフィルムの製造方法および多層ポリイミドフィルム | |
JP5766125B2 (ja) | 多層ポリイミドフィルム及びそれを用いたフレキシブル金属張積層板 | |
WO2012081478A1 (ja) | 三層共押出ポリイミドフィルムの製造方法 | |
JP2014040003A (ja) | 多層共押出ポリイミドフィルムの製造方法 | |
JP2009117192A (ja) | 絶縁型発熱体 | |
JP5735287B2 (ja) | 多層ポリイミドフィルム及びそれを用いたフレキシブル金属箔張積層板 | |
JP2006218767A (ja) | ポリイミド系多層フィルムの製造方法およびその利用 | |
JP2008188778A (ja) | ポリイミド前駆体溶液の多層膜、多層ポリイミドフィルム、片面金属張積層板、および多層ポリイミドフィルムの製造方法 | |
JP5711989B2 (ja) | ポリイミド系多層フィルムの製造方法 | |
JP5274207B2 (ja) | ポリイミド系多層フィルムの製造方法 | |
JP2006110772A (ja) | 接着フィルムの製造方法 | |
JP2007230019A (ja) | 金属張積層板の製造方法 | |
JP4838509B2 (ja) | フレキシブル金属張積層板の製造方法 | |
JP2005305968A (ja) | 接着フィルムの製造方法 | |
JP2007098672A (ja) | 片面金属張積層板 | |
JP5839900B2 (ja) | 多層ポリイミドフィルムの製造方法 | |
JP5608049B2 (ja) | 多層フィルムの製造方法 | |
WO2007037192A1 (ja) | ポリイミド樹脂積層フィルム | |
JP2006316232A (ja) | 接着フィルムおよびその製造方法 | |
JP5985733B2 (ja) | 多層ポリイミドフィルムの製造方法 | |
JP2006056186A (ja) | ポリイミド系化合物多層フィルムの製造方法、及び、該製造方法に好適に用いられるマルチマニホールドダイ | |
JP2006159785A (ja) | 接着フィルムの製造方法 | |
JP2009045820A (ja) | ポリイミド前駆体溶液の多層膜及び接着フィルムの製造方法 | |
JP2006199871A (ja) | 接着フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081027 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111021 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111129 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111227 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4901483 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150113 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150113 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |