JP2013239723A - レーザシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このレーザシステムは、レーザ発振によりパルスレーザ光を生成するレーザ発振器と、レーザ発振器によって生成されるパルスレーザ光を順次入力して増幅する複数の増幅器と、バースト発振を行うようにレーザ発振器を制御すると共に、バースト発振期間の間のバースト休止期間において複数の増幅器の内の少なくとも1つの増幅器の増幅動作を休止させる制御手段とを具備する。
【選択図】図2
Description
また、関連する技術として、特許文献1には、図20に示すようなEUV光源装置のドライバレーザシステムの構成を示す模式図が開示されている。図20に示すように、このドライバレーザシステム200は、短パルスのレーザ光を生成するレーザ発振器(OSC)210と、レーザ発振器210によって生成されるレーザ光を増幅する3段のCO2レーザ増幅器(AMP)221〜223とを含んでいる。このように、レーザ発振器210から出力されるパルスレーザ光を多段のレーザ増幅器221〜223によって増幅することにより、高出力化が行われていた。レーザ増幅器223から出力される増幅されたパルスレーザ光6は、集光光学系2によりターゲット上に集光され、EUV光8を発生する。
AMP1には、非増幅時に、レーザ光を増幅するために使用できるゲインが常時存在している。AMP1にレーザ光が入射すると、増幅動作によってAMP1のゲインが一時的に低下する。AMP2においても、タイミングが遅れて同様の現象が起こる。低下したゲインは、1周期(例えば、10μs)の間に回復して、AMP1及びAMP2は、次の増幅を行う。しかしながら、ゲインが回復してから次の増幅を行うまでの間に、無駄な増幅ゲインが存在することになる。その分の投入電力は、レーザ光のエネルギーとして取り出すことができない。
例えば、20kW出力のEUV光源用ドライバレーザシステムを実現する場合に、消費電力の問題が大きく浮上する。比較的高効率のCO2レーザを用いた場合でも、パルスレーザ光の増幅を行うEUV光源用ドライブレーザシステムにおいて、プラグイン効率は1%程度である。即ち、20kWのレーザ出力を得ようとすると、2000kVAの電力が必要となる。これは、中規模工場の全消費電力に匹敵する。ドライバレーザシステムの導入時には、契約受電容量の増大が必須となり、場合によっては、変電設備の増設や更新を伴うことになる。これは、EUV光源を市場に導入する際の大きな妨げとなる。
図2は、本発明の第1の実施形態に係るドライバレーザシステムの概要を示す模式図である。本実施形態においては、小出力のレーザをレーザ発振器(オシレータ)として用いて、レーザ発振器の出力を複数の増幅器(アンプリファイア)によって増幅することにより、大出力のドライバレーザシステムを実現している。
図3は、EUV光源装置及びドライバレーザシステムの動作例を示すタイミングチャートである。この例においては、EUV光源装置及びドライバレーザシステムの動作モードは、露光機から露光タイミング信号として供給されるバースト露光信号によって決定される。
(1)消費電力の小さな順番は以下のようになる。
実施例3、実施例5、実施例4、実施例8、実施例6、実施例9、実施例10、実施例7、実施例11、実施例15、実施例16、実施例17、実施例12、実施例13、実施例14、実施例1、実施例2、比較例。
(2)制御の容易性の順番は以下のようになる。
比較例、実施例2、実施例3、実施例14、実施例13、実施例12、実施例17、実施例16、実施例15、実施例11、実施例10、実施例9、実施例9、実施例8、実施例7、実施例6、実施例4、実施例5、実施例3。
(3)自励発振または戻り光の防止特性の良い順番は以下のようになる。
実施例3、実施例4、実施例5、実施例7、実施例8、実施例6、実施例9、実施例10、実施例11、実施例15、実施例16、実施例17、実施例12、実施例13、実施例14、実施例1、実施例2、比較例。
(4)レーザの熱的安定性の良い順番は以下のようになる。
比較例、実施例2、実施例1、実施例14、実施例13、実施例12、実施例17、実施例16、実施例15、実施例11、実施例10、実施例9、実施例8、実施例7、実施例6、実施例5、実施例4、実施例3。
図12は、本発明の第2の実施形態に係るドライバレーザシステムの概要を示す模式図である。図2に示すように、このドライバレーザシステムは、発振によりパルスレーザ光を生成するレーザ発振器(OSC)10と、直列に配列され、レーザ発振器10によって生成されるパルスレーザ光を順次入力して増幅する4段の高速軸流型増幅器(FAFAMP)21〜24と、レーザ発振器10及び増幅器21〜24の動作を制御するレーザ制御装置30と、レーザ発振器10及び増幅器21〜25の動作タイミングに関するタイミング情報を格納するメモリ等の格納部40と、増幅器21〜24の後段に設けられ、それぞれの増幅器21〜24から入力されるパルスレーザ光を遅延させて出力する光学系51〜54とを有している。
図15は、本発明の第3の実施形態に係るドライバレーザシステムの概要を示す模式図である。第3の実施形態においては、複数の増幅器の内の前段部(レーザ発振器側)において、スラブ型レーザ増幅器を用いることにより、大出力のドライバレーザシステムを実現している。図15においては、複数の増幅段の内の前半にスラブ型レーザ増幅器(SLABAMP)61及び62を用いており、後半に高速軸流型増幅器(FAFAMP)63及び64を用いている。なお、少なくとも1つの高速軸流型増幅器の替わりに、少なくとも1つの3軸直交型レーザ増幅器を用いても良い。また、増幅器自体もある程度の遅延時間を有しているので、光学系51〜54を省略して、隣接する2つの増幅器を直結しても良い。
図17は、本発明の第4の実施形態に係るドライバレーザシステムの概要を示す模式図である。第4の実施形態においては、スラブ型レーザ増幅器を大型にすることにより、増幅段数をさらに低減している。図17においては、複数の増幅段の内の初段に大型のスラブ型レーザ増幅器(SLABAMP)61aを用いており、後半に高速軸流型増幅器(FAFAMP)63及び64を用いている。なお、少なくとも1つの高速軸流型増幅器の替わりに、少なくとも1つの3軸直交型レーザ増幅器を用いても良い。また、増幅器自体もある程度の遅延時間を有しているので、光学系52〜54を省略して、隣接する2つの増幅器を直結しても良い。
図19は、本発明の第5の実施形態に係るドライバレーザシステムの概要を示す模式図である。第5の実施形態においては、増幅効率を向上させる手法として、複数のスペクトルを出力するレーザ発振器(マルチラインOSC)10aを用いることにより、マルチライン増幅が行われる。
(1)消費電力の小さな順番は以下のようになる。
実施例3、実施例5、実施例4、実施例8、実施例6、実施例9、実施例10、実施例7、実施例11、実施例15、実施例16、実施例17、実施例12、実施例13、実施例14、実施例1、実施例2、比較例。
(2)制御の容易性の順番は以下のようになる。
比較例、実施例2、実施例3、実施例14、実施例13、実施例12、実施例17、実施例16、実施例15、実施例11、実施例10、実施例9、実施例8、実施例7、実施例6、実施例4、実施例5、実施例3。
(3)自励発振または戻り光の防止特性の良い順番は以下のようになる。
実施例3、実施例4、実施例5、実施例7、実施例8、実施例6、実施例9、実施例10、実施例11、実施例15、実施例16、実施例17、実施例12、実施例13、実施例14、実施例1、実施例2、比較例。
(4)レーザの熱的安定性の良い順番は以下のようになる。
比較例、実施例2、実施例1、実施例14、実施例13、実施例12、実施例17、実施例16、実施例15、実施例11、実施例10、実施例9、実施例8、実施例7、実施例6、実施例5、実施例4、実施例3。
Claims (27)
- ターゲット物質にレーザ光を照射してプラズマを生成することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置において用いられるドライバレーザシステムであって、
レーザ発振によりパルスレーザ光を生成するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器によって生成されるパルスレーザ光を順次入力して増幅する複数の増幅器と、
バースト発振を行うように前記レーザ発振器を制御すると共に、バースト発振期間の間のバースト休止期間において前記複数の増幅器の内の少なくとも1つの増幅器の増幅動作を休止させる制御手段と、
を具備するドライバレーザシステム。 - 前記制御手段が、前記複数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を同時に活性化すると共に同時に非活性化する、請求項1記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記複数の増幅器の内の後段の所定数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を同時に活性化すると共に同時に非活性化する、請求項1記載のドライバレーザシステム。
- ターゲット物質にレーザ光を照射してプラズマを生成することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置において用いられるドライバレーザシステムであって、
レーザ発振によりパルスレーザ光を生成するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器によって生成されるパルスレーザ光を順次入力して増幅する複数の増幅器と、
繰り返し発振を行うように前記レーザ発振器を制御すると共に、繰り返し発振期間の間の発振休止期間において前記複数の増幅器の内の少なくとも1つの増幅器の増幅動作を休止させる制御手段と、
を具備するドライバレーザシステム。 - 前記制御手段が、前記レーザ発振器によってパルスレーザ光が生成されるタイミングに基づいて、前記複数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を順次活性化すると共に順次非活性化する、請求項4記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記複数のトリガ信号の内の1つのトリガ信号を活性化させている時に、前記複数のトリガ信号の内の他のトリガ信号も活性化させる、請求項5記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記レーザ発振器によってパルスレーザ光が生成されるタイミングに基づいて、前記複数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を順次活性化すると共に同時に非活性化する、請求項4記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記レーザ発振器によってパルスレーザ光が生成されるタイミングに基づいて、前記複数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を同時に活性化すると共に順次非活性化する、請求項4記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記レーザ発振器によってパルスレーザ光が生成されるタイミングに基づいて、前記複数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を同時に活性化すると共に同時に非活性化する、請求項4記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記レーザ発振器によってパルスレーザ光が生成されるタイミングに基づいて、前記複数の増幅器の内の後段の所定数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を順次活性化すると共に順次非活性化する、請求項4記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記複数のトリガ信号の内の1つのトリガ信号を活性化させている時に、前記複数のトリガ信号の内の他のトリガ信号も活性化させる、請求項10記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記レーザ発振器によってパルスレーザ光が生成されるタイミングに基づいて、前記複数の増幅器の内の後段の所定数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を順次活性化すると共に同時に非活性化する、請求項4記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記レーザ発振器によってパルスレーザ光が生成されるタイミングに基づいて、前記複数の増幅器の内の後段の所定数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を同時に活性化すると共に順次非活性化する、請求項4記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記レーザ発振器によってパルスレーザ光が生成されるタイミングに基づいて、前記複数の増幅器の内の後段の所定数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を同時に活性化すると共に同時に非活性化する、請求項4記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、格納部に格納されているタイミング情報に基づいて、前記レーザ発振器の発振を制御すると共に、前記複数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を生成する、請求項1〜14のいずれか1項記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、露光機から供給される露光タイミング信号に基づいて、前記レーザ発振器の発振を制御すると共に、前記複数の増幅器の増幅動作をそれぞれ制御する複数のトリガ信号を生成する、請求項1〜14のいずれか1項記載のドライバレーザシステム。
- 前記複数の増幅器の各々の後段に設けられ、それぞれの増幅器から入力されるパルスレーザ光を遅延させて出力する光学系をさらに具備する、請求項1〜16のいずれか1項記載のドライバレーザシステム。
- 前記複数の増幅器の内の少なくとも1台が、前記レーザ発振器側においてスラブ型レーザ増幅器を含む、請求項1〜17のいずれか1項記載のドライバレーザシステム。
- 前記複数の増幅器の内の少なくとも1台が、直交軸流型レーザ増幅器を含む、請求項1〜17のいずれか1項記載のドライバレーザシステム。
- 前記複数の増幅器の内の少なくとも1台が、3軸直交型レーザ増幅器を含む、請求項1〜17のいずれか1項記載のドライバレーザシステム。
- 前記レーザ増幅器が、レーザガス中に配置された高周波放電用の電極対と、前記電極対に高周波電圧を印加する高周波電源とを有し、前記電極対に高周波電圧を印加することにより形成される放電領域においてレーザガスを励起してパルスレーザ光を増幅するレーザ増幅器を含み、前記高周波電源を制御することによって、前記レーザ増幅器の増幅動作が制御される、請求項18〜20のいずれか1項記載のドライバレーザシステム。
- 前記制御手段が、前記レーザ発振器によってパルスレーザ光が生成されるタイミングに基づいて複数のトリガ信号を順次活性化し、前記複数のトリガ信号を複数のレーザ増幅器の複数の高周波電源にそれぞれ供給することにより、パルスレーザ光が前記複数のレーザ増幅器のレーザガス中の放電領域において順次増幅される、請求項21記載のドライバレーザシステム。
- 前記レーザ発振器が、レーザガスの複数の増幅ラインの波長でレーザ発振するマルチラインレーザ発振器を含む、請求項21又は22記載のドライバレーザシステム。
- 前記レーザガスが、CO2レーザガスを含む、請求項21〜23のいずれか1項記載のドライバレーザシステム。
- 前記レーザ発振器が、CO2レーザガスの複数の増幅ラインで発振する少なくとも1台の量子カスケードレーザを含む、請求項24記載のドライバレーザシステム。
- レーザ発振によりパルスレーザ光を生成するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器によって生成されるパルスレーザ光を順次入力して増幅する複数の増幅器と、
バースト発振を行うように前記レーザ発振器を制御すると共に、バースト発振期間の間のバースト休止期間において前記複数の増幅器の内の少なくとも1つの増幅器の増幅動作を休止させる制御手段と、
を具備するレーザシステム。 - レーザ発振によりパルスレーザ光を生成するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器によって生成されるパルスレーザ光を順次入力して増幅する複数の増幅器と、
繰り返し発振を行うように前記レーザ発振器を制御すると共に、繰り返し発振期間の間の発振休止期間において前記複数の増幅器の内の少なくとも1つの増幅器の増幅動作を休止させる制御手段と、
を具備するレーザシステム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013139955A JP2013239723A (ja) | 2008-03-12 | 2013-07-03 | レーザシステム |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008062082 | 2008-03-12 | ||
JP2008062082 | 2008-03-12 | ||
JP2013139955A JP2013239723A (ja) | 2008-03-12 | 2013-07-03 | レーザシステム |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009047768A Division JP2009246345A (ja) | 2008-03-12 | 2009-03-02 | レーザシステム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013239723A true JP2013239723A (ja) | 2013-11-28 |
Family
ID=41062983
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009047768A Pending JP2009246345A (ja) | 2008-03-12 | 2009-03-02 | レーザシステム |
JP2013139955A Pending JP2013239723A (ja) | 2008-03-12 | 2013-07-03 | レーザシステム |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009047768A Pending JP2009246345A (ja) | 2008-03-12 | 2009-03-02 | レーザシステム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8000361B2 (ja) |
JP (2) | JP2009246345A (ja) |
DE (1) | DE102009012106A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5587578B2 (ja) | 2008-09-26 | 2014-09-10 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置およびパルスレーザ装置 |
WO2011013779A1 (ja) | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 株式会社小松製作所 | 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置の制御方法、およびそのプログラムを記録した記録媒体 |
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US9265136B2 (en) | 2010-02-19 | 2016-02-16 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
JP2013004258A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-07 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光生成装置及び極端紫外光の生成方法 |
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JP2013065804A (ja) | 2010-12-20 | 2013-04-11 | Gigaphoton Inc | レーザ装置およびそれを備える極端紫外光生成システム |
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KR101518164B1 (ko) | 2011-06-20 | 2015-05-15 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 가스 레이저 장치 |
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US20110261844A1 (en) | 2011-10-27 |
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JP2009246345A (ja) | 2009-10-22 |
DE102009012106A1 (de) | 2009-11-26 |
US20090232171A1 (en) | 2009-09-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140226 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20140411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150519 |