JPS59227413A - 凹凸化粧材の製造法 - Google Patents
凹凸化粧材の製造法Info
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- JPS59227413A JPS59227413A JP58102349A JP10234983A JPS59227413A JP S59227413 A JPS59227413 A JP S59227413A JP 58102349 A JP58102349 A JP 58102349A JP 10234983 A JP10234983 A JP 10234983A JP S59227413 A JPS59227413 A JP S59227413A
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- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
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- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
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- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は、建築内装や家具の表面加工、その他の用途に
用いられ、凹凸を有すると共に表面が硬化された凹凸化
粧材の製造法に関する。
用いられ、凹凸を有すると共に表面が硬化された凹凸化
粧材の製造法に関する。
（従来技術）
化粧材の表面、或いは化粧材全体に凹凸が形成された凹
凸化粧材は既に知られており１代表的ナモのとして、紙
シートのペーパーエンボス、ポリ塩化ビニル樹脂シート
や塩ビ壁紙における熱エンボス、ポリ塩化ビニル樹脂発
泡シートにおけるケミカルエンボスや発泡後の熱エンボ
スなどの手法によるものがある。しかし、これらの従来
の化粧シートは、材料の熱可塑性を利用して凹凸が形成
されているので、表面の硬さや耐熱性、耐薬品性は不充
分である。メラミン化粧板やＤＡＰ化粧板においてはわ
ずかに凹凸加工が行なわれているが、使用材料の制約か
ら、深い凹凸を得ることは出来ず、しかも連続的な量産
は困難である。
凸化粧材は既に知られており１代表的ナモのとして、紙
シートのペーパーエンボス、ポリ塩化ビニル樹脂シート
や塩ビ壁紙における熱エンボス、ポリ塩化ビニル樹脂発
泡シートにおけるケミカルエンボスや発泡後の熱エンボ
スなどの手法によるものがある。しかし、これらの従来
の化粧シートは、材料の熱可塑性を利用して凹凸が形成
されているので、表面の硬さや耐熱性、耐薬品性は不充
分である。メラミン化粧板やＤＡＰ化粧板においてはわ
ずかに凹凸加工が行なわれているが、使用材料の制約か
ら、深い凹凸を得ることは出来ず、しかも連続的な量産
は困難である。
（発明の目的）
従って、本発明は、比較的深い凹凸を形成できると共に
、表面が充分硬化した凹凸化粧材を効率よく製造する方
法を提供することを目的とする。
、表面が充分硬化した凹凸化粧材を効率よく製造する方
法を提供することを目的とする。
（発明の構成）
本発明は、基材上に印刷模様を介して電離放射線硬化性
樹脂層を形成し、次いで前記樹脂層の表面にエンボス加
工を施し、しかる後、全面に電離放射線を照射すること
を特徴とする凹凸化粧材の製造法をその主旨とする。
樹脂層を形成し、次いで前記樹脂層の表面にエンボス加
工を施し、しかる後、全面に電離放射線を照射すること
を特徴とする凹凸化粧材の製造法をその主旨とする。
第１図〜第４図は本発明の方法の一実施例を示し、基材
１に印刷模様２を設け（第１図）。
１に印刷模様２を設け（第１図）。
次に、印刷模様２上に電離放射線硬化性樹脂層３形成し
く第２図）、更に樹脂層ｓ上にエンボスロール４を用い
て凹凸５を形成しＣ第３図）。
く第２図）、更に樹脂層ｓ上にエンボスロール４を用い
て凹凸５を形成しＣ第３図）。
しかる後、全面に電離放射線６を照射Ｔる（第４図）各
工程を示している。
工程を示している。
上記において基材１としては１通常の化粧材の基材とし
て使用できるものであればいずれも使用でき１例えば次
のようなものである；薄葉紙、晒クラフト紙、チタン紙
、リンター紙、板紙１石こうボード紙等の紙、ポリエチ
レンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニ
ルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニル
アルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、ナイロンフィルム、
ポリスチレンフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体フ
ィルム、エチレンビニルアルコール共重合体フィルム、
アイオノマー等のプラスチックフィルム。
て使用できるものであればいずれも使用でき１例えば次
のようなものである；薄葉紙、晒クラフト紙、チタン紙
、リンター紙、板紙１石こうボード紙等の紙、ポリエチ
レンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニ
ルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニル
アルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、ナイロンフィルム、
ポリスチレンフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体フ
ィルム、エチレンビニルアルコール共重合体フィルム、
アイオノマー等のプラスチックフィルム。
木１合板、パーチクルボード等の木質基材１石こうボー
ド、石こうスラグボード等の石こう系基材、パルプセメ
ント板、石綿セメント板、木片セメント板等の繊維セメ
ント板、 ＧＲＯ及びコンクリート、鉄、アルミニウム
、銅等の金属箔若しくはシート、並びに以上の各基けの
複合体等。
ド、石こうスラグボード等の石こう系基材、パルプセメ
ント板、石綿セメント板、木片セメント板等の繊維セメ
ント板、 ＧＲＯ及びコンクリート、鉄、アルミニウム
、銅等の金属箔若しくはシート、並びに以上の各基けの
複合体等。
上記の基材１に印刷模様を設けるには公知の印刷方法を
利用して行なうことができ、たとえば、グラビア印刷、
グラビアオフセット印刷。
利用して行なうことができ、たとえば、グラビア印刷、
グラビアオフセット印刷。
オフセット印刷、フレキソ印刷、シルク印刷等の印刷方
法が利用できる。又、印刷に使用するインキは基材１．
後述する電離放射線硬化性樹脂層、加工条件及び製品と
なった後の使用条件を考慮して適宜に選択して使用Ｔる
ことができる。或いは直接印刷するかわりに転写紙を用
いた転写印刷によってもよい。
法が利用できる。又、印刷に使用するインキは基材１．
後述する電離放射線硬化性樹脂層、加工条件及び製品と
なった後の使用条件を考慮して適宜に選択して使用Ｔる
ことができる。或いは直接印刷するかわりに転写紙を用
いた転写印刷によってもよい。
印刷模様上に形成する電離放射線硬化性樹脂層を構成す
る化合物としては、不飽和ポリエステル類、（メタ）ア
クリレート類を挙げることができ、これらに更に通常の
熱可塑性樹脂をブムンドして使用することもできる。（
メタ）アクリレート類としてはポリエステル（メタ）ア
クリレート、エポキシ（メタ）アクリレート。
る化合物としては、不飽和ポリエステル類、（メタ）ア
クリレート類を挙げることができ、これらに更に通常の
熱可塑性樹脂をブムンドして使用することもできる。（
メタ）アクリレート類としてはポリエステル（メタ）ア
クリレート、エポキシ（メタ）アクリレート。
ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）
アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレートがある
。従来、ポリ塩化ビニル樹脂をペースト化して塗工して
いる用途に本発明を応用するときは可塑剤の一部ないし
全部を上記したような不飽和ポリエステル類や（メタ）
アクリレート類に置き換えるとよい。
アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレートがある
。従来、ポリ塩化ビニル樹脂をペースト化して塗工して
いる用途に本発明を応用するときは可塑剤の一部ないし
全部を上記したような不飽和ポリエステル類や（メタ）
アクリレート類に置き換えるとよい。
電離放射線硬化性樹脂層３を印刷模様上に形成するには
、上記した化合物を単独若しくはその他の任意成分と混
合して組成物とし、その組成分を適当な方法で塗布すれ
ばよい。
、上記した化合物を単独若しくはその他の任意成分と混
合して組成物とし、その組成分を適当な方法で塗布すれ
ばよい。
或いは電離放射線硬化性樹脂層３は、上記した化合物を
含む組成物を用いて、一旦、フィルム若しくはシートを
作成し、得られたフィルム若しくはシートをラミネート
する方法によっても形成できる。このようにフィルム若
しくはシートをラミネートするラミネート法においては
印刷模様の形成を、基材１上への印刷によって行なう方
法以外に、フィルム若しくはシートの基材１に向く側に
予め印刷ないし転写印刷によって行なう方法によっても
よい。
含む組成物を用いて、一旦、フィルム若しくはシートを
作成し、得られたフィルム若しくはシートをラミネート
する方法によっても形成できる。このようにフィルム若
しくはシートをラミネートするラミネート法においては
印刷模様の形成を、基材１上への印刷によって行なう方
法以外に、フィルム若しくはシートの基材１に向く側に
予め印刷ないし転写印刷によって行なう方法によっても
よい。
電離放射線硬化性樹脂層３には、エンボス型を用いてエ
ンボス加工を施丁。エンボス型としては＠３図に示した
エンボスロール４以外にも平板状の金型（図示せず）や
樹脂型を用いることもでき、好ましくはエンボスロール
を加熱するか、金型・樹脂型使用時にはプレス板を加熱
することにより、加熱及び加圧してエンボス加工な施丁
。エンボス加工により形成する凹凸５は＠３図に示すよ
うに電離放射線硬化性樹脂層３のみに行なっても、或い
は図示しないが、基材１に到達Ｔる凹凸（図示せず）と
してもよい。
ンボス加工を施丁。エンボス型としては＠３図に示した
エンボスロール４以外にも平板状の金型（図示せず）や
樹脂型を用いることもでき、好ましくはエンボスロール
を加熱するか、金型・樹脂型使用時にはプレス板を加熱
することにより、加熱及び加圧してエンボス加工な施丁
。エンボス加工により形成する凹凸５は＠３図に示すよ
うに電離放射線硬化性樹脂層３のみに行なっても、或い
は図示しないが、基材１に到達Ｔる凹凸（図示せず）と
してもよい。
基材１としてポリ塩化ビニル樹脂の発泡性層若しくはそ
れに裏打紙を裏打ちしたものを用いるときはエンボスの
手法としていわゆるケミカルエンボスの手法（特公昭４
３−２８６５６号）を利用してもよい。
れに裏打紙を裏打ちしたものを用いるときはエンボスの
手法としていわゆるケミカルエンボスの手法（特公昭４
３−２８６５６号）を利用してもよい。
凹凸を形成した後、全面に電離放射線を照射する。電離
放射線としては種々のものが利用できるが、設備が簡単
な紫外線や、透過力が大きく硬化処理速度の大きい電子
線を利用するのが好ましい。電離放射線の照射により、
電離放射線硬化性樹脂層は架橋し硬化するので、この結
果、表面に凹凸が形成され、かつ硬化により物理的・化
学的性状が向上する。
放射線としては種々のものが利用できるが、設備が簡単
な紫外線や、透過力が大きく硬化処理速度の大きい電子
線を利用するのが好ましい。電離放射線の照射により、
電離放射線硬化性樹脂層は架橋し硬化するので、この結
果、表面に凹凸が形成され、かつ硬化により物理的・化
学的性状が向上する。
（効 果）
以上の本発明によれば、凹凸を有し１表面が硬化した化
粧材が極めて効率良く製造できる。
粧材が極めて効率良く製造できる。
従って１本発明によって得られる化粧材は壁紙。
床材、キャビネットシート、天井材、家具、建材に用い
るのに適している。
るのに適している。
（実施例）
本発明をより具体的にボ丁ため１次に実施例を掲げる。
実施例１
ポリ塩化ビニル樹脂フィルム（厚み０．１ Ｍｋ ）の
表面に印刷を施した後、下記配合のペースト囚を塗布厚
みが０． Ｉ ＩＩになるよう塗布し、指触乾燥させ、
次に金型ロールを用いて表面に凹凸を形成させた。凹凸
形成後、ペースト塗布面（二紫外線ランプ（岩崎電気製
、集光型オゾンタイプ４謂高圧水銀灯、８０ Ｗ／ｃｒ
ｎ）を用い、ランプ下１５ｃ１ｎの位置をラインスピー
ド２０展／分で通過させながら紫外線を照射したところ
、表面に凹凸を有する化粧シートを得た。
表面に印刷を施した後、下記配合のペースト囚を塗布厚
みが０． Ｉ ＩＩになるよう塗布し、指触乾燥させ、
次に金型ロールを用いて表面に凹凸を形成させた。凹凸
形成後、ペースト塗布面（二紫外線ランプ（岩崎電気製
、集光型オゾンタイプ４謂高圧水銀灯、８０ Ｗ／ｃｒ
ｎ）を用い、ランプ下１５ｃ１ｎの位置をラインスピー
ド２０展／分で通過させながら紫外線を照射したところ
、表面に凹凸を有する化粧シートを得た。
ペースト囚
実施例２
薄葉紙Ｃ坪量５０ｔ／が）の表面Ｃ二印刷を施した後、
下記配合のペーストを塗布厚み０．１鴎になるよう塗布
し、以下、実施例１と同様にして化粧シートを得た。
下記配合のペーストを塗布厚み０．１鴎になるよう塗布
し、以下、実施例１と同様にして化粧シートを得た。
ペースト（Ｂ）
実施例３
実施例１においてペースト中の光増感剤を除いて用い、
紫外線のかわりに電子線を用いても実施例１と同様の結
果が得られた。
紫外線のかわりに電子線を用いても実施例１と同様の結
果が得られた。
実施例４
実施例１でペーストを用いるかわりに下記配合Ａからな
るフィルムを印刷面に接着剤を用いてラミネートした。
るフィルムを印刷面に接着剤を用いてラミネートした。
フィルム配合（３）
ラミネートを終えた後、エンボス加工及び紫外線照射は
実施例１と同様に行ない、同様の製品を得た。
実施例１と同様に行ない、同様の製品を得た。
実施例５
壁紙裏打用難燃紙に発泡剤を含むポリ塩化ビニル樹脂ペ
ーストを塗布して指触乾燥させ、次いで下記配合ＣＢ＞
のフィルムの裏面２二発泡抑制剤を含むインキで印刷し
たフィルムを重ねて熱融着させ、直ちに加熱炉を通過さ
せることにより発泡させ、発泡抑制剤を含むインキで印
刷した部分が凹み、その他の部分が凸部となった中間体
を得た。得られた中間体に実施例１と同様の条件で紫外
線を照射し１表面が硬化され、内部はソフトな感触を保
った化粧シートを得た。
ーストを塗布して指触乾燥させ、次いで下記配合ＣＢ＞
のフィルムの裏面２二発泡抑制剤を含むインキで印刷し
たフィルムを重ねて熱融着させ、直ちに加熱炉を通過さ
せることにより発泡させ、発泡抑制剤を含むインキで印
刷した部分が凹み、その他の部分が凸部となった中間体
を得た。得られた中間体に実施例１と同様の条件で紫外
線を照射し１表面が硬化され、内部はソフトな感触を保
った化粧シートを得た。
フィルム配合（Ｂ）
用１図〜用４図は本発明の各工程を示すための模式的な
断面図である。 １・・・・・・・・・・・・・・・・・・基材２・・・
・・・・・・・・・・・・・・・印刷模様３・・・・・
・・・・・・・・・・・・・電離放射線硬化性樹脂層４
……・・・…−・・・・参エンボスロール５・・・・・
・・・・・・・・・・・・・凹凸６・・・・・・・・・
・・・・・・・・・電離放射線牙 １ 図 才 ２ 図
断面図である。 １・・・・・・・・・・・・・・・・・・基材２・・・
・・・・・・・・・・・・・・・印刷模様３・・・・・
・・・・・・・・・・・・・電離放射線硬化性樹脂層４
……・・・…−・・・・参エンボスロール５・・・・・
・・・・・・・・・・・・・凹凸６・・・・・・・・・
・・・・・・・・・電離放射線牙 １ 図 才 ２ 図
Claims (1)
- 基材上に印刷模様を介して電離放射線硬化性樹脂層を形
成し、次いで前記樹脂層の表面にエンボス加工を施し、
しかる後、全面に電離放射線を照射することを特徴とす
る凹凸化粧材の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58102349A JPS59227413A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | 凹凸化粧材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58102349A JPS59227413A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | 凹凸化粧材の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59227413A true JPS59227413A (ja) | 1984-12-20 |
Family
ID=14325002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58102349A Pending JPS59227413A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | 凹凸化粧材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59227413A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61266245A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-25 | 大日本印刷株式会社 | 表面強化エンボス化粧シ−トの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56129121A (en) * | 1980-03-13 | 1981-10-09 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of decorative material |
-
1983
- 1983-06-08 JP JP58102349A patent/JPS59227413A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56129121A (en) * | 1980-03-13 | 1981-10-09 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of decorative material |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61266245A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-25 | 大日本印刷株式会社 | 表面強化エンボス化粧シ−トの製造方法 |
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