JPS6163547A - 光学ガラスフアイバ用被覆材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［技術分野１ この発明は光伝送用の光学ガラスファイバを被覆するた
めの光学ガラスファイバ用被覆材料に関するものである
。

［従来技術１ 光伝送用媒体として使用される光学ガラスファイバは通
常その直径が２００ｐ以下であり、また材質的に脆いた
めその表面に傷が発生しやすく、この傷が応力集中源に
なり外部から応力が加わった場合に容易に破断してしま
う。このため、一般に光学ガラスファイバの表面にはプ
ラスチック被覆が施されており、これによって光学ガラ
スファイバの製造直後の初期強度の維持および耐久性の
向上がはかられている。

上記プラスチック被覆の材料、つまり光学ガラスファイ
バ用被覆材料としては種々のものが提案されており、た
とえば特開昭５８−２２３６３８号公報には、イ）高分
子鎖中にアミド、尿素、ウレタンから選ばれた１種以上
の基を含み、これらの基の間の結合がポリアルキレンポ
リエーテル、ポリアルキレンポリサルファイド、ポリア
ルキレンポリエステルから選ばれた１種以上の構造を含
み、かつこの高分子鎖の末端にモノエチレン性不飽和重
合性基を結合したオリゴマー、口）そのホモポリマーの
ガラス転移温度が１０°Ｃ以下のモノエチレン性不飽和
モノマーおよび７９強い水素結合を形成し得るモノエチ
レン性不飽和モノマーからなる組成物が、放射線硬化に
より柔軟さと強靭さとを兼ね備えかつ硬化速度が大きい
ためすぐれた光学ガラスファイバ用被覆材料として提案
されている。

しかしながら、この組成物を放射線便化して形成される
硬化被膜は上記すぐれた特徴を有するものの耐熱性およ
び耐湿性に劣る傾向がみられ、たとえばこの硬化被膜に
より被覆された光学ガラスファイバが高温下あるいは高
湿下にさらされると上記の硬化被膜が劣化して柔軟性が
低下することがある。このため、この劣化後、特に上記
光学ガラスファイバが低温になったときにマイクロベン
ディングにより伝送特性が損なわれるおそれがあった。

〔発明の目的および概要〕

そこで、この発明者らは、耐熱性および耐湿性にすぐれ
るとともに柔軟性と強靭性とを満足しうる硬化被膜を形
成することができ、しかも硬化性の良好な光学ガラスフ
ァイバ用被覆材料を提供することを目的として鋭意検討
した結果、この発明をなすに至った。

すなわち、この発明は、ａ）分子両末端に重合性炭素−
炭素二重結合を有する鎖状飽和炭化水素ポリマー、ｂ）
　１分子中に少なくとも１個の重合性炭素−炭素二重結
合を有する化合物、Ｃ）分子中に第３級アミンを含有し
かつ重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物およびΦ
重合開始剤からなる光学ガラスファイバ用被覆材料に係
るものである。

［発明の効果］ この発明の光学ガラスファイバ用被覆材料によれば、光
学ガラスファイバを被覆する被膜として満足しうる柔軟
性および強靭性を有する硬化被膜を形成することができ
る。しかも、上記被覆材料によれば、高温下や高湿下に
おいても上記の柔軟性が低下することのない硬化被膜つ
まり耐熱性および耐湿性にすぐれた硬化被膜を形成する
ことができる。また、上記被覆材料は、光学ガラスファ
イバの生産性の面から必要とされる硬化性を満足しうる
ものである。

これらの効果は、上記被覆材料を上記Ｃ成分、ｂ成分、
Ｃ成分およびＣ成分の組み合わせとしたことによって得
られるものである。分子両末端に重合性炭素−炭素二重
結合を有する鎖状飽和炭化水素ポリマーであるＣ成分は
、上記被覆材料を硬化させて形成される硬化被膜に柔軟
性を与え、かつこの硬化被膜を耐熱性および耐湿性にす
ぐれたものとしている。

このＣ成分は通常固形あるいは高粘度であるため、この
Ｃ成分さ、１分子中に少なくとも１個の重合性炭素−炭
素二重結合を有する化合物である液状のｂ成分および分
子中に第３級アミンを含有しかつ重合性炭素−炭素二重
結合を有する化合物である液状のＣ成分とを混合するこ
とによって、上記被覆材料は光学ガラスファイバ用被覆
材料として適当な粘度に調整されている。

上記Ｃ成分は後述のように上記被覆材料において重要な
成分であるが、このＣ成分を単独で上記粘度調整のため
に使用すると硬化破膜の柔軟性が低下して硬くなるとい
う欠点がある。上記す成分はこの欠点を解消するために
重要であり、このｂ成分の使用によって硬化被膜の柔軟
性を光学ガラスファイバを被覆する被膜として満足しつ
る程度に維持できかつ上記被覆材料の粘度を適度に調整
しうる。

上記Ｃ成分は、重合開始剤であるＣ成分によって上記被
覆材料に付与される硬化性をさらに高めて光学ガラスフ
ァイバ用被覆材料として必要とされる速硬化性を上記被
覆材料に与えるとともに、硬化被膜に必要とされる強じ
ん性を与えている。

［発明の構成］ 上記のＣ成分における重合性炭素−炭素二重結合として
は例えばアクリロイル基やメタクリロイル基があげられ
る。このＣ成分は例えば次のようにして得られる。すな
わち、分子両末端に水酸基を有する鎖状飽和炭化水素ポ
リマーに有機ジイソシアネートを反応させてこのポリマ
ーの分子両末端にインシアネート基を導入し、さらにこ
れにヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを反応さ
せる。これにより分子両末端に（メタ）アクリロイル基
を有する鎖状飽和炭化水素ポリマーが得られる。

また、上記鎖状飽和炭化水素ポリマー、有機ジイソシア
ネートおよびヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
を反応器中に一度に投入して上記反応を１段階で行われ
るようにしてもよい。

上記の分子両末端に水酸基を有する鎖状飽和炭化水素ポ
リマーとしては、直鎖状であっても一部分枝を有するも
のであってもよく、そ、の数平均分子量（ポリスチレン
を基準物質としたＧＰＣ法による）は通常２００−１０
，０００程度、より好ましくは１，０００〜３．　ＯＯ
Ｏ程度である。このポリマーの具体例としては例えば次
式のものがあげられる。

ＨＯ（−ＣＨ２→ｉ０Ｈ・・・（Ｉ） ＨＯ（−ＣＨ２−ＣＨ＋−ＯＨ−（ＩｎＨ２ Ｈ３ （ただし、両式中、ｎは通常１０〜７００の整数である
） また、上記のジイソシアネート化合物としては、一般的
に分子量１７０〜１，０００程度のものが用いられ、具
体的にはトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン
ジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、イン
ホロンジイソシアネート、ビス（インシアネートメチル
）シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネート、１・６−ヘキサンジイソシアネートなどがあげ
られる。

また、上記のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
としては一般的にアルキル基の炭素数２〜１０程度のも
のが用いられ、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ートなどがあげられる。

次に、ｂ成分としては一般的に分子量１５０以上、好ま
しくは１５０〜１，５００程度のものが用いられ、特に
Ｃ成分の分子量の１／２以下の分子量を有するものが好
適である。中でも重合性炭素−炭素二重結合である（メ
タ）アクリロイル基を１分子中に１個以上、好ましくは
１〜３個有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが
好ましい。なお、このｂ成分は分子内に第３級アミンを
含有しないものである。

上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルの具体例とし
ては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル
（メタ）アクリレート、カルピトール（メタ）アクリレ
ート、ラウリル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）
アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレー
ト、テトラフルフリル（メタ）アクリレート、ポリエチ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート、１・６−ヘキサンゲリ
コールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（
メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレートなどがあげられる。

Ｃ成分は１分子中に通常１個の３級アミンと通常１個の
例えばビニル基、（メタ）アクリロイル基などの重合性
炭素−炭素二重結合を有する化合物であり、分子量９０
〜５００程度のものが好適である。その具体例としては
例えばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ−Ｎ−ジメチル（メタ
）アクリルアミド、Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノプロピル（
メタ）アクリレートなどをあげることができる。

この発明の光学ガラスファイバ用被覆材料における上記
Ｃ成分、ｂ成分およびＣ成分の配合９１合としては、こ
れら３成分の合計量中す成分が通常５〜６０重量％、好
ましくは１０〜５０重量％の範囲内、Ｃ成分が通常３〜
３０重量％、好ましくは５〜２０重量％の範囲内で、か
つｂ成分とＣ成分との合計量が通常２０〜６０重量％つ
まりＣ成分が通常８０〜４０重量％となるようにするの
がよい。

上記Ｃ成分の配合割合が少なすぎると上記被覆材料を硬
化させて形成される硬化被膜の柔軟性、耐熱性および耐
湿性が不充分となるため好ましくなく、またこの配合割
合が多すぎると上記被覆材料の粘度が高すぎるとともに
硬化性および上記硬化被膜の強靭性が不充分となるため
好ましくない。

上記す成分の配合割合が少なすぎると上記被覆材料の粘
度調整のためにＣ成分の配合割合が多くなりすぎて上記
硬化被膜の柔軟性が低下し硬くなるため好ましくない。

また、上記す成分の配合割合が多すきるとＣ成分による
硬化被膜の柔軟性、耐熱性および耐湿性への効果を確保
するためにＣ成分の配合割合が少なくなりすぎて上記被
覆材料の硬化性および上記硬化被膜の強靭性が不充分と
なるため好ましくない。

Ｃ成分の重合開始剤としては光重合開始剤が好ましく、
この光重合開始剤としては、一般に紫外線硬化型塗料の
開始剤、増感剤として用いられている各種のものが使用
できる。例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル
、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピル
エーテル、ベンゾインブチルエーテル、２−メチルベン
ゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジル
、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケター
ル、アントラキノン、メチルアントラキノン、２・２−
ジェトキシアセトフェノン、２−メチルチオキサントン
、２−イソプロピルチオキサントン、アントラセンなど
、またこれらとアミン類などの少量の増感助剤と併用し
たものなどをあげることができる。

また、この発明の被覆材料は、Ｃ成分として上記の光重
合開始剤の代りにあるいは光重合開始剤とともに熱重合
開始剤を用いることによって加熱硬化させることもでき
る。上記熱重合開始剤としては、三級ブチルパーオクト
エートや三級ブチルバーヒバレートなどのパーエステル
、ビス−（４−三級ブチルシクロヘキシル）−パーオキ
シジカルボネートの如き過炭酸エステル、ベンゾイルパ
ーオキシドの如きジアシルパーオキシド、ジー三級ブチ
ルパーオキシドやジクミルパーオキシドの如きジアルキ
ルパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチ
ルエチルケトンパーオキシド、クメンヒドロパーオキシ
ドなどのヒドロパーオキシドおよびこれらと２−エチル
ヘキサン酸やナフテン酸のコバル）−ＩＩ塩の如き金属
促進剤との組合せなどの過酸化物系重合開始剤が挙げら
れ、その他アゾ化合物なども使用できる。

これら重合開始剤の使用量としては、上記のＣ成分、ｂ
成分およびＣ成分の合計１１００重量部に対して通常１
〜１０重量部程度である。この量が少なすぎると硬化性
を満足できないため好ましくない。また所定量を超えて
用いてもそれ以上の硬化速度の向上は望めず、実用上上
記範囲内とするのがよい。

上記のＣ成分、ｂ成分、Ｃ成分およびＣ成分からなるこ
の発明の光学ガラスファイバ用被覆材料は、光学ガラス
ファイバ表面に均一に塗布しうるように、２５°Ｃにお
ける粘度（ブルックフィールド粘度計による）が通常１
，０００〜１０，００（Ｊセンチボイズ（ｃｐｓ）の範
囲にあるのがよい。

この被覆材料を用いて光学ガラスファイバを被覆するに
は、紡糸された光学ガラスファイバの表面に、紡糸工程
に引き続く工程において上記被覆材料を通常１０〜２０
０μ程度の厚みで塗布し、その後光照射ないしは加熱に
よって、好ましくは光照射によって上記被覆材料を硬化
させる。光照射の光源としては通常２００〜４５０　ｎ
ｍ程度の波長の光を発生する高圧水銀ランプ、超高圧水
銀ランプなどが用いられる。

なお、上記の如くして得られた光フアイバー被覆体に、
さらに外層としてエポキシアクリレート、ウレタンアク
リレートなどの紫外線硬化皮膜、ポリエチレン、ナイロ
ンのような熱可塑性樹脂皮膜の如き強じん性を有する皮
膜を形成することもできる。

〔実施例〕

以下にこの発明の実施例を記載する。なお以下において
部とあるのは重量部を意味する。また数平均分子量は前
述したＧＰＣ法により測定し、粘度はブルックフィール
ド粘度計により２５℃で測定した。

実施例１ 撹拌機、温度計、冷却器を備えた３ｇの四つロフラスコ
に、分子両末端に水酸基を有する前記式（Ｊで表わされ
る鎖状飽和炭化水素ポリマー（数平均分子量１，０００
）１モル、トリレンジイソシアネート２モル、２−ヒド
ロキシエチルアクリレート２モルおよびこれら３成分に
対して２００重量ｐｐｍのジブチルチンジラウレートを
加え、６０〜〜７０　’Ｃで反応させた。この反応は赤
外線吸収スペクトルにおけるインシアネート基の２，２
７０ｃ＋＋＋”の特性吸収帯が消失するまで行い、これ
によって分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和
炭化水素ポリマー（粘度１５０，０ＯＯｃｐｓ　；５０
’Ｃ）を得た。

この分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和炭化
水素ポリマー６０部、ポリエチレングリコール／ニルフ
ェノールモノアクリレート３０部、Ｎ−ビニルピロリド
ン１０部、ベンゾフェノン５部およびジエチルアミノエ
タノール３部を溶解混合し、この発明の光学ガラスファ
イバ用被覆材料（粘度５，２００ｃｐｓ；２５℃）を得
た。

実施例２ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水素
ポリマー（実施例１と同じもの）６０部１、ｔ？　ＩＪ
エチレングリコールノニルフェノールモノアクリレート
３０部、Ｎ−Ｎ−ジメチルアクリルアミド１０部、ベン
ゾフェノン５部、ジエチルアミノエタノール３部を溶解
混合してこの発明の光学ガラスファイバ用被覆材料（粘
度６，６００；２５°Ｃ）を得た。

実施例３ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水素
ポリマー（実施例１と同じもの）８０部、イソノニルア
クリレート１０部、Ｎ−ビニルピロリドン１０部、ベン
ゾフェノン５部、ジエチルアミノエタノール３部を溶解
混合してこの発明の光学ガラスファイバ用被覆材料（粘
度８，８００　ｃｐｓ　；２５°Ｃ）を得た。

実施例４ 実施例１と同様の四つロフラスコに、分子両末端に水酸
基を有する前記式（Ｉ）で表わされる鎖状飽和炭化水素
ポリマー（数平均分子量２，０００）１モル、トリレン
ジイソシアネート２モノペ　２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート２モルおよびこれら３成分に対して２００重
ｆｉｐｐｍのジブチルチンジラウレートを加え、６０〜
７０°Ｃで反応させた。

この反応は赤外線吸収スペクトルにおけるインシアネー
ト基の２．２７０　ａｍ−”の特性吸収帯が消失するま
で行い、これによって分子両末端にメタクリロイル基を
有する鎖状飽和炭化水素ポリマー（粘度７００．０ＯＯ
ｃｐｓ；５０’Ｃ）を得た。

この分子両末端にメタクリロイル基を有する鎖状飽和炭
化水素ポリマー６０部、ポリエチレングリコール／ニル
フェノールモノアクリレート３０部、Ｎ−ビニルピロリ
ドンＩＣＩ、ベンゾフェノン５部、ジエチルアミノエタ
ノール３部を溶解混合してこの発明の光学ガラスファイ
バ用被覆材料（粘度１０，４００　ｃｐｓ　；２５°Ｃ
）を得た。

実施例５ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水素
ポリマー（実施例１と同じもの）３０部、分子両末端に
メタクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水素ポリマー（
実施例４と同じもの）３０部、ポリエチレングリコール
／ニルフェノールモノアクリレ−）　３　ＯＮ、Ｎ−Ｎ
−ジメチルメタクリルアミド１０部、ベンゾフェノン５
部およびジエチルアミノエタノール３部を溶解混合して
この発明の光学ガラスファイバ用被覆材料（粘度８，９
００ｃｐｓ；２５°Ｃ）を得た。

比較例１ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水素
ポリマー（実施例１と同じもの）５０部、ポリエチレン
グリコールノニルフェノールモノアクリレート５０＠、
ベンゾフェノン５部、ジエチルアミノエタノール３部を
溶解混合して比較のための光学ガラスファイバ用被覆材
料（粘度９，５００ＣβＳ；２５°Ｃ）を得た。

比較例２ 分子両末端にメタクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水
素ボリア〜（実施例４と同じもの）５０部、ポリエチレ
ングリコール／ニルフェノールモノアクリレート５０部
、ベンゾフェノン５部およびジエチルアミノエタノール
３部を溶解混合して比較のための光学ガラスファイバ用
被覆材料（粘度２０，０００　ｃｐｓ　；　２５°Ｃ）
を得た。

比較例３ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水素
ポリマー（実施例１と同じもの）５０部、Ｎ−ビニルピ
ロリドン５０部、ベンゾフェノン５部およびジエチルア
ミノエタノール３部を溶解混合して比較のための光学ガ
ラスファイバ用被覆材料（粘度？、０００ｃｐｓ　；２
５°Ｃ）を得た。

比較例４ 分子両末端にアクリロイル基を有する鎖状飽和炭化水素
ポリマー（実施例１と同じもの）７０部、Ｎ−Ｎ−ジメ
チルアクリルアミド３０部、ベンゾフェノン５部および
ジエチルアミノエタノール３部を溶解混合して比較のた
めの光学ガラスファイバ用被覆材料（粘度１，８２５　
ｃｐｓ　；２５℃）を得た。

比較例５ 実施例１と同様の四つロフラスコに、分子両末端に水酸
基を有するポリプロピレングリコール（数平均分子量１
，０００）１モル、トリレンジイソシアネート２モル、
２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルおよびこれら
３成分に対して２００重ｆｆｉｐｐｍのジブチルチンジ
ラウレートを加え、６０〜７０’Ｃで反応させた。この
反応は赤外線吸収スペクトルにおけるイソシアネート基
の２．２７０ｔｙｎ−’の特性吸収帯が消失するまで行
い、これによって分子両末端にアク１〕ロイル基を有す
るポリプロピレングリコール（粘度５０，０００ｃｐｓ
；５０°Ｃ）を得た。

この分子両末端にアクリロイル基を有するポリプロピレ
ングリコール６０部、ポリエチレングリコールノニルフ
ェノールモノアクリン−１−３ＯＮ、Ｎ−ビニルピロリ
ドン１０部、ベンゾフェノン５部およびジエチルアミノ
エタノール３部を溶解混合し、比較のための光学ガラス
ファイバ用被覆材料（粘度３，７００　ｃｐｓ　；　２
５°Ｃ）を得た。

上記の実施例１〜５および比較例１〜５で得られた光学
ガラスファイバ用被覆材料の特性を次のようにして調べ
、その結果を下記の表に示した。

く硬化性〉 上記被覆材料をガラス板上に厚さ１００μに塗布し、次
いでこの塗膜に高圧水銀ランプ（８０Ｗ／鍋ｍ、　　２
灯）を用いコンベアスピード１０ｍ／分で光照射した。

この光照射後塗膜の表面の硬化状態を指触により調べて
上記表面の粘着性が全くないものを硬化性が良好である
（○）とし、上記表面に粘着性のあるものを硬化性が不
良である（×）とした。

〈硬　度〉 上記被覆材料をガラス板上に厚さ２　ｍｍに塗布し、次
いでこの塗膜に高圧水銀ランプ（８０Ｗ／鍋、２灯）を
用い光照射して表面の粘着性がなくなるまで硬化させて
試験片を作成し、この試験片における硬化塗膜の硬度を
ショアＡ型硬さ試験機により測定した。

く引張弾性率、伸び〉 上記被覆材料を離型処理したガラス板上に厚さ０、３　
ａｍに塗布し、次いでこの塗膜に高圧水銀ランプ（８０
Ｗ／ｃｍ、　　２灯）を用いコンベアスピード１０ｍ／
分で３回通過させて光照射して硬化フィルムを形成し、
このフィルムを剥離してＪＩＳ−に−６３０１に準拠し
ダンベル３号を使用して引張弾性率および伸びを測定し
た。

く耐熱性〉 上記の硬度測定に用いたき同様の試験片を１００°Ｃの
熱風乾燥機中で１力月間放置したのち、この試験片にお
ける硬化塗膜の硬度をショアＡ型硬さ試験機により測定
した。

〈耐湿性〉 上記の硬度測定に用いたと同様の試験片を８０°Ｃの温
水中に１力月間浸漬したのち、この試験片における硬化
塗膜の硬度をショアＡ型硬さ試験機により測定した。

試験例１ ５０ｍ／分の速度で紡糸した直径１２５μの光学ガラス
ファイバの表面に、この紡糸工程に引き続く工程におい
て、実施例１で得られた光学ガラスファイバ用被覆材料
を塗布し、次いでこれに高圧水銀ランプ（８０Ｗ／ｃｒ
ｎ）で光照射して硬化させ硬化被膜を形成した。

被覆後の光学ガラスファイバの直径は約２５０ｐであり
、表面は均一であった。また、この被覆後の光学ガラス
ファイバの破断強度は６　Ｋｑであり、−５０℃まで伝
送損失の増加は認められなかった。

しかも、この被覆後の光学ガラスファイバは１２０℃で
約１．　ＯＯ０時間放置したのちにおいても、また８０
°Ｃの温水中に約１，０００時間放置したのちにおいて
も一５０℃まで伝送損失の増加はほとんど認められずす
ぐれた耐熱性および耐湿性を示した。

試験例２ 試験例１と同様にして光学ガラスファイバ表面に、実施
例４で得られた光学ガラスファイバ用被覆材料を用いて
硬化被膜を形成し被覆した。被覆後の光学ガラスファイ
バの直径は約２５０μであり、表面は均一であった。ま
た、この被覆後の光学ガラスファイバの破断強度は５　
Ｋｇであり、−５０°Ｃまで伝送損失の増加は認められ
なかった。しかも、この被覆後の光学ガラスファイバは
１２０°Ｃで約１，０００時間放置したのちにおいても
、また８０°Ｃの温水中に約１，０００時間放置したの
ちにおいても、−５０°Ｃまで伝送損失の増加はほとん
ど認められずすぐれた耐熱性および耐湿性を示した０ 試験例３ 試験例１と同様にして光学ガラスファイバ表面に、比較
例５で得られた光学ガラスファイバ用被覆材料を用いて
硬化被膜を形成し被覆した。被覆後の光学ガラスファイ
バの直径は約２６０ｐであり、表面は均一であった。ま
た、この被覆後の光学ガラスファイバの破断強度は６に
９であり、−５０°Ｃまで伝送損失の増加は認められな
かった。

この被覆後の光学ガラスファイバは、１２０’Ｃで約１
，０００時間放置したのちおよび８０°Ｃの温水中で約
１，０００時間放置したのちでは、−３０°Ｃで伝送損
失の増加が認められ耐熱性および耐湿性が不充分であっ
た。

以上の結果から明らかなように、この発明の光学ガラス
ファイバ用被覆材料は硬化性が良好であり、またこの被
覆材料を硬化させて形成される硬化被膜は柔軟性および
強靭性を満足し、しかも高温下または高湿下にさらされ
ても柔軟性が低下しない。このため、この硬化被膜によ
って被覆された光学ガラスファイバは高温下または高湿
下にさらされたのちに低温下に置かれても伝送損失が増
加せず良好な耐熱性および耐湿性を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）ａ）分子両末端に重合性炭素−炭素二重結合を有す
   る鎖状飽和炭化水素ポリマー、ｂ）１分子中に少なくと
   も１個の重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物、ｃ
   ）分子中に第３級アミンを含有しかつ重合性炭素−炭素
   二重結合を有する化合物およびｄ）重合開始剤からなる
   光学ガラスフアイバ用被覆材料。