JPS6386710A - 記録再生型光デイスク担体用樹脂組成物 - Google Patents

記録再生型光デイスク担体用樹脂組成物

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JPS6386710A
JPS6386710A JP61232267A JP23226786A JPS6386710A JP S6386710 A JPS6386710 A JP S6386710A JP 61232267 A JP61232267 A JP 61232267A JP 23226786 A JP23226786 A JP 23226786A JP S6386710 A JPS6386710 A JP S6386710A
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JP
Japan
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meth
acrylate
resin composition
carrier
resin
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Pending
Application number
JP61232267A
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English (en)
Inventor
Keichu Morikawa
森川 敬忠
Hiroyoshi Tsuchiya
裕義 土屋
Shigeru Katayama
茂 片山
Yoshihiro Hieda
嘉弘 稗田
Mitsuo Yoshihara
吉原 三男
Arata Kitamura
新 北村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は映像信号、音響信号などの信号をレーザー光
により記録し、その記録した信号を再びレーザー光によ
り再生する記録再生型光ディスク(以下、単に光ディス
クという)の担体形成用の樹脂組成物に関する。
〔従来の技術〕
この種の光ディスクは、その表面に情報記録部としての
案内溝を構成させるための所定形状の凹凸を有する担体
と、この担体の上記凹凸面に形成されたレーザー光によ
り光学的状態が変わる媒質薄膜からなる記録薄膜層とか
ら構成されてなるものである。
従来、このような光ディスクの担体としては、その表面
に凹凸加工を施したガラス板か、あるいは射出成形によ
ってその表面に所定の凹凸形状を付与したポリカーボー
ネート樹脂板やポリメチルメタクリレート樹脂板などを
用いているのが普通である。また、最近では、ポリメチ
ルメタクリレート樹脂などからなる裏打ち基板にその表
面を凹凸形状とした紫外線硬化樹脂層を設けてなる二重
構造型の担体も提案されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかるに、上記従来の光デイスク用の担体には以下の如
き問題点があった。まず、ガラス板では、割れやすいた
めに取扱性に問題があり、しかも精密加工が困難で、ま
たコスト高となりやすいことから、汎用性に欠け、業務
用の限られた用途にしか利用できなかった。一方、ポリ
カーボーネート樹脂板やポリメチルメタクリレート樹脂
板では、上記ガラス板におけるような問題がなく、特に
成形が容易で安価であるという利点を有しているが、反
面つぎのような問題点があった。
すなわち、ポリカーボーネート樹脂板は、樹脂特有の分
子構造に由来して光弾性係数が大きく、かつ成形時の熱
履歴が板面上の各部位で相違することなどにより、複屈
折率が太き(なるという問題があった。また、ポリメチ
ルメタクリレート樹脂板は、吸湿性が高くしかもガラス
転移点が低いために湿度や温度変化による変形1寸法変
化が大きく、この上に設ける記録薄膜層に損傷を与えや
すいという問題があった。このため、上記いずれの樹脂
板を用いたときでも、光ディスクとしての信頬性を満足
させることができかった。
また、前記した二重構造型の担体にあっては、予め裏打
ち基板としてのポリメチルメタクリレート樹脂板を注型
などの方法により作製し、これと所定形状の凹凸を設け
た原盤面との間に紫外線硬化型樹脂を注入して紫外線の
照射により硬化させることにより、上記裏打ち基板とそ
の表面に上記凹凸形状が転写された硬化樹脂層との一体
化物を得るものであるため、担体の作製作業に難点があ
るうえ、裏打ち基板の存在によって光デイスク用担体と
して要求される光学的特性や機械的特性が低下したり、
安定した上記特性を得にくいという問題点があった。
したがって、この発明は、上記従来の問題点を悉く解消
すること、特に前記ポリカーボーネート樹脂板やポリメ
チルメタクリレート樹脂板と同様の成形性やコスト上の
利点を備えているとともに、複屈折率が小さくてかつガ
ラス転移点が高(、しかも吸水率の小さい長期信軌性に
すぐれる光デイスク用担体を前記の如き裏打ち基板を用
いることなく単層構造にして成形容易に得ることができ
るような上記担体形成用の樹脂組成物を提供することを
目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討
した結果、光ディスクにおける担体形成用の樹脂組成物
として、紫外線照射ないし加熱によって硬化する二種の
(メタ)アクリレートを組み合わせた特定の硬化性樹脂
組成物を用いることにより、前記従来の問題点を悉く解
消できることを知り、この発明を完成するに至った。
すなわち、この発明は、所定形状の凹凸を設けた原盤面
に注入し紫外線照射ないし加熱により硬化させてその表
面に上記原盤面の凹凸形状が転写された樹脂硬化物から
なるディスク状の担体とし、この担体の凹凸形状転写面
にレーザー光により光学的状態が変わる媒質薄膜が設け
られて光ディスクとされる上記担体形成用の樹脂組成物
において、その硬化性成分として、エポキシ(メタ)ア
クリレートおよびつぎの式; 〔式中、Y+、Yzは(メタ)アクリロイル基である〕 で示される脂環族ジ(メタ)了クリレートを含むことを
特徴とする光デイスク担体用樹脂組成物に係るものであ
る。
このように、この発明の樹脂組成物は、これを所定形状
の凹凸を設けた原盤面に注入し紫外線照射ないし加熱に
より硬化させてその表面に上記原盤面の凹凸形状が転写
された樹脂硬化物からなるディスク状の担体とするもの
であるから、この樹脂組成物によれば裏打ち基板を必要
としない単層構造の光デイスク用担体が得られ、その際
の成形が容易でかつ安定した光学的特性や機械的特性が
得られる。しかも、この担体は、本質的に単層構造の樹
脂硬化物からなるため、安価でまた取扱性および軽量性
にすぐれるという前記従来の樹脂板を用いたものと同様
の利点を備えている。
また、このような担体の形成に用いられるこの発明の樹
脂組成物は、その硬化性成分として、エポキシ(メタ)
アクリレートと前記式にて表される特定の脂環族ジ(メ
タ)アクリレートとを含んでいることにより、前記成形
段階における原盤面の凹凸形状の転写性にすぐれており
、また曲げ弾性率や表面硬度などの機械的特性にもすぐ
れ、しかもそり(反り)が全くみられないという光デイ
スク用担体として要求される一般的特性をすべて満足さ
せることができる。
そのうえ、上記特定の硬化性成分を用いたことにより、
その樹脂硬化物は複屈折率が非常に小さく、またガラス
転移点が高くてかつ吸水率の低いものとなり、このため
に前記従来のポリカーボーネート樹脂板やポリメチルメ
タクリレート樹脂板にみられた如き欠点が全くない長期
信頼性にすぐれる光デイスク用担体を提供できるという
卓越した効果が得られるものである。
なお、この明細書において、(メタ)アクリロイル基と
は、次式; %式% (Rは水素またはメチル基である) で表されるアクリロイル基および/またはメタクリロイ
ル基を、(メタ)アクリレートとはアクリレートおよび
/またはメタクリレートを、(メタ)アクリル酸とはア
クリル酸および/またはメタクリル酸を、それぞれ意味
するものである。
〔発明の構成・作用〕
この発明において使用するエポキシ(メタ)アクリレー
トは、エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸または分子内
にカルボキシル基を有する(メタ)アクリレートを付加
反応させて得られる、分子内に2個以上、通常5個まで
の(メタ)アクリロイル基を有するものであり、ウレタ
ン(メタ)アクリレートなどの他の(メタ)アクリレー
ト類に比し、樹脂硬化物の曲げ弾性率や表面硬度などの
機械的特性、ガラス転移点および吸水率などの特性面に
おいて特に好結果を与えるものとして選ばれたものであ
る。
このようなエポキシ(メタ)アクリレートを得るために
使用するエポキシ樹脂には、ビスフェノール型、ノボラ
ック型、脂環族型、トリグリシジルイソシアヌレート型
などの各種のエポキシ樹脂が包含されるが、このうち特
にビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるのが好適であ
る。市販品の例としては、油化シェルエポキシ社製の商
品名エピコート828.834.1001.1002.
1004.1009などが挙げられる。なお、これらエ
ポキシ樹脂のエポキシ当量としては、一般に150〜3
,500程度であるのがよい。
このエポキシ樹脂に付加反応させる一成分である分子内
にカルボキシル基を有する(メタ)アクリレートとして
は、その分子構造は特に限定されないが、分子量として
は通常500以下であるのがよい、好適な市販品の例と
して、東亜合成化学工業社製の商品名アロニツクスM−
5400、M−5500、新中村化学工業社製の商品名
NKエステルACB−100,ACB−200などを挙
げることができる。
この発明において使用する脂環族ジ(メタ)アクリレー
トは、前記の式にて示されるトリシクロ環構造を有し、
その分子両末端に2個の(メタ)アクリロイル基を有す
るものであり、エポキシ(メタ)アクリレートと併用さ
れることによって樹脂硬化物の複屈折率を小さくし、さ
らに樹脂硬化物からなる成形板のそりを小さくする働き
を有している。また、この脂環族ジ(メタ)アクリレー
トは、常温で低粘度液状(6〜100センチポイズ)で
あるため、通常高粘度であるエポキシ(メタ)アクリレ
ートの反応性希釈剤としての役割を果たし、光デイスク
用担体を成形する際の作業性や、さらに原盤面の凹凸形
状の転写性に良好な結果を与えるものである。
このような脂環族ジ(メタ)アクリレートの中でも、特
にトリシクロ〔5・2・1・O!、&)デカン−3,8
(または3,9または4.8)−ジイルジメチレンジア
クリレートが好ましく使用されるものである。
この発明の樹脂組成物は、硬化性成分として、上記のエ
ポキシ(メタ)アクリレートと脂環族ジ(メタ)アクリ
レートとを組み合わせ使用することを特徴としているが
、これら両成分の使用割合としては、両成分の合計量中
、エポキシ(メタ)アクリレートが10〜70重量%、
好適には20〜60重量%、脂環族ジ(メタ)アクリレ
ートが90〜30重量%、好適には80〜40重量%と
なるようにするのが好ましい。これら両成分を上記範囲
内で用いることにより、前記硬化物特性や凹凸形状の転
写性の面で特に望ましい結果が得られるものである。
なお、この発明で用いる硬化性成分としては、上記の両
成分を必須成分として用いるほか、硬化物特性の微調整
や成形作業性の調整などを図るために、必要に応じてさ
らに他の(メタ)アクリレート化合物、たとえばトリメ
チロールプロパントリ (メタ)アクリレートや含窒素
(メタ)アクリレートなどの公知の紫外線硬化型樹脂な
どに用いられている各種の化合物を、この発明の効果を
損なわない範囲内で使用できるものである。
この発明の樹脂組成物においては、光デイスク用担体を
成形するときの硬化手段に応じて適宜の重合開始剤が用
いられる。すなわち、紫外線照射により硬化させるとき
は光重合開始剤を、加熱により硬化させるときは熱重合
開始剤を、紫外線照射と加熱との両方で硬化させるとき
は上記の再重合開始剤を、それぞれ使用する。
光重合開始剤としては、たとえばベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエー
テル、2−メチルベンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラ
ーズケトン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベ
ンジルエチルケタール、アントラキノン、メチルアント
ラキノン、2・2−ジェトキシアセトフェノン、2−メ
チルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン
、2−クロロチオキサントン、アントラセン、1・1−
ジクロロアセトフェノン、メチルオルソベンゾイルベン
ゾエート、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フエニル
プロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトンなど、またこれらとアミン類などの少量の
増感助剤と併用したものなどを挙げることができる。
これらの光重合開始剤の中でも、特に2−ヒトtff−
t−シー2−メチル−1−フエニルプロパン−1−オン
および1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの
中から選ばれた少なくとも一種を用いると、樹脂硬化物
からなる光デイスク用担体の厚みを厚くする場合でも、
紫外線照射により良好に硬化させることができるため望
ましい。
また、熱重合開始剤としては、たとえばメチルエチルケ
トンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキ
サイドなどのケトンパーオキサイド類、t−ブチルパー
オクトエート、t−ブチルパー ヘンシェードなどのア
ルキルパーエステル類、クメンハイドロパーオキサイド
、t−プチルハイドロパーオキサイドなどのハイドロパ
ーオキサイド類、ジクミルパーオキサイド、ジー三級ブ
チルパーオキサイドなどのジアルキルパーオキサイド類
、過酸化ベンゾイルなどのジアシルパーオキサイド類、
およびこれらと2−エチルヘキサン酸やナフテン酸のコ
バルt−−n塩の如き金属促進剤との組み合わせなどか
らなる過酸化物系重合開始剤が挙げられ、その他アゾ化
合物などの使用も可能である。
これら重合開始剤の使用量としては、エポキシ(メタ)
アクリレートおよび前記式にて表される脂環族ジ(メタ
)アクリレートを必須成分とした硬化性成分100重量
部に対して通常0.1〜5重量部程度であるのがよい、
過少では硬化性が悪くなり、また所定量を超えて用いて
もそれ以上の硬化性の向上は望めず、むしろ硬化性に悪
影響を及ぼすおそれがあるため、いずれも好ましくない
この発明の樹脂組成物は、以上の硬化性成分と重合開始
剤とを含むほか、必要に応じてアクリル樹脂、ポリウレ
タン樹脂、シリコン樹脂などの変性用樹脂、有機けい素
化合物、界面活性剤(シリコン系やフッ素系など)、重
合禁止剤、紫外線吸収剤、内部離型剤などの各種添加剤
を任意成分として含ませることができる。
これら任意成分の使用量としては、前記のエポキシ(メ
タ)アクリレートと脂環族ジ(メタ)アクリレートとの
合計量100重量部に対して、上記ふたつの(メタ)ア
クリレートを除く既述した硬化性成分と上述の任意成分
との合計量が通常25重量部以下、好適には20重量部
以下となるようにするのがよい、この量が多(なりすぎ
ると、この発明の効果が滅失するため、好ましくない。
この発明の樹脂組成物を用いて光デイスク用担体を成形
するには、通常1.6,2.0μm間隔で所定形状の凹
凸を設けてなるニッケル製などの原盤面に枠状スペーサ
をR置して鋳型を構成させ、これにこの発明の樹脂組成
物を注入したのち、ガラス板などの透明板により上記ス
ペーサを介して押圧した状態で紫外線照射ないし加熱に
より硬化させればよい。
紫外線照射を行うか、加熱するかは、前記した重合開始
剤の種類に応じて決められる。紫外線照射法は、より迅
速な硬化が可能であるため、特に望ましい。また、この
紫外線照射法と加熱法とを組み合わせて、紫外線照射を
行ったのちに加熱する方法も有効である。紫外線照射の
みで硬化させる場合の条件としては、たとえば60〜1
20W/cIm程度の高圧水銀ランプを用いて1〜5分
程度照射すればよい、また、紫外線照射後加熱して硬化
させる場合の条件としては、紫外線照射の時間を上記よ
りある程度短くし、加熱温度を重合開始剤の種類によっ
ても異なるが通常80〜130℃で0.5〜2時間程度
とすればよい。
このようにして硬化させたのち、原盤面より離型すると
、その表面に原盤面の凹凸形状が良好に転写された樹脂
硬化物からなるディスク状の担体が得られる。この担体
の厚みとしては、通常0.1〜2.0n程度であるのが
よく、この厚みに応じて前記樹脂組成物の鋳型内への注
入量を設定すればよい。
このディスク状の担体における凹凸形状転写面に、レー
ザー光により光学的状態が変わる媒質薄膜を設けること
により、光ディスクが得られる。
すなわち、この光ディスクにおける上記担体に転写形成
された所定形状の凹凸は情報記録部としての案内溝を構
成し、この上に上記の媒質薄膜からなる記録薄膜層を設
けてレーザー光照射により記録再生を行うものである。
なお、レーザー光により光学的状態が変わる媒’!を薄
膜としては、従来公知のものをそのまま適用できる。た
とえば、薄膜材料としてTe−Te0□、Te−3e、
Te−Cs 5b−SeSTb−Fe。
Gd−Tb−Feなどが用いられ、これを真空蒸着法、
スパッタリング法などにより、前記凹凸形状転写面に一
般に20〜500μm程度の厚みに薄膜形成するように
すればよい。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば、従来のポリカーボー
ネー゛ト樹脂板やポリメチルメタクリレート樹脂板と同
様の成形性やコスト上の利点を備えているとともに、複
屈折率が小さくてかつガラス転移点が高く、しかも吸水
率の小さい長期信頼性にすぐれる光デイスク用担体を、
従来の如き裏打ち基板を用いることなく単層構造にして
成形容易に得ることができるような上記担体形成用の樹
脂組成物を提供することができる。
〔実施例〕
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。なお、以下において、部とあるは重量部を意味し
、また粘度は、ブルックフィールド粘度計により測定さ
れる値を意味する。
実施例1 ビスエノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社
製の商品名エピコート1004)にアクリル酸を反応さ
せて得たエポキシアクリレート30部に、脂環族ジアク
リレートとしてのトリシクロ〔5・2・1・02・6〕
デカン−3,8(または3,9または4,8)−ジイル
ジメチレンジアクリレート(上記3.8−13,9−ま
たは4゜8−の混合物;三菱油化ファイン社製の商品名
5A1002)を70部配合し、さらに含フツ素アクリ
レート(大阪有機化学工業社製の商品名ビスコート3F
)5部および1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン2部を配合し、均一に混合して、粘度9.000セ
ンチボイズ(25℃)のこの発明に係る樹脂組成物を得
た。
実施例2 ビスエノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社
製の商品名エピコート828)にアクリル酸を反応させ
て得たエポキシアクリレ−)50部に、実施例1に記載
の脂環族ジアクリレート50部、l−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン2部および内部離型剤(デュポ
ン社製の商品名ゼレツクUN)0.5部を配合し、均一
に混合して、粘度6,000センチボイズ(25℃)の
この発明に係る樹脂組成物を得た。
実施例3 フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポ
キシ社製の商品名エピコート154)にアクリル酸を反
応させて得たエポキシアクリレート40部に、実施例1
に記載の脂環族ジアクリレート60部、2−ヒドロキシ
−2−メチル−1−フエニルプロパン−1−オン2部お
よび実施例2に記載の内部離型剤0.5部を配合し、均
一に混合して、粘度5.000センチボイズ(25℃)
のこの発明に係る樹脂組成物を得た。
実施例4 実施例2で得た樹脂組成物に、さらに過酸化ベンゾイル
1部を配合して、粘度6.000センチボイズ(25℃
)のこの発明に係る樹脂組成物を得た。
比較例1 数平均分子1),000のポリオキシテトラメチレング
リコール(三洋化成社製の商品名PTMG1000)に
トリレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアク
リレートとを反応させて得たウレタンアクリレ−)40
部に、実施例1に記載の脂環族ジアクリレート60部、
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フエニルプロパン−
1−オン2部および実施例2に記載の内部離型剤0.5
部を配合し、均一に混合して、粘度2,000センチボ
イズ(25℃)の比較用の樹脂組成物を得た。
比較例2 実施例2に記載のエポキシアクリレート40部に、ジペ
ンタエリスリトールへキサアクリ−トロ0部、1−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン2部および実施例
2に記載の内部離型剤0.5部を配合し、均一に混合し
て、粘度10.000センチボイズ(25℃)の比較用
の樹脂組成物を得た。
上記の実施例1〜4および比較例1.2の各樹脂組成物
を用いて以下の方法で光デイスク用担体を作製した。
すなわち、所定形状の凹凸を設けたニッケル製原盤面に
枠状スペーサを設けて鋳型を構成させ、この鋳型内に上
記の各樹脂組成物を注入したのち、上記スペーサを介し
てガラス板で押圧した状態で、実施例1〜3および比較
例1.2の樹脂組成物では80W/amの高圧水銀ラン
プを用いて2分間紫外線照射することにより、また実施
例4の樹脂組酸物では上記同様のランプを用いて1分間
紫外線照射したのち、さらに80℃で30分間および1
00℃で1時間の加熱処理を施すことにより、硬化させ
た。硬化後、離型して、厚さ1.2mm、直径12cm
の光デイスク用担体を得た。
このようにして作製した光デイスク用担体の特性を調べ
るために、以下の如き試験を行った。結果は、後記の表
に示されるとおりであった。なお、後記の表には、参考
のために、射出成形により作製した前記同様の厚さおよ
び直径を有する従来のポリメチルメタクリレート樹脂製
の光デイスク用担体(比較例3)とポリカーボネート樹
脂製の光デイスク用担体(比較例4)の試験結果をも併
記した。
くそり〉 離型後の光デイスク用担体を50℃の熱風乾燥機中に3
時間放置し、そのときの担体のそり(n)を測定した。
く凹凸形状の転写性〉 離型後の光デイスク用担体を目視観察して、原盤面の凹
凸形状がうまく転写されているかどうかを調べ、良好な
ものを○、悪いものを×、その中間程度のものを△、と
評価した。
〈曲げ弾性率〉 JIS  K−691)に準じて測定した。
〈ロックウェル硬度〉 JIS  K−7202に準じて測定した。
くガラス転移点〉 若木製作所社製のスペクトロメータ(VES−F (H
F) −III)により動的粘弾性を測定して、tan
δビーク値をガラス転移点とした。
〈吸水率〉 JIS  K−7209に準じて測定した。
く複屈折率〉 ニコン社製の偏光顕微鏡(XTP−1))によりλ=5
46nmのレターデーションを測定し、複屈折率とした
上記表の結果から明らかなように、この発明の実施例1
〜4に係る樹脂組成物を用いて得た光デイスク用担体は
、そり、凹凸形状の転写性、曲げ弾性率、ロックウェル
硬度、ガラス転移点、吸水率および複屈折率のいずれの
特性にもすぐれており、特に従来の比較例&、4のもの
に比し複屈折率が非常に小さくてかつガラス転移点が高
(、しかも吸水率が小さいという長期信鯨性の光デイス
ク用担体として極めて適した特性を備えていることが判
る。
なお、上記の実施例1〜4では、脂環族ジ(メタ)アク
リレートとして前記式中のY、、Y、が共にアクリロイ
ル基からなるものを用いているが、Ylがアクリロイル
基で、Y!がメタクリロイル基からなるものを用いたと
きでも、またY、がメタクリロイル基で、Y2がアクリ
ロイル基からなるものを用いたときでも、さらにY、、
Y、が共にメタクリロイル基からなるものを用いたとき
でも、実施例1〜4と同様の良好な結果が得られるもの
であることはいうまでもない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)所定形状の凹凸を設けた原盤面に注入し紫外線照
    射ないし加熱により硬化させてその表面に上記原盤面の
    凹凸形状が転写された樹脂硬化物からなるディスク状の
    担体とし、この担体の凹凸形状転写面にレーザー光によ
    り光学的状態が変わる媒質薄膜が設けられて記録再生型
    光ディスクとされる上記担体形成用の樹脂組成物におい
    て、その硬化性成分として、エポキシ(メタ)アクリレ
    ートおよびつぎの式; ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Y_1、Y_2は(メタ)アクリロイル基であ
    る〕 で示される脂環族ジ(メタ)アクリレートを含むことを
    特徴とする記録再生型光ディスク担体用樹脂組成物。 (2)エポキシ(メタ)アクリレートがビスフェノール
    型エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸または分子内にカ
    ルボキシル基を有する(メタ)アクリレートを付加反応
    させてなるものである特許請求の範囲第(1)項記載の
    記録再生型光ディスク担体用樹脂組成物。 (3)重合開始剤が硬化性成分100重量部に対して0
    .5〜5重量部含まれてなる特許請求の範囲第(1)項
    または第(2)項記載の記録再生型光ディスク担体用樹
    脂組成物。(4)重合開始剤が2−ヒドロキシ−2−メ
    チル−1−フエニルプロパン−1−オンおよび1−ヒド
    ロキシシクロヘキシルフェニルケトンの中から選ばれた
    少なくとも一種の光重合開始剤である特許請求の範囲第
    (3)項記載の記録再生型光ディスク担体用樹脂組成物
    。 (5)樹脂硬化物からなるディスク状の担体の厚みが0
    .1〜2.0mmである特許請求の範囲第(1)〜(4
    )項のいずれかに記載の記録再生型光ディスク担体用樹
    脂組成物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003080755A3 (en) * 2002-03-27 2004-03-25 Dsm Ip Assets Bv Radiation-curable resin composition for adhesives

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