JPS6410626B2 - - Google Patents

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JPS6410626B2
JPS6410626B2 JP2554882A JP2554882A JPS6410626B2 JP S6410626 B2 JPS6410626 B2 JP S6410626B2 JP 2554882 A JP2554882 A JP 2554882A JP 2554882 A JP2554882 A JP 2554882A JP S6410626 B2 JPS6410626 B2 JP S6410626B2
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JP
Japan
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paper
embossing
release paper
coating
embossed
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Application number
JP2554882A
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English (en)
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JPS58144187A (ja
Inventor
Hirotaka Tsucha
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2554882A priority Critical patent/JPS58144187A/ja
Publication of JPS58144187A publication Critical patent/JPS58144187A/ja
Publication of JPS6410626B2 publication Critical patent/JPS6410626B2/ja
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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Synthetic Leather, Interior Materials Or Flexible Sheet Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はエンボス付き離型紙及びその製造方法
に係り、更に詳しくは合成皮革製造の際に用いる
エンボス付き離型紙及びその製造方法に関する。
ポリウレタン、ポリ塩化ビニル等の材料を用
い、注型法により合成皮革を製造する工程におい
て、離型紙が用いられている。
この離型紙は紙の表面に離型性コート層が設け
られているもので、従来、このコート層として有
機シリコン化合物、ポリプロピレン、ポリ4−メ
チルペンテン−1等のポリオレフイン、アルキツ
ド樹脂、変性−アルキツド樹脂等の熱硬化性樹脂
等からなるコート層が用いられている。しかしな
がら、有機シリコン化合物系コート層を設けた離
型紙は、表面光沢に欠け、且つ、数度の使用でコ
ート層が脱落する欠点を有し、又、ポリオレフイ
ン系コート層を設けたものはコート層の樹脂の軟
化点以上の温度では使用不能である欠点を有し、
又、熱硬化性樹脂系コート層を設けたものはエン
ボス加工ができないという欠点を有する。
本発明者はエンボス付き離型紙であつて、200
℃以上の合成皮革製造工程において使用可能であ
り、繰返し使用してもコート層の脱落がなく、且
つ表面光沢の低下のないエンボス付き離型紙を開
発すべく研究の結果エチレン性不飽和結合を有す
る化合物を主成分として含むコーテイング材料を
紙の片面にコーテイングして未硬化のコート層を
形成し、次いでエンボス加工を行ない、しかるの
ち前記コート層に電子線又は紫外線を照射して電
離放射線硬化膜を形成することにより、適度の離
型性を有し、且つ耐熱性、耐候性、耐薬品性、耐
摩耗性等の点においても優れたエンボス付き離型
紙を得ることができることを見い出し、かかる知
見にもとづいて本発明を完成したものである。
即ち、第1の発明の要旨は紙の片面に電離放射
線硬化膜が設けられ、且つ電離放射線硬化膜が設
けられた紙にエンボスが施こされていることを特
徴とするエンボス付き離型紙であり、第2の発明
の要旨はエチレン性不飽和結合を有する化合物を
主成分として含むコーテイング材料を紙の片面に
コーテイングして未硬化のコート層を形成し、次
いでエンボス加工を行ない、しかるのち前記コー
ト層に電子線又は紫外線を照射して電離放射線硬
化膜を形成することを特徴とするエンボス付き離
型紙の製造方法である。
以下、本発明につき図面を参照しながら詳細に
説明する。
第1図は本発明のエンボス付き離型紙を示し
ている。
紙1の片面に電離放射線硬化膜2が設けられ、
且つ電離放射線硬化膜2が設けられた紙1にエン
ボス3が施こされている。
而して本発明のエンボス付き離型紙におい
て、電離放射線硬化膜2はエチレン性不飽和結合
を有する化合物を主成分として含むコーテイング
材料を紙面にコーテイングし、電子線又は紫外線
を照射して硬化させてなるものである。
本発明のエンボス付き離型紙は適度の離型性を
有し、且つ耐熱性、耐候性、耐薬品性、耐摩耗性
等の点においても優れており、合成皮革製造用に
有効に活用し得る。
又、繰り返し使用しても、表面層が脱落した
り、表面光沢が低下したりすることはない。
次に本発明のエンボス付き離型紙の製造方法を
図面を参照しながら詳細に説明する。
第1図は本発明の製造方法を示す。
紙1をフイダーより送り出し、コーテイング部
5で溶剤に溶解させたエチレン性不飽和結合を有
する化合物を主成分として含むコーテイング材料
6を塗布し、乾燥部7で溶剤を蒸散させた後にエ
ンボス部8でエンボス加工を行い、しかる後、紫
外線照射装置又は電子線照射装置9により紫外線
又は電子線を照射させ、塗布されたエチレン性不
飽和結合を有する化合物を硬化させることにより
本発明のエンボス付き離型紙を得ることが出来
る。
而して本発明の製造方法において、コーテイン
グ材料としては常温で固体であるエチレン性不飽
和結合を有する化合物を溶剤に溶解させ、更に必
要に応じて光開始剤を配合したものを適用するこ
とができる。
ここでエチレン性不飽和結合を有する化合物と
しては、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルア
クリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、2−エチルヘキシルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、メチロールアクリルアミ
ド、メチロールメタクリルアミド、ブトキシメチ
ルアクリルアミド、ブトキシメチルメタクリルア
ミド等の単官能モノマー、エチレングリコールジ
アクリレート、プロピレングリコールジアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート等の2官能モ
ノマー、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト等の、3官能モノマーウレタンアクリレート、
ウレタンメタクリレートエポキシアクリレート、
エポキシメタクリレート、ポリエーテルアクリレ
ート、ポリエーテルメタクリレート、ポリエステ
ルアクリレート、ポリエステルメタクリレートエ
チレンアクリルアミド、N,N′−(オキシジメチ
レン)ビスメタクリルアミド不飽和ポリエステル
等の如きオリゴマー、プレポリマーでありこれら
の一種あるいは二種以上の混合物として用いられ
る。
これらのエチレン性不飽和結合を有する化合物
を紙に塗布した後エンボス加工を行うが、好まし
い形態としては、エンボス時に塗布物の流れが無
く、エンボスロールへの付着が無いことが必要で
あり、常温で固形状態を保ち、エンボス時に、加
熱、加圧により軟化し、延展するようなものが好
ましい。特に常温で固体であり軟化点50℃以上の
ものが好ましい。
それらの点から、軟化点50℃以上のエチレン性
不飽和結合を有する化合物を溶剤に溶解してなる
コーテイング材料を紙に塗布し、溶剤を蒸発させ
たのちにエンボス加工を行ない、次いで、電子線
又は紫外線を照射するのが最も望ましい。
前記のエチレン性不飽和結合を有する化合物は
そのままで電子線により硬化性を有するので電子
線照射の場合は単独使用してよいが、紫外線照射
の場合は光開始剤として、アセトフエノン、ベン
ゾフエノン、ベンゾインアルキルエーテル、アゾ
ビスイソブチロニトリル、4,4′−ジクロルベン
ゾフエノン等をエチレン性不飽和結合を有する化
合物に対して0.5〜5重量%の濃度で配合したも
のをコーテイング材料として用いる。
次にエチレン性不飽和結合を有する化合物を主
成分として含むコーテイング材料のコーテイング
はバーコート、ナイフコート、ロールコート、カ
ーテンフローコート、スプレーコート、押出しコ
ート等公知のいずれのものでもかまわない。
コーテイング材料の塗布量は0.1g/m2〜100
g/m2が適当であり、好ましくは0.5g/m2〜50
g/m2である。
本発明の製造方法において、紙は坪量50〜300
g/m2のものが好ましく、又、非塗被加工紙のみ
ならず、紙表面にクレイの如き無機物、或いはポ
リビニルアルコールの如き有機物などを塗布加工
した紙をも用いることができる。
又、表面層がポリビニルアルコールの如き有機
物よりなる紙のときはコロナ処理等の表面処理を
施こしても良い。
次に本発明の製造方法において、エンボス加工
を電子線又は紫外線の照射前に行なつているのは
硬化後にエンボス加工を施こすのではコート層が
割れてしまうからである。
本発明の製造方法においてエンボス加工は、凹
凸模様を有するエンボスロールで転写する方法が
一般的であるが、他にベルト法、金型模様のプレ
ス法等の加工法も適用可能である。
次に本発明の製造方法において紫外線照射装置
としては、1800〜4000Åの波長の光線を発する、
水晶水銀灯、紫外線硬化炭素アーク及び高フラツ
シユランプを光源として有するものを適用でき、
また電子線照射装置としては、50〜2000KcVの
エネルギーを有するものが適当である。
本発明の製造方法によれば、適度の離型性を有
し、且つ耐熱性、耐候性、耐薬品性、耐摩耗性等
の点で優れたエンボス付き離型紙を製造すること
ができる。
又、本発明の製造方法によれば、表面層の形成
をエチレン性不飽和結合を有する化合物を含むコ
ート層を電子線又は紫外線を照射し低温で短時間
で硬化させる方法によつているのでコート層を硬
化させる過程で熱によりエンボスがだれてしまう
ことがない利点を有する。
次に本発明の実施例をあげて具体的に説明す
る。
実施例 1 坪量100g/m2のクレイコートした紙に下記の
組成物を固型分15g/m2の量でロールコートし
た。
Γエポキシアクリレート樹脂(昭和高分子(株)製
リポキシUR−90) 100重量部 Γトリメチロールプロパントリアクリレート
10重量部 Γベンゾインメチルエーテル 3重量部 Γメチルエチルケトン 250重量部 更にメチルエチルケトンを蒸発させ、60℃に加
温したエンボスロースによりエンボス加工を行
い、4KWの紫外線照射装置(日本電池製)によ
り硬化させた。
得られたエンボス付き離型紙に下記のポリ塩化
ビニルゾルを20g/m2の厚さでコーテイングし、
210℃の温度で2分間加熱硬化させた。発泡ポリ
塩化ビニルシートの剥離力は30g/15mmであり、
十分な剥離性を有することが判明した。
ポリ塩化ビニル(ペーストレジン) 100重量部 ジオクチルフタレート 60重量部 発泡剤(アゾジカーボンアミド) 3重量部 酸化防止剤(共同薬品(株)製)KF−80A−8
3重量部 炭酸カルシユウム 10重量部 実施例 2 実施例1の組成物からペンゾインメチルエーテ
ルを除いたものを、同様に塗布、メチルエチルケ
トンの蒸発、エンボス加工した後に、リニアフイ
ラメント型電子線加速器(アメリカESI社製)に
より、5Mradの電子線を照射した。得られた離
型紙を実施例1と同様に剥離力を測定したとこ
ろ、25g/15mmであつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のエンボス付き離型紙の断面
図、第2図は本発明の製造方法の過程を示す模式
図である。 1……紙、2……電離放射線硬化膜、3……エ
ンボス、4……エンボス付き離型紙、5……コー
テイング部、6……コーテイング材料、7……乾
燥部、8……エンボス部、9……紫外線照射装置
又は電子線照射装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 紙の片面に電離放射線硬化膜が設けられ、且
    つ電離放射線硬化膜が設けられた紙にエンボスが
    施こされていることを特徴とするエンボス付き離
    型紙。 2 エチレン性不飽和結合を有する化合物を主成
    分として含むコーテイング材料を紙の片面にコー
    テイングして未硬化のコート層を形成し、次いで
    エンボス加工を行ない、しかるのち前記コート層
    に電子線又は紫外線を照射して電離放射線硬化膜
    を形成することを特徴とするエンボス付き離型紙
    の製造方法。 3 前記コーテイング材料として、軟化点50℃以
    上のエチレン性不飽和結合を有する化合物を溶剤
    に溶解してなるものを用い、そのコーテイング材
    料を紙に塗布し、溶剤を蒸発させたのちにエンボ
    ス加工を行なうことを特徴とする特許請求の範囲
    第2項記載のエンボス付き離型紙の製造方法。
JP2554882A 1982-02-19 1982-02-19 エンボス付き離型紙及びその製造方法 Granted JPS58144187A (ja)

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