JP2014096610A - 超高繰返し数狭帯域ガス放電レーザシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】MOPA構成における超高繰返し数ガス放電レーザシステムを生成する方法及び機器であり、これは、超高パルス繰返し数で発振器レーザ出力光パルスのビームを生成する主発振器ガス放電レーザシステムを含むことができ、少なくとも2つの電力増幅ガス放電レーザシステムが、主発振器ガス放電レーザシステムからレーザ出力光パルスを受け取り、少なくとも2つの電力増幅ガス放電レーザシステムの各々は、1を少なくとも2つの電力増幅ガス放電レーザシステムの数で割ったものに等しい超高パルス繰返し数の分数であるパルスの繰返しで、受け取ったレーザ出力光パルスの一部を増幅して超高パルス繰返し数の増幅出力レーザ光パルスビームを形成し、発振器レーザ出力光パルスビームに関して直列に位置決めすることができる。
【選択図】図2A
Description
このような方法で、それぞれの電極対90B、92B及び90C、92Cを備えたPAチャンバを、所定のMOレーザ出力パルス14Aの代わりにガス放電の生成に対して代替的に選択することができる。
MOビームが例えばPA放電の幅の約半分にされる場合では、本発明の実施形態の態様により、PAチャンバにおける利得を本質的に完全に一掃させるために、PAチャンバ電極90B、92B及び90C、92Cの二重通過を実行することができる。上述のように、これは、例えば8〜10KHzに達する高繰返し数問題を高電力問題から実質的に分離する。
本発明の実施形態の態様は、例えば6KHzでのMO放電及び各々が3KHZで放電する2つのPAを使用する例えば約6KHzのパルス繰返し数、又は例えば4KHzよりも大きいパルス繰返し数に対する別の可能な組合せを達成するために使用することができることも当業者は理解するであろう。
16 ビーム検出器
18A 出力カプラ
20 電力増幅システム
24A 全反射ミラー
Claims (27)
- 超高繰返し数レーザシステムであって、
超高パルス繰返し数でレーザ出力光パルスビームを生成する主発振器レーザシステムと、
前記主発振器レーザシステムからレーザ出力光パルスビームを受け取る一対の電力増幅レーザチャンバと、
を含み、
前記主発振器レーザシステムのレーザ出力光パルスビームは、前記一対の電力増幅レーザチャンバの第1のチャンバを通過し、その後前記一対の電力増幅レーザチャンバの第2のチャンバを通過してビーム反射器に到達し、前記ビーム反射器は前記出力光パルスビームを反射し、反射された出力光パルスビームは前記一対の電力増幅レーザチャンバの第2のチャンバを通過し、その後前記一対の電力増幅レーザチャンバの第1のチャンバを通過し、前記一対の電力増幅レーザチャンバの第1のチャンバは第1の圧縮ヘッドを含んでおり、前記一対の電力増幅レーザチャンバの第2のチャンバは第2の圧縮ヘッドを含んでおり、前記第1及び第2の圧縮ヘッドは、電気的に並列に接続されている、ことを特徴とするシステム。 - 前記一対の電力増幅レーザチャンバは、前記主発振器レーザシステムのレーザ出力光パルスビームに対して直列に構成されていることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記主発振器レーザシステムは、x≧4000Hzであるパルス繰返し数xで点火され、
各電力増幅ガス放電レーザは、パルス繰返し数(1/2)xで点火される、
ことを特徴とする請求項2に記載のシステム。 - 前記主発振器レーザシステムは、x≧5000Hzであるパルス繰返し数xで点火され、
各電力増幅ガス放電レーザは、パルス繰返し数(1/2)xで点火される、
ことを特徴とする請求項2に記載のシステム。 - 前記一対の電力増幅レーザチャンバの出力部に接続され、該一対の電力増幅レーザチャンバからの増幅されたレーザ光パルス出力をレーザ光パルス利用ツールの入力部に誘導し、かつビーム指向及び方向制御部を備えるビーム送出ユニット、
を更に含むことを特徴とする請求項4に記載のシステム。 - 線狭化モジュールを含み、
前記一対の電力増幅レーザチャンバの第1のチャンバは、2000Hz以上のパルス繰返し数で第1のレーザ出力光パルスビームを生成し、
前記一対の電力増幅レーザチャンバの第2のチャンバは、2000Hz以上のパルス繰返し数で第2のレーザ出力光パルスビームを生成し、
前記第1及び第2の出力光パルスビームを4000Hz以上のパルス繰返し数を有する結合レーザ出力光パルスビームに結合するビーム結合器を更に含むことを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 前記第1のレーザ出力光パルスビームは、4000Hz以上のパルス繰返し数で生成され、前記第2のレーザ出力光パルスビームは、4000Hz以上の繰返し数で生成される、
ことを特徴とする請求項6に記載のシステム。 - 前記第1のレーザ出力光パルスビームは、5000Hz以上のパルス繰返し数で生成され、前記第2のレーザ出力光パルスビームは、5000Hz以上の繰返し数で生成される、
ことを特徴とする請求項6に記載のシステム。 - 前記一対の電力増幅レーザチャンバの出力部に接続され、該一対の電力増幅レーザチャンバからの増幅されたレーザ光パルス出力をレーザ光パルス利用ツールの入力部に誘導し、かつビーム指向及び方向制御部を備えるビーム送出ユニット、
を更に含むことを特徴とする請求項6に記載のシステム。 - 前記一対の電力増幅レーザチャンバの第1のチャンバは、第1の電極対を含んでおり、
前記一対の電力増幅レーザチャンバの第2のチャンバは、第2の電極対を含んでいる、
ことを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 毎秒x回充電可能な整流器モジュールをさらに備え、前記整流器モジュールは一対の昇圧変圧器を含み、前記一対の昇圧変圧器は電気的に並列に接続され、前記一対の昇圧変圧器の第1の変圧器の2次巻線は、前記少なくとも2つの圧縮ヘッドの第1及び第2の圧縮ヘッドに電気的に接続されていることを特徴とする請求項10に記載のシステム。
- 前記主発振器レーザシステムは、第2の電極対を含んでおり、
前記一対の昇圧変圧器の第2の変圧器の2次巻線は、前記少なくとも2つの圧縮ヘッドの第3の圧縮ヘッドに電気的に接続され、
前記第3の圧縮ヘッドは、前記一対の昇圧変圧器の第2の昇圧器の2次巻線と、前記第2の電極対との間に接続された第3の磁気飽和リアクトルスイッチを含んでいる、
ことを特徴とする請求項11に記載のシステム。 - 前記第1の圧縮ヘッドは、前記一対の昇圧変圧器の第1の昇圧器の2次巻線と、前記第1の電極対との間に接続された第1の磁気飽和リアクトルスイッチを含んでおり、
前記第2の圧縮ヘッドは、前記一対の昇圧変圧器の第1の昇圧器の2次巻線と、前記第2の電極対との間に接続された第2の磁気飽和リアクトルスイッチを含んでいる、
ことを特徴とする請求項11に記載のシステム。 - 前記第1及び第2の磁気飽和リアクトルスイッチのそれぞれは、
1次巻線のための第1のバイアス電流を有する第1の巻線と、
2次巻線のための第2のバイアス電流を有する第2の巻線と、
前記第1の磁気飽和リアクトルスイッチが前記第1のバイアス電流を(1/2)xに等しい繰返し数で受け取り、前記第2の磁気飽和リアクトルスイッチが前記第2のバイアス電流を(1/2)xに等しい繰返し数で受け取るように、前記第1のバイアス電流からのバイアス電流を、第2のバイアス電流に切り換えるスイッチング回路と、
を備えることを特徴とする請求項13に記載のシステム。 - 第1の整流器モジュールを更に含み、前記第1の整流器モジュールは第1の昇圧変圧器を含み、前記第1の昇圧変圧器は前記少なくとも2つの圧縮ヘッドの第1の圧縮ヘッド及び第2の圧縮ヘッドに電気的に接続された2次巻線を有する、ことを特徴とする請求項10に記載のシステム。
- 第1の圧縮ヘッドに電気的に接続された2次巻線を有する第1の昇圧変圧器を含む第1の整流器モジュールと、
前記少なくもと2つの圧力ヘッドの第2の圧縮ヘッドに電気的に接続された2次巻線を有する第2の昇圧変圧器を含む第2の整流器モジュールと、
を更に有することを特徴とする請求項10に記載のシステム。 - 少なくとも2つの線狭化パッケージを更に備え、前記少なくとも2つの線狭化パッケージのそれぞれは第1及び第2の電極対それぞれに光学的に相互接続されていることを特徴とする請求項10に記載のシステム。
- 第1の偏光のレーザ光パルスを実質的に完全に透過し、第2の偏光のレーザ光パルスを実質的に完全に反射する第1の偏光ビーム分割器を含む、前記第1の電極対に整列した線狭化パッケージへの第1の光路と、
前記第1の光路に整列し、前記第1の電極対からのレーザ出力光パルスを前記第1の偏向状態に偏向する第1の空洞窓及び第2の空洞窓と、
前記第2の電極対に整列し、前記第2の電極対からのレーザ出力光パルスを第2の偏向状態に偏向する第3の空洞窓及び第4の空洞窓と、
前記第2の電極対からのレーザ出力光パルスを前記第1の偏光ビーム分割器へ反射するビーム反射器と、
前記第1の偏向ビーム分割器と線狭化パッケージとの間にある第1の偏向機構であって、前記第2の電極対からのレーザ出力光パルスが前記線狭化パッケージに入ったときに第1の偏向状態に偏向し、前記第2の電極対からのレーザ出力光パルスが線狭化パッケージから戻るときに第2の偏向状態に再度偏向する第1の偏向機構と、
前記第1の電極対からのレーザ出力光パルスの出力部にある第2の偏向ビーム分割器であって、前記第1の偏向状態のレーザ出力光パルスについては実質的に完全に透過し、前記第2の偏向状態のレーザ出力光パルスは実質的に完全に反射する第2の偏向ビーム分割器と、
前記第2の電極対からのレーザ出力光パルスを第2の偏向ビーム分割器へ反射するビーム反射器と、
を更に含むことを特徴とする請求項10に記載のシステム。 - 前記第2の偏光ビーム分割器で反射された前記第2の電極対からの前記レーザ出力光パルスを前記第1の偏光方向に偏光させる第2の偏光機構、
を更に含むことを特徴とする請求項18に記載のシステム。 - 前記第1及び第2の偏光機構の少なくとも一方は、前記第2の電極対の間で生成された光の有無に応じて前記線狭化パッケージへの前記光路内へ及び光路からディザされるディザ式2分の1波長板である、
ことを特徴とする請求項18に記載のシステム。 - 前記第1及びは第2の偏光機構の少なくとも一方は、前記出力レーザ光パルスのパルス繰返し数で変調される励起光学要素である、
ことを特徴とする請求項18に記載のシステム。 - MOPA構成における超高繰返し数ガス放電レーザシステム出力を生成する方法であって、
主発振器レーザシステムから超高パルス繰返し数でレーザ出力光パルスを出力する段階と、
少なくとも2つの電力増幅レーザチャンバのそれぞれにおいて前記主発振器ガス放電レーザシステムからレーザ出力光パルスを受け取り、前記少なくとも2つの電力増幅レーザチャンバの数で1を割ったものに等しい前記超高パルス繰返し数の分数であるパルスの繰返しで前記受け取ったレーザ出力光パルスの一部を増幅して超高パルス繰返し数の増幅された出力レーザ光パルスを形成する段階と、ここで、前記少なくとも2つの電力増幅レーザチャンバの各々は、少なくとも2つの圧縮ヘッドの1つを含み、前記少なくとも2つの圧縮ヘッドは並列に接続されている、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記少なくとも2つの電力増幅レーザチャンバは、2つの電力増幅レーザチャンバからなることを特徴とする請求項22に記載の方法。
- 前記少なくとも2つの電力増幅レーザチャンバは、前記主発振器レーザシステムのレーザ出力光パルスに対して直列に配置されていることを特徴とする請求項22に記載の方法。
- 前記少なくとも2つの電力増幅レーザチャンバの出力を光利用ツールの入力部に誘導し、かつ、前記少なくとも2つの電力増幅レーザチャンバのレーザ光出力部に接続されたビーム送出ユニットにおいて少なくともビーム指向及び方向制御を提供する段階、を更に有することを特徴とする請求項22に記載の方法。
- 線狭化モジュールを含み、
前記一対の電力増幅レーザチャンバの第1のチャンバは、2000Hz以上のパルス繰返し数で第1のレーザ出力光パルスビームを生成し、
前記一対の電力増幅レーザチャンバの第2のチャンバは、2000Hz以上のパルス繰返し数で第2のレーザ出力光パルスビームを生成し、
前記第1及び第2の出力光パルスビームを4000Hz以上のパルス繰返し数を有する結合レーザ出力光パルスビームに結合するビーム結合器を更に含むことを特徴とする請求項22に記載の方法。 - 前記第1の一対の電力増幅レーザチャンバは第1の電極対を含み、
前記第2の一対の電力増幅レーザチャンバは第2の電極対を含み、
毎秒x回充電可能な整流器モジュールを備え、前記整流器モジュールは一対の昇圧変圧器を含み、前記一対の昇圧変圧器は電気的に並列に接続され、前記一対の昇圧変圧器の第1の変圧器の2次巻線は、前記少なくとも2つの圧縮ヘッドの第1及び第2の圧縮ヘッドに電気的に接続されており、
前記第1の圧縮ヘッドは、前記一対の昇圧変圧器の第1の昇圧器の2次巻線と、前記第1の電極対との間に接続された第1の磁気飽和リアクトルスイッチを含んでおり、
前記第2の圧縮ヘッドは、前記一対の昇圧変圧器の第1の昇圧器の2次巻線と、前記第2の電極対との間に接続された第2の磁気飽和リアクトルスイッチを含んでおり、
前記第1及び第2の磁気飽和リアクトルスイッチのそれぞれは、
1次巻線のための第1のバイアス電流を有する第1の巻線と、
2次巻線のための第2のバイアス電流を有する第2の巻線と、
前記第1の磁気飽和リアクトルスイッチが前記第1のバイアス電流を(1/2)xに等しい繰返し数で受け取り、前記第2の磁気飽和リアクトルスイッチが前記第2のバイアス電流を(1/2)xに等しい繰返し数で受け取るように、前記第1のバイアス電流からのバイアス電流を、第2のバイアス電流に切り換えるスイッチング回路と、
を含んでいる、
ことを特徴とする請求項22に記載の方法。
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