KR101189525B1 - 매우 높은 반복률의 협대역 가스방전 레이저 시스템 - Google Patents

매우 높은 반복률의 협대역 가스방전 레이저 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR101189525B1
KR101189525B1 KR1020067020183A KR20067020183A KR101189525B1 KR 101189525 B1 KR101189525 B1 KR 101189525B1 KR 1020067020183 A KR1020067020183 A KR 1020067020183A KR 20067020183 A KR20067020183 A KR 20067020183A KR 101189525 B1 KR101189525 B1 KR 101189525B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
delete delete
gas discharge
laser
repetition rate
output light
Prior art date
Application number
KR1020067020183A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060130232A (ko
Inventor
토마스 디 스테이거
에드워드 피 홀터웨이
브라이언 지 무스만
라자세크하르 엠 라오
Original Assignee
사이머 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 사이머 인코포레이티드 filed Critical 사이머 인코포레이티드
Publication of KR20060130232A publication Critical patent/KR20060130232A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101189525B1 publication Critical patent/KR101189525B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22—Gases
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • H01S3/104—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06—Construction or shape of active medium
    • H01S3/07—Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/09702—Details of the driver electronics and electric discharge circuits
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/1305—Feedback control systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • H01S3/2325—Multi-pass amplifiers, e.g. regenerative amplifiers
    • H01S3/2333—Double-pass amplifiers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

매우 높은 반복률의 MOPA 구성의 가스방전 레이저 시스템을 제공하기 위한 방법 및 장치가 개시된다. 본 방법 및 장치는 매우 높은 펄스반복률로 오실레이터 레이저 출력광 펄스의 빔을 제공하는 마스터 오실레이터 가스방전 레이저 시스템; 및 이 마스터 오실레이터 가스방전 레이저 시스템으로부터 레이저 출력광 펄스를 수신하는 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템을 포함하고, 이 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템의 각각은 매우 높은 펄스반복률로 증폭된 출력 레이저 광 펄스 빔을 형성시키기 위해, 이 매우 높은 펄스반복률을 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템의 개수로 나눈 값과 동일한 펄스반복률로, 수신된 레이저 출력광 펄스의 일부를 증폭한다. 이 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템은 오실레이터 레이저 출력광 펄스 빔에 관하여 직렬로 배치된 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템으로 구성될 수 있다. 또한, 본 방법 및 장치는 파워증폭 레이저 시스템의 레이저 광 출력부와 연결되고, 파워증폭 레이저 시스템의 출력부와 광 이용툴의 입력부를 다이렉팅하고, 그리고 적어도 빔 포인팅 및 방향 제어를 제공하는 빔전달 유닛을 포함할 수 있다. 본 방법 및 장치는 2000Hz이상의 펄스반복률로 제1레이저 출력광 펄스 빔을 발생시키는 제1라인 내로우드 가스방전 레이저 시스템; 2000Hz이상의 펄스반복률로 제2레이저 출력광 펄스 빔을 발생시키는 제2라인 내로우드 가스방전 레이저 시스템; 및 4000Hz이상의 펄스반복률로 합성된 레이저 출력광 펄스 빔으로 제1 및 제2출력광 펄스 빔을 합성하는 빔 합 성기를 포함할 수 있는 매우 높은 반복률의 MOPO 구성의 가스방전 레이저 시스템일 수 있다. 본 방법 및 장치는 초당 x번으로 충전되는 압축헤드 전하저장 디바이스; 적어도 2세트의 가스방전 전극쌍을 포함하는 가스방전 챔버; 및 적어도 2개의 자성가포화 스위치를 포함하고, 이 자성가포화 스위치는 압축헤드 전하저장 디바이스와 적어도 2세트의 전극쌍 사이에 각각 연결되고, 제1바이어싱 권선에 대해 제1바이어싱 전류를 가지고 제2바이어싱 권선에 대해 제2바이어싱 전류를 가지는, 마주한 제1 및 제2바이어싱 권선을 포함하고, 적어도 2개의 스위치 중 하나는 x를 적어도 2세트의 전극쌍의 개수로 나눈 값과 동일한 반복률로 제1바이어싱 전류를 수신하고, 한편 적어도 2개의 자성가포화 스위치의 나머지 하나는 제2바이어싱 전류를 수신하도록, 제1바이어싱 전류로부터 제2바이어싱 전류로 바이어싱 전류를 스위칭하기 위한 스위칭 회로를 포함할 수 있다. 본 방법 및 장치는 리소그라피 툴로써 사용되거나, 또는 플라즈마 EUV 광으로 산출되는 레이저를 산출하기 위하여 사용될 수 있다.
가스방전 레이저 시스템, 펄스반복률, 마스터 오실레이터 가스방전 시스템, 파워증폭 가스방전 레이저 시스템.

Description

매우 높은 반복률의 협대역 가스방전 레이저 시스템{VERY HIGH REPETITION RATE NARROW BAND GAS DISCHARGE LASER SYSTEM}
본 발명은 가스방전 레이저, 예컨대, 큰 범위의 출력 펄스반복률 및 매우 높은 펄스반복률에 대해 중심 파장 및 대역폭과 같은 것에 높은 안정성은 물론 협대역 광을 요구하는 집적회로 리소그라피용의 협대역 광을 제공하기 위해 사용되는 가스방전 레이저에 관한 것이다.
본 출원은 2004년 3월 31일에 출원된, 미국특허출원 No.10/815,386의 우선권을 주장하고, 2002년 8월 30일에 출원된, 출원 S.N.10/233,253을 기초로 하는, 2004년 3월 9일 등록된, 미국특허 No.6,704,339, 발명자 Lublin et al, "LITHOGRAPHY LASER WITH BEAM DELIVERY AND BEAM POINTING CONTROL"; 2002년 9월 25일에 출원된, 출원 S.N.10/255,806을 기초로, 2004년 3월 9일에 등록된, 미국특허 No.6,704,340, 발명자 Ershov et al, "LITHOGRAPHY LASER SYSTEM WITH INPLACE ALIGNMENT TOOL"; 2002년 7월 31일에 출원된, 출원 S.N.10/210,761을 기초로, 2004년 2월 10일에 등록된, 미국특허 6,690,704, 발명자 Fallon et al, "CONTROL SYSTEM FOR A TWO CHAMBER GAS DISCHARGE LASER"; 2002년 6월 28일 출원된, 출원 S.N.10/187,336을 기초로, 2004년 2월 17일에 등록된, 미국특허 No.6,693,939, 발명자 Watson et al, "SIX TO TEN KHZ, OR GREATER GAS DISCHARGE LASER SYSTEM"; 및 2002년 5월 7일에 출원된, 출원 S.N.10/141,216을 기초로, 2002년 12월 19일 공개된, 미국공개특허출원 No.2002/0191654A1, 발명자 Klene et al, "LASER LITHOGRAPHY LIGHT SOURCE WITH BEAM DELIVERY";에 관한 것이다.
또한, 본 출원은 2003년 9월 23일에 등록된, 미국특허 No.6,625,191, Knowles et al, "VERY NARROW BAND, TWO CHAMBER, HIGH REPRATE GAS DISCHARGE LASER SYSTEM"; 2003년 4월 15일에 등록된, 미국특허 No.6,549,551, Ness et al, "INJECTION SEEDED LASER WITH PRECISE TIMING CONTROL"; 및 2003년 5월 20일에 등록된, 미국특허 No.6,567,450, Myers et al, "VERY NARROW BAND, TWO CHAMBER, HIGH REPRATE GAS DISCHARGE LASER SYSTEM";에 관한 것이다.
매우 높은 반복률의 MOPA 구성의 가스방전 레이저 시스템을 제공하기 위한 방법 및 장치가 개시된다. 본 방법 및 장치는 매우 높은 펄스반복률로 오실레이터 레이저 출력광 펄스의 빔을 제공하는 마스터 오실레이터 가스방전 레이저 시스템(MO); 및 이 마스터 오실레이터 가스방전 레이저 시스템으로부터 레이저 출력광 펄스를 수신하는 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템(PA)을 포함하고, 이 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템의 각각은 매우 높은 펄스반복률로 증폭된 출력 레이저 광 펄스 빔을 형성시키기 위해 이 매우 높은 펄스반복률을 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템의 개수로 나눈 값과 동일한 펄스반복률로 수신된 레이저 출력광 펄스의 일부를 증폭한다. 이 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템은 오실레이터 레이저 출력광 펄스 빔에 관하여 직렬로 배치된 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템으로 구성될 수 있다. 또한, 본 방법 및 장치는 파워증폭 레이저 시스템의 레이저 광 출력부와 연결되고, 파워증폭 레이저 시스템의 출력을 광 이용툴의 입력부로 다이렉팅하고, 그리고 적어도 빔 포인팅 및 방향 제어를 제공하는 빔전달 유닛을 더 포함할 수 있다. 본 방법 및 장치는 2000Hz이상의 펄스반복률로 제1레이저 출력광 펄스 빔을 발생시키는 제1라인 내로우드 가스방전 레이저 시스템; 2000Hz이상의 펄스반복률로 제2레이저 출력광 펄스 빔을 발생시키는 제2라인 내로우드 가스방전 레이저 시스템; 및 4000Hz이상의 펄스반복률을 가진 합성된 레이저 출력광 펄스 빔으로 제1 및 제2출력광 펄스 빔을 합성하는 빔 합성기를 포함할 수 있는 매우 높은 반복률의 MOPO 구성의 가스방전 레이저 시스템일 수 있다. 본 방법 및 장치는 초당 x번으로 충전되는 압축헤드 전하저장 디바이스; 적어도 2세트의 가스방전 전극쌍을 포함하는 가스방전 챔버; 및 적어도 2개의 자성 가포화(포화가능: saturable) 스위치를 포함하고, 이 자성가포화 스위치는 압축헤드 전하저장 디바이스와 적어도 2세트의 전극쌍 중 하나 사이에 각각 연결되고, 제1바이어싱 권선에 대한 제1바이어싱 전류와 제2바이어싱 권선에 대한 제2바이어싱 전류를 가지는, 마주한 제1 및 제2바이어싱 권선을 포함하고, 적어도 2개의 스위치 중 하나는 x를 적어도 2세트의 전극쌍의 개수로 나눈 값과 동등한 반복률로 제1바이어싱 전류를 수신하고, 적어도 2개의 자성가포화 스위치의 나머지는 제2바이어싱 전류를 수신하도록, 제1바이어싱 전류로부터 제2바이어싱 전류로 바이어싱 전류를 스위칭하기 위한 스위칭 회로를 포함할 수 있다. 본 방법 및 장치는 리소그라피 툴로써 사용되거나, 또는 플라즈마 EUV 광으로 산출되는 레이저를 산출하기 위하여 사용될 수 있다.
도 1은 광을 리소그라피 툴로 전달하는 본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 매우 높은 반복률 레이저 시스템의 개략도를 도시한다.
도 2A 및 2B는 각각 본 발명의 일 실시예의 태양의 개략적인 측면도 및 평면도를 도시한다.
도 3A-3C는 본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 솔리드 스테이트 펄스 파워 시스템 모듈의 대안의 실시예를 개략적으로 도시한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 오실레이터 레이저와 증폭 레이저 사이에 방전의 타이밍을 도시하는 시간 다이어그램을 도시한다.
도 5는 2개의 병렬의 가스방전 영역을 사용하는 본 발명의 일 실시예의 태양을 개략적으로 부분적으로 도시한다.
도 6은 도 5의 실시예와 함께 사용가능한 본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 펄스 파워 시스템의 압축헤드부를 개략적으로 도시한다.
도 7은 도 5의 실시예와 함께 사용가능한 광학 시스템의 일 실시예의 태양을 개략적으로 도시한다.
도 1에는, 매우 높은 반복률의 레이저 시스템(10)의 개략적인 도면이 도시되어 있다. 이 레이저 시스템(10)은 광(예컨대, DUV)을 리소그라피 툴(예컨대, 스캐 너 또는 스테퍼/스캐너(12))로 전달할 수 있다. (예컨대, DUV) 광원은 그 출력이 협대역 레이저 출력펄스 빔(14A)이고, 예컨대, 마스터 오실레이터 레이저 시스템(18)을 포함하는, 예컨대, 2개의 챔버 레이저 시스템을 포함할 수 있다. 이 마스터 오실레이터 레이저 시스템(18)은 마스터 오실레이터 레이저 시스템(18)에 대한 오실레이터 캐비티를 함께 형성하는 마스터 오실레이터 레이저 가스방전 챔버(18c), 출력 커플러(18a), 및 라인 내로우잉 모듈(18B)을 포함할 수 있다.
또한, 이 시스템(10)은 마스터 오실레이터 레이저 시스템(18)의 출력광 펄스 빔이 먼저 챔버(20A1)를 통과한 다음, 챔버(20A2)를 통과하고(두 챔버는 단일 챔버(20A) 내에 형성될 수도 있다), 파워증폭 시스템(20)의 출력 레이저 광 펄스 빔(14B)을 형성하기 위해 제1경로의 역순으로 챔버(20A2 및 20A1)를 통과하여 빔(14A)의 제2경로를 생성하는 빔 반사기(20B)로 통과하도록 하는, 예컨대, 서로 직렬이고, 예컨대, 한 쌍의 파워증폭 레이저 챔버(20A, 20A1 및 20A2)를 포함하는, 예컨대, 파워증폭 시스템(20)을 포함할 수 있다.
출력빔(14A)은 마스터 오실레이터 레이저 시스템(18)의 출력 커플러(18a)에서부터, 예컨대, 마스터 오실레이터의 협대역 광 출력의 중심파장을 측정하는 라인 센터 분석 모듈(27, LAM)을 통과한 후, 아래에 보다 상세히 설명된 바와 같이, 파워증폭 레이저 시스템(20)으로 출력빔(14A)을 리디렉팅하는 파워증폭 웨이브프론트 엔지니어링 박스(26, PA WEB)로 출력빔(14A)을 중계하기 위해, 예컨대, 릴레이 광학부재 또는 릴레이 광학부재의 일부를 통합할 수 있는 마스터 오실레이터 웨이브프론트 엔지니어링 박스(MO WEP)를 통과할 수 있다.
그 후에, 파워증폭 레이저 시스템(20)의 출력은, 예컨대, 출력빔(14B)의 대역폭을 측정하는 스펙트럼 분석 모듈(SAM)을 통과하고, 빔전달 유닛(40)을 통하여 리소그라피 툴(12)로 전달되는 출력빔(14C)을 형성하기 위해 출력빔(14B)의 "TIS"(Total Integrated Spectrum)을 증가시키는 다수의 반사 미러(22A-D)를 포함하는 펄스 스트래처(22)를 통과할 수 있다. 빔전달 유닛(40)은 빔이 리소그라피 툴로 들어갈 때, 미러(40A, 및 40B)를 포함할 수 있고, 그 중 적어도 하나는 출력빔(14C)의 빔 방향 및 포인팅을 조절하기 위한 고속 작동 빔 다이렉팅 미러이다. 빔 분석 모듈(38, BAM)은 빔이 리소그라피 툴(12)로 들어갈 때, 예컨대, 빔 강도, 방향, 및 포인팅을 측정하는, 리소그라피 툴(12)로의 광의 입력부에 필수적으로 설치될 수 있다.
이 리소그라피 툴은 레이저 시스템(10)의 컨트롤러(도시되지 않음)로 피드백을 제공하는 빔 강도 및 품질 검출기(44, DET)를 가질 수 있다. 이와 유사하게, LAM(27), SAM(29), 및 BAM(38)로부터의 출력은 MO 시스템과 PA 시스템 사이에 충전전압 컨트롤 및/또는 방전시간 컨트롤, 및 MO 시스템과 PA 시스템 중 하나 또는 모두로의 가스주입 컨트롤과 같은 레이저 시스템 컨트롤에 의하여 사용될 수 있다. 또한, 이 레이저 시스템은 LAM(27), SAM(29), MO WEB(24), PA WEB(26), 펄스 스트레처(22), 및/또는 빔전달 유닛(40) 내의 적어도 하나의 부재를 퍼징하기 위한 퍼지(purge)가스 시스템을 포함할 수 있다.
도 2A에 개략적으로 도시된 바와 같이, MO(18)로부터의 출력빔(14A)은 출력 커플러(18A)를 통과하고, MO WEB(24)내의 필수적으로 전체적으로 반사하는 미러(24A)에 의해, PA WEB(26)내의 다른 필수적으로 전체적으로 반사하는 미러(26B)로 반사된다. PA WEB(26)내의 빔 검출기(16)가, 명쾌함을 위하여, PA 시스템(20)의 출력빔(14B)의 광 경로를 벗어나 개략적으로 도시되었음이 이해될 것이다. 도 2B에는, 미러(26B)가 PA 출력빔(14B)의 광학 축을 약간 벗어나 있고, PA의 방전 세로중심축 및 광학부재의 세로중심축과 약간 기울어져 있고, MO 시스템(18)으로부터 PA 시스템(20)을 통해 출력빔(14A)이 반사된다는 사실이 평면도로 개략적으로 도시되어 있다. 도시된 실시예에서, PA 레이저 시스템은 2개의 챔버 또는 단일 챔버내에 있고, 기울어진 경로는 광학부재의 세로중심선과 한 쌍의 전극쌍(90A, 92A 및 90B, 92B)의 방전축과 교차한 후, 필수적으로 광학부재의 세로중심선과 전극(90A, 92A 및 90B, 92B)의 가스방전축을 따라, 순서대로, 예컨대, PA 시스템(20)의 챔버(20A2, 및 20A1)를 통해 빔 반사 모듈(20B) 내의 2개의 필수적으로 전체적으로 반사하는 미러(20B1, 및 20B2)에 의하여 반사된다. 이것은 광학부재를 단순화하는 동시에 각각의 전극쌍(90A, 92A, 및 90B, 92B) 사이의 방전 영역에서 발생되는 증폭의 사용을 최적화할 수 있다. 당업자들은 각각의 MO 챔버 및 PA 챔버가 임의의 스케일로(예컨대, 세로의 길이로) 개략적인 도면에 도시되지 않았음이 이해될 것이다.
도 3A에는, 솔리드 스테이트 스위치(S1)를 통하여, 커뮤테이터 모듈(80)의 제1스테이지로의 입력부인 충전 커패시터(C0, 70)가 통합된 본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 솔리드 스테이트 펄스파워 모듈(60)이 도시되어 있다. 스위치(S1)를 닫는 즉시 충전 커패시터(C0)는 공진 충전기(도시되지 않음)에 의해 완전히 충전되고, 제2스테이지 커패시터(C1)는 펄스를 압축하는 자성가포화 리액터(L0)를 통해 충전된다. 제2스테이지 커패시터(C1)상의 전하가 자성적으로 스위치를 가포화시킴으로써, 제2자성가포화 리액터(L1)를 닫을 만큼 충분히 충전되면, 커뮤테이터 모듈(80)내의 제2스테이지 커패시터(C1)상의 전하는, 예컨대, 전압 출력을 N(또는 M)배 승압하도록, N(또는 M)개의 단일 권선 주 코일; 및 1개의 단일 권선 부 코일;을 병렬로 포함하는 스탭업 변압기(78A, 78B)의 권선쌍 중 하나에서 승압된다(여기서, N과 M은 같을 수도 있다). 이 변압기(78A, 78B)는, 예컨대, 커뮤테이터 모듈(80)의 제2압축 스테이지의 출력부, 즉, L1의 출력부에 병렬로 연결될 수 있다.
변압기(78A)의 스탭업된 전압출력은, 예컨대, 커패시터(C2A); 및 그 출력부가, 예컨대, MO 시스템(18)의 전극(90A, 및 92A)을 가로질러 연결될 수 있는 피킹 커패시터(CP)에 연결되는 자성가포화 리액터 스위치(L2A);를 포함하는 압축헤드 스테이지의 입력부에 연결될 수 있다. 변압기(78B)의 스탭업된 전압출력은, 예컨대, 각각의 커패시터(C2B, 및 C2C), 자성가포화 리액터 스위치(L2B, 및 L2C), 및 피킹 커패시터(CPB 및 CPC)를 각각 포함하는 압축헤드(82) 및 압축헤드(84)에 병렬로 연결될 수 있다. 각각의 피킹 커패시터(CPB 및 CPC)는 각각의 PA 챔버 전극(90B, 92B 및 90C, 92C)에 연결될 수 있다. 각각의 전극쌍(90B, 92B 및 90C, 92C)은 각각의 압 축헤드(82, 및 84)의 출력을 수신하고, MO 시스템(18)의 전극(90A, 및92A)이 커패시터(CPA)로부터 전기적 펄스를 수신하는 각각의 시간은, 예컨대, 솔리드 스테이트 스위치(S3, 및 S4)에 의해 결정될 수 있다.
이러한 방법으로, 각각의 전극쌍(90B, 92B 및 90C, 92C)을 가진 PA 챔버는 주어진 MO 레이저 출력 펄스(14A)를 위해 가스방전을 산출하기 위한 대안으로 선택될 수 있다.
당업자들은 본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 배열에 의해, MO는 F2 또는 엑시머 가스방전 MOPA 레이저 구성의 기술로 주지된 바와 같은 라인 내로우잉을 위해 최적화될 수 있고, PA 챔버는, 예컨대, 약 4KHz의 종래 펄스반복률의 현 스테이트를 위해 최적화될 수 있고, 또는 그리하여 전체 시스템(10)이, 예컨대, 8KHz의 매우 높은 반복률을 이루도록 하고, 현재 단일 챔버 PA 시스템을, 예컨대, 8KHz 근처의 임의의 반복률에서 작동하지 못하게 하는 중대한 성능 파라미터(단일세트의 PA전극으로 약 8KHz에서, 작동하기 위한 필수요소, 예컨대, 팬 속도, 팬 온도, 팬 진동, 등)를 초과하지 않음이 이해될 것이다. 또한, 비교적 낮은 파워의 MO 작동이 예컨대, 8KHz의 펄스반복률을 일으키기에 비교적으로 용이할 수 있고, 그러한 매우 높은 반복률에서 비교적 낮은 파워의 라인 내로우드 출력빔(14A)을 여전히 출력함이 이해될 것이다.
도 3C에는, 각각의 커패시터(C0, C0A, C0B, 및 COC)를 갖추고, 3개의 스탭업 변압기(78A, 78B, 및 78C), 및 3개의 압축헤드(76A, 76B, 및 76C)를 갖춘 3개의 병 렬회로가 있는 펄스 파워 시스템(60)의 다른 실시예가 도시되어 있다. 이러한 일시예에서, MO 챔버에 대한 압축헤드(76A)일 수 있는 스위치(S1)를 닫는 타이밍은 MO 챔버 내의 전극을 방전하기 위해, 예컨대, 8KHz로 닫아질 수 있고, 스위치(S2 및 S3)는 두 PA 섹션(20A1 및 20A2)내의 전극(90B, 92B 및 90C, 92C)을 방전시키기 위해, 예컨대, 4KHz의 반복률로 교대로 닫아질 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예의 태양에 따른 배열은, 예컨대, 교대로의 4KHz의 반복률로, 예컨대, 전극(90B, 92B, 및 90C, 92C)에 대한, PA 모듈상의 각각의 피킹 커패시터를 충전하기 위해, 스탭업 변압기(78)의 다운스트림을(즉, 스탭업 변압기의 매우 높은 전압측에서) 스위칭하기 위해, 예컨대, MO 챔버에 대한 대응하는 압축헤드와 같은, 8KHz의 반복률로 충전되는 단일 압축헤드와 결합되어 사용되는 자성 스위칭 회로와 같은 다른 방법으로도, 상술된 바와 같이 구성될 수 있음이 이해될 것이다.
그리하여 작동에 있어서, 본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 레이저 시스템은, 예컨대, 8KHz이상의 반복률로 MO 챔버를 구동하는 것에 대한 비교적 간단한 이점이 있고, 동시에, PA 구성의 장점, 즉, 예컨대, 증폭을 위해 다수의 경로에 대한 더 넓은 방전, 그리고, 그 중에서 특히, 약 4KHz 보다 더 높은 반복률로 펄스-투-펄스의 더 넓은 방전전극 방전영역을 청소하려 할 때의 영향을 받지 않는다는 이점을 여전히 가진다.
도 4는 본 발명의 일 실시예의 태양을 따른 전극(90C, 92C) 사이에 방전이 있을 때, 전극(90C, 92C)에 도달하기 위해 전극(90B, 92B)을 통과하는 빔(14A)에서 지연을 나타내는 τ1PA에 약간의 조절과 함께, τ1PA+τ2PA에서 PA 전기방전이 전극(90B, 92B 및 90C, 92C) 사이에 교대로 발생하는 본 발명의 일 실시예와 유일한 차이를 가진 PA 내에 한 세트의 전극쌍에 대한 PA 가스방전 및 MO 챔버 가스방전의 방전에 대한 타이밍 다이어그램을 도시한다.
또한, 당업자들은, 예컨대, LPP EUV 광원의 구동 레이저를 위해, 중대하지는 않으나, 10KHz이상까지의 매우 높은 반복률에서의 높은 파워의 출력이 요구될 수 있는 라인 내로우잉에 있어서 본 발명에 대한 어플리케이션이 있을 수 있음이 이해될 것이다. 이러한 경우에, 예컨대, 상술된 빔전달 유닛(40)은 레이저 빔(14C)을 리소그라피 툴, 그 자체로 전달하지 않으나, 차례로 EUV 광을 리소그라피 툴로 전달하는 EUV 광원으로 전달한다. 그러한 경우에, 예컨대, 라인 내로우잉 모듈(18B)은 본 발명의 일 실시예의 태양에 따라 요구되지 않고, 예컨대, 또한 SAM(29)은, 예컨대, 빔(14B)의 대역폭을 측정할 필요가 없고, 예컨대, BDU(40)내에서, 오직 빔 방향 및 포인팅만 컨트롤될 필요가 있다.
본 발명의 일 실시예의 태양에 따라서, 예컨대, PA 방전의 대략 절반인 폭의 MO 빔이 만들어지면, 그 후 PA 챔버 전극(90B, 92B 및 90C, 92C)의 이중 경로는 PA 챔버내에 이득을 필수적으로 완전히 스위핑하기(sweep) 위해 수행될 수 있다. 상술한 바와 같이, 이것은 높은 파워 문제로부터, 예컨대, 8-10KHz에 이르는 높은 반복률 문제를 효과적으로 분리한다.
본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 다른 가능성은 단일 세트의 전극쌍(예컨대, 90B, 92B)을 갖추고, 또한 라인 내로우드 오실레이터와 같이 구성되고, 즉, LNM(도시되지 않음)을 갖추고, 그리고 매우 높은 반복률(예컨대, 10-16KHz)에서 협대역 출력을 이루기 위해 서로 맞물리는 방법("tic-toc" fashion)으로 레이저 챔버 전극을 교대로 방전하는 단일 PA 챔버(20)를 사용하는 것이다. 이것은 각각의 펄스내에 펄스파워의 손실이 있을 수 있으나, 2개의 오실레이터로부터의 2개의 협대역 출력빔(도시되지 않음)을 하나의 단일 출력빔으로 재합성하기 위해, 예컨대, 합성기, 예컨대, 편광 합성기(도시되지 않음)를 사용하여 매우 높은 펄스반복률을 이룰 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예의 태양은, 예컨대, 6KHz로 방전하는 MO, 및 각각 3KHz로 방전하는 2개의 PA를 사용하여, 예컨대, 약 6KHz의 펄스반복률을 이루기 위해 사용될 수 있고, 또는, 예컨대, 4KHz 보다 큰 펄스반복률을 위해 다른 가능한 조합을 사용할 수 있음이 당업자들은 이해될 것이다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 대안의 실시예가 개략적으로 도시되어 있다. 도 5에는, 예컨대, 단일 챔버 내에, 각각 메인 절연체(106, 108)를 가지고 설치된 제1캐소드(102) 및 제2캐소드(104)를 포함하는 이중 전극 시스템(100)의 실시예가 도시되어 있다. 각각의 캐소드(102, 104)와 마주하는 애노드 방전영역을 적절하게 형성한 단일 애노드(110)와 함께, 이 두 전극은 챔버 내부에 길쭉한 전극쌍을 형성하고, (도면의 평면으로) 길쭉한 방전 영역(120, 122)을 형성한다. 이 애노드(110)는 애노드 지지부(112)에 설치될 수 있다. 캐소드 및 단일 애노드는 방전 영역 사이에 절연(예컨대, 세라믹 절연체)과 함께 또는 절연없이 형성될 수 있다. 캐소드(102, 104)는 방전(120, 122)사이에서, 예컨대, F에서 F2로 변환하기 위한 길쭉한 컨버터, 예컨대, 촉매 변환장치(130)에 의해 분리될 수 있다. 레이저 가스는 전극(120, 110 및 122, 110)과 각각의 방전 영역(102, 122) 사이에서 팬(140)에 의해 순환될 수 있다.
대안으로써, 도 3A에 도시된 시스템의 변형인, 도 6에 도시된 바와 같은, 파워서플라이 시스템(150)에 의해, 방전 영역(120, 122)내에서 가스방전을 발생시키는 각각의 전극(120, 110 및 122, 110)사이에서 전기방전이 발생될 수 있고, 여기서 단일 압축헤드 커패시터(C2)는, 예컨대, 8KHz의 반복률로 충전되고, 회로(150)는 각각의 자성가포화 리액터 스위치(L2A, L2B)를 통해 각각의 피킹 커패시터(CPA, 및 CPB)에 교류의 전기방전 전압을 제공한다. 이 스위치(L2A, L2B)는 원하는, 예컨대, 8KHz에서, CPA 및 CPB상에서 덤핑되기 위해 교대로 C2상에 전하를 일으키기 위해 가포화 스위칭 회로(도시되지 않음)를 사용하여, 예컨대, 8KHz에서, 바이어스 전류원(IB1 및 IB2)로부터의 반대로 다이렉팅된 바이어싱 전류 사이에서 스위칭될 수 있다.
도 7에는, 단 하나의 내로우잉 패키지(160)만 필요한, 도 5 및 6에 도시된 본 발명의 일 실시예의 태양이 개략적으로 도시되어 있다. 도 7에 도시된 바와 같이, 단일 화살표에 의해 나타나는, 제1방전 광은 예컨대, 후방 윈도우(152)를 통과하고자하는 광의 편광방향(예컨대, 제1편광방향)에 따라 방향지어진 오실레이팅 캐비티내의 후방 윈도우(152)를 통과하고, 제1편광방향의 광을 필수적으로 통과시키는 편광 빔스플리터로 들어가 통과할 수 있다. 그 다음, 방전(120)에서부터의 광은 2분의1파장판(158)을 통과하여 제1편광방향의 광으로 작동하도록 구성된 라인 내로우잉 패키지(160)로 진행하거나, 또는 방전(120)에서부터의 광이 라인 내로우잉 패키지로부터 나오고 패키지로 들어갈 때에 이 2분의1파장판(158)이 광학경로 내에 있지않도록 레이저 시스템(100)의 펄스반복률로 회전되는 회전하는 2분의1파장판(158)일 수 있는 다른 편광 메카니즘으로 진행할 수 있다. 또한, 편광 메카니즘은 하나의 편광방향(예컨대, 제1편광방향)의 광 또는 다른 방향(예컨대, 제2편광방 향)의 광을 지나가게 하기 위해 예컨대, 주기적으로 스위칭(작동)될 수 있는, 예컨대, 전기적, 자성적, 기계적, 또는 그 밖의 실제적인 광학부재 일 수 있음이 이해될 것이다.
이와 유사하게, 레이저 시스템(100)내의 방전(122)내에서 산출된 레이저 광 펄스는, 예컨대, 이중 화살표에 의하여 나타나는 다른 편광방향(예컨대, 제2편광방향)의 광을 통과시키도록 방향진 후방 윈도우(180)를 통과하고, 그 후, 제2편광방향의 광을 필수적으로 전체적으로 반사시키는 미러(182)에 의하여 반사되고, 제2편광방향의 광을 필수적으로 전체적으로 반사시키는 편광 빔스플리터로 진행하고, 그 후, 방전 영역(122)에서부터의 광의 경우에, 라인 내로우잉 패키지(160)내에서 라인 내로우잉을 위해 제2편광방향에서부터 제1편광방향으로 광을 변환시키는 편광 메카니즘(158, 예컨대, 2분의1파장판)을 통과한다. 이 광이 라인 내로우잉 패키지(160)로부터 반사된 때, 이 방전영역(122)으로부터의 광은 다시 편광 메카니즘(예컨대, 2분의1파장판(158))을 통과하고, 방전영역(122)의 공진캐비티를 통과하기 위해 다시 제2편광방향으로 재변환되고, 예컨대, 제2편광방향으로 편광된 전방 윈도우(184)를 통과하고, 제2편광방향의 광을 필수적으로 전체적으로 반사하는 반사 미러(190)를 통과하고, 예컨대, 방전영역(120)의 공진캐비티의 출력 커플러를 빠져나가는 제1편광방향의 광을 전체적으로 필수적으로 통과시키고 방전 영역(122)의 공진 캐비티의 출력 커플러(186)를 빠져나가는 제2편광방향의 광을 전체적으로 반사하는 편광 빔 스플리터(174)로 진행하지는 않는다. 또한, 편광 메카니즘(158)에 관하여 상술된 내용과 유사하게, 다른 편광 메카니즘(176)은 선택된 편광방향(예컨대, 제1편광방향)의 출력을 제공하기 위해, 방전영역(120)의 공진캐비티로부터의 제1편광방향의 광의 편광을 방전영역(122)의 광의 제2편광방향으로 간헐적으로 변환할 수 있다.
본 발명의 일 실시예의 태양에 따른 작동에 있어서, 2세트의 가스방전 쌍으로, 예컨대, 압축헤드(자성 가포화리액터 스위치를 사용하여 전기적으로 펄스를 압축하는 커패시티브 저장 디바이스)를 포함할 수 있는 2개의 PA 섹션 내에 펄스 에너지를 전달하기 위한 장치 및 방법이 제공되어 있다. 피킹 커패시터(전극을 가로지르는 최종 스테이지)와 방전 전극쌍 사이의 각각의 압축헤드는, 예컨대, 압축헤드(및 MO 챔버) 기능의 전체 출력 반복률의 절반의 반복률로 동작하는 각각의 방전 전극쌍을 가지도록, 마주한 형상으로 바이어싱된 분리된 자성가포화 스위치를 가질 수 있다. 바이어싱 파워 서플라이에 대한 바이어싱 파워 요구사항은 다수의 방전 영역을 스위칭하기 위해 사용될 수 있다. 예컨대, PA 섹션 내에서의 방전은 단일 챔버 또는 하나 이상의 챔버 내에서 일어날 수 있고, 동일한 공진 충전기는 8KHz(C0 차징)에서 MO 챔버방전 및 PA 챔버방전을 모두 구동할 수 있고, PA 전극은 교대로, 예컨대, 4KHz로 방전될 수 있다.
당업자들은 레이저 시스템(100)의 출력의 편광의 수정이, 예컨대, BDU 40내에서 발생하거나, 또는 심지어 리소그라피 툴 내부의 BDU의 다운스트림에서 일어날 수도 있음이 이해될 것이다. 또한, 레이저 시스템(100)은 단일 또는 복수의 챔버, 예컨대, 2개의 챔버(2개의 방전영역)의 파워증폭기, 또는 MOPA 및/또는 MOPO 구성을 만들기 위해 짝수 개의 파워 오실레이터와 함께 구성될 수 있고, 및/또는 레이저 시스템(100)은 전체 MOPO 시스템의 최대 출력 펄스반복률로 MO 출력펄스를 수신하고, 예컨대, MOPO 시스템의 최대의 출력 펄스반복률의 절반의 반복률로, 각각 작동하는 방전영역(120)과 방전영역(122) 사이에 서로 맞물려진, MOPO 시스템 내의 PO일 수 있음이 이해될 것이다. 또한, 그러한 구성은 매우 높은 반복률의 POPO 시스템과 같이 동작하기 위해 용이하게 수정될 수 있다.

Claims (138)

  1. MOPA(Master Oscillator Power Amplifier) 구성의 가스방전 레이저 시스템으로서,
    펄스반복률 x≥4000Hz인 매우 높은 펄스반복률로 오실레이터 레이저 출력광 펄스의 빔을 산출하는 마스터 오실레이터 가스방전 레이저 시스템; 및
    상기 마스터 오실레이터 가스방전 레이저 시스템으로부터 레이저 출력광 펄스를 수신하는 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템;을 포함하고,
    상기 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템의 각각은 상기 매우 높은 펄스반복률로 증폭된 출력 레이저광 펄스 빔을 형성하기 위하여, 상기 매우 높은 펄스반복률을 상기 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템의 개수로 나눈 값과 동등한 펄스반복률로, 수신된 상기 레이저 출력광 펄스의 일부를 증폭하고,
    상기 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템은 상기 오실레이터 레이저 출력광 펄스 빔에 관하여 직렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 MOPA 구성의 가스방전 레이저 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템은 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템으로 구성된 것을 특징으로 하는 MOPA 구성의 가스방전 레이저 시스템.
  3. 삭제
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 파워증폭 가스방전 레이저의 각각은 (1/2)x의 펄스반복률로 점화되는 것을 특징으로 하는 MOPA 구성의 가스방전 레이저 시스템.
  5. 제 2 항에 있어서, 상기 마스터 오실레이터 가스방전 레이저 시스템은 x≥5000Hz의 펄스반복률로 점화되고, 각각의 파워증폭 가스방전 레이저는 (1/2)x의 펄스반복률로 점화되는 것을 특징으로 하는 MOPA 구성의 가스방전 레이저 시스템.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 파워증폭 레이저 시스템의 상기 레이저광 출력부에 연결되고, 상기 파워증폭 레이저 시스템의 출력을 광 이용 툴의 입력부로 다이렉팅하고, 적어도 빔 포인팅 및 방향 제어를 제공하는 빔전달 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 MOPA 구성의 가스방전 레이저 시스템.
  7. MOPO(Master Oscillator Power Oscillator) 구성의 가스방전 레이저 시스템으로서,
    2000Hz이상의 펄스반복률로 제1레이저 출력광 펄스 빔을 산출하는 제1라인 내로우드(narrowed) 가스방전 레이저 시스템;
    2000Hz이상의 펄스반복률로 제2레이저 출력광 펄스 빔을 산출하는 제2라인 내로우드 가스방전 레이저 시스템; 및
    상기 제1 및 제2레이저 출력광 펄스 빔을 4000Hz이상의 펄스반복률을 가진 하나의 합성된 레이저 출력광 펄스 빔으로 합성하는 빔 합성기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 MOPO 구성의 가스방전 레이저 시스템.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 제1레이저 출력광 펄스 빔은 4000Hz이상의 펄스반복률로 산출되고, 상기 제2레이저 출력광 펄스 빔은 4000이상의 펄스반복률로 산출되는 것을 특징으로 하는 MOPO 구성의 가스방전 레이저 시스템.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 제1레이저 출력광 펄스 빔은 5000Hz이상의 펄스반복률로 산출되고, 상기 제2레이저 출력광 펄스 빔은 5000이상의 펄스반복률로 산출되는 것을 특징으로 하는 MOPO 구성의 가스방전 레이저 시스템.
  10. 삭제
  11. 가스방전 레이저 시스템으로서,
    초당 x회로 충전되는 압축헤드 전하저장 디바이스를 포함하는 압축헤드;
    적어도 2세트의 가스방전 전극쌍을 포함하는 가스방전 챔버; 및
    적어도 2개의 자성 가포화 스위치;를 포함하고,
    상기 적어도 2개의 자성 가포화 스위치는 각각 상기 압축헤드 전하저장 디바이스와 상기 적어도 2세트의 가스방전 전극쌍 중 하나 사이에 연결되고, 제1바이어싱 권선에 대한 제1바이어싱 전류와 제2바이어싱 권선에 대한 제2바이어싱 전류를 가지는 마주하는 제1 및 제2바이어싱 권선을 구비하고, 상기 제1바이어싱 전류로부터 상기 제2바이어싱 전류로 바이어싱 전류를 스위칭하는 스위칭 회로를 포함하여, 상기 적어도 2개의 자성 가포화 스위치 중 하나는 x를 상기 적어도 2세트의 전극쌍의 개수로 나눈 값과 동등한 반복률로 상기 제1바이어싱 전류를 수신하고, 상기 적어도 2개의 자성 가포화 스위치 중 나머지는 제2바이어싱 전류를 수신하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 가스방전 레이저 시스템.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 적어도 2세트의 가스방전 전극쌍은 2세트의 가스방전 전극쌍이고, 상기 적어도 2개의 자성 가포화 스위치는 2개의 자성 가포화 스위치이고, 그리고 상기 스위칭 회로는 상기 2개의 자성 가포화 스위치 중 하나에 제1바이어싱 전류를 스위칭하고, 상기 2개의 자성 가포화 스위치 중 나머지 하나에 제2바이어싱 전류를 스위칭하는 것을 특징으로 하는 가스방전 레이저 시스템.
  13. 제 11 항에 있어서, 상기 적어도 2세트의 가스방전 전극쌍 중 하나와 각각 광학적으로 상호연결된 적어도 2개의 라인 내로우잉(narrowing) 패키지를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가스방전 레이저 시스템.
  14. 제 11 항에 있어서, 상기 적어도 2세트의 가스방전 전극쌍은 2세트의 가스방전 전극쌍이고,
    단일 라인 내로우잉 패키지를 더 포함하며, 상기 단일 라인 내로우잉 패키지는:
    회절성 대역폭선택 광학요소;
    제1편광의 레이저 출력광 펄스를 필수적으로 완전히 통과시키고 제2편광의 레이저 출력광 펄스를 필수적으로 완전히 반사시키는 제1편광 빔스플리터를 포함하는, 제1세트의 가스방전 전극쌍과 정렬되는 상기 라인 내로우잉 패키지로의 제1광학 경로;
    제1세트의 전극쌍으로부터의 상기 레이저 출력광 펄스를 상기 제1편광방향으로 편광시키는 제1광학 경로와 정렬되는 제1 및 제2캐비티 윈도우;
    제2세트의 전극쌍으로부터의 상기 레이저 출력광 펄스를 상기 제2편광방향으로 편광시키는 제2세트의 전극쌍과 정렬되는 제1 및 제2캐비티 윈도우;
    제2세트의 전극쌍으로부터의 상기 레이저 출력광 펄스를 제1편광 빔스플리터로 반사하는 빔 반사기;
    상기 회절성 대역폭선택 광학요소로 입력될 때, 상기 제2세트의 전극쌍으로부터의 상기 레이저 출력광 펄스를 상기 제1편광으로 편광시키고, 상기 회절성 대역폭선택 광학요소로부터 리턴시 상기 제2세트의 전극쌍으로부터의 상기 레이저 출력광 펄스를 상기 제2편광으로 재편광시키는 제1편광 빔 스플리터와 상기 회절성 대역폭선택 광학요소 사이의 제1편광 메카니즘;
    상기 제1편광의 레이저 출력광 펄스를 필수적으로 완전히 통과시키고, 상기 제2편광의 레이저 출력광 펄스를 필수적으로 완전히 반사시키는 제1세트의 전극쌍으로부터의 상기 레이저 출력광 펄스의 출력부상의 제2편광 빔스플리터; 및
    상기 제2세트의 전극쌍으로부터의 상기 레이저 출력광 펄스를 상기 제2편광 빔스플리터로 반사시키는 빔 반사기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스방전 레이저 시스템.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 제2편광 빔스플리터에서 반사된, 제2세트의 전극쌍으로부터의 상기 레이저 출력광 펄스를 제1편광방향으로 편광시키는 제2편광 메카니즘을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가스방전 레이저 시스템.
  16. 제 14 항에 있어서, 상기 제1편광 메카니즘과 제2편광 메카니즘 중 적어도 하나는 상기 제2세트의 전극쌍 사이에서 발생된 광의 존재 유무에 따라 상기 회절성 대역폭선택 광학요소로의 상기 제1광학 경로로 디더링되고 및 상기 제1광학 경로로부터 디더링되는(dithered) 디더링된 2분의1파장 판인 것을 특징으로 하는 가스방전 레이저 시스템.
  17. 제 14 항에 있어서, 제1편광 메카니즘과 제2편광 메카니즘 중 적어도 하나는 상기 레이저 출력광 펄스의 펄스반복률로 변조된, 여기된(excited) 광학부재인 것을 특징으로 하는 가스방전 레이저 시스템.
  18. MOPA(Master Oscillator Power Amplifier) 구성의 가스방전 레이저 시스템 출력의 산출 방법으로서,
    펄스반복률 x≥4000Hz인 매우 높은 펄스반복률로 오실레이터 레이저 출력광 펄스의 빔을 산출하는 마스터 오실레이터 가스방전 레이저 시스템을 사용하는 단계;
    상기 마스터 오실레이터 가스방전 레이저 시스템으로부터 레이저 출력광 펄스를 수신하는 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템을 사용하는 단계; 및
    상기 파워증폭 레이저 시스템의 레이저광 출력부에 연결되며, 상기 파워증폭 레이저 시스템의 출력을 광 이용 툴의 입력부로 다이렉팅하고, 적어도 빔 포인팅 및 방향 제어를 제공하는 빔전달 유닛을 사용하는 단계;를 포함하고
    상기 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템의 각각은 상기 매우 높은 펄스반복률로, 증폭된 출력 레이저광 펄스 빔을 형성하기 위하여, 상기 매우 높은 펄스반복률을 상기 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템의 개수로 나눈 값과 동등한 펄스반복률로, 수신된 상기 레이저 출력광 펄스의 일부를 증폭하는 것을 특징으로 하는 MOPA 구성의 가스방전 레이저 시스템 출력의 산출 방법.
  19. 제 18 항에 있어서, 상기 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템은 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템으로 구성된 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제 18 항에 있어서, 상기 적어도 2개의 파워증폭 가스방전 레이저 시스템은 상기 오실레이터 레이저 출력광 펄스 빔에 관하여 직렬로 배치된 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 삭제
  22. 가스방전 레이저펄스 산출 방법으로서,
    MOPO(Master Oscillator Power Oscillator) 구성의 가스방전 레이저 시스템을 사용하는 단계를 포함하고,
    상기 MOPO 구성의 가스방전 레이저 시스템은
    2000Hz이상의 펄스반복률로 제1레이저 출력광 펄스 빔을 산출하는 제1라인 내로우드 가스방전 레이저 시스템;
    2000Hz이상의 펄스반복률로 제2레이저 출력광 펄스 빔을 산출하는 제2라인 내로우드 가스방전 레이저 시스템; 및
    상기 제1 및 제2레이저 출력광 펄스 빔을 4000Hz이상의 펄스반복률을 가진 하나의 합성된 레이저 출력광 펄스 빔으로 합성하는 빔 합성기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스방전 레이저펄스 산출 방법.
  23. 가스방전 레이저 펄스 산출 방법으로서,
    초당 x회로 충전되는 압축헤드 전하저장 디바이스를 포함하는 압축헤드를 사용하는 단계;
    적어도 2세트의 가스방전 전극쌍을 포함하는 가스방전 챔버를 사용하는 단계; 및
    적어도 2개의 자성 가포화 스위치를 사용하는 단계;를 포함하고,
    상기 적어도 2개의 자성 가포화 스위치는 각각 상기 압축헤드 전하저장 디바이스와 상기 적어도 2세트의 가스방전 전극쌍 중 하나 사이에 연결되고, 제1바이어싱 권선에 대한 제1바이어싱 전류와 제2바이어싱 권선에 대한 제2바이어싱 전류를 가진, 마주하는 제1 및 제2바이어싱 권선을 구비하고, 상기 제1바이어싱 전류로부터 상기 제2바이어싱 전류로 바이어싱 전류를 스위칭하여 상기 적어도 2개의 자성 가포화 스위치 중 하나는 x를 상기 적어도 2세트의 전극쌍의 개수로 나눈 값과 동등한 반복률로 상기 제1바이어싱 전류를 수신하고, 상기 적어도 2개의 자성 가포화 스위치 중 나머지는 제2바이어싱 전류를 수신하도록 하는 것을 특징으로 하는 가스방전 레이저 펄스 산출 방법.
  24. 삭제
  25. 삭제
  26. 삭제
  27. 삭제
  28. 삭제
  29. 삭제
  30. 삭제
  31. 삭제
  32. 삭제
  33. 삭제
  34. 삭제
  35. 삭제
  36. 삭제
  37. 삭제
  38. 삭제
  39. 삭제
  40. 삭제
  41. 삭제
  42. 삭제
  43. 삭제
  44. 삭제
  45. 삭제
  46. 삭제
  47. 삭제
  48. 삭제
  49. 삭제
  50. 삭제
  51. 삭제
  52. 삭제
  53. 삭제
  54. 삭제
  55. 삭제
  56. 삭제
  57. 삭제
  58. 삭제
  59. 삭제
  60. 삭제
  61. 삭제
  62. 삭제
  63. 삭제
  64. 삭제
  65. 삭제
  66. 삭제
  67. 삭제
  68. 삭제
  69. 삭제
  70. 삭제
  71. 삭제
  72. 삭제
  73. 삭제
  74. 삭제
  75. 삭제
  76. 삭제
  77. 삭제
  78. 삭제
  79. 삭제
  80. 삭제
  81. 삭제
  82. 삭제
  83. 삭제
  84. 삭제
  85. 삭제
  86. 삭제
  87. 삭제
  88. 삭제
  89. 삭제
  90. 삭제
  91. 삭제
  92. 삭제
  93. 삭제
  94. 삭제
  95. 삭제
  96. 삭제
  97. 삭제
  98. 삭제
  99. 삭제
  100. 삭제
  101. 삭제
  102. 삭제
  103. 삭제
  104. 삭제
  105. 삭제
  106. 삭제
  107. 삭제
  108. 삭제
  109. 삭제
  110. 삭제
  111. 삭제
  112. 삭제
  113. 삭제
  114. 삭제
  115. 삭제
  116. 삭제
  117. 삭제
  118. 삭제
  119. 삭제
  120. 삭제
  121. 삭제
  122. 삭제
  123. 삭제
  124. 삭제
  125. 삭제
  126. 삭제
  127. 삭제
  128. 삭제
  129. 삭제
  130. 삭제
  131. 삭제
  132. 삭제
  133. 삭제
  134. 삭제
  135. 삭제
  136. 삭제
  137. 삭제
  138. 삭제
KR1020067020183A 2004-03-31 2005-03-03 매우 높은 반복률의 협대역 가스방전 레이저 시스템 KR101189525B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/815,386 US7006547B2 (en) 2004-03-31 2004-03-31 Very high repetition rate narrow band gas discharge laser system
US10/815,386 2004-03-31
PCT/US2005/007064 WO2005104312A2 (en) 2004-03-31 2005-03-03 Very high repetition rate narrow band gas discharge laser system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060130232A KR20060130232A (ko) 2006-12-18
KR101189525B1 true KR101189525B1 (ko) 2012-10-16

Family

ID=35060496

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020067020183A KR101189525B1 (ko) 2004-03-31 2005-03-03 매우 높은 반복률의 협대역 가스방전 레이저 시스템

Country Status (7)

Country Link
US (2) US7006547B2 (ko)
EP (1) EP1741168B1 (ko)
JP (2) JP2007531311A (ko)
KR (1) KR101189525B1 (ko)
DE (1) DE602005027831D1 (ko)
TW (1) TWI256184B (ko)
WO (1) WO2005104312A2 (ko)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7630424B2 (en) * 2005-11-01 2009-12-08 Cymer, Inc. Laser system
US7920616B2 (en) * 2005-11-01 2011-04-05 Cymer, Inc. Laser system
US7885309B2 (en) * 2005-11-01 2011-02-08 Cymer, Inc. Laser system
US20090296758A1 (en) * 2005-11-01 2009-12-03 Cymer, Inc. Laser system
US7778302B2 (en) * 2005-11-01 2010-08-17 Cymer, Inc. Laser system
US20090296755A1 (en) * 2005-11-01 2009-12-03 Cymer, Inc. Laser system
US7746913B2 (en) * 2005-11-01 2010-06-29 Cymer, Inc. Laser system
KR101238739B1 (ko) * 2005-11-01 2013-03-04 사이머 인코포레이티드 레이저 시스템
US7643529B2 (en) 2005-11-01 2010-01-05 Cymer, Inc. Laser system
US7999915B2 (en) * 2005-11-01 2011-08-16 Cymer, Inc. Laser system
US7715459B2 (en) * 2005-11-01 2010-05-11 Cymer, Inc. Laser system
JP5179736B2 (ja) * 2006-09-21 2013-04-10 株式会社小松製作所 露光装置用レーザ装置
US7696493B2 (en) * 2006-12-13 2010-04-13 Asml Netherlands B.V. Radiation system and lithographic apparatus
JP4972427B2 (ja) * 2007-02-15 2012-07-11 株式会社小松製作所 高繰返し動作が可能で狭帯域化効率の高いエキシマレーザ装置
JP5371208B2 (ja) * 2007-06-13 2013-12-18 ギガフォトン株式会社 ２ステージレーザのパルスエネルギー制御装置
CN101990729B (zh) * 2008-03-31 2013-02-27 伊雷克托科学工业股份有限公司 结合多重激光束以形成高重复率、高平均功率的极化激光束
JP5224939B2 (ja) * 2008-06-30 2013-07-03 ギガフォトン株式会社 高繰返しパルスガスレーザ装置
JP5138480B2 (ja) * 2008-06-30 2013-02-06 ギガフォトン株式会社 高繰返し高出力パルスガスレーザ装置およびその制御方法
JP5454842B2 (ja) * 2008-06-30 2014-03-26 ギガフォトン株式会社 高繰返し高出力エキシマレーザー装置
TWI389409B (zh) * 2008-10-21 2013-03-11 Cymer Inc 用於兩腔室氣體放電雷射之雷射控制方法及裝置
JP2012216768A (ja) 2011-03-30 2012-11-08 Gigaphoton Inc レーザシステム、極端紫外光生成システム、およびレーザ光生成方法
CN103682953B (zh) * 2012-09-10 2016-09-21 中国科学院光电研究院 一种气体放电激光光源
US9762023B2 (en) * 2015-12-21 2017-09-12 Cymer, Llc Online calibration for repetition rate dependent performance variables
RU2679453C1 (ru) * 2018-04-05 2019-02-11 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук (ФИАН) Способ создания импульсного повторяющегося разряда в газе и устройство для его осуществления

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6192064B1 (en) 1997-07-01 2001-02-20 Cymer, Inc. Narrow band laser with fine wavelength control
US20020186739A1 (en) 1999-09-27 2002-12-12 Sandstrom Richard L. Injection seeded F2 laser with wavelength control
JP7093470B2 (ja) * 2018-10-17 2022-06-29 ベーリンガー インゲルハイム インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ４－ピリミジン－５－イルメチル－モルホリン誘導体および医薬としてのその使用

Family Cites Families (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4599726A (en) * 1984-05-01 1986-07-08 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Apparatus and method for generating continuous wave 16 μm laser radiation using gaseous CF4
JPH06101602B2 (ja) * 1984-06-29 1994-12-12 アマダ エンジニアリング アンド サ−ビス カンパニ− インコ−ポレ−テツド レーザ発振器
US5315611A (en) * 1986-09-25 1994-05-24 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy High average power magnetic modulator for metal vapor lasers
US5189678A (en) 1986-09-29 1993-02-23 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Coupling apparatus for a metal vapor laser
JPH0793470B2 (ja) * 1986-10-07 1995-10-09 株式会社東芝 ガスレ−ザ装置
JPS6398172A (ja) * 1986-10-15 1988-04-28 Toshiba Corp 高速繰返しパルスガスレ−ザ装置
US5023884A (en) * 1988-01-15 1991-06-11 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser
US5025446A (en) * 1988-04-01 1991-06-18 Laserscope Intra-cavity beam relay for optical harmonic generation
IL96186A (en) * 1989-11-20 1994-08-26 Hughes Aircraft Co Master oscillator power amplifier with interference isolated oscillator
US5025445A (en) * 1989-11-22 1991-06-18 Cymer Laser Technologies System for, and method of, regulating the wavelength of a light beam
US5471965A (en) * 1990-12-24 1995-12-05 Kapich; Davorin D. Very high speed radial inflow hydraulic turbine
US5359620A (en) * 1992-11-12 1994-10-25 Cymer Laser Technologies Apparatus for, and method of, maintaining a clean window in a laser
US5418371A (en) * 1993-02-01 1995-05-23 Aslund; Nils R. D. Apparatus for quantitative imaging of multiple fluorophores using dual detectors
US5313481A (en) * 1993-09-29 1994-05-17 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Copper laser modulator driving assembly including a magnetic compression laser
US5448580A (en) * 1994-07-05 1995-09-05 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Air and water cooled modulator
JP2718379B2 (ja) * 1994-10-20 1998-02-25 日本電気株式会社 エキシマレーザ装置
US5863017A (en) * 1996-01-05 1999-01-26 Cymer, Inc. Stabilized laser platform and module interface
US5982800A (en) * 1997-04-23 1999-11-09 Cymer, Inc. Narrow band excimer laser
US5991324A (en) * 1998-03-11 1999-11-23 Cymer, Inc. Reliable. modular, production quality narrow-band KRF excimer laser
US6128323A (en) * 1997-04-23 2000-10-03 Cymer, Inc. Reliable modular production quality narrow-band high REP rate excimer laser
US6094448A (en) 1997-07-01 2000-07-25 Cymer, Inc. Grating assembly with bi-directional bandwidth control
US6018537A (en) * 1997-07-18 2000-01-25 Cymer, Inc. Reliable, modular, production quality narrow-band high rep rate F2 laser
US6330261B1 (en) * 1997-07-18 2001-12-11 Cymer, Inc. Reliable, modular, production quality narrow-band high rep rate ArF excimer laser
US5852621A (en) * 1997-07-21 1998-12-22 Cymer, Inc. Pulse laser with pulse energy trimmer
US6757316B2 (en) * 1999-12-27 2004-06-29 Cymer, Inc. Four KHz gas discharge laser
US6317447B1 (en) * 2000-01-25 2001-11-13 Cymer, Inc. Electric discharge laser with acoustic chirp correction
US5953360A (en) * 1997-10-24 1999-09-14 Synrad, Inc. All metal electrode sealed gas laser
US6151349A (en) * 1998-03-04 2000-11-21 Cymer, Inc. Automatic fluorine control system
US6240117B1 (en) * 1998-01-30 2001-05-29 Cymer, Inc. Fluorine control system with fluorine monitor
US5978406A (en) * 1998-01-30 1999-11-02 Cymer, Inc. Fluorine control system for excimer lasers
US6016325A (en) * 1998-04-27 2000-01-18 Cymer, Inc. Magnetic modulator voltage and temperature timing compensation circuit
JP2000058944A (ja) * 1998-05-20 2000-02-25 Cymer Inc 高信頼性・モジュラ製造高品質狭帯域高繰り返しレ―トｆ２レ―ザ
US6477193B2 (en) * 1998-07-18 2002-11-05 Cymer, Inc. Extreme repetition rate gas discharge laser with improved blower motor
US6442181B1 (en) * 1998-07-18 2002-08-27 Cymer, Inc. Extreme repetition rate gas discharge laser
US6208675B1 (en) * 1998-08-27 2001-03-27 Cymer, Inc. Blower assembly for a pulsed laser system incorporating ceramic bearings
US6067311A (en) * 1998-09-04 2000-05-23 Cymer, Inc. Excimer laser with pulse multiplier
US6567450B2 (en) * 1999-12-10 2003-05-20 Cymer, Inc. Very narrow band, two chamber, high rep rate gas discharge laser system
US6208674B1 (en) * 1998-09-18 2001-03-27 Cymer, Inc. Laser chamber with fully integrated electrode feedthrough main insulator
US6212211B1 (en) * 1998-10-09 2001-04-03 Cymer, Inc. Shock wave dissipating laser chamber
US6219368B1 (en) * 1999-02-12 2001-04-17 Lambda Physik Gmbh Beam delivery system for molecular fluorine (F2) laser
US6104735A (en) * 1999-04-13 2000-08-15 Cymer, Inc. Gas discharge laser with magnetic bearings and magnetic reluctance centering for fan drive assembly
US6164116A (en) * 1999-05-06 2000-12-26 Cymer, Inc. Gas module valve automated test fixture
US6549551B2 (en) * 1999-09-27 2003-04-15 Cymer, Inc. Injection seeded laser with precise timing control
US6414979B2 (en) * 2000-06-09 2002-07-02 Cymer, Inc. Gas discharge laser with blade-dielectric electrode
US6625191B2 (en) * 1999-12-10 2003-09-23 Cymer, Inc. Very narrow band, two chamber, high rep rate gas discharge laser system
US6535531B1 (en) * 2001-11-29 2003-03-18 Cymer, Inc. Gas discharge laser with pulse multiplier
US6693939B2 (en) * 2001-01-29 2004-02-17 Cymer, Inc. Laser lithography light source with beam delivery
US6704340B2 (en) * 2001-01-29 2004-03-09 Cymer, Inc. Lithography laser system with in-place alignment tool
US6704339B2 (en) * 2001-01-29 2004-03-09 Cymer, Inc. Lithography laser with beam delivery and beam pointing control
US6690704B2 (en) * 2001-04-09 2004-02-10 Cymer, Inc. Control system for a two chamber gas discharge laser
US20030219094A1 (en) * 2002-05-21 2003-11-27 Basting Dirk L. Excimer or molecular fluorine laser system with multiple discharge units

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6192064B1 (en) 1997-07-01 2001-02-20 Cymer, Inc. Narrow band laser with fine wavelength control
US20020186739A1 (en) 1999-09-27 2002-12-12 Sandstrom Richard L. Injection seeded F2 laser with wavelength control
JP7093470B2 (ja) * 2018-10-17 2022-06-29 ベーリンガー インゲルハイム インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ４－ピリミジン－５－イルメチル－モルホリン誘導体および医薬としてのその使用

Also Published As

Publication number Publication date
US7006547B2 (en) 2006-02-28
EP1741168A4 (en) 2008-05-28
TW200541185A (en) 2005-12-16
US20050226300A1 (en) 2005-10-13
DE602005027831D1 (de) 2011-06-16
JP2014096610A (ja) 2014-05-22
EP1741168B1 (en) 2011-05-04
WO2005104312A3 (en) 2007-03-29
WO2005104312A2 (en) 2005-11-03
US20060209916A1 (en) 2006-09-21
KR20060130232A (ko) 2006-12-18
EP1741168A2 (en) 2007-01-10
JP6040184B2 (ja) 2016-12-07
JP2007531311A (ja) 2007-11-01
TWI256184B (en) 2006-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101189525B1 (ko) 매우 높은 반복률의 협대역 가스방전 레이저 시스템
JP5758569B2 (ja) スラブ型レーザ装置
US6862307B2 (en) Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser
JP2004531068A5 (ko)
JP2007531311A5 (ko)
JP2000091682A (ja) パルスマルチプライヤ―を備えるエキシマレ―ザ
JP2008078372A (ja) 露光装置用レーザ装置
US6381256B1 (en) Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US6463086B1 (en) Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
JP2009099727A (ja) 注入同期式放電励起レーザ装置及び注入同期式放電励起レーザ装置における同期制御方法
US6987790B2 (en) Excimer or molecular fluorine laser with several discharge chambers
US4468776A (en) Reinjection laser oscillator and method
US6999492B2 (en) Reduced-maintenance excimer laser with oil-free solid state pulser
US6546037B2 (en) Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US20050058172A1 (en) System and method for segmented electrode with temporal voltage shifting
JP4312035B2 (ja) 電源装置および高電圧パルス発生装置並びに放電励起式ガスレーザ装置
JP4367836B2 (ja) Ｍｏｐｏ方式２ステージレーザ装置
US6785316B1 (en) Excimer or molecular laser with optimized spectral purity
WO2001001531A1 (en) Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1pm
JP5133837B2 (ja) パルスレーザ用電源装置
Vasil'tsov et al. High-power-industrial CO2 lasers based upon new concepts of gas discharge and optical schemes
JPH0196977A (ja) 多波長同期型パルスレーザ発振方法
WO2001013476A1 (en) Narrow band excimer laser
Maier et al. Pulsed lasers utilizing transitions in atoms and molecules
JPH03165083A (ja) レーザ発振装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150925

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160923

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee