JPS6392073A - ガスレ−ザ装置 - Google Patents
ガスレ−ザ装置Info
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- JPS6392073A JPS6392073A JP23704986A JP23704986A JPS6392073A JP S6392073 A JPS6392073 A JP S6392073A JP 23704986 A JP23704986 A JP 23704986A JP 23704986 A JP23704986 A JP 23704986A JP S6392073 A JPS6392073 A JP S6392073A
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- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 8
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- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明はレーザビームを増明して出力する方式のガスレ
ーザ装置に関する。
ーザ装置に関する。
（従来の技術）
ガスレーザ媒質の圧力を大気圧または大気圧以上の比較
的高圧に保った横励起（ＴＥ）形ガスレーザ装置では発
振器と増幅装置とを組合せ、パルス繰り返し率を大きく
しまたパルス当りの出力エネルギを大きくすることが行
われている。増幅に当っては発振器自体の出力の増大を
計ったり、増幅装置における放電空間断面積もしくは光
路長を大きくすることで増幅度を高めるようにしている
。
的高圧に保った横励起（ＴＥ）形ガスレーザ装置では発
振器と増幅装置とを組合せ、パルス繰り返し率を大きく
しまたパルス当りの出力エネルギを大きくすることが行
われている。増幅に当っては発振器自体の出力の増大を
計ったり、増幅装置における放電空間断面積もしくは光
路長を大きくすることで増幅度を高めるようにしている
。
（発明が解決しようとする問題点）
ＴＥ形レーザのうち、特にエキシマレーザなどの高圧パ
ルス発振する方式のものでは高出力のために大形化する
とビームの指向性が悪くなるという問題が生じる。一方
、増幅装置の放電空間を大きくした場合には次のような
不都合が生じる。Ｔなわち、ＴＥ形ガスレーザでは一旦
放電した後は別なガスレーザ媒質中での放電が行われな
いと放電が安定しない。したがって、放電空間が大きい
とガスレーザ媒質の入れ替りにも時間がかかり放電安定
のためにはこの入れ替え時間よりも長い周期でパルス放
電動作を行わせることが必要となる。
ルス発振する方式のものでは高出力のために大形化する
とビームの指向性が悪くなるという問題が生じる。一方
、増幅装置の放電空間を大きくした場合には次のような
不都合が生じる。Ｔなわち、ＴＥ形ガスレーザでは一旦
放電した後は別なガスレーザ媒質中での放電が行われな
いと放電が安定しない。したがって、放電空間が大きい
とガスレーザ媒質の入れ替りにも時間がかかり放電安定
のためにはこの入れ替え時間よりも長い周期でパルス放
電動作を行わせることが必要となる。
このため、高速繰り返し動作中の発指器の繰り返し周彼
ｖとの同期がとれなくなり、結局増幅装置側のパルス繰
り返し率の制約を受は高検り返し率が得られない問題が
あった。本発明はこのような問題を解消するためになさ
れたもので、増幅度を高繰り返し率のもとて向上できる
ガスレーザｉｔｔを提供することを目的とする。
ｖとの同期がとれなくなり、結局増幅装置側のパルス繰
り返し率の制約を受は高検り返し率が得られない問題が
あった。本発明はこのような問題を解消するためになさ
れたもので、増幅度を高繰り返し率のもとて向上できる
ガスレーザｉｔｔを提供することを目的とする。
（問題点′ｆｆ：解次するための手段と作用）パルスガ
スレーザ発振装置とこの発振装置から放出されたレーザ
ビームを増幅する複数の放電部をＭした増幅装置と上記
パルスガスレーザ発振装置の主放電のタイミングを検出
する検出部と、この検出部からの信号に基いて上記増幅
装置の各放電部を交互または順次放電させかつこれら放
電が上記パルスガスレーザ発振装置の主放電タイミング
−に同期するタイミング指令信号を上記各放電部のパル
ス電源に印加する放電タイミング制御部とを備えた構成
とし、パルスガスレーザ発振装置のレーザ出力が必ずし
も高くなくても多段に増幅するので、高繰り返し率で増
幅度を高めることが可能となった。
スレーザ発振装置とこの発振装置から放出されたレーザ
ビームを増幅する複数の放電部をＭした増幅装置と上記
パルスガスレーザ発振装置の主放電のタイミングを検出
する検出部と、この検出部からの信号に基いて上記増幅
装置の各放電部を交互または順次放電させかつこれら放
電が上記パルスガスレーザ発振装置の主放電タイミング
−に同期するタイミング指令信号を上記各放電部のパル
ス電源に印加する放電タイミング制御部とを備えた構成
とし、パルスガスレーザ発振装置のレーザ出力が必ずし
も高くなくても多段に増幅するので、高繰り返し率で増
幅度を高めることが可能となった。
（実施例）
以下、実施例を示す図面に基いて本発明を説明する。
第１図は本発明の一実施例で、パルスガスレーザ発振装
置（１）とこの発振装置からのレーザビーム（２）を増
幅する増幅装置（３）とを備えている。パルスガスレー
ザ発振装置（１）はたとえばＴＥＡＣＯ，レーザやエキ
シマレーザなどのＴＥ形で、ガスレーザ媒質を大気圧と
同程度もしくは数気圧の圧力に封入した密閉容器（４）
とこの容器内に所定の距離をおいて対向配置された一対
の玉数’Ｉ！！：電ｍ（５）、 ｔ６）とこれら電極の
一方をアース（力に接続して他方に接続する高圧パルス
電源（８）および主放電電極＋５１ 、 （６１を間に
してガス循環装置を具備した密閉容器（４）に気密に取
り付けられ光共振器を構成する全反射鏡（９）、出力鏡
０１とで構成されている。な８、図示せぬが玉数′ば電
極（５１１６）の近傍には主放電を行う前に予備電離を
行う予備放電が設けられている。一方、増幅装置ｔ（３
，１は概略的にはパルスガスレーザ発振装置（１）の光
共振器を除いた構成と原理的には同じになるもので、全
反射鏡（９） 、出力鏡ＯＩの位置に相当する筒所にそ
れぞれ透過窓（ｈａ）、 （ｌｌｂ）を気密に取り付は
パルスガスレーザ発振装置ｎ）と同等のガスレーザ媒質
を封入したガス循環装置を具備した気密容器（１２とこ
の気密容器（１力内に設けられた二対の主放電電極（１
３）、α導および霞、ｕｅと、各別に設けられ上記Ｔｒ
ａｍの一方にそれぞれ放電電力を供給する高圧パルス［
Ｈ７）、Ｑｌとで構成されている。なお、上記二対の放
′祇゛α極の他方はそれぞれアース（ｌＩＪ、（至）に
接続され、また、二対の放電電極間には両者の放電部１
２＋） 、四を仕切るために石英等からなる透明板（，
２謙が設けられている。上記放１！Ｌ都すυ、 １２２
はパルスガスレーザ発振装置（１）の放電部（２）より
大の空間になっている。上記増幅装置（３）はパルスガ
スレーザ発振装置（１）に近接し透過窓（ｌｌａ）、
（ｌｌｂ）と全反射鏡（９）、出力鏡Ｏｎとが同軸とな
る位置に設けられている。ところで、パルスガスレーザ
発振装置（１）には主放電が予備電離に引き続いて生じ
るタイミングを放゛亀電流の値で検出する検出部（ハ）
が設けられ、その慌出信号は整形処理部（ハ）に入力さ
れ波形整形されて増幅装置（３）側の高圧パルス電源α
η、■の放電タイミングを制御する制御部（３）に送出
されるようになっている。この制御部−は玉数′ｒｊＬ
電極α３．Ｑ４）とｔｉｓ、ｔｈｅの放′Ｒを交互に行
わせるとともにパルスガスレーザ発振装置ｆＬ（１）側
のパルス発振に同期するように放電タイミング制御する
ようになっている。
置（１）とこの発振装置からのレーザビーム（２）を増
幅する増幅装置（３）とを備えている。パルスガスレー
ザ発振装置（１）はたとえばＴＥＡＣＯ，レーザやエキ
シマレーザなどのＴＥ形で、ガスレーザ媒質を大気圧と
同程度もしくは数気圧の圧力に封入した密閉容器（４）
とこの容器内に所定の距離をおいて対向配置された一対
の玉数’Ｉ！！：電ｍ（５）、 ｔ６）とこれら電極の
一方をアース（力に接続して他方に接続する高圧パルス
電源（８）および主放電電極＋５１ 、 （６１を間に
してガス循環装置を具備した密閉容器（４）に気密に取
り付けられ光共振器を構成する全反射鏡（９）、出力鏡
０１とで構成されている。な８、図示せぬが玉数′ば電
極（５１１６）の近傍には主放電を行う前に予備電離を
行う予備放電が設けられている。一方、増幅装置ｔ（３
，１は概略的にはパルスガスレーザ発振装置（１）の光
共振器を除いた構成と原理的には同じになるもので、全
反射鏡（９） 、出力鏡ＯＩの位置に相当する筒所にそ
れぞれ透過窓（ｈａ）、 （ｌｌｂ）を気密に取り付は
パルスガスレーザ発振装置ｎ）と同等のガスレーザ媒質
を封入したガス循環装置を具備した気密容器（１２とこ
の気密容器（１力内に設けられた二対の主放電電極（１
３）、α導および霞、ｕｅと、各別に設けられ上記Ｔｒ
ａｍの一方にそれぞれ放電電力を供給する高圧パルス［
Ｈ７）、Ｑｌとで構成されている。なお、上記二対の放
′祇゛α極の他方はそれぞれアース（ｌＩＪ、（至）に
接続され、また、二対の放電電極間には両者の放電部１
２＋） 、四を仕切るために石英等からなる透明板（，
２謙が設けられている。上記放１！Ｌ都すυ、 １２２
はパルスガスレーザ発振装置（１）の放電部（２）より
大の空間になっている。上記増幅装置（３）はパルスガ
スレーザ発振装置（１）に近接し透過窓（ｌｌａ）、
（ｌｌｂ）と全反射鏡（９）、出力鏡Ｏｎとが同軸とな
る位置に設けられている。ところで、パルスガスレーザ
発振装置（１）には主放電が予備電離に引き続いて生じ
るタイミングを放゛亀電流の値で検出する検出部（ハ）
が設けられ、その慌出信号は整形処理部（ハ）に入力さ
れ波形整形されて増幅装置（３）側の高圧パルス電源α
η、■の放電タイミングを制御する制御部（３）に送出
されるようになっている。この制御部−は玉数′ｒｊＬ
電極α３．Ｑ４）とｔｉｓ、ｔｈｅの放′Ｒを交互に行
わせるとともにパルスガスレーザ発振装置ｆＬ（１）側
のパルス発振に同期するように放電タイミング制御する
ようになっている。
次に上記構成による作用について第２図に基づいて説明
する。
する。
すなわち、パルスガスレーザ発振装Ｗ（１）において、
同図（ａ）に示すタイミングでレーザビーム（２）が得
られる。こｎらレーザビーム（２）は透過窓（ｌｌａ）
から入射し二つの放電都シυ、Ｃ２カを通過する。この
通過において、制御部□□□からの制御動作によって上
記放電部Ｑυ、＠はそれぞれ同図（ｂ）および（Ｃ）に
示すタイミング、すなわちレーザビーム（２）の発振タ
イミングに同期しかつ交互に放電６υ１国を繰り返す。
同図（ａ）に示すタイミングでレーザビーム（２）が得
られる。こｎらレーザビーム（２）は透過窓（ｌｌａ）
から入射し二つの放電都シυ、Ｃ２カを通過する。この
通過において、制御部□□□からの制御動作によって上
記放電部Ｑυ、＠はそれぞれ同図（ｂ）および（Ｃ）に
示すタイミング、すなわちレーザビーム（２）の発振タ
イミングに同期しかつ交互に放電６υ１国を繰り返す。
このような増幅装置（３，１Ｋおける放電にパルスレー
ザ（至）は逐−同期して増幅され同図（ｄ）に示す増幅
出力の（レーザビーム）となって透過窓（ｌｌｂ）から
放出される。
ザ（至）は逐−同期して増幅され同図（ｄ）に示す増幅
出力の（レーザビーム）となって透過窓（ｌｌｂ）から
放出される。
なお、上記実施例では発振部１に対し増幅部を２段設け
た構成を示したが、増幅部を３段以上設は放電のタイミ
ングを制御することで上記と同等の増幅が行える。この
ような３段以上設けた場合には増幅部におけるパルス繰
り返し動作は低速でも対応できる。
た構成を示したが、増幅部を３段以上設は放電のタイミ
ングを制御することで上記と同等の増幅が行える。この
ような３段以上設けた場合には増幅部におけるパルス繰
り返し動作は低速でも対応できる。
以上のように増幅箇所を多段にしまた、増幅のための放
１！をパルスレーザ発振の発振タイミングに同期させた
ので、短パルス動作しかないエキシマレーザや高圧ＣＯ
，レーザなどの高速パルス繰り返し動作を／ト形の発振
部で行った後、高出力増幅して高繰り返しかつ高出力レ
ーザを得るようにすることができた。しかもこのことは
発振部が大形とならないのでレーザビームの指向性が劣
るような問題もなく安定してレーザ加工が行えるように
なった。
１！をパルスレーザ発振の発振タイミングに同期させた
ので、短パルス動作しかないエキシマレーザや高圧ＣＯ
，レーザなどの高速パルス繰り返し動作を／ト形の発振
部で行った後、高出力増幅して高繰り返しかつ高出力レ
ーザを得るようにすることができた。しかもこのことは
発振部が大形とならないのでレーザビームの指向性が劣
るような問題もなく安定してレーザ加工が行えるように
なった。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図はパル
スレーザビームの増幅過程を説明するための波形図であ
る。 （１）・・・パルスガスレーザ発振装置（３）・・・増
幅装置 Ｃυ、＠、３乃・・・放電部 （ハ）・・・検出部 （ロ）・・・制御部 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男
スレーザビームの増幅過程を説明するための波形図であ
る。 （１）・・・パルスガスレーザ発振装置（３）・・・増
幅装置 Ｃυ、＠、３乃・・・放電部 （ハ）・・・検出部 （ロ）・・・制御部 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男
Claims (2)
- （１）パルスガスレーザ発振装置と、この発振装置から
放出されたレーザビームを増幅する複数の放電部を有し
た増幅装置と、上記パルスガスレーザ発振装置の主放電
のタイミングを検出する検出部と、この検出部からの信
号に基いて上記増幅装置の各放電部を交互または順次放
電させかつこれら放電が上記パルスガスレーザ発振装置
の主放電のタイミングに同期するタイミング指令信号を
上記各放電部のパルス電源に印加する制御部とを備えた
ことを特徴とするガスレーザ装置。 - （２）増幅装置の各放電部はパルスガスレーザ発振部の
放電部より大の容量を持つことを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23704986A JPH0793470B2 (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | ガスレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23704986A JPH0793470B2 (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | ガスレ−ザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6392073A true JPS6392073A (ja) | 1988-04-22 |
| JPH0793470B2 JPH0793470B2 (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=17009649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23704986A Expired - Fee Related JPH0793470B2 (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | ガスレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0793470B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5088650A (en) * | 1989-03-18 | 1992-02-18 | Aisan Kogyo Kabushiki Kaisha | Fuel injector with strainer |
| US7095773B2 (en) | 2001-03-21 | 2006-08-22 | Komatsu Ltd. | Injection locking type or MOPA type of laser device |
| JP2007531311A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | サイマー インコーポレイテッド | 超高繰返し数狭帯域ガス放電レーザシステム |
| JP2008078372A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Komatsu Ltd | 露光装置用レーザ装置 |
| JP2008311340A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Gigaphoton Inc | ２ステージレーザのパルスエネルギー制御装置 |
| JP2010010551A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Gigaphoton Inc | 高繰返しパルスガスレーザ装置 |
| JP2010010552A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Gigaphoton Inc | 高繰返し高出力パルスガスレーザ装置 |
| JP2010010553A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Gigaphoton Inc | 高繰返し高出力エキシマレーザー装置 |
| JP2010092892A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Gigaphoton Inc | パルスレーザ用電源装置 |
| WO2012114172A1 (en) * | 2011-02-25 | 2012-08-30 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system including the laser apparatus, and method for controlling the laser apparatus |
| CN103036132A (zh) * | 2012-12-12 | 2013-04-10 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 周向分布多组放电增益单元的激光头装置 |
| JP2013239723A (ja) * | 2008-03-12 | 2013-11-28 | Gigaphoton Inc | レーザシステム |
-
1986
- 1986-10-07 JP JP23704986A patent/JPH0793470B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5088650A (en) * | 1989-03-18 | 1992-02-18 | Aisan Kogyo Kabushiki Kaisha | Fuel injector with strainer |
| US7095773B2 (en) | 2001-03-21 | 2006-08-22 | Komatsu Ltd. | Injection locking type or MOPA type of laser device |
| US7230966B2 (en) | 2001-03-21 | 2007-06-12 | Komatsu, Ltd. | Injection locking type or MOPA type of laser device |
| US7499482B2 (en) | 2001-03-21 | 2009-03-03 | Komatsu Ltd. | Injection locking type or MOPA type of laser device |
| JP2007531311A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | サイマー インコーポレイテッド | 超高繰返し数狭帯域ガス放電レーザシステム |
| JP2014096610A (ja) * | 2004-03-31 | 2014-05-22 | Cymer LLC | 超高繰返し数狭帯域ガス放電レーザシステム |
| JP2008078372A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Komatsu Ltd | 露光装置用レーザ装置 |
| JP2008311340A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Gigaphoton Inc | ２ステージレーザのパルスエネルギー制御装置 |
| JP2013239723A (ja) * | 2008-03-12 | 2013-11-28 | Gigaphoton Inc | レーザシステム |
| JP2010010552A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Gigaphoton Inc | 高繰返し高出力パルスガスレーザ装置 |
| JP2010010553A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Gigaphoton Inc | 高繰返し高出力エキシマレーザー装置 |
| JP2010010551A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Gigaphoton Inc | 高繰返しパルスガスレーザ装置 |
| JP2010092892A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Gigaphoton Inc | パルスレーザ用電源装置 |
| WO2012114172A1 (en) * | 2011-02-25 | 2012-08-30 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system including the laser apparatus, and method for controlling the laser apparatus |
| US8811436B2 (en) | 2011-02-25 | 2014-08-19 | Gigaphoton Inc | Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system including the laser apparatus, and method for controlling the laser apparatus |
| CN103036132A (zh) * | 2012-12-12 | 2013-04-10 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 周向分布多组放电增益单元的激光头装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0793470B2 (ja) | 1995-10-09 |
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