JPS64337B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

〔技術分野〕 この発明は光伝送用の光学ガラスフアイバを被
覆するための光学ガラスフアイバ用被覆材料に関
するものである。 〔従来技術〕 光伝送用媒体として使用される光学ガラスフア
イバは通常その直径が200μｍ以下であり、また
材質的に脆いためその表面に傷が発生しやすく、
この傷が応力集中源になり外部から応力が加わつ
た場合に容易に破断してしまう。このため、一般
に光学ガラスフアイバの表面にはプラスチツク被
覆が施されており、これによつて光学ガラスフア
イバの製造直後の初期強度の維持および耐久性の
向上がはかられている。 上記プラスチツク被覆の材料、つまり光学ガラ
スフアイバ用被覆材料としては種々のものが提案
されており、たとえば特開昭58−223638号公報に
は、(イ)高分子鎖中にアミド、尿素、ウレタンから
選ばれた１種以上の基を含み、これらの基の間の
結合がポリアルキレンポリエーテル、ポリアルキ
レンポリサイフアイド、ポリアルキレンポリエス
テルから選ばれた１種以上の構造を含み、かつこ
の高分子鎖の末端にモノエチレン性不飽和重合性
基を結合したオリゴマー、(ロ)そのホモポリマーの
ガラス転移温度が10℃以下のモノエチレン性不飽
和モノマーおよび(ハ)強い水素結合を形成し得るモ
ノエチレン性不飽和モノマーからなる組成物が、
放射線硬化により柔軟さと強靭さとを兼ね備えか
つ硬化速度が大きいためすぐれた光学ガラスフア
イバ用被覆材料として提案されている。 しかしながら、この組成物を放射線硬化して形
成される硬化被膜は上記すぐれた特徴を有するも
のの耐熱性および耐湿性に劣る傾向がみられ、た
とえばこの硬化被膜により被覆された光学ガラス
フアイバが高温下あるいは高湿下にさらされると
上記の硬化被膜が劣化して柔軟性が低下すること
がある。このため、この劣化後、特に上記光学ガ
ラスフアイバが低温になつたときにマイクロベン
デイングにより伝送特性が損なわれるおそれがあ
つた。 〔発明の目的および概要〕 そこで、この発明者らは、耐熱性および耐湿性
にすぐれるとともに柔軟性と強靭性とを満足しう
る硬化被膜を形成することができ、しかし硬化性
の良好な光学ガラスフアイバ用被覆材料を提供す
ることを目的として鋭意検討した結果、この発明
をなすに至つた。 すなわち、この発明は、(a)分子両末端に水酸基
を有する鎖状飽和炭化水素ポリマーに有機ジイソ
シアネートを反応させさらにこれにヒドロキシア
ルキルアクリレートまたはヒドロキシアルキルメ
タクリレートを反応させて得られる分子両末端に
アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する
鎖状飽和炭化水素ポリマー、(b)分子内に第３級ア
ミンを含有しない一価または多価アルコールとア
クリル酸またはメタクリル酸とのエステルからな
る１分子中に少なくとも１個のアクリロイル基ま
たはメタクリロイル基を有する化合物、(c)分子中
に第３級アミンを含有しかつ重合性炭素−炭素二
重結合を有する化合物および(d)重合開始剤からな
る光学ガラスフアイバ用被覆材料に係るものであ
る。 なお、以下、（メタ）アクリロイル基とあるい
はアクリロイル基またはメタクリロイル基を意味
する。また、（メタ）アクリル酸とあるはアクリ
ル酸またはメタクリル酸を、（メタ）アクリレー
トとあるいはアクリレートまたはメタクリレート
を、それぞれ意味し、これらの用語を含む化合物
名においても上記同様である。たとえば、（メタ）
アクリル酸アルキルエステルあるいはアクリル酸
アルキルエステルまたはメタクリル酸アルキルエ
ステルを意味し、またヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートとあるいはヒドロキシアルキル
アクリレートまたはヒドロキシアルキルメタクリ
レートを意味するものである。 〔発明の効果〕 この発明の光学ガラスフアイバ用被覆材料によ
れば、光学ガラスフアイバを被覆する被膜として
満足しうる柔軟性および強靭性を有する硬化被膜
を形成することができる。しかも、上記被覆材料
によれば、高温下や高湿下においても上記の柔軟
性が低下することのない硬化被膜つまり耐熱性お
よび耐湿性にすぐれた硬化被膜を形成することが
できる。また、上記被覆材料は、光学ガラスフア
イバの生産性の面から必要とされる硬化性を満足
しうるものである。 これらの効果は、上記被覆材料を上記ａ成分、
ｂ成分、ｃ成分およびｄ成分の組み合わせとした
ことによつて得られるものである。分子両末端に
（メタ）アクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水
素ポリマーであるａ成分は、上記被覆材料を硬化
させて形成される硬化被膜に柔軟性を与え、かつ
この硬化被膜を耐熱性および耐湿性にすぐれたも
のとしている。 このａ成分は通常固形あるいは高粘度であるた
め、このａ成分と、１分子中に少なくとも１個の
（メタ）アクリロイル基を有する化合物である液
状のｂ成分および分子中に第３級アミンを含有し
かつ重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物で
ある液状のｃ成分とを混合することによつて、上
記被覆材料は光学ガラスフアイバ用被覆材料とし
て適当な粘度に調整されている。 上記ｃ成分は後述のように上記被覆材料におい
て重要な成分であるが、このｃ成分を単独で上記
粘度調整のために使用すると硬化被膜の柔軟性が
低下して硬くなるという欠点がある。上記ｂ成分
はこの欠点を解消するために重要であり、このｂ
成分の使用によつて硬化被膜の柔軟性を光学ガラ
スフアイバを被覆する被膜として満足しうる程度
に維持できかつ上記被覆材料の粘度を適度に調整
しうる。 上記ｃ成分は、重合開始剤であるｄ成分によつ
て上記被覆材料に付与される硬化性をさらに高め
て光学ガラスフアイバ用被覆材料として必要とさ
れる速硬化性を上記被覆材料に与えるとともに、
硬化被膜に必要とされる強じん性を与えている。 〔発明の構成〕 上記のａ成分は例えば次のようにして得られ
る。すなわち、分子両末端に水酸基を有する鎖状
飽和炭化水素ポリマーに有機ジイソシアネートを
反応させてこのポリマーの分子両末端にイソシア
ネート基を導入し、さらにこれにヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレートを反応させる。これに
より分子両末端に（メタ）アクリロイル基を有す
る鎖状飽和炭化水素ポリマーが得られる。また、
上記鎖状飽和炭化水素ポリマー、有機ジイソシア
ネートおよびヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
レートを反応器中に一度に投入して上記反応を１
段階で行われるようにしてもよい。 上記の分子両末端に水酸基を有する鎖状飽和炭
化水素ポリマーとしては、直鎖状であつても一部
分枝を有するものであつてもよく、その数平均分
子量（ポリスチレンを基準物質としたGPC法に
よる）は通常200〜10000程度、より好ましくは
1000〜3000程度である。このポリマーの具体例と
しては例えば次式のものがあげられる。 HO−（CH₂−）_oOH ……（） （ただし、両式中、ｎは通常10〜700の整数であ
る） また、上記のジイソシアネート化合物として
は、一般的に分子量170〜1000程度のものが用い
られ、具体的にはトリレンジイソシアネート、ジ
フエニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジ
イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、
ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、１・
６−ヘキサンジイソシアネートなどがあげられ
る。 また、上記のヒドロキシアルキル（メタ）アク
リレートとしては一般的にアルキル基の炭素数２
〜10程度のものが用いられ、例えば２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレートなどがあげられ
る。 次に、ｂ成分は、分子内に第３級アミンを含有
しない一価または多価アルコールと（メタ）アク
リル酸とのエステル、つまり（メタ）アクリル酸
アルキルエステルからなる１分子中に少なくとも
１個、好ましくは１〜３個の（メタ）アクリロイ
ル基を有する化合物であつて、一般的に分子量
150以上、好ましくは150〜1500程度のものが用い
られ、動にａ成分の分子量の1/2以下の分子量を
有するものが好適である。 上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルの具
体例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレ
ート、ベンジル（メタ）アクリレート、カルビト
ール（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）ア
クリレート、ノニル（メタ）アクリレート、２−
エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラフ
ルフリル（メタ）アクリレート、ポリエチレング
リコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポ
リプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート、１・６−ヘキサングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレートなどがあげられる。 ｃ成分は１分子中に通常１個の３級アミンと通
常１個の例えばビニル基、（メタ）アクリロイル
基などの重合性炭素−炭素二重結合を有する化合
物であり、分子量90〜500程度のものが好適であ
る。その具体例としては例えばＮ−ビニルピロリ
ドン、Ｎ・Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ・Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、Ｎ・Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メ
タ）アクリレートなどをあげることができる。 この発明の光学ガラスフアイバ用被覆材料にお
ける上記ａ成分、ｂ成分およびｃ成分の配合割合
としては、これら３成分の合計量中ｂ成分が通常
５〜60重量％、好ましくは10〜50重量％の範囲
内、ｃ成分が通常３〜30重量％、好ましくは５〜
20重量％の範囲内で、かつｂ成分とｃ成分との合
計量が通常20〜60重量％つまりａ成分が通常80〜
40重量％となるようにするのがよい。 上記ａ成分の配合割合が少なすぎると上記被覆
材料を硬化させて形成される硬化被膜の柔軟性、
耐熱性および耐湿性が不充分となるため好ましく
なく、またこの配合割合が多すぎると上記被覆材
料の粘度が高すぎるとともに硬化性および上記硬
化被膜の強靭性が不充分となるため好ましくな
い。 上記ｂ成分の配合割合が少なすぎると上記被覆
材料の粘度調整のためにｃ成分の配合割合が多く
なりすぎて上記硬化被膜の柔軟性が低下し硬くな
るため好ましくない。また、上記ｂ成分の配合割
合が多すぎるとａ成分による硬化被膜の柔軟性、
耐熱性および耐湿性への効果を確保するためにｃ
成分の配合割合が少なくなりすぎて上記被覆材料
の硬化性および上記硬化被膜の強靭性が不充分と
なるため好ましくない。 ｄ成分の重合開始剤としては光重合開始剤が好
ましく、この光重合開始剤としては、一般に紫外
線硬化型塗料の開始剤、増感剤として用いられて
いる各種のものが使用できる。例えばベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインブチルエーテル、２−メチルベンゾイ
ン、ベンゾフエノン、ミヒラーズケトン、ベンジ
ル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチ
ルケタール、アントラキノン、メチルアントラキ
ノン、２・２−ジエトキシアセトフエノン、２−
メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキ
サントン、アントラセンなど、またこれらとアミ
ン類などの少量の増感助剤と併用したものなどを
あげることができる。 また、この発明の被覆材料は、ｄ成分として上
記の光重合開始剤の代りにあるいは光重合開始剤
とともに熱重合開始剤を用いることによつて加熱
硬化させることもできる。上記熱重合開始剤とし
ては、三級ブチルパーオクトエートや三級ブチル
パーピバレートなどのパーエステル、ビス−（４
−三級ブチルシクロヘキシル）−パーオキシジカ
ルボネートの如き過炭酸エステル、ベンゾイルパ
ーオキシドの如きジアシルパーオキシド、ジ−三
級ブチルパーオキシドやジクミルパーオキシドの
如きジアルキルパーオキシド、シクロヘキサノン
パーオキシド、メチルエチルケトンパーオキシ
ド、クメンヒドロパーオキシドなどのヒドロパー
オキシドおよびこれらと２−エチルヘキサン酸や
ナフテン酸のコバルト−塩の如き金属促進剤と
の組合せなどの過酸化物系重合開始剤が挙げら
れ、その他アゾ化合物なども使用できる。 これら重合開始剤の使用量としては、上記のａ
成分、ｂ成分およびｃ成分の合計量100重量部に
対して通常１〜10重量部程度である。この量が少
なすぎると硬化性を満足できないため好ましくな
い。また所定量を超えて用いてもそれ以上の硬化
速度の向上は望めず、実用上上記範囲内とするの
がよい。 上記のａ成分、ｂ成分、ｃ成分およびｄ成分か
らなるこの発明の光学ガラスフアイバ用被覆材料
は、光学ガラスフアイバ表面に均一に塗布しうる
ように、25℃における粘度（ブルツクフイールド
粘度計による）が通常1000〜10000センチポイズ
（cps）の範囲にあるのがよい。 この被覆材料を用いて光学ガラスフアイバを被
覆するには、紡糸された光学ガラスフアイバの表
面に、紡糸工程に引き続く工程において上記被覆
材料を通常10〜200μｍ程度の厚みで塗布し、そ
の後光照射ないしは加熱によつて、好ましくは光
照射によつて上記被覆材料を硬化させる。光照射
の光源としては通常200〜450nｍ程度の波長の光
を発生する高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプな
どが用いられる。 なお、上記の如くして得られた光フアイバー被
覆体に、さらに外層としてエポキシアクリレー
ト、ウレタンアクリレートなどの紫外線硬化皮
膜、ポリエチレン、ナイロンのような熱可塑性樹
脂皮膜の如き強じん性を有する皮膜を形成するこ
ともできる。 〔実施例〕 以下にこの発明の実施例を記載する。なお以下
において部とあるのは重量部を意味する。また数
平均分子量は前述したGPC法により測定し、粘
度はブルツクフイールド粘度計により25℃で測定
した。 実施例 １ 撹拌機、温度計、冷却器を備えた３の四つ口
フラスコに、分子両未端に水酸基を有する前記式
（）で表わされる鎖状飽和炭化水素ポリマー
（数平均分子量1000）１モル、トリレンジイソシ
アネート２モル、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート２モルおよびこれら３成分に対して200重量
ppmのジブチルチンジラウレートを加え、60〜70
℃で反応させた。この反応は赤外線吸収スペクト
ルにおけるイソシアネート基の2270cm^-1の特性吸
収帯が消失するまで行い、これによつて分子両末
端にアクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水素ポ
リマー（粘度150000cps；50℃）を得た。 この分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状
飽和炭化水素ポリマー60部、ポリエチレングリコ
ールノニルフエノールモノアクリレート30部、Ｎ
−ビニルピロリドン10部、ベンゾフエノン５部お
よびジエチルアミノエタノール３部を溶解混合
し、この発明の光学ガラスフアイバ用被覆材料
（粘度5200cps；25℃）を得た。 実施例 ２ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和
炭化水素ポリマー（実施例１と同じもの）60部、
ポリエチレングリコールノニルフエノールモノア
クリレート30部、Ｎ・Ｎ−ジメチルアクリルアミ
ド10部、ベンゾフエノン５部、ジエチルアミノエ
タノール３部を溶解混合してこの発明の光学ガラ
スフアイバ用被覆材料（粘度6600；25℃）を得
た。 実施例 ３ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和
炭化水素ポリマー（実施例１と同じもの）80部、
イソノニルアクリレート10部、Ｎ−ビニルピロリ
ドン10部、ベンゾフエノン５部、ジエチルアミノ
エタノール３部を溶解混合してこの発明の光学ガ
ラスフアイバ用被覆材料（粘度8800cps；25℃）
を得た。 実施例 ４ 実施例１と同様の四つ口フラスコに、分子両末
端に水酸基を有する前記式（）で表わされる鎖
状飽和炭化水素ポリマー（数平均分子量2000）１
モル、トリレンジイソシアネート２モル、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート２モルおよびこれ
ら３成分に対して200重量ppmのジブチルチンジ
ラウレートを加え、60〜70℃で反応させた。この
反応は赤外線吸収スペクトルにおけるイソシアネ
ート基の2270cm^-1の特性吸収帯が消失するまで行
い、これによつて分子両末端にメタクリロイル基
を有する鎖状飽和炭化水素ポリマー（粘度
700000cps；50℃）を得た。 この分子両末端にメタクリロイル基を有する鎖
状飽和炭化水素ポリマー60部、ポリエチレングリ
コールノニルフエノールモノアクリレート30部、
Ｎ−ビニルピロリドン10部、ベンゾフエノン５
部、ジエチルアミノエタノール３部を溶解混合し
てこの発明の光学ガラスフアイバ用被覆材料（粘
度10400cps；25℃）を得た。 実施例 ５ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和
炭化水素ポリマー（実施例１と同じもの）30部、
分子両末端にメタクリロイル基を有する鎖状飽和
炭化水素ポリマー（実施例４と同じもの）30部、
ポリエチレングリコールノニルフエノールモノア
クリレート30部、Ｎ・Ｎ−ジメチルメタクリルア
ミド10部、ベンゾフエノン５部およびジエチルア
ミノエタノール３部を溶解混合してこの発明の光
学ガラスフアイバ用被覆材料（粘度8900cps；25
℃）を得た。 比較例 １ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和
炭化水素ポリマー（実施例１と同じもの）50部、
ポリエチレングリコールノニルフエノールモノア
クリレート50部、ベンゾフエノン５部、ジエチル
アミノエタノール３部を溶解混合して比較のため
の光学ガラスフアイバ用被覆材料（粘度
9500cps；25℃）を得た。 比較例 ２ 分子両末端にメタクリロイル基を有する鎖状飽
和炭化水素ポリマー（実施例４と同じもの）50
部、ポリエチレングリコールノニルフエノールモ
ノアクリレート50部、ベンゾフエノン５部および
ジエチルアミノエタノール３部を溶解混合して比
較のための光学ガラスフアイバ用被覆材料（粘度
20000cps；25℃）を得た。 比較例 ３ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和
炭化水素ポリマー（実施例１と同じもの）50部、
Ｎ−ビニルピロリドン50部、ベンゾフエノン５部
およびジエチルアミノエタノール３部を溶解混合
して比較のための光学ガラスフアイバ用被覆材料
（粘度7000cps；25℃）を得た。 比較例 ４ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和
炭化水素ポリマー（実施例１と同じもの）70部、
Ｎ・Ｎ−ジメチルアクリルアミド30部、ベンゾフ
エノン５部およびジエチルアミノエタノール３部
を溶解混合して比較のための光学ガラスフアイバ
用被覆材料（粘度1825cps；25℃）を得た。 比較例 ５ 実施例１と同様の四つ口フラスコに、分子両末
端に水酸基を有するポリプロピレングリコール
（数平均分子量1000）１モル、トリレンジイソシ
アネート２モル、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート２モルおよびこれら３成分に対して200重量
ppmのジブチルチンジラウレートを加え、60〜70
℃で反応させた。この反応は赤外線吸収スペクト
ルにおけるイソシアネート基の2270cm^-1の特性吸
収帯が消失するまで行い、これによつて分子両末
端にアクリロイル基を有するポリプロピレングリ
コール（粘度50000cps；50℃）を得た。 この分子両末端にアクリロイル基を有するポリ
ブロピレングリコール60部、ポリエチレングリコ
ールノニルフエノールモノアクリレート30部、Ｎ
−ビニルピロリドン10部、ベンゾフエノン５部お
よびジエチルアミノエタノール３部を溶解混合
し、比較のための光学ガラスフアイバ用被覆材料
（粘度3700cps；25℃）を得た。 上記の実施例１〜５および比較例１〜５で得ら
れた光学ガラスフアイバ用被覆材料の特性を次の
ようにして調べ、その結果を下記の表に示した。 ＜硬化性＞ 上記被覆材料をガラス板上に厚さ100μｍに塗
布し、次いでこの塗膜に高圧水銀ランプ（80W／
cm、２灯）を用いコンベアスピード10ｍ／分で光
照射した。この光照射後塗膜の表面の硬化状態を
指触により調べて上記表面の粘着性が全くないも
のを硬化性が良好である（〇）とし、上記表面に
粘着性のあるものを硬化性が不良である（×）と
した。 ＜硬度＞ 上記被覆材料をガラス板上に厚さ２mmに塗布
し、次いでこの塗膜に高圧水銀ランプ（80W／
cm、２灯）を用い光照射して表面の粘着性がなく
なるまで硬化させて試験片を作成し、この試験片
における硬化塗膜の硬度をシヨアＡ型硬さ試験機
により測定した。 ＜引張弾性率、伸び＞ 上記被覆材料を離型処理したガラス板上に厚さ
0.3mmに塗布し、次いでこの塗膜に高圧水銀ラン
プ（80W／cm、２灯）を用いコンベアスピード10
ｍ／分で３回通過させて光照射して硬化フイルム
を形成し、このフイルムを剥離してJIS−Ｋ−
6301に準拠しダンベル３号を使用して引張弾性率
および伸びを測定した。 ＜耐熱性＞ 上記の硬度測定に用いたと同様の試験片を100
℃の熱風乾燥機中で１カ月間放置したのち、この
試験片における硬化塗膜の硬度をシヨアＡ型硬さ
試験機により測定した。 ＜耐湿性＞ 上記の硬度測定に用いたと同様の試験片を80℃
の温水中に１カ月間浸漬したのち、この試験片に
おける硬化塗膜の硬度をシヨアＡ型硬さ試験機に
より測定した。

【表】 試験例 １ 50ｍ／分の速度で紡糸した直径125μｍの光学
ガラスフアイバの表面に、この紡糸工程に引き続
く工程において、実施例１で得られた光学ガラス
フアイバ用被覆材料を塗布し、次いでこれに高圧
水銀ランプ（80W／cm）で光照射して硬化させ硬
化被膜を形成した。 被覆後の光学ガラスフアイバの直径は約250μ
ｍであり、表面は均一であつた。また、この被覆
後の光学ガラスフアイバの破断強度は６Kgであ
り、−50℃まで伝送損失の増加は認められなかつ
た。しかも、この被覆後の光学ガラスフアイバは
120℃で約1000時間放置したのちにおいても、ま
た80℃の温水中に約1000時間放置したのちにおい
ても−50℃まで伝送損失の増加はほとんど認めら
れずすぐれた耐熱性および耐湿性を示した。 試験例 ２ 試験例１と同様にして光学ガラスフアイバ表面
に、実施例４で得られた光学ガラスフアイバ用被
覆材料を用いて硬化被膜を形成し被覆した。被覆
後の光学ガラスフアイバの直径は約250μｍであ
り、表面は均一であつた。また、この被覆後の光
学ガラスフアイバの破断強度は６Kgであり、−50
℃まで伝送損失の増加は認められなかつた。しか
も、この被覆後の光学ガラスフアイバは120℃で
約1000時間放置したのちにおいても、また80℃の
温水中に約1000時間放置したのちにおいても、−
50℃まで伝送損失の増加はほとんど認められずす
ぐれた耐熱性および耐湿性を示した。 試験例 ３ 試験例１と同様にして光学ガラスフアイバ表面
に、比較例５で得られた光学ガラスフアイバ用被
覆材料を用いて硬化被膜を形成し被覆した。被覆
後の光学ガラスフアイバの直径は約260μｍであ
り、表面は均一であつた。また、この被覆後の光
学ガラスフアイバの破断強度は６Kgであり、−50
℃まで伝送損失の増加は認められなかつた。 この被覆後の光学ガラスフアイバは、120℃で
約1000時間放置したのちおよび80℃の温水中で約
1000時間放置したのちでは、−30℃で伝送損失の
増加が認められ耐熱性および耐湿性が不充分であ
つた。 以上の結果から明らかなように、この発明の光
学ガラスフアイバ用被覆材料は硬化性が良好であ
り、またこの被覆材料を硬化させて形成される硬
化被膜は柔軟性および強靭性を満足し、しかも高
温下または高湿下にさらされても柔軟性が低下し
ない。このため、この硬化被膜によつて被覆され
た光学ガラスフアイバは高温下または高湿下にさ
らされたのちに低温下に置かれても伝送損失が増
加せず良好な耐熱性および耐湿性を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ (a)分子両末端に水酸基を有する鎖状飽和炭化
   水素ポリマーに有機ジイソシアネートを反応させ
   さらにこれにヒドロキシアルキルアクリレートま
   たはヒドロキシアルキルメタクリレートを反応さ
   せて得られる分子両末端にアクリロイル基または
   メタクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水素ポリ
   マー、(b)分子内に第３級アミンを含有しない一価
   または多価アルコールとアクリル酸またはメタク
   リル酸とのエステルからなる１分子中に少なくと
   も１個のアクリロイル基またはメタクリロイル基
   を有する化合物、(c)分子内に第３級アミンを含有
   しかつ重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物
   および(d)重合開始剤からなる光学ガラスフアイバ
   用被覆材料。