JPS6412113B2 - - Google Patents
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- JPS6412113B2 JPS6412113B2 JP53131069A JP13106978A JPS6412113B2 JP S6412113 B2 JPS6412113 B2 JP S6412113B2 JP 53131069 A JP53131069 A JP 53131069A JP 13106978 A JP13106978 A JP 13106978A JP S6412113 B2 JPS6412113 B2 JP S6412113B2
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/136—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
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-
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
- H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
- H01S5/0687—Stabilising the frequency of the laser
-
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- H—ELECTRICITY
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- H01S5/06837—Stabilising otherwise than by an applied electric field or current, e.g. by controlling the temperature
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体レーザシステムに関する。
レーザの放射波長の調節を容易に行なうことが
好ましいとする理由はいくつかある。例えば、レ
ーザが光学フアイバと共に用いられるときは、放
射波長の全範囲でのフアイバの挿入損失を測定
し、損入損失が最小となる波長に設定することが
好ましい。さらにレーザ装置が交換されるとき
は、装置の動作波長がシステムに適合するように
調節する必要がある。マルチプレツクス光学キヤ
リアシステムでは、複数のレーザ装置を選択され
た異なる動作波長に同調させる必要がある。
好ましいとする理由はいくつかある。例えば、レ
ーザが光学フアイバと共に用いられるときは、放
射波長の全範囲でのフアイバの挿入損失を測定
し、損入損失が最小となる波長に設定することが
好ましい。さらにレーザ装置が交換されるとき
は、装置の動作波長がシステムに適合するように
調節する必要がある。マルチプレツクス光学キヤ
リアシステムでは、複数のレーザ装置を選択され
た異なる動作波長に同調させる必要がある。
又、放射波長のドリフト、例えば、レーザの経
年変化を補償するための駆動信号の増加をもたら
す波長の温度依存性に対し、レーザ装置を安定化
させる必要がある。
年変化を補償するための駆動信号の増加をもたら
す波長の温度依存性に対し、レーザ装置を安定化
させる必要がある。
本発明の目的は半導体レーザ装置に対する放射
波長と出力の制御及び安定化のための装置を提供
することにある。
波長と出力の制御及び安定化のための装置を提供
することにある。
半導体レーザ装置と、該レーザ装置にレーザ光
を発生させるために駆動電流を供給する手段と、
一定の強度の光入力に対する光出力の強度を、光
の波長に対して単調に変化させる性質を示す光フ
イルタと、該光フイルタからの出力光を受取り、
前記レーザ装置により発せられるレーザ光の波長
に依存する第1の出力信号を形成するセンサと、
放出レーザ光の波長を定める前記レーザ装置のパ
ラメータを、前記第1の出力信号に応じて制御す
ることにより、放出レーザ光の波長をほゞ一定に
維持する手段と、放出レーザ光の強度にしたがつ
て変化する第2の出力信号を形成する手段と、前
記駆動電流を供給する手段に結合され、前記レー
ザ装置に供給される駆動電流を前記第2の出力信
号に基づいて制御することにより放出レーザ光の
強度をほゞ一定に維持する手段とを具備する半導
体レーザシステムが提供される。
を発生させるために駆動電流を供給する手段と、
一定の強度の光入力に対する光出力の強度を、光
の波長に対して単調に変化させる性質を示す光フ
イルタと、該光フイルタからの出力光を受取り、
前記レーザ装置により発せられるレーザ光の波長
に依存する第1の出力信号を形成するセンサと、
放出レーザ光の波長を定める前記レーザ装置のパ
ラメータを、前記第1の出力信号に応じて制御す
ることにより、放出レーザ光の波長をほゞ一定に
維持する手段と、放出レーザ光の強度にしたがつ
て変化する第2の出力信号を形成する手段と、前
記駆動電流を供給する手段に結合され、前記レー
ザ装置に供給される駆動電流を前記第2の出力信
号に基づいて制御することにより放出レーザ光の
強度をほゞ一定に維持する手段とを具備する半導
体レーザシステムが提供される。
好ましくは、制御される動作パラメータは装置
の動作温度である。
の動作温度である。
以下図面により本発明の実施例を説明する。
第1図において、半導体レーザ1はヒート
(熱)シーク2に実装される。入力電力は入力電
力制御ユニツト3から加算回路4と増幅器5を介
してレーザに印加される。
(熱)シーク2に実装される。入力電力は入力電
力制御ユニツト3から加算回路4と増幅器5を介
してレーザに印加される。
レーザ1からの光ビームはビームスプリツタ
6,7を通過し、各スプリツタはビームのサンプ
ルをフオトダイオード8と9に各々印加する。ビ
ームスプリツタ7とフオトダイオード9の間に
は、正の伝送傾斜対波長特性をもつた光フイルタ
10がもうけられる。このフイルタはレーザ放射
の波長に従つてサンプルされたビームを選択的に
減衰させる。
6,7を通過し、各スプリツタはビームのサンプ
ルをフオトダイオード8と9に各々印加する。ビ
ームスプリツタ7とフオトダイオード9の間に
は、正の伝送傾斜対波長特性をもつた光フイルタ
10がもうけられる。このフイルタはレーザ放射
の波長に従つてサンプルされたビームを選択的に
減衰させる。
フオトダイオード9の出力は対数増幅器11を
介して、減算増幅器12の正入力に印加される。
フオトダイオード8の出力は対数増幅器13を介
して減算増幅器12の負入力に印加される。
介して、減算増幅器12の正入力に印加される。
フオトダイオード8の出力は対数増幅器13を介
して減算増幅器12の負入力に印加される。
フオトダイオード8と9の出力は増幅器13と
11を介して増幅器12の正及び負入力に印加さ
れるので、フオトダイオードに共通の外乱による
変化は相殺されて増幅器12の出力にはあらわれ
ない。従つて増幅器12の出力はレーザビームの
強さに対し独立である。フオトダイオード8と9
は特性のそろつた対として選択されて、増幅器1
2の出力がフオトダイオードの特性に独立になる
ようにする。従つて出力は半導体レーザ装置1の
放射波長のみに依存する。
11を介して増幅器12の正及び負入力に印加さ
れるので、フオトダイオードに共通の外乱による
変化は相殺されて増幅器12の出力にはあらわれ
ない。従つて増幅器12の出力はレーザビームの
強さに対し独立である。フオトダイオード8と9
は特性のそろつた対として選択されて、増幅器1
2の出力がフオトダイオードの特性に独立になる
ようにする。従つて出力は半導体レーザ装置1の
放射波長のみに依存する。
放射波長は装置の動作温度につまりヒートシン
ク2の温度に依存する。代表的装置の温度係数は
約0.4nm/〓である。
ク2の温度に依存する。代表的装置の温度係数は
約0.4nm/〓である。
ヒートシンクの温度は、波長制御ユニツト17
からの制御線16により制御される増幅器15に
より駆動される加熱冷却素子14により制御され
る。線16の上の電圧は加算回路18の正入力に
印加される。この電圧はヒートシンクの温度が所
望の放射波長に対応するごとく設定される。
からの制御線16により制御される増幅器15に
より駆動される加熱冷却素子14により制御され
る。線16の上の電圧は加算回路18の正入力に
印加される。この電圧はヒートシンクの温度が所
望の放射波長に対応するごとく設定される。
素子14は、例えば1ワツトの熱損失をもつト
ランジスタをふくむ加熱素子とすることが出来
る。
ランジスタをふくむ加熱素子とすることが出来
る。
減算増幅器12の出力は回路18の負入力に印
加され、従つて回路の出力は線16の電圧と反応
に、負帰環(ネガテイブフイードバツト)として
動作する。従つてフイードバツクループがヒート
シンク2の温度を制御し、放射波長を一定に維持
する。これにより波長のドリフトが補償される。
加され、従つて回路の出力は線16の電圧と反応
に、負帰環(ネガテイブフイードバツト)として
動作する。従つてフイードバツクループがヒート
シンク2の温度を制御し、放射波長を一定に維持
する。これにより波長のドリフトが補償される。
フオトダイオード8に向かうサンプルビームは
一定の波長をもつので、フオトダイオード8の出
力の変化はビームの強さの変化によるものであ
る。
一定の波長をもつので、フオトダイオード8の出
力の変化はビームの強さの変化によるものであ
る。
フオトダイオード8の出力は増幅器19に印加
され、増幅された信号は加算回路4に印加され、
入力電力制御ユニツト3からの電圧と反対方向
に、増幅器5に対しネガテイブフイードバツクを
作用させる。従つてこのフイードバツクループは
レーザ電流を制御してビームの強さを所定の強さ
で一定値に維持する。
され、増幅された信号は加算回路4に印加され、
入力電力制御ユニツト3からの電圧と反対方向
に、増幅器5に対しネガテイブフイードバツクを
作用させる。従つてこのフイードバツクループは
レーザ電流を制御してビームの強さを所定の強さ
で一定値に維持する。
レーザ装置の光出力は経年変化により減少す
る。これは増幅器5に対する駆動信号入力を増加
することにより捕償される。しかし、このこと
は、又、レーザジヤンクシヨン/ヒートシンクの
温度を上昇させ、放射波長を変化させる。本発明
による制御回路は、増幅器15により素子14へ
の電力を減少させて、波長をもとの規定値にもど
す。従つて、レーザジヤンクシヨンの温度は初期
の与えられた放射波長に維持される。
る。これは増幅器5に対する駆動信号入力を増加
することにより捕償される。しかし、このこと
は、又、レーザジヤンクシヨン/ヒートシンクの
温度を上昇させ、放射波長を変化させる。本発明
による制御回路は、増幅器15により素子14へ
の電力を減少させて、波長をもとの規定値にもど
す。従つて、レーザジヤンクシヨンの温度は初期
の与えられた放射波長に維持される。
強さの変化を故意に行なう必要があるときは、
入力電力制御3からの線の電圧の調節により行な
われる。
入力電力制御3からの線の電圧の調節により行な
われる。
放射波長の変化を故意に行なう必要があるとき
は、線16の電圧の調節により行なわれる。さら
に、フイードダイオード8がスペクトルに依存す
るので光の強さを再調節することが必要となる。
は、線16の電圧の調節により行なわれる。さら
に、フイードダイオード8がスペクトルに依存す
るので光の強さを再調節することが必要となる。
2つのフオトダイオードは同じヘツダの上に構
成される同一の素子とする。
成される同一の素子とする。
フイードバツク回路網に関しては、大きな順方
向利得Aとフイードバツク利得BによりB×Aが
1よりも十分に大きいとして、出力は1/B×(入 力)となる。出力の安定度は次のとおりである。
向利得Aとフイードバツク利得BによりB×Aが
1よりも十分に大きいとして、出力は1/B×(入 力)となる。出力の安定度は次のとおりである。
出力の変化/出力=−Bの変化/B
又フイードバツク回路網における主な不安定要
素がフオトダイオードにあるときは、2つのダイ
オードに共通の変化、例えばエイジング、温度安
定度、量子効率等は増幅器12の出力で相殺され
る。従つて出力における変化は、放射波長が変化
したときにのみ発生する。従つてレーザの波長の
制御と安定度がフオトダイオードのパラメータの
変動に対し独立となる。
素がフオトダイオードにあるときは、2つのダイ
オードに共通の変化、例えばエイジング、温度安
定度、量子効率等は増幅器12の出力で相殺され
る。従つて出力における変化は、放射波長が変化
したときにのみ発生する。従つてレーザの波長の
制御と安定度がフオトダイオードのパラメータの
変動に対し独立となる。
例えば故障又は寿命によりレーザ1を交換する
ときは、同様の素子を挿入するのみで、回路は自
動的に、新しい素子の放射波長と強さを古い素子
に対するものと同じに設定する。
ときは、同様の素子を挿入するのみで、回路は自
動的に、新しい素子の放射波長と強さを古い素子
に対するものと同じに設定する。
上記説明ではレーザの動作温度の制御に関連し
て波長の制御を説明したが、他の動作パラメー
タ、例えば機械的圧力の印加、磁界の印加、又は
この種のパラメータの任意の組合せをも制御する
ことが出来る。
て波長の制御を説明したが、他の動作パラメー
タ、例えば機械的圧力の印加、磁界の印加、又は
この種のパラメータの任意の組合せをも制御する
ことが出来る。
第2図は第1図の装置に使用する波長制御の実
施例を示す。増幅器15の出力をヒートシンクの
温度制御素子14に供給する代りに、出力はピエ
ゾ効果をもつ結晶20に供給される。レーザの出
力部の共振キヤビテイ21は、ビーム通路にレン
ズ22と光学格子23とを有する。結晶20はビ
ームの軸に対して相対的に格子23の角度を設定
するごとく配置され、前記角度を、増幅器15か
ら結晶に印加される電圧に対応して変化させる。
角度の変化はレーザの同調を変化させ波長制御と
して作用する。光学格子の利用は又レーザ線の幅
を約4nmから約0.1nmに減少させる。この減少に
よりマルチプレクスシステムで使われるレーザの
数を大いに増加させることが出来る。装置の他の
部品に関しては第1図に示すとおりである。
施例を示す。増幅器15の出力をヒートシンクの
温度制御素子14に供給する代りに、出力はピエ
ゾ効果をもつ結晶20に供給される。レーザの出
力部の共振キヤビテイ21は、ビーム通路にレン
ズ22と光学格子23とを有する。結晶20はビ
ームの軸に対して相対的に格子23の角度を設定
するごとく配置され、前記角度を、増幅器15か
ら結晶に印加される電圧に対応して変化させる。
角度の変化はレーザの同調を変化させ波長制御と
して作用する。光学格子の利用は又レーザ線の幅
を約4nmから約0.1nmに減少させる。この減少に
よりマルチプレクスシステムで使われるレーザの
数を大いに増加させることが出来る。装置の他の
部品に関しては第1図に示すとおりである。
第1図は本発明による半導体レーザシステムの
1実施例を示すブロツクダイヤグラム、第2図は
第1図の一部の別の実施例である。 1…半導体レーザ、2…ヒートシンク、3…入
力電力制御ユニツト、4…加算回路、5…増幅
器、6,7…ビームスプリツタ、8,9…フオト
ダイオード、10…フイルタ、11,13…対数
増幅器、12…減算増幅器、14…加熱/冷却素
子、15…増幅器、16…線、17…波長制御ユ
ニツト、18…加算回路、19…増幅器、20…
ピエゾ結晶、21…共振キヤビテイ、22…レン
ズ、23…光学格子。
1実施例を示すブロツクダイヤグラム、第2図は
第1図の一部の別の実施例である。 1…半導体レーザ、2…ヒートシンク、3…入
力電力制御ユニツト、4…加算回路、5…増幅
器、6,7…ビームスプリツタ、8,9…フオト
ダイオード、10…フイルタ、11,13…対数
増幅器、12…減算増幅器、14…加熱/冷却素
子、15…増幅器、16…線、17…波長制御ユ
ニツト、18…加算回路、19…増幅器、20…
ピエゾ結晶、21…共振キヤビテイ、22…レン
ズ、23…光学格子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 半導体レーザ装置と、 該レーザ装置にレーザ光を発生させるために駆
動電流を供給する手段と、 該レーザ装置からの全放出レーザ光の強度に従
つて変化する第1の出力信号を形成する手段と、 光出力の強度を、光の波長に対して単調に変化
させる性質を示す光フイルタと、 該光フイルタからの出力光を受取り、前記レー
ザ装置により発せられるレーザ光の波長に依存す
る第2の出力信号を形成するセンサと、 放出レーザ光の波長を定める前記半導体レーザ
装置のパラメータを、前記第1の出力信号と前記
第2の出力信号との間の差分に応じて制御するこ
とにより、放出レーザ光の波長をほゞ一定に維持
する手段と、 前記駆動電流を供給する手段に結合され、前記
レーザ装置に供給される駆動電流を前記第1の出
力信号に基づいて制御することにより放出レーザ
光の強度をほゞ一定に維持する手段とを具備する
ことを特徴とする半導体レーザシステム。 2 前記第1の出力信号を形成する手段が第1の
フオトダイオードを含み、前記第2の出力信号を
形成する手段が、前記光フイルタの後段にもうけ
られた第2のフオトダイオードを含み、前記第1
及び第2のフオトダイオードが放出レーザ光の強
度及び波長に対する感度についてほゞ同様な特性
を有していることを特徴とする特許請求の範囲第
1項に記載の半導体レーザシステム。 3 前記第2の出力信号を形成する手段が、前記
第1及び第2のフオトダイオードの出力にそれぞ
れ接続される一対の対数増幅器と、該一対の対数
増幅器の出力に接続される正入力及び負入力を有
し、放出レーザ光の強度には依存せず波長にのみ
依存する前記第2の出力信号を出力する減算増幅
器を含むことを特徴とする特許請求の範囲第2項
に記載の半導体レーザシステム。 4 前記放出レーザ光の波長をほゞ一定に維持す
る手段が、基準信号を出力する基準信号源と、該
基準信号源に接続されるとともに前記減算増幅器
に接続され、前記第2の出力信号と前記基準信号
との間の差に基づく制御信号を出力する手段と、
該制御信号にしたがつて前記パラメータを制御す
ることにより放出レーザ光の波長をほゞ一定に維
持する手段とから成ることを特徴とする特許請求
の範囲第3項に記載の半導体レーザシステム。 5 前記レーザ装置が実装されるヒートシンクを
有し、前記パラメータが前記レーザ装置の動作温
度であり、前記制御信号にしたがう手段が前記制
御信号にしたがい前記ヒートシンクを加熱または
冷却させる手段を含むことを特徴とする特許請求
の範囲第4項に記載の半導体レーザシステム。 6 前記放出レーザ光の波長をほゞ一定に維持す
る手段が前記レーザ装置の動作温度を制御するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第4項の
うちのいずれか一項に記載の半導体レーザシステ
ム。 7 前記放出レーザ光の波長をほゞ一定に維持す
る手段が、前記レーザ装置の出力部にもうけられ
た共振キヤビテイと、レーザ光の通路に配された
レンズ及び光学格子と、レーザ光の通路軸に対す
る該光学格子の傾きを前記第2の出力信号に基づ
いて制御する手段を含むことを特徴とする特許請
求の範囲第1項〜第4項のうちのいずれか一項に
記載の半導体レーザシステム。 8 前記光学格子の傾きを制御する手段が、ピエ
ゾ効果を持つ結晶から成ることを特徴とする特許
請求の範囲第7項に記載の半導体レーザシステ
ム。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB4457277 | 1977-10-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5474386A JPS5474386A (en) | 1979-06-14 |
JPS6412113B2 true JPS6412113B2 (ja) | 1989-02-28 |
Family
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JPS5845195B2 (ja) * | 1979-12-26 | 1983-10-07 | 一郎 鶴見 | ダイオ−ドレ−ザの発光波長制御方式 |
DE3000657A1 (de) * | 1980-01-10 | 1981-07-16 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Anordnung zur wellenlaengestabilisierung von halbleiterlasern |
JPS56103551A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-18 | Fujitsu Ltd | Light source control system |
JPS5783079A (en) * | 1980-11-12 | 1982-05-24 | Sharp Corp | Driving method of semiconductor laser |
EP0060033A1 (en) * | 1981-02-16 | 1982-09-15 | British Telecommunications | Improvements in or relating to laser light sources |
JPS57190384A (en) * | 1981-05-20 | 1982-11-22 | Toshiba Corp | Wavelength sweeping laser |
JPS596585A (ja) * | 1982-07-05 | 1984-01-13 | Ricoh Co Ltd | 半導体レ−ザ出力制御方法 |
US4450565A (en) * | 1982-08-23 | 1984-05-22 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Spectrally stabilized laser |
FR2542511B1 (fr) * | 1983-03-09 | 1986-12-19 | Lecoy Pierre | Procede et dispositif de regulation de la puissance lumineuse de diodes laser |
SE8401773L (sv) * | 1984-03-30 | 1985-10-01 | Boh Optical Ab | Frekvens- och effektreglering hos laserdioder |
CA1251845A (en) * | 1984-08-06 | 1989-03-28 | Ian D. Henning | Optical amplification |
JPS6224125A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-02 | Chino Corp | 光半導体測定装置 |
GB8522821D0 (en) * | 1985-09-16 | 1985-10-23 | British Telecomm | Frequency referencing system |
EP0238484A1 (en) * | 1985-09-24 | 1987-09-30 | Bell Communications Research, Inc. | Temperature stabilization of injection lasers |
JPH01105268A (ja) * | 1986-04-05 | 1989-04-21 | Ricoh Co Ltd | 情報記録用光ビ−ムの出力安定化方法及び装置 |
US4792956A (en) * | 1986-05-13 | 1988-12-20 | Litton Systems, Inc. | Laser diode intensity and wavelength control |
US4737798A (en) * | 1986-07-03 | 1988-04-12 | Xerox Corporation | Laser diode mode hopping sensing and control system |
US4733253A (en) * | 1986-07-03 | 1988-03-22 | Xerox Corporation | Apparatus and method for detecting and eliminating diode laser mode hopping |
US4823357A (en) * | 1986-11-10 | 1989-04-18 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Diffraction limited dichroic combiner diode laser |
EP0284908B1 (de) * | 1987-03-30 | 1993-10-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Anordnung zur Steuerung oder Regelung einer Emissionswellenlänge und emittierten Leistung eines Halbleiterlasers |
US4922480A (en) * | 1987-12-02 | 1990-05-01 | American Telephone And Telegraph Company | Technique for improving the percentage of semiconductor lasers usable with a predetermined wavelength specification |
DE3744323C2 (de) * | 1987-12-28 | 1999-03-11 | Lambda Physik Forschung | Verfahren und Vorrichtung zum Stabilisieren der Frequenz eines Laserstrahles |
JPH0797675B2 (ja) * | 1989-03-28 | 1995-10-18 | シャープ株式会社 | 半導体レーザ励起型固体レーザ装置 |
GB2230912B (en) * | 1989-04-22 | 1993-10-20 | Stc Plc | Optical amplifier gain control |
SE463952B (sv) * | 1989-10-13 | 1991-02-11 | Hans Martin | Anordning foer att moejliggoera en vaaglaengdsstabilisering av en av en halvledarlaser alstrad och utsaend ljusstraale |
JPH04349236A (ja) * | 1991-05-27 | 1992-12-03 | Pioneer Electron Corp | 光ピックアップ装置 |
JP3407893B2 (ja) * | 1991-05-27 | 2003-05-19 | パイオニア株式会社 | 半導体レーザ制御装置 |
CA2114226A1 (en) * | 1991-07-26 | 1993-02-18 | George Anthony Rakuljic | Photorefractive systems and methods |
US5440669A (en) * | 1991-07-26 | 1995-08-08 | Accuwave Corporation | Photorefractive systems and methods |
US5491570A (en) * | 1991-07-26 | 1996-02-13 | Accuwave Corporation | Methods and devices for using photorefractive materials at infrared wavelengths |
US5691989A (en) * | 1991-07-26 | 1997-11-25 | Accuwave Corporation | Wavelength stabilized laser sources using feedback from volume holograms |
US5796096A (en) * | 1991-07-26 | 1998-08-18 | Accuwave Corporation | Fabrication and applications of long-lifetime, holographic gratings in photorefractive materials |
JPH06509952A (ja) * | 1991-08-22 | 1994-11-10 | ディ・ビアッジョ、ロベルト・エンツォ | 医用光治療装置 |
EP0600636A1 (en) * | 1992-11-19 | 1994-06-08 | Varian Associates, Inc. | Self-calibrated power meter |
US5381230A (en) * | 1993-02-12 | 1995-01-10 | Honeywell Inc. | Emission source spectrum stabilizer |
WO1997005679A1 (en) * | 1995-07-27 | 1997-02-13 | Jds Fitel Inc. | Method and device for wavelength locking |
JPH109961A (ja) * | 1996-06-21 | 1998-01-16 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> | 光波長監視装置 |
US5825792A (en) * | 1996-07-11 | 1998-10-20 | Northern Telecom Limited | Wavelength monitoring and control assembly for WDM optical transmission systems |
JP2989775B2 (ja) * | 1997-01-21 | 1999-12-13 | サンテック株式会社 | レーザ光源の波長安定化装置 |
US5832014A (en) * | 1997-02-11 | 1998-11-03 | Lucent Technologies Inc. | Wavelength stabilization in tunable semiconductor lasers |
US5956356A (en) * | 1997-12-08 | 1999-09-21 | Lucent Technologies Inc. | Monitoring wavelength of laser devices |
JP3197869B2 (ja) * | 1998-03-31 | 2001-08-13 | アンリツ株式会社 | 波長可変レーザ光源装置 |
JP3317896B2 (ja) * | 1998-04-24 | 2002-08-26 | 日本電気株式会社 | レーザ発振波長監視装置 |
US7006541B2 (en) * | 1998-06-01 | 2006-02-28 | Lambda Physik Ag | Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp |
US6580517B2 (en) | 2000-03-01 | 2003-06-17 | Lambda Physik Ag | Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp |
US6160832A (en) | 1998-06-01 | 2000-12-12 | Lambda Physik Gmbh | Method and apparatus for wavelength calibration |
AU6142399A (en) | 1998-09-11 | 2000-04-03 | New Focus, Inc. | Tunable laser |
EP1133673A1 (en) | 1998-10-16 | 2001-09-19 | New Focus, Inc. | Interferometer for optical wavelength monitoring |
DE60012704T2 (de) * | 1999-03-01 | 2005-01-13 | The Regents Of The University Of California, Oakland | Abstimmbarer laser mit einer integrierten vorrichtung zur wellenlängenüberwachung und zugehöriges betriebsverfahren |
US6879619B1 (en) | 1999-07-27 | 2005-04-12 | Intel Corporation | Method and apparatus for filtering an optical beam |
US6853654B2 (en) * | 1999-07-27 | 2005-02-08 | Intel Corporation | Tunable external cavity laser |
US6526079B1 (en) | 1999-08-10 | 2003-02-25 | Coretek, Inc. | Single etalon optical wavelength reference device |
US6597462B2 (en) | 2000-03-01 | 2003-07-22 | Lambda Physik Ag | Laser wavelength and bandwidth monitor |
GB2360628A (en) * | 2000-03-25 | 2001-09-26 | Marconi Comm Ltd | A stabilised radiation source |
ATE347743T1 (de) | 2000-04-25 | 2006-12-15 | Avanex Corp | Wellenlängenstabilisierungsvorrichtung und dessen arbeitswellenlängenjustierungsverfahren |
US7209498B1 (en) | 2000-05-04 | 2007-04-24 | Intel Corporation | Method and apparatus for tuning a laser |
US6807205B1 (en) | 2000-07-14 | 2004-10-19 | Lambda Physik Ag | Precise monitor etalon calibration technique |
US7120176B2 (en) * | 2000-07-27 | 2006-10-10 | Intel Corporation | Wavelength reference apparatus and method |
US6738140B2 (en) | 2000-09-19 | 2004-05-18 | Lambda Control, Inc. | Wavelength detector and method of detecting wavelength of an optical signal |
US6747741B1 (en) | 2000-10-12 | 2004-06-08 | Lambda Physik Ag | Multiple-pass interferometric device |
US6658031B2 (en) * | 2001-07-06 | 2003-12-02 | Intel Corporation | Laser apparatus with active thermal tuning of external cavity |
US6686586B2 (en) | 2001-03-23 | 2004-02-03 | Metrologic Instruments, Inc. | Diffractive-based laser scanning system employing microcontroller programmed for mode-switching correction in response to binary mode switching signal generation |
US6901088B2 (en) * | 2001-07-06 | 2005-05-31 | Intel Corporation | External cavity laser apparatus with orthogonal tuning of laser wavelength and cavity optical pathlength |
US6804278B2 (en) | 2001-07-06 | 2004-10-12 | Intel Corporation | Evaluation and adjustment of laser losses according to voltage across gain medium |
US6724797B2 (en) | 2001-07-06 | 2004-04-20 | Intel Corporation | External cavity laser with selective thermal control |
US6822979B2 (en) | 2001-07-06 | 2004-11-23 | Intel Corporation | External cavity laser with continuous tuning of grid generator |
EP1329998A1 (en) * | 2002-01-21 | 2003-07-23 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | An arrangement for monitoring the emission wavelength of a laser source |
US6768096B2 (en) | 2002-01-31 | 2004-07-27 | Digital Optics Corp. | Passive thermal stabilization of wavelength monitor |
US7230959B2 (en) | 2002-02-22 | 2007-06-12 | Intel Corporation | Tunable laser with magnetically coupled filter |
EP1345298A1 (en) * | 2002-03-16 | 2003-09-17 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Wavelength monitoring apparatus and method therefor |
DE60216907T2 (de) * | 2002-07-11 | 2007-06-14 | Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Vorrichtung und Verfahren zur Wellenlängenbestimmung |
EP1381090A1 (en) * | 2002-07-11 | 2004-01-14 | Agilent Technologies, Inc. - a Delaware corporation - | Wavelength detector apparatus and method therefor |
US7133136B2 (en) * | 2003-10-22 | 2006-11-07 | Jds Uniphase Corporation | Wavelength monitor |
US8112243B2 (en) * | 2007-06-20 | 2012-02-07 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Forward voltage short-pulse technique for measuring high power laser array junction temperture |
DE102017119810B4 (de) * | 2017-08-29 | 2019-05-09 | fos4X GmbH | Optoelektrischer Chip |
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Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3588738A (en) * | 1968-09-03 | 1971-06-28 | Hughes Aircraft Co | Frequency stabilized laser |
US3641459A (en) * | 1969-06-16 | 1972-02-08 | Bell Telephone Labor Inc | Apparatus and method for narrowing the pulse width and stabilizing the repetition rate in semiconductor lasers exhibiting self-induced pulsing |
JPS542553B2 (ja) * | 1971-09-20 | 1979-02-08 | ||
US3835415A (en) * | 1972-06-28 | 1974-09-10 | Ibm | High radiance semiconductor laser |
FR2263623A1 (en) * | 1974-03-08 | 1975-10-03 | Ibm | Laser resonator with automatic alignment control - has grid-shaped resonator enclosing reflector with refractive maximum as function of wavelength |
US4019048A (en) * | 1976-03-22 | 1977-04-19 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Regenerator for an optical transmission system |
US4009385A (en) * | 1976-03-22 | 1977-02-22 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Laser control circuit |
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