JP5224939B2 - 高繰返しパルスガスレーザ装置 - Google Patents
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Description
今後、半導体デバイスの高集積化が進んで32nmノードプロセスになると、露光装置は液浸技術による高NA(1.3〜1.5)化とダブルパターニング等の技術の導入に必要になる。
この32nmノード対応露光装置の高スループット化のため、ArFエキシマレーザには、高繰返し周波数(10kHz以上)かつ高出力(100W以上)が要求されている。
32nmノードプロセス用の露光装置用光源には10kHz以上の繰返し周波数が要求されている。
CR= Vt/W …(1)
クリアランスレシオ(CR)が大きい方が、安定な放電が得られる。必要なクリアランスレシオ(CR)の値は、レーザの用途によって異なるが2程度以上は必要になる。なお、露光装置用光源の様に、高いエネルギー安定性が要求される用途では、大きなクリアランスレシオ(CR)が必要になる。
繰返し周波数を現状の6kHzから10kHzに上げると放電間隔tは167μsec〜100μsecに短くなる。
同じCR値を確保するには(1)式より、電極間ガス流速Vを1.67倍にするか、放電幅Wを1/ 1.67にする必要がある。
すなわち、ビームサイズが小さくなるため、エネルギー密度が高くなり、出力ミラー、ウィンドウなどの光学素子が損傷し、寿命などが達成できなくなる。
フロントミラー側の放電によるレーザ光はリアミラー側の放電によるレーザ光より、ビームダイバージェンス(放電方向)、エネルギー共に大きい。エネルギーはパルス電源の電圧を制御することにより、同等にすることは可能である。しかし、縦方向(放電方向)のビームダイバージェンスの制御は困難である。
この間、ビームダイバージェンスによりレーザ光は広がる。ビームダイバージェンスが違うとレーザ光の広がりが変わり、レジストや投影レンズに入射するレーザ光のビームサイズが変わる。これをスリット等でカットし、同等にするとエネルギーが変わり好ましくない。
ダブルチャンバシステムでは、発振段レーザからのレーザ光は増幅段レーザの共振器で数往復しなくても、1passで大きく増幅され出力される。この1passで増幅されたレーザ光のビームダイバージェンスは共振器で数往復して出力されたレーザ光のビームダイバージェンスより大きい。
すなわち、リアミラー側の放電により増幅した1pass目のレーザ光はフロントミラー側の放電部である電極間を通過してフロントミラーから出力され、フロントミラー側の放電により増幅した1pass目のレーザ光は、そのままフロントミラーから出力される。
その違いは、リアミラー側の放電によるレーザ光は、フロントミラー側の放電部である電極間を通る点である。
リアミラー側の放電により増幅した1pass目のレーザ光は、この電極間で、大きな広がり成分がカットされ、放電方向のビームダイバージェンスが小さくなっていると考えられる。
このことより、フロントミラーとフロントミラー側の電極対の間に、電極対の間隔以下の放電方向のスリットを配置すれば、フロントミラー側の放電により増幅した1pass目のレーザ光の、大きな広がり成分をカットできる。
交互発振の場合は、このフロントミラー側のスリットの位置に対して放電位置が違うレーザ光が出力されるため影響が大きい。フロントミラー側の電極対の放電で増幅されたレーザ光とリアミラー側の電極対の放電で増幅されたレーザ光のビームダイバージェンスを同等にするには、上記と同様に、フロントミラー側の放電方向のスリットのサイズを他の放電方向のスリットのサイズ以下にすれば良い。なお、他の放電方向のスリットに対する効果的なフロントミラー側の放電方向のスリットのサイズは、電極長、共振器長により変わる。
(1)レーザガスが封入されたレーザチャンバと、該レーザチャンバ内部にレーザ光の光路に沿って配列し、それぞれ所定間隔離間して対向する一対の電極よりなる複数の電極対と、それぞれの前記電極対を放電させるための電源回路と、前記レーザチャンバを挟む一対の共振器ミラーとを備え、前記電源回路から前記複数の電極対へパルス状の電圧を順次印加し、前記複数の電極対間に所定の時間隔で順次放電を発生させる高繰返し高出力パルスガスレーザ装置において、前記レーザチャンバの光出射側であって前記レーザチャンバと一方の前記共振器ミラーとの間に配置された第1スリットと、前記複数の電極対間の少なくとも1つに配置された第2スリットと、を備え、前記第1スリットの放電方向のサイズは、前記レーザチャンバ内に配置された前記複数の電極対のうち前記光出射側に最も近い電極対以外の電極対で放電が生じたことにより出力されるレーザ光のビームサイズと同じかそれよりも小さく、かつ、前記第2スリットの前記放電方向のサイズよりも小さいことを特徴とする。
(2)上記(1)において、前記レーザチャンバの光入射端側に配置された第3スリットをさらに備えることを特徴とする。
(3)上記(2)において、前記第3スリットの放電方向のサイズは、前記第1スリットの前記放電方向のサイズよりも大きいことを特徴とする。
(4)上記(1)〜(3)のいずれかにおいて、前記レーザチャンバへ入射するレーザ光を生成する発振段レーザをさらに備えることを特徴とする。
(1)同一共振器内に二対の電極を配置して交互発振するレーザ装置において、レーザ光の光出射側に、放電方向のサイズが、光出射側に最も近い一対の電極よりチャンバ奥側にある電極間で放電が生じたことにより出力されるレーザ光のビームサイズと同じか、それより小さいスリットを配置したので、光出射側に配置された放電部における放電によるレーザ光と、光出射側の電極よりチャンバ奥側にある電極間での放電によるレーザ光の放電方向のビームダイバージェンスを同等とすることができる。
(2)発振段レーザと、増幅段レーザとからなる注入同期式レーザ装置における増幅段レーザに本発明を適用することにより、レーザ装置の高出力化を図ることができる。
図1に、本発明の第1の実施形態に係るレーザシステムの構成図を示す。
同図に示すものは、MOPO方式で、増幅段用チャンバ30に二対の電極が配置されたダブルチャンバシステムである。
発振段用レーザ100で高光品位(スペクトル性能など)、小出力のレーザ光が生成される。そして、増幅段用レーザ300でそのレーザ光が増幅される。すなわち、発振段用レーザ100から出力されるレーザ光の光品位(スペクトル性能など)によってレーザシステム全体の光品位(スペクトル性能など)が決定され、増幅段用レーザ300によってレーザシステム自体のエネルギーが決定される。
発振段用レーザ100の構成と機能について説明する。
発振段用チャンバ10の内部には、所定距離だけ離隔し、互いの長手方向が平行であって且つ放電面が対向する一対の電極(カソード電極及びアノード電極)10a、10bが設けられる。
この電極の間隔は、10kHz動作を実現するため、特許文献3に開示されているように、8mmとした。
電極10a、10bに、高電圧パルス発生器12と図示しない充電器とで構成された電源によって高電圧パルスが印加されると、電極10a、10b間で放電が生じ、ArFエキシマが形成される。そして、LNM16とフロントミラー17で構成される共振器で共振し、レーザ光が発生する。LNM16は、拡大プリズムと波長選択素子であるグレーティング(回折格子)で構成され、レーザ光のスペクトル幅を400pmから0.3pm程度まで狭帯域化している。
フロントミラー17を透過したレーザ光は、ビームエキスパンダ20により、少なくとも放電方向に拡大され、高反射ミラー21でビーム方向を変え、モニタモジュール19に案内される。モニタモジュール19はシード光のエネルギーをモニタしている。その後、高反射ミラー22でビーム方向を変え、リアミラー36から増幅段用レーザ300に注入される。
増幅段チャンバ30内には、二対の電極30aと30b、30cと30dを配置して、交互に放電することにより高繰返し動作を実現している。二つの電極対の間隔は高エネルギーが必要なため、16mmと発振段用レーザより広い。電極長は発振段レーザの電極の半分程度である。
増幅段用チャンバ30内には発振段用チャンバ10と同様にアルゴン(Ar)ガス、フッ素(F2 )ガスとバッファガスのネオン(Ne)が満たされている。なお、バッファガスはヘリウム(He)でも良い。
この時、フロントミラー37側の電極対30c、30dとフロントミラー37の間に配置された、電極対30c、30dの間隔と、放電方向のサイズ(長さ)が同じであるスリット50により、レーザ光の大きな広がり成分がカットされる。
次に電極30c、30dに、高電圧パルス発生器34と図示しない充電器とで構成された電源によって高電圧パルスが印加されると、電極30c、30d間で放電が生じ、ArFエキシマが形成される。そして、リアミラー36とフロントミラー37で構成される共振器で共振し、発振段用レーザから注入されるレーザ光が増幅される。
この時、上述したように、フロントミラー側電極対30c、30dとフロントミラー37の間に配置された、電極対30c、30dの間隔と、放電方向のサイズ(長さ)が同じであるスリット50により、レーザ光の大きな広がり成分がカットされる。これらの二対の電極30aと30b、30cと30dでの放電を交互に繰り返す。
このスリット50により、フロントミラー側の放電による1pass目のレーザ光も、大きな広がり成分がカットされる。よって、リアミラー側の放電によるレーザ光の放電方向のビームダイバージェンスとフロントミラー側の放電によるレーザ光の放電方向のビームダイバージェンスが同等になる。
MOPA方式の場合は、増幅段用チャンバ30にリアミラー36とフロントミラー37を設けない構成になる。
その他の構成は前記図1に示したものと同様であり、発振段用レーザ100は発振段用チャンバ10と、発振段用高電圧パルス発生器12と、スペクトルを狭帯域化する狭帯域化モジュール(以下LNMという)16と、フロントミラー17とで構成される。
発振段用レーザ100のフロントミラー17と増幅段用レーザ301との間には、ビームエキスパンダ20と、高反射ミラー21、22と、モニタモジュール19とが設けられる。
増幅段用レーザ301に注入されたレーザ光は、増幅段用レーザ301で増幅され、出射する。増幅段用レーザ300の出射側にはモニタモジュール39が設けられ、出力レーザ光がモニタされる。
電極対30c、30dが配置された増幅段用チャンバ30の光出射側には、この電極対の間隔と同等のサイズ(長さ)の放電方向のビームの広がりをカットするスリット50が配置されている。
このスリット50により、レーザ光の大きな広がり成分がカットされ、光出射側に配置された電極対の放電によるレーザ光の放電方向のビームダイバージェンスと、光出射側に対向する側に配置された電極対の放電によるフロントミラー側の放電によるレーザ光の放電方向のビームダイバージェンスが同等にすることができる。
なお、MOPA方式では、光が増幅段用チャンバ30内を通過する回数は1回であるが、これに限るものではない。例えば、折り返しミラーを設けて、増幅段用チャンバを複数回通過させてもよい。このように構成することにより、より高い出力のレーザ光を取り出すことが可能となる。
図3にフロントミラー側から注入した場合の構成例を示す。同図(a)は側面図を示し、同図(b)は増幅段用レーザ300の上面図を示し、レーザ光の注入方法を変えた点を除き、前記図1に示したものと同様である。
前述したように、発振段用レーザ100は発振段用チャンバ10と、発振段用高電圧パルス発生器12と、スペクトルを狭帯域化する狭帯域化モジュール(以下LNMという)16と、フロントミラー17とで構成される。
発振段用レーザ100のフロントミラー17と増幅段用レーザ300との間には、ビームエキスパンダ20と、高反射ミラー21、22と、モニタモジュール19とが設けられる。
高反射ミラー22で反射したレーザ光は、図3(b)に示すように高反射ミラー23、24で反射して、フロントミラー37側から増幅段用レーザ300のフロントミラー37とリアミラー36で構成される共振器内に注入される。増幅段用レーザ300は、前述したように二対の電極30aと30bおよび30cと30dを有し、これを交互に放電させることにより高繰返し動作を実現している。
増幅段用レーザ300に注入されたレーザ光は、フロントミラー37とリアミラー36で構成される共振器内で増幅され出射する。増幅段用レーザ300の出射側にはモニタモジュール39が設けられ、出力レーザ光がモニタされる。
このスリット50により、フロントミラー側の放電によるレーザ光も、大きな広がり成分がカットされる。よって、リアミラー側の放電によるレーザ光の放電方向のビームダイバージェンスとフロントミラー側の放電によるレーザ光の放電方向のビームダイバージェンスが同等になる。
なお、図3では、フロントミラー37側から注入するため、高反射ミラー23、24が追加されている。
この場合、レーザ光は1passでは出力されず、2pass以上で出力される。このため、増幅段用レーザ300で増幅された光は、フロントミラー37から出力される前に必ず電極対の間を通る。このため、電極対で大きな広がり成分はカットされて、ビームダイバージェンス(放電方向)の差が小さくなる。しかし、フロントミラー側の放電によるレーザ光は2Pass目の増幅後、そのまま出力されるので、若干大きくなる。このため、図3に示すダブルチャンバシステムのレーザ装置においても本発明は効果がある。
第2の本施形態に係るレーザシステムの構成図を図4に示す。第1の実施形態と違う構成と機能についてのみ説明する。
第2の実施形態ではリアミラー側の電極対電極30a、30bとリアミラー36の間にも放電方向のスリット51を配置した。この場合、レーザ光のビームダイバージェンス(放電方向)は、フロントミラー37側の放電方向のスリット50が決める。よって、フロントミラー37側の放電方向のスリット50のサイズ(長さ)を、リアミラー側の放電方向のスリット51のサイズ(長さ)より1mm小さくした。
高電圧パルス発生器33と図示しない充電器とで構成された電源によって高電圧パルスが印加されると、電極30a、30b間で放電が生じ、ArFエキシマが形成される。
そして、リアミラー36とフロントミラー37で構成される共振器で共振し、発振段用レーザ100から注入されるレーザ光が増幅される。
この時、放電方向のスリット50で大きな広がり成分がカットされたレーザ光がフロントミラー37から出力される。次に電極30c、30dに、高電圧パルス発生器34と図示しない充電器とで構成された電源によって高電圧パルスが印加されると、電極30c、30d間で放電が生じ、ArFエキシマが形成される。
そして、リアミラー36とフロントミラー37で構成される共振器で共振し、発振段用レーザ100から注入されるレーザ光が増幅される。
この時、放電方向のスリット50で大きな広がり成分がカットされたレーザ光がフロントミラー37から出力される。これらの二対の電極30aと30b、30cと30dでの放電を交互に繰り返す。
よって、リアミラー側の放電によるレーザ光のビームダイバージェンス(放電方向)とフロントミラー側の放電によるレーザ光のビームダイバージェンス(放電方向)が同等になる。
以上、MOPO方式のレーザ装置の構成について説明したが、第1の実施形態と同様にMOPA方式のレーザ装置にも適用可能である。また、増幅段レーザ300のフロントミラー側から発振段レーザ100のレーザ光を注入しても良い。
第3の本実施形態に係るレーザシステムの構成図を図5に示す。第1の実施形態と違う構成と機能についてのみ説明する。
第3の実施形態ではリアミラー側の電極対電極30a、30bとフロントミラー側の電極対電極30a、30bの間にも放電方向のスリット52を配置した。この場合、レーザ光の放電方向のビームダイバージェンスは、フロントミラー37側の放電方向のスリット50が決める。よって、第2の実施形態と同様、フロントミラー27側の放電方向のスリット50のサイズ(長さ)を、放電方向のスリット52のサイズ(長さ)より1mm小さくした。
高電圧パルス発生器33と図示しない充電器とで構成された電源によって高電圧パルスが印加されると、電極30a、30b間で放電が生じ、ArFエキシマが形成される。
そして、リアミラー36とフロントミラー37で構成される共振器で共振し、発振段用レーザ100から注入されるレーザ光が増幅される。
この時、放電方向のスリット50で大きな広がり成分がカットされたレーザ光がフロントミラー37から出力される。次に電極30c、30dに、高電圧パルス発生器34と図示しない充電器とで構成された電源によって高電圧パルスが印加されると、電極30c、30d間で放電が生じ、ArFエキシマが形成される。そして、リアミラー36とフロントミラー37で構成される共振器で共振し、発振段用レーザから注入されるレーザ光が増幅される。
この時、放電方向のスリット50で大きな広がり成分がカットされたレーザ光がフロントミラーから出力される。これらの二対の電極30aと30b、30cと30dでの放電を交互に繰り返す。
以上、MOPO方式のレーザ装置の構成について説明したが、第1の実施形態同様にMOPA方式のレーザ装置にも適用可能である。また、増幅段レーザ300のフロントミラー側から発振段レーザ100のレーザを注入しても良い。
第4の本実施形態に係るレーザシステムの構成図を図6に示す。第1の実施形態と違う構成と機能についてのみ説明する。
第4の実施形態ではリアミラー36側の電極対電極30a、30bとリアミラー36の間と、リアミラー36側の電極対電極30a、30bとフロントミラー37側の電極対電極30a、30bの間にも放電方向のレーザ光の広がりをカットするスリット51,52を配置した。
この場合、レーザ光の放電方向のビームダイバージェンスは、フロントミラー37側の放電方向のスリット50が決める。よって、フロントミラー37側の放電方向のスリット50のサイズ(長さ)を、スリット51、52の放電方向のサイズ(長さ)より1mm小さくした。なお、放電方向のスリット51と52の長さは同じとした。
高電圧パルス発生器33と図示しない充電器とで構成された電源によって高電圧パルスが印加されると、電極30a、30b間で放電が生じ、ArFエキシマが形成される。そして、リアミラー36とフロントミラー37で構成される共振器で共振し、発振段用レーザ100から注入されるレーザ光が増幅される。
この時、放電方向のスリット50で大きな広がり成分がカットされたレーザ光がフロントミラー37から出力される。
次に電極30c、30dに、高電圧パルス発生器34と図示しない充電器とで構成された電源によって高電圧パルスが印加されると、電極30c、30d間で放電が生じ、ArFエキシマが形成される。そして、リアミラー36とフロントミラー37で構成される共振器で共振し、発振段用レーザ100から注入されるレーザ光が増幅される。
この時、放電方向のスリット50で大きな広がり成分がカットされたレーザ光がフロントミラーから出力される。これらの二対の電極30aと30b、30cと30dでの放電を交互に繰り返す。
よって、リアミラー側の放電によるレーザ光のビームダイバージェンス(放電方向)とフロントミラー側の放電によるレーザ光のビームダイバージェンス(放電方向)が同等になる。
以上、MOPO方式のレーザ装置の構成について説明したが、第1の実施形態と同様にMOPA方式のレーザ装置にも適用可能である。また、増幅段レーザ300のフロントミラー側から発振段レーザ100のレーザを注入しても良い。
10a,10b 電極
12 発振段用高電圧パルス発生器
16 狭帯域化モジュール(LNM)
17 フロントミラー
19,39 モニタモジュール
100 発振段用レーザ
20 ビームエキスパンダ
21,22 高反射ミラー
23,24 高反射ミラー
30 増幅段用チャンバ
30a〜30d 電極
33,34 増幅段用高電圧パルス発生器
36 リアミラー
37 フロントミラー
300 増幅段用レーザ(MOPO方式)
301 増幅段用レーザ(MOPA方式)
Claims (4)
- レーザガスが封入されたレーザチャンバと、該レーザチャンバ内部にレーザ光の光路に沿って配列し、それぞれ所定間隔離間して対向する一対の電極よりなる複数の電極対と、それぞれの前記電極対を放電させるための電源回路と、前記レーザチャンバを挟む一対の共振器ミラーとを備え、
前記電源回路から前記複数の電極対へパルス状の電圧を順次印加し、前記複数の電極対間に所定の時間隔で順次放電を発生させる高繰返し高出力パルスガスレーザ装置であって、
前記レーザチャンバの光出射側であって前記レーザチャンバと一方の前記共振器ミラーとの間に配置された第1スリットと、
前記複数の電極対間の少なくとも1つに配置された第2スリットと、
を備え、
前記第1スリットの放電方向のサイズは、前記レーザチャンバ内に配置された前記複数の電極対のうち前記光出射側に最も近い電極対以外の電極対で放電が生じたことにより出力されるレーザ光のビームサイズと同じかそれよりも小さく、かつ、前記第2スリットの前記放電方向のサイズよりも小さいことを特徴とする高繰返しパルスガスレーザ装置。 - 前記レーザチャンバの光入射端側に配置された第3スリットをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の高繰返しパルスガスレーザ装置。
- 前記第3スリットの放電方向のサイズは、前記第1スリットの前記放電方向のサイズよりも大きいことを特徴とする請求項2に記載の高繰返しパルスガスレーザ装置。
- 前記レーザチャンバへ入射するレーザ光を生成する発振段レーザをさらに備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の高繰返しパルスガスレーザ装置。
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JP2997606B2 (ja) * | 1992-11-13 | 2000-01-11 | 株式会社小松製作所 | 狭帯域化エキシマレーザー装置 |
JPH07162064A (ja) * | 1993-12-03 | 1995-06-23 | Amada Co Ltd | ガスレーザ発振器 |
US7006547B2 (en) * | 2004-03-31 | 2006-02-28 | Cymer, Inc. | Very high repetition rate narrow band gas discharge laser system |
JP2006203008A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Komatsu Ltd | 2ステージレーザシステム |
JP5179736B2 (ja) * | 2006-09-21 | 2013-04-10 | 株式会社小松製作所 | 露光装置用レーザ装置 |
JP4818871B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2011-11-16 | 株式会社小松製作所 | レーザ装置 |
JP4804313B2 (ja) * | 2006-11-17 | 2011-11-02 | 株式会社小松製作所 | 露光装置用狭帯域レーザ装置 |
JP4912125B2 (ja) * | 2006-11-29 | 2012-04-11 | 株式会社小松製作所 | 露光装置用狭帯域レーザ装置 |
JP5243716B2 (ja) * | 2006-12-01 | 2013-07-24 | 株式会社小松製作所 | 露光装置用狭帯域レーザ装置 |
JP2008171852A (ja) * | 2007-01-09 | 2008-07-24 | Nikon Corp | ガス放電型レーザ装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
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