JPWO2006025503A1 - チタニウム含有シリカゾルおよびその製造方法、防汚被膜およびインク受容層付基材、ならびに記録用基材の再生方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明は、PET、塩化ビニルなどの樹脂製フィルムシート、紙、鋼板、布等の印刷に用いられる基材上にインク受容層が形成されてなる、インク受容層付基材などに関する。さらに、本発明は、記録用基材の再生方法に関する。
このような問題を解決するために、海中生物の付着防止を目的として、船底や漁網などの表面に防汚剤が適用されている。具体的には、有機防汚剤に、防汚剤を適正に溶出させるための加水分解性樹脂などの展色剤を配合した防汚剤組成物が広く使用されている。また、防汚性を有する展色剤、たとえば室温硬化性シリコーンゴム等は、防汚剤としても使用されている。しかしながら、これらの防汚剤組成物では、満足できる防汚性が得られていない。
特許文献6(特開2000−192021号公報)には、基材表面に被覆した金属酸化物被膜であって、高さ方向に25〜100nmの凹凸を有するとともに、且つそのピッチが10〜100ミクロンの表面形状を有することを特徴とする親水性・防曇防汚基材に関する発明が開示されており、同金属酸化物被膜は、高硬度で透明性に優れ、且つ長期にわたり防汚性能を維持可能であることが記載されている。そしてこのような親水性・防曇防汚基材の製造方法として、マトリックス形成用の有機金属化合物と、吸水性および/または光触媒活性を示す超微粒子とを溶媒中に添加して均一に攪拌混合した溶液を基材表面に塗布し、加水分解、縮重合反応をさせたのち、乾燥・焼成(350〜700℃)して基材表面に規則性のある凹凸を有する金属酸化物被膜を形成させる方法が開示されている。
一方、インクジェット方式による印刷は、従来の多色印刷やカラー写真方式と同様の画質の印刷が可能であり、しかも高速化、多色化が容易であり、さらに部数の少ない場合は従来の印刷方式に比較して低コストであることから、種々の用途に普及しつつある。しかしながら、インクジェット方式による印刷の普及は、普通紙、コピー用紙等の紙類やOHPシート等の印刷基材の大量消費の一因ともなっている。
また本発明は、インクジェット印刷等による印字または印画を消色することが可能なインク受容層付基材およびその製造方法を提供することを目的とする。
(a)以下の微粒子(a1)または微粒子(a2);
(a1):平均粒子径が2〜50nmのチタニア微粒子、および平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子、
(a2):平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子の表面をチタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子、ならびに
(b)分散媒
からなることを特徴としている。
R11 nTiR12 4-n ・・・(1)
〔ここで、nは1〜4の整数である。
R11は炭素数1〜6のアルコキシ基であり、n=2または3のとき、2つのR11どうしが結合して下記一般式(1a)で表される環構造を形成してもよく、さらに一般式(1a)の中の酸素原子に隣接する炭素原子の1つに結合している2つの水素原子が酸素原子に置換されて下記一般式(1b)で表される環構造を形成してもよい。
R21TiR22R23 2 ・・・(2)
〔ここで、R21は炭素数1〜4のアルコキシ基であり、R22は下記一般式(2a)で表される有機基であり、R23は下記一般式(2b)で表される有機基である。
R31 4Ti・[P(OC2wH2w+1)2(OH)]2 ・・・(3)
〔ここで、R31は炭素数1〜20のアルコキシ基であり、
該アルコキシ基中の水素原子の一部は、炭素数が4〜12であり、エーテル結合、二重結合の少なくとも1つを有する有機基で置換されていてもよい。
前記チタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)、または前記チタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子(a2)を構成するSiおよびTiの含量は、SiO2/TiO2重量比に換算して5〜21,000の範囲にあることが好ましい。
前記多孔質シリカ微粒子の表面電荷量は、該微粒子1g当たり10〜150μeqの範囲にあることが好ましい。
本発明に係る前記チタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)ならびに前記分散媒(b)からなるチタニウム含有シリカゾル(a1s)の製造方法は、平均粒子径が2〜50nmのチタニア微粒子および分散媒(b)からなるチタニアゾルと、平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子および分散媒(b)からなるシリカゾルとを混合することを特徴としている。
本発明に係るインク受容層形成用塗布液は、前記チタニウム含有シリカゾルにバインダー(c′)が分散してなることを特徴としている。
また本発明に係るインク受容層形成用塗布液は、
前記微粒子(a1)または前記微粒子(a2)を100重量部、および前記バインダー(c′)を5〜7重量部含み、
前記分散媒(b)の重量(WB)と、前記微粒子(a1)または前記微粒子(a2)、および前記バインダー(c′)の合計の重量(WA+WC')との比が、WB:(WA+WC')=99.9〜50:0.1〜50〔ただし合計を100とする。〕であり、
前記微粒子(a1)または前記微粒子(a2)を構成する、SiおよびTiの含量が、SiO2/TiO2重量比に換算すると5〜21,000の範囲にある
ことが好ましい。
本発明のインク受容層形成用塗布液の第2の製造方法は、前記表面をチタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子(a2)が前記分散媒(b)に分散してなるチタニウム含有シリカゾル(a2s)、バインダー(c′)及び必要に応じてさらに前記分散媒(b)を混合することを特徴としている。
本発明のインク受容層付記録用基材の製造方法は、前記インク受容層形成用塗布液を、基材表面に塗布した後、乾燥させることを特徴としている。
この防汚被膜を船底表面に適用した場合は、緑藻類の付着を抑止することが可能であり、天井材、壁材、紙類などの表面に適用した場合は、防汚被膜上に、塵埃、油煙、皮脂等の主として有機系の汚れ物質が付着しても、紫外線照射や酸性ガスとの接触により基材表面上の汚れ物質を分解することができる。基材が壁材や紙類であれば、いわゆる落書きなどインク等で書かれた汚れに対して分解効果が発揮され、汚れをなくすことができる。
また、本発明の記録用基材の再生方法を用いれば、普通紙、コピー用紙等の紙類やOHPシート等の印刷基材の大量消費を抑制することができる。
なお、本明細書において「防汚」とは、特に断りのない限り、汚れ物質の付着自体の防止、および付着した汚れ物質の分解の両者を意味する。
また本明細書においては、インク受容層付記録用基材の表面に印刷された印字または印画等に対して、紫外線を照射し、あるいは酸性ガスまたはオゾンを接触させて、印字または印画等を消去することを「消色」、そのような特性を「消色性」という。
本発明に係るチタニウム含有シリカゾルは、チタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)(本明細書において単に「微粒子(a1)」ともいう。)、またはチタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子(a2)(本明細書において単に「微粒子(a2)」ともいう。)、ならびに分散媒(b)からなる。したがって本発明に係るチタニウム含有シリカゾルの形態として、チタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)ならびに分散媒(b)からなるチタニウム含有シリカゾル(本明細書において「チタニウム含有シリカゾル(a1s)」ともいう。)と、表面修飾多孔質シリカ微粒子(a2)ならびに分散媒(b)からなるチタニウム含有シリカゾル(本明細書において「チタニウム含有シリカゾル(a2s)」ともいう。)とが挙げられる。
チタニア微粒子:
本発明に用いられるチタニア微粒子は、紫外線等の特定のエネルギーを持つ光の照射により、有機物の酸化還元反応に対して触媒作用を示す。チタニア微粒子は、無定形のチタニア微粒子または結晶性のチタニア微粒子のいずれでもよく、結晶性の二酸化チタンであれば、その結晶型はアナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型のいずれでもよく、またこれらの混合物でもよい。本発明においてチタニア微粒子は、チタニアゾルの状態で、多孔質シリカ微粒子が分散したシリカゾルと混合される。
前記チタニウム含有シリカゾルを防汚塗膜形成用組成物の原料として用いる場合であれば、平均粒子径がこの範囲よりも小さいと、チタニアゾルや本発明のチタニウム含有シリカゾルの分散安定性が悪くなり、平均粒子径がこの範囲よりも大きいと、本発明のチタニウム含有シリカゾルを用いて形成される防汚被膜の透明性が低下するために、該防汚被膜が適用された基材の表面に、くすみ等の外観の悪化が生じたり、該チタニア微粒子の光触媒機能が充分に発揮されない場合がある。
チタニア微粒子の粒子性状については特に限定はなく、球状粒子または非球状粒子のいずれであってもよく、また多孔質粒子であってもよい。
前記チタニア微粒子が分散したチタニアゾルの出発原料としては、硫酸チタニウム、塩化チタニウムなどのチタン化合物、結晶型がアナターゼ型および/またはルチル型、ブルッカイト型である粉末状のチタニアなどが用いられる。出発原料として平均粒子径が2〜50nmよりも大きいチタン化合物またはチタニア粉末を用いる場合には、それらを粉砕して粒径を小さくして使用する。このようなチタニア粉末としては、市販されている超微粒子状酸化チタンをそのまま、あるいは、焼成して使用することもできる。
本発明に用いられるシリカ微粒子は、多孔質シリカ微粒子、すなわち比表面積の大きいシリカ微粒子であって、BET法により求めた比表面積は300m2/g以上であり、好ましくは400m2/g以上である。
比表面積がこのような範囲にある多孔質シリカ微粒子とチタニアゾルとを含有するチタニウム含有シリカゾルや、該多孔質シリカ微粒子をチタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子を含有するチタニウム含有シリカゾルを含んでなる防汚被膜は、紫外線照射または酸性ガスとの接触により優れた防汚効果を発揮することが可能となる。
前記チタニウム含有シリカゾルを防汚塗膜形成用組成物の原料として用いる場合であれば、平均粒子径がこの範囲よりも小さいと、前記多孔質シリカ微粒子を分散させたゾルやチタニウム含有シリカゾルの分散安定性が低くなる傾向があり、またこの範囲よりも大きいと、チタニウム含有シリカゾルを用いて形成される防汚被膜の透明性が低下するために、防汚被膜が形成された基材表面に外観の悪化が生じる場合や、該多孔質シリカ微粒子と共存するチタニア微粒子の光触媒機能が充分に発揮されない場合がある。
前記チタニウム含有ゾルをインク防汚塗膜形成用組成物の原料として用いる場合であれば、表面電荷量が10μeq/g未満であると、前記多孔質シリカ微粒子を分散させたゾルや本発明のチタニウム含有シリカゾルが不安定となる傾向があり、150μeq/gを超える場合は該ゾルの粘性が高くなる傾向にあり、該多孔質シリカ微粒子を主成分として含む防汚被膜形成用組成物の粘度も高く、均一な被膜を形成することが困難となる。
本発明に用いられる多孔質シリカ微粒子の製造方法は、格別に限定されるものではなく、公知の製造方法を適用することができる。このような製造方法としては、たとえば特開2001−233611号公報に開示されているような、シリカ以外の無機化合物をも含有するシリカ微粒子から特定の元素を除去することを特徴とする多孔質シリカ微粒子の製造方法が挙げられ、好適には以下に説明するような、水に分散された、核粒子としてのシリカ−アルミナ系シリカ微粒子の表面をシリカで被覆し、次に脱アルミニウム処理を行って多孔質シリカ微粒子を調製する方法が挙げられる。
核粒子としては、シリカ−アルミナ系シリカ微粒子などの微粒子が用いられ、通常これらはゾル状の分散液の形態で用いられる。このようなゾル状の分散液は、公知の製法により得られる。たとえば、珪酸塩の水溶液および/または珪酸液と、アルカリ可溶であるアルミン酸ナトリウムなどの無機化合物の水溶液とを、pH10以上のアルカリ水溶液中に、または必要に応じて種粒子としてのSiO2−Al2O3(SiとAlとの複合酸化物)が分散したpH10以上のアルカリ水溶液中に、同時に添加することにより得られる。ここで、前記種粒子の分散液は、SiO2−Al2O3等に対応する金属塩、金属塩の混合物または金属アルコキシド等に、酸またはアルカリを添加して該金属塩などを加水分解したり、必要に応じて加熱または、加熱しながら成長させることによって得られる。
シリカ−アルミナ系シリカ微粒子のゾル状の分散液に添加されるシリカ被覆層用原料としては、Siのアルカリ金属塩(水ガラス)を脱アルカリして得られる珪酸液が特に好ましい。前記核粒子の分散媒が水単独の場合、または水および有機化合物の混合物であって有機化合物に対する水の比率が高い場合には、珪酸液による被覆処理も可能である。珪酸液で被覆処理する場合には、前記分散液中に珪酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えて珪酸を重合させ、珪酸を前記核粒子表面に沈着させる。珪酸の添加量は、シリカ−アルミナ系シリカ微粒子が核粒子の場合は、後述する酸添加による脱アルミニウム処理が可能な範囲の量にする。
シリカ被覆層が形成された前記核粒子から、該核粒子を構成するアルミニウムの一部または全部を除去することにより、外殻としての被覆層の内部に空洞を有する中空球状微粒子を製造することができる。核粒子を構成するアルミニウムの一部または全部を除去するには、前記核粒子分散液に無機鉱酸や有機酸を添加することによってアルミニウムを溶解除去する方法や、あるいは、前記核粒子分散液と陽イオン交換樹脂とを接触させてアルミニウムをイオン交換除去する方法を例示することができる。
本発明に用いられる分散媒(b)としては、水;
メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、メチルイソカルビノールなどのアルコール類;
アセトン、2−ブタノン、エチルアミルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;
ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、3,4−ジヒドロ−2H−ピランなどのエーテル類;
2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、エチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;
2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、2−ブトキシエチルアセテートなどのグリコールエーテルアセテート類;
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、エチレンカーボネートなどのエステル類;
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;
ヘキサン、ヘプタン、iso−オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;
塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロプロパン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類;
ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類;
N−メチル−2−ピロリドン、N−オクチル−2−ピロリドンなどのピロリドン類
などを例示することができる。これらの分散媒は、後述する防汚被膜形成用組成物またはインク受容層形成用塗布液を調製する際のバインダーとの相溶性に応じて選択される。
なお、本明細書において、前記分散媒(b)を後述するインク受容層形成用塗布液の原料として用いる場合には、この分散媒(b)を「水および/または有機溶媒からなる溶媒(b′)」ということもある。
<チタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)ならびに分散媒(b)からなるチタニウム含有シリカゾルの製造方法>
本発明のチタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)ならびに分散媒(b)からなるチタニウム含有シリカゾル(チタニウム含有シリカゾル(a1s))は、たとえばチタニア微粒子と多孔質シリカ微粒子との混合物を分散媒に分散させることによっても得ることができるが、好適には前記チタニア微粒子および前記分散媒(b)からなるチタニアゾルと、前記多孔質シリカ微粒子および前記分散媒(b)からなるシリカゾルとを混合することにより製造される。
本発明に用いられるチタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子(a2)(以下、「表面修飾多孔質シリカ微粒子(a2)」ともいう。)においては、多孔質シリカ微粒子の表面がたとえば下記の式(4)で示される構造を有するチタニア系の被膜で覆われていると考えられ、この被膜がチタニア微粒子などと同様の光触媒機能を発揮すると考えられる。
R11 nTiR12 4-n ・・・(1)
〔ここで、nは1〜4の整数である。
R12は、炭素数1〜5の炭化水素基、または下記一般式(1c)、(1d)、(1e)、(1f)、(1g)もしくは(1h)で表される有機基である。
R21TiR22R23 2 ・・・(2)
〔ここで、R21は炭素数1〜4のアルコキシ基であり、R22は下記一般式(2a)で表される有機基であり、R23は下記一般式(2b)で表される有機基である。
R31 4Ti・[P(OC2wH2w+1)2(OH)]2 ・・・(3)
〔ここで、R31は炭素数1〜20、好ましくは2〜10のアルコキシ基であり、
該アルコキシ基中の水素原子の一部は、炭素数が1〜12、好ましくは4〜8であり、エーテル結合、二重結合の少なくとも1つを有する有機基で置換されていてもよい。
前記R11の例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基などが挙げられる。
前記R12の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ペンチル基などが挙げられる。
前記R31の例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基、置換プロポキシ基、置換ブトキシ等などが挙げられる。
また平均粒子径がこの範囲よりも大きいと、前記チタニウム含有ゾルを防汚塗膜形成用組成物の原料として用いる場合であれば、チタニウム含有シリカゾルを用いて形成される防汚被膜の透明性が低下するために、該防汚被膜を有する基材の表面にくすみ等の外観の悪化が生じる場合や、光触媒機能が充分に発揮されない場合があり、また、前記チタニウム含有ゾルをインク受容層形成用塗布液の原料として用いる場合であれば、チタニウム含有シリカゾルを用いて形成されるインク受容層の透明性が低下するために、インク受容層が形成された印刷用基材の表面にくすみ等の外観の悪化が生じる場合や、消色機能が充分に発揮されない場合がある。
他方、SiO2/TiO2が21,000を超える場合には、前記チタニウム含有ゾルを防汚塗膜形成用組成物の原料として用いる場合であれば、チタニア系の被膜の光触媒作用に基づく防汚効果が弱くなるために、汚れの分解に要する時間が著しく増大する傾向にあり、また、前記チタニウム含有ゾルをインク受容層形成用塗布液の原料として用いる場合であれば、前記チタニア微粒子の光触媒作用に基づく消色効果が弱くなるために、印字または印画の消色に要する時間が著しく増大する傾向にある。
本発明の表面修飾多孔質シリカ微粒子(a2)ならびに分散媒(b)からなるチタニウム含有シリカゾル(チタニウム含有シリカゾル(a2s))は、好ましくは前記多孔質シリカ微粒子と、水あるいは水および有機系分散媒とからなるシリカゾルを高速攪拌機で攪拌しながら、チタネート化合物を15℃以上で10分〜2時間かけて添加することにより得ることができる。攪拌が弱いと、チタネート系化合物が加水分解して凝集することがある。
また、このような表面修飾多孔質シリカ微粒子(a2)は光触媒作用に基づく消色作用に優れ、該微粒子を含有するインク受容層が形成された印刷用基材表面にインクで印字または印画しても、該印字または印画は、紫外線照射により消色され、さらには酸性ガス、オゾン等との接触によっても消色される。
本発明のチタニウム含有シリカゾルは、前記のチタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)または前記表面修飾多孔質シリカ微粒子(a2)、ならびに前記分散媒(b)からなり、後述する防汚被膜形成用組成物またはインク受容層形成用塗布液に配合するチタニウム含有シリカゾルとして用いることができる。
本発明のチタニウム含有シリカゾルの固形分濃度は、通常1〜30重量%であるが、この範囲に限定されるものではなく、後述するバインダー成分との混合や、後述する防汚被膜またはインク受容層の膜厚の調製を目的として適宜調整することが望ましい。
以下、本発明のチタニウム含有シリカゾルを用いた防汚被膜形成用組成物および防汚塗膜、ならびにインク受容層形成用塗布液およびインク受容層付記録用基材、ならびにこれらの製造方法、さらに記録用基材の再生方法について説明する。
本発明のチタニウム含有シリカゾルを用いると、該チタニウム含有シリカゾルとバインダー(c)とからなる防汚被膜形成用組成物を製造することができる。
前記バインダー(c)としては、有機樹脂、セルロース類、でんぷん、または無機化合物を用いることができる。前記有機樹脂としては、スチレン・無水マレイン酸共重合体、スチレン・アクリル酸アルキルエステル共重合体、ポリビニルアルコール、シラノール基を含むエチレン・ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、メチルエチルセルロース、ポリアクリル酸ソーダ、ポリエチレンポリアミン、ポリエステル、ポリアクリルアミド、ビニルピロリドン・酢酸ビニル共重合体、カチオン変性ポリウレタン樹脂、第3級窒素含有アクリル系樹脂(特開昭62−148292号公報参照)などが;前記セルロース類としては、バイオセルロースなどが;前記無機化合物としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなど、またはこれらの混合物、有機珪素の加水分解物、有機変性された無機化合物、セラミックスなどが挙げられる。
防汚被膜形成用組成物は、必要に応じて、本発明のチタニウム含有シリカゾル以外に微粒子(例えば、アンチモン系微粒子、シリカ系微粒子、アルミナ系微粒子、ジルコニア微粒子、炭酸カルシウム、クレイ、酸化チタン、酸化亜鉛、タルク等)、インクセット剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、抗菌剤等を含んでいてもよい。
基材上に前記防汚被膜形成用組成物を用いて層を形成した後、この層を乾燥させることによって防汚被膜を形成することができる。前記防汚被膜形成用組成物を基材上に塗工して防汚被膜を形成する場合、塗工方法には特に制限はなく、基材の種類に応じて、適切な塗工方法が採られる。具体的には、スプレー法、刷毛塗り法、デイッピング法、ロールコーター法、ブレードコーター法、バーコーター法、カーテンコーター法などの従来公知の方法を採用することができる。また乾燥方法としては、風乾など従来公知の方法を採ることができる。
前記防汚被膜形成用組成物の塗布量は、基材や用途に応じて適宜決定すればよく、たとえば基材が印刷用の紙またはOHPシートであれば、固形分重量で通常1〜50g/m2、好ましくは2〜30g/m2である。
前記防汚被膜を用いての基材の汚染防止は、基材上の防汚被膜に、有機化合物である汚れ物質が付着し、くすみや着色を発生した時に、該防汚被膜に紫外線等の光線を照射するか酸性ガスまたはオゾンと接触させることにより、汚れ物質が分解、除去されることによって達成される。
本発明の(a1)平均粒子径が2〜50nmのチタニア微粒子、および平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子と(b)分散媒とからなるチタニウム含有シリカゾル(a1s)から形成される防汚被膜においては、チタニア微粒子と多孔質シリカ微粒子との乾燥後の充填密度が高く、より多くのチタニア微粒子を多孔質シリカ微粒子に配合できるために、防汚被膜として適用された際に、すぐれた防汚効果が発揮されるものと考えられる。
本発明のインク受容層形成用塗布液は、前記の本発明のチタニウム含有ゾルとバインダー(c′)とを含んでいる。
なお本明細書においては、インク受容層形成用塗布液に含まれる前記分散媒(b)を、「水および/または有機溶媒からなる溶媒(B)」ともいう。
前記微粒子(a)〔すなわち、チタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)、またはチタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子(a2)〕を100重量部、および前記バインダー(c′)を5〜7重量部含み、
前記分散媒(b)〔水および/または有機溶媒からなる溶媒(B)〕の重量(WB)と、前記微粒子(a)および前記バインダー(c′)〔(a)と(c′)とを合わせて「固形分」ともいう。〕の合計の重量(WA+WC')との比が、WB:(WA+WC')=99.9〜50:0.1〜50〔ただし、合計を100とする。〕であり、
前記微粒子(a)〔すなわち、前記微粒子(a1)または前記微粒子(a2)〕を構成するSiおよびTiの含量が、SiO2/TiO2重量比に換算すると5〜21,000の範囲にある。
本発明のインク受容層形成用塗布液に用いられるバインダー(c′)としては、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、変性ポリビニルピロリドンなどの親水性ポリマーを使用することができる。
バインダー(c′)の使用量は、バインダーの種類によっても異なるが、前記微粒子(a)〔すなわち、前記微粒子(a1)または前記微粒子(a2)〕100重量部に対して、5〜7重量部であることが望ましい。なお、必要に応じて前記微粒子(a1)または前記微粒子(a2)が併用される場合には、その合計量100重量部に対してバインダー(c′)の量が重量部であることが望ましい。バインダー(c′)の量が5重量部未満では、インク受容層とシート等の基材との接着力が不足してインク受容層が剥離しやすく、またインク受容層の強度が不十分になることがあり、7重量部を越える場合はインクの受容量が低下したり、耐水性が低下することがある。
<インク受容層形成用塗布液の製造方法>
チタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)〔微粒子(a1)〕を含有するインク受容層形成用塗布液の製造方法は、格別限定されず、前記微粒子(a1)、バインダー(c′)ならびに水および/または有機溶媒からなる溶媒(B)を混合することにより製造することができるが、実用的な観点から、前記の微粒子(a1)が分散媒(b)に分散してなるチタニウム含有シリカゾル(a1s)、前記バインダー(c′)、ならびに前記の水および/または有機溶媒からなる溶媒(B)を混合して製造する方法が好ましい。
上記の各成分の混合操作には、通常は、ホモジナイザ−、ホモミキサ−、ロ−ラ−式分散機、3本ロ−ルミル、強力攪拌機、超音波、サンドミルなどの装置が用いられる。
本発明に係るインク受容層付記録用基材は、基材と、基材表面に形成されたインク受容層とからなる。インク受容層付記録用基材としては、シート状の基材(以下「基材シート」ともいう。)と、この基材表面に形成されたインク受容層とからなるインク受容層付記録用シートが好ましい。
前記のチタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)または前記表面修飾多孔質シリカ微粒子(a2)は、一次粒子であっても、二次粒子であってもよく、さらに、一次粒子と二次粒子とが混在していてもよい。この二次粒子とは、一次粒子が、塗布液中で容易に一次粒子に単分散しない程度に凝集した粒子をいう。なお、一次粒子の中には、二次粒子がほぐれて一次粒子化したものが含まれていてもよい。
インク受容層付記録用基材は、具体的には、前記インク受容層形成用塗布液を、スプレー法、ロールコーター法、ブレードコーター法、バーコーター法、カーテンコーター法などで、基材表面に塗布した後、乾燥することによって形成することができる。
このようにして形成されたインク受容層は、一般的には、染料系インクまたは顔料系インクのいずれを使用する場合であっても、少なくとも細孔径が3.4〜2,000nmの範囲にある細孔を有していることが好ましい。また、この細孔のうち、細孔径が3.4〜30nmである細孔の細孔容積が0.2〜3.0ml/gの範囲にあるか、または細孔径が30〜2,000nmである細孔の細孔容積が0.1〜2.5ml/gの範囲にあることが好ましい。
また、細孔径が30〜2,000nmである細孔の細孔容積が2.5ml/g未満であると、顔料系インクを充分に吸収することができず、顔料粒子が受容層表面に残存し、磨耗によって剥離して、インク受容層付記録用基材が色落ちすることがある。また、細孔径が30〜2,000nmである細孔の細孔容積が2.5ml/gより大きいと、顔料粒子の定着性が低下したり、印字後、顔料粒子の多くがインク受容層の下部(基材表面近傍)に溜まり、インク受容層付記録用基材に描かれた文字や画像が、鮮明さに欠けることがある。
(1)シートとインク受容層との重量比を予め求めたインク受容層付記録用シート約0.2〜0.3gを測定セル(0.5cc容積)に挿入し、QUANTA CHROME社製AUTOSCAN-60 PORPSIMETERを用いて、水銀接触角を130°とし、水銀表面張力を473dyn/cm2として、測定レンジを「高圧」に設定し、細孔分布を測定する。
(2)次いで、測定された細孔分布から、細孔径が3.4〜30nmである細孔の細孔容積および細孔径が30〜2,000nmである細孔の細孔容積を求め、測定した記録用シート中の受容層の重量から、受容層1gあたりの細孔容積を求める。
本発明のインク受容層付記録用基材に、インクジェット印刷などの手段により、印字または印画を行った後、紫外線の照射、酸性ガスまたはオゾンとの接触を行うと、該印字または印画を消色できる。
これらの方法の中では、紫外線の照射が好ましい。紫外線照射の際の光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、水銀キセノンランプ、フラッシュランプなどが挙げられる。また、太陽光の照射によっても効果がある。紫外線等の照射装置としては照射面積、照射線量などに応じて、走査形、非走査形いずれかを選べば良く、照射条件としては、印字または印画を分解させるのに必要な照射エネルギーに応じて照射幅などを決めれば良い。また、接触させる前記酸性ガスとしてはSO2ガス、CO2ガスなどが挙げられる。
前記印字または印画に用いられるインクとしては、前記消色手段により消色効果が得られインクであれば特に制限はなく、染料を含むインク、顔料を含むインクとも使用することができる。
C.I.Solvent Black27、C.I.Solvent Black28、C.I.Solvent Black22、C.I.Solvent Black29、C.I.Solvent Red83の1、C.I.Solvent Red125、C.I.SolventRed132、C.I.Solvent Blue47、C.I.Solvent Blue48、C.I.Solvent Blue70、C.I.Solvent Yellow88、C.I.Solvent Yellow89、C.I.Basic Violet1、C.I.Basic Violet3、C.I.Basic Red1、C.I.Basic Red8、C.I.Basic Black2、Basic Blue5、Basic Blue7、Basic Violet1、Basic Violet10、Basic Orange22、Basic Red1:1、Basic Yellow1、Basic Yellow2、Basic Yellow3などの塩基性染料。
これらの染料の溶媒としては、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン等のケトン類;メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類;セロソルブ、ブチロセロソルブ等のエーテル類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のアルキレングリコール類;エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル類;グリセリン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール類;N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の含窒素複素環式ケトン類;イオン交換水などが挙げられ、これらは1種単独で、または2種以上を混合して使用できる。
有機系顔料としては、アゾ顔料(たとえば、アゾレーキ、不溶性アゾ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料など)、多環式顔料(たとえば、フタロシアニン顔料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔料、チオインジゴ顔料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料など)、染料キレート(たとえば、塩基性染料型キレート、酸性染料型キレートなど)、ニトロ顔料、ニトロソ顔料、アニリンブラックなどが挙げられる。
[実施例]
以下、本発明を実施例によって説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
比表面積;
シリカ微粒子の比表面積は、シリカゾルを凍結乾燥機で乾燥させた後、110℃で20時間乾燥した試料について、比表面積測定装置(湯浅アイオニクス製、「マルチソーブ12」)を用いて窒素吸着法(BET法)により測定した。
シリカ微粒子の平均粒子径は、粒子径分布測定装置(Particle Sizing Systems社製:「NICOMP MODEL 380」)を使用して動的光散乱法により測定した。
表面電荷量;
シリカ微粒子の表面電荷量は、流動電位測定機(MUTEK社製:PCD02)を用いて、酸化物(SiO2+MOx)としての濃度が1重量%であるシリカ−アルミナ改質微粒子の純水分散体を調製し、測定容器に注ぎ、粒子電荷とは反対電荷を有するポリマーを用いて滴定することにより測定される。負電荷のシリカ微粒子は、ポリマー標準液として、0.001N poly−DADMAC(カチオン性高分子電解質)を用いて滴定される。
Ti、Al、NaおよびSiの含有量は、次の方法により測定した。
[1]Ti、Al含有量(TiO2、Al2O3含有量に換算)
以下に示す前処理を行ってから、ICP発光分析装置(セイコーインスツルメンツSPS1200A型)を用いて測定した。
2)サンドバス上で乾固し、1000℃の電気炉で約1分焼成する。
3)硫酸(1+1) 2mlと弗化水素酸10mlとを加えて、サンドバス上で硫酸の白煙が出るまで加熱後、蒸留水で100mlに希釈する。
[2]Na含有量(Na2O含有量に換算)
前記[1]と同様な前処理を行ってから、原子吸光光度計(日立Z-5300型)を用いて測定した。
チタネート含有シリカゾルを1000℃で1時間加熱した後の重量(固形分重量)を測定した。そして、前記[1]および[2]の方法と同様にしてこの固形分中のTiO2、Al2O3およびNa2Oの含有量の合計を求め、この値を固形分全体の重量から差し引き、SiO2の含有量とした。
シリカゾルの調整:
球状シリカゾルA1(シリカ平均粒子径30nm、溶媒:水、固形分濃度19.9重量%)3.51kgを純水12.0kgで希釈し、10分間攪拌して固形分濃度4.5重量%の水性シリカゾルを調製した。この水性シリカゾルに水ガラス318gを添加してpHを11に調整したのち、98℃まで昇温し、98℃で15分間保持した。
珪酸ナトリウム水溶液(SiO2濃度:4.9重量%)を陽イオン交換樹脂に通液させ、陽イオン交換し、SiO2濃度が4.8重量%である珪酸液11.0kgを得た。この珪酸液に純水6.52kgを添加して、SiO2濃度が3.0重量%である希釈珪酸液を調製した。次に、前記水性シリカゾルに前記希釈珪酸液17.5kgを98℃で6時間かけて添加し、更に98℃で1時間保持した。つづいて40℃以下まで冷却し、固形分濃度が4.8重量%、38.9℃での伝導度が1.819mS/cm、31.8℃でのpHが10.53であるシリカゾル26.8kgを得た。
前工程で得られたシリカゾル10.0kgに35%塩酸613gを1分以内の時間をかけて添加し、10分間攪拌して、シリカ微粒子中のアルミニウムイオンを溶出させてリーチング品とした。次いで、限外膜(旭化成株式会社製、SIP−1013)を用いて、リーチング品の固形分濃度が2倍になるまで一次濃縮を行なった。この濃縮されたシリカゾルを、同じく限外膜を使用して、液面を一定に保持しながら、そこにpH=3.0の希釈塩酸で5時間かけて洗浄し、更に純水で母液のpHが3.0になるまで洗浄し、純水洗浄品とした。
[実施例1−1〜1−7、比較例1−1〜1−6]
表2に示す各シリカゾル300gに、
固形分濃度:10重量%、
チタニア平均粒子径:10nm、
分散媒:イソプロピルアルコール、および
結晶型:アナターゼ型
であるチタニアゾルを、表2に示したSiとTiとの重量比(SiO2/TiO2換算)となるように加え、攪拌混合して、チタニウム含有シリカゾルを調製した。
[実施例2−1〜2−7、比較例2−1〜2−6]
表3に示す各シリカゾル300gに、チタネート系化合物(プレンアクト(登録商標) KR-44、味の素株式会社製、化合物名:イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート)を常温で1分間かけて添加し、その後常温で2時間かけて攪拌・混合することにより、チタニウム含有シリカゾルを得た。各シリカゾルに添加したチタネート系化合物の重量、および得られたチタニウム含有シリカゾル中のSiとTiとの重量比(SiO2/TiO2換算)を表3に示す。
前記チタネート化合物(プレンアクト(登録商標) KR-44)に代えて、テトライソプロポキシチタネートを使用した以外は前記実施例2−3と同様にして、チタニウム含有シリカゾルを得た。各シリカゾルに添加したチタネート系化合物の重量、および得られたチタニウム含有シリカゾル中のSiとTiとの重量比(SiO2/TiO2換算)を表3に示す。
実施例1−1において調製した各チタニウム含有シリカゾル100gと、セルロースバインダー(エチルセルロース水溶液、固形分濃度5重量%)とを、固形分の重量比がチタニウム含有シリカゾル:セルロースバインダー=75:25となるように混合し、防汚被膜形成用組成物を調製した。
水中生物付着防止試験:
実施例1−1において製造されたチタニウム含有シリカゾルが配合された防汚被膜形成用組成物、および実施例2−1において製造されたチタニウム含有シリカゾルが配合された防汚被膜形成用組成物を、それぞれポリエチレン製網材に10分間浸漬塗布して風乾した。前記組成物の塗着量は、乾燥後の重量で網100重量部に対してそれぞれ1重量部、であった。これらの網材、および防汚被膜形成用組成物が塗布されていない網材を恒温水槽(30℃)に浸し、自然光が当たる環境で3ヶ月放置した後、水槽から引き上げた。防汚被膜形成用組成物が塗布された2つの網材は、防汚被膜形成用組成物が塗布されていない網材に比べて、ミズゴケの繁茂が著しく抑制されていた。
前記のように調製された各防汚被膜形成用組成物を、バーコーダーを用いて普通紙の片面に5g/m2の量で塗布し、80℃で乾燥して、防汚被膜が形成されたインク受容層付普通紙を得た。なお、普通紙1枚につき1種類の防汚被膜形成用組成物を塗布した。
これらの防汚被膜を有するインク受容層付普通紙をダートチャンバーテスト機内(容積60L)に設置し、煙草3本(ニコチン、タール含有量16mg/本)を3分間燻煙させ、紙の表面に煙粒子が付着し汚れた状態で、ミニコンベア型UV照射装置(日本電池株式会社製)にて、紙面に高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射し、汚れが分解されるまでの時間を測定した。その結果を表2および表3に示す。
なお、汚れが分解されるまでの時間は、燻煙により紙の表面に煙粒子が付着して一度汚れた状態になった普通紙の色と、各防汚被膜形成用組成物を用いて対照用に作成したインク受容層付普通紙の色(白色)とを目視により比較して、同じ色になるまでの時間とした。
実施例1−1において調製した各チタニウム含有シリカゾル100gと、セルロースバインダー(エチルセルロース水溶液、固形分濃度5重量%)とを、固形分の重量比がチタニウム含有シリカゾル:セルロースバインダー=75:25となるように混合し、インク受容層形成用塗布液を調製した。
前記のように調製された各インク受容層形成用塗布液を、バーコーダーを用いて普通紙の片面に5g/m2の量で塗布し、80℃で乾燥して、インク受容層付普通紙を得た。なお、普通紙1枚につき1種類のインク受容層形成用塗布液を塗布した。
得られたインク受容層付普通紙に、純正の顔料インクおよび染料インクを用いてインクジェットプリンター(GRAPHTEC社製、Masterjet)により、パターンW(2cm四方のマス目いっぱいに入る大きさ、かつ約3mmの太さである、文字「W」)を黒色で印刷した。
印刷されたインク受容層付普通紙に、ミニコンベア型UV照射装置(日本電池株式会社製)によって、紙面に高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射し、前記パターンWが消色するまでの時間を測定した。その結果を表2および表3に示す。
また、ダートチャンバーテスト機内をオゾンガスで満たし、そこに前記の印刷がなされたインク受容層付普通紙を置き、前記パターンWが消色されるまでの時間を測定した。その結果を表2および表3に示す。
Claims (15)
- (a)以下の微粒子(a1)または微粒子(a2);
(a1):平均粒子径が2〜50nmのチタニア微粒子、および平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子、
(a2):平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子の表面をチタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子、ならびに
(b)分散媒
からなることを特徴とするチタニウム含有シリカゾル。 - 前記チタネート系化合物が下記一般式(1)〜(3)のいずれかで表されることを特徴とする請求項1に記載のチタニウム含有シリカゾル;
R11 nTiR12 4-n ・・・(1)
〔ここで、nは1〜4の整数である。
R11は炭素数1〜6のアルコキシ基であり、n=2または3のとき、2つのR11どうしが結合して下記一般式(1a)で表される環構造を形成してもよく、さらに一般式(1a)の中の酸素原子に隣接する炭素原子の1つに結合している2つの水素原子が酸素原子に置換されて下記一般式(1b)で表される環構造を形成してもよい。
R12は、炭素数1〜5の炭化水素基、または下記一般式(1c)、(1d)、(1e)、(1f)、(1g)もしくは(1h)で表される有機基である。
R21TiR22R23 2 ・・・(2)
〔ここで、R21は炭素数1〜4のアルコキシ基であり、R22は下記一般式(2a)で表される有機基であり、R23は下記一般式(2b)で表される有機基である。
R31 4Ti・[P(OC2wH2w+1)2(OH)]2 ・・・(3)
〔ここで、R31は炭素数1〜20のアルコキシ基であり、
該アルコキシ基中の水素原子の一部は、炭素数が4〜12であり、エーテル結合、二重結合の少なくとも1つを有する有機基で置換されていてもよい。
wは4〜20の整数である。〕。 - 前記チタニア微粒子および多孔質シリカ微粒子(a1)、または前記チタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子(a2)を構成するSiおよびTiの含量が、SiO2/TiO2重量比に換算して5〜21,000の範囲にあることを特徴とする請求項1または2に記載のチタニウム含有シリカゾル。
- 前記多孔質シリカ微粒子の表面電荷量が、該微粒子1g当たり10〜150μeqの範囲にあることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のチタニウム含有シリカゾル。
- 前記多孔質シリカ微粒子が、ゾル状のシリカ−アルミナ系シリカ微粒子の表面をシリカで被覆し、次いで脱アルミニウム処理して形成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のチタニウム含有シリカゾル。
- 平均粒子径が2〜50nmのチタニア微粒子および分散媒(b)からなるチタニアゾルと、平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子および分散媒(b)からなるシリカゾルとを混合することを特徴とする、平均粒子径が2〜50nmのチタニア微粒子、および平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子(a1)ならびに分散媒(b)からなるチタニウム含有シリカゾル(a1s)の製造方法。
- 平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子および分散媒(b)からなるシリカゾルにチタネート系化合物を添加することを特徴とする、平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子の表面をチタネート系化合物(a2)ならびに分散媒(b)からなるチタニウム含有シリカゾル(a2s)の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のチタニウム含有シリカゾルにバインダー(c)が分散してなる防汚被膜形成用組成物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のチタニウム含有シリカゾルにバインダー(c′)が分散してなるインク受容層形成用塗布液。
- 前記微粒子(a1)または前記微粒子(a2)を100重量部、および前記バインダー(c′)を5〜7重量部含み、
前記分散媒(b)の重量(WB)と、前記微粒子(a1)または前記微粒子(a2)、および前記バインダー(c′)の合計の重量(WA+WC')との比が、WB:(WA+WC')=99.9〜50:0.1〜50〔ただし合計を100とする。〕であり、
前記微粒子(a1)または前記微粒子(a2)を構成する、SiおよびTiの含量が、SiO2/TiO2重量比に換算すると5〜21,000の範囲にある
ことを特徴とする請求項9に記載のインク受容層形成用塗布液。 - 前記微粒子(a1)が前記分散媒(b)に分散してなるチタニウム含有シリカゾル(a1s)と、
前記バインダー(c′)と、
必要に応じてさらに前記分散媒(b)と
を混合することを特徴とする請求項9または10に記載のインク受容層形成用塗布液の製造方法。 - 前記微粒子(a2)が前記分散媒(b)に分散してなるチタニウム含有シリカゾル(a2s)と、
前記バインダー(c′)と、
必要に応じてさらに前記分散媒(b)と
を混合することを特徴とする請求項9または10に記載のインク受容層形成用塗布液の製造方法。 - 基材表面に、
(a1):平均粒子径が2〜50nmのチタニア微粒子、および平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子、または
(a2):平均粒子径が5〜100nmであり、BET法により求めた比表面積が300m2/g以上である多孔質シリカ微粒子の表面をチタネート系化合物で表面修飾してなる多孔質シリカ微粒子
を含むインク受容層が形成されていることを特徴とするインク受容層付記録用基材。 - 請求項9または10に記載のインク受容層形成用塗布液を、基材表面に塗布した後、乾燥させることを特徴とする請求項13に記載のインク受容層付記録用基材の製造方法。
- 請求項13に記載のインク受容層付記録用基材上にインクを用いて印刷を行い、印字または印画を形成させたのち、紫外線照射、酸性ガスまたはオゾンとの接触により該印字または印画の消色を行うことを特徴とする記録用基材の再生方法。
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