JPS6364982A - アルミナ磁器用メタライズ組成物 - Google Patents

アルミナ磁器用メタライズ組成物

Info

Publication number
JPS6364982A
JPS6364982A JP61209214A JP20921486A JPS6364982A JP S6364982 A JPS6364982 A JP S6364982A JP 61209214 A JP61209214 A JP 61209214A JP 20921486 A JP20921486 A JP 20921486A JP S6364982 A JPS6364982 A JP S6364982A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
parts
adhesion
alumina
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP61209214A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0317796B2 (ja
Inventor
仲山　幸人
伊藤　幸昭
安藤　汀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP61209214A priority Critical patent/JPS6364982A/ja
Priority to US07/093,289 priority patent/US4783380A/en
Publication of JPS6364982A publication Critical patent/JPS6364982A/ja
Publication of JPH0317796B2 publication Critical patent/JPH0317796B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/51—Metallising, e.g. infiltration of sintered ceramic preforms with molten metal
    • C04B41/5133—Metallising, e.g. infiltration of sintered ceramic preforms with molten metal with a composition mainly composed of one or more of the refractory metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
    • C04B41/88—Metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
    • C04B2111/00844—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 for electronic applications
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/901—Printed circuit
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12611—Oxide-containing component

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明アルミナ磁器用メタライズ組成物は、電子部品の
絶縁材料として用いられるアルミナ磁器の表面を金属化
する分野で好適に利用される。
「従来の技術」 アルミナ磁器は高周波損失が小さいため、その表面にメ
タライズインクを印刷して金属化し所望配線等を形成す
ることによｐ、ＭＩＣ基板、マイクロ波透過窓材、電子
管などの電子部品に汎用されている。而してアルミナ磁
器は当然の事ながらアルミナ含有率が高い程にアルミナ
の優れ７’ｔ４？性を具備するものであるが、対応する
メタライズ組成物において気密性及び密着性の点で良好
なものが開発されていないが故に、現在のところ例えば
タングステン１００重量部及びアルミナ８重量部よりな
るメタライズ組成物とせいぜい９２チアルミナの磁器と
の組み合わせが実用化されているに過ぎない。
「発嬰が解決しようとする問題点」 しかしながら、近年、通信周波数の高周波帯への移行、
マグネトロンの高周波化にょシ、低損失の材料が求めら
れている故に、従来よりも純度の高いアルミナ磁器の電
子部品への実用が強く要望されている。
本発明は、かかる要望に応じるべくなされたもので、ア
ルミナ含有率９６重量％以上の磁器に適用できる気密性
及び密着性の良好なメタライズ組成物を提供することを
目的とする。
「問題点を解決する九めの手段」 その手段は、タングステン１００重量部に対して、Ａ１
５Ｏｓ　２〜１２重量部、Ｔａ５ｔｔＯ，１〜０．８重
量部、Ｓｌｏｗ　０．８〜１．５重量部並びにＣａＯ及
びＭｇＯを合量で０．１〜０．５重量部添加含有させ九
ものをメタライズ組成物とするところにある。
「作用」 タングステンを主成分とするのは、これが周知のように
耐熱性に優れ、熱膨張においてもアルミナ磁器と適合す
ることによる。上記メタライズ組成物中のアルミナＡ　
１　ｓ　Ｏｓは、メタライズ層と下地アルミナ磁器層と
の親和性を確イ泉し、密着性を補う作用をするものであ
るが、２重量部に満九表いと十分に作用せず、１２重量
部を超えるとメタライズ後の工程でニッケルメッキ等を
施した場合にメタライズ面へのメッキ面の″ｌ！！着性
を阻害し、ひいてはメッキ面と外部金属端子とのろう付
は強度の低下を招来する。五酸化タンタルＴａｘｅｓは
、カルシアＣａＯ又はマグネシアＭｇＯと化合物を作９
、その化合物が下地ア重量部に滴たないか、又はＣａＯ
及びＭｇＯの合量が０．１重量部に満たないとその作用
が十分でなく、他方Ｔａｘｅｓが０．８重量部を超える
とメタライズ層と磁器層との間に多量の空孔を生成して
気密性と密着性を阻害するし、ＣａＯとＭｇＯとの含量
が０．５重量部を超えるとメタライズ層の密着性を阻害
する。ＳｉＯ鵞は、ＣａＯ、ＭｇＯとともにタングステ
ンの焼結を促進し気密性を高める作用をするが、０．８
重量部に満たないと十分に作用せず、１．５重量部を超
えるとＴａｚ　ＯｓとＣａＯ又はＭｇＯとの反応を阻害
し密着強度を低下させる。
「実施例」 平均粒径１．８μｍのタングステン粉末、同１．３μｍ
のアルミナ粉末（純度９９．９９％）、同０．５μｍの
無水硅酸（純度９９．９ｃｓ）、則０，５μｍの炭酸カ
ルシウム（試薬特級）及び同０．５μｍの炭酸マグネシ
ウム（試薬特級）を焼成後に第１表に示すメタライズ組
成と々るように配合し、合量３００ｆとし、これにブチ
ルカルピトール５０ｆ、アセトン５０？及びエチルセル
ローズ１０？を加え、純度９９．９９％、径１６ＩＩＩ
ＩＩφのアルミナ磁器原石１ｔとともに内容積１２のポ
リエチレン裏ボットミルに入れ、１９０時間混合し、ス
ラリーを得た。スラリーをアルミニウム製ボールへ移し
、攪拌しながらアセトンを揮発させ、ペーストとした。
別途、フルミナ９９．８重量％、シリカ０．１　ｉｔＳ
及びマグネシア０．１重量％の調合組成の無機粉末に少
量の有機質結合剤を添加混合してなる第二のスラリーで
、シート状に成形して二枚の方形シートを作シ、そのう
ち一枚の方形シートの表面に上記ペーストを十字形に厚
膜印刷し他の一枚の方形シートの中央に円穴を打ち抜い
た。この状態を第１図に示す。１は穴なし方形シート、
２は方形シート１０表面に印刷された厚膜ペースト、８
は穴あき方形シート、４は穴あき方形シート３に打ち抜
かれ九円穴を示す。
次に方形シート１と方形シート３とを積層圧着し、アン
モニア分解ガス雰囲気中、露点１５℃、温度１６８０℃
、保持時間２時間の条件で焼成することによって第２図
に示すように方形の積層基板５を製造した。ｙｔ層基板
５は、二枚の基板からなり、その大きさがｌｌＸｌｌＸ
５ｍｍで、一枚の基板の中央に直径５簡の円穴６を有し
、かつ二枚の基板によりて幅１　ｔｍ　ｓ厚み１０μ簡
の十字形のメタライズ面７を挟着し九構造をとっていた
。積層基板５について後述の気密性評価試験を行った。
次に方形シート１と同質の方形シートの表面に前記ペー
ストを厚膜印刷し、積層基板５を製造し九場合と同一条
件で焼成することによって表面に２ｍ四方、淳み１０μ
ｍのメタライズ面８が形成され九厚み２■の方形基板９
ｔ−襄遺し念。方形基板９について後述の密着性評価試
験を行った。
気密性評価試験 第８図は気密性評価試ｌｉＡを行っているところを示す
模式図である。１０は、ｌｌｅセンサー１１と真空ポン
プ１２が取り付けられ、開口１８を有し、開口１３を閉
じれば気密封じ可能な容器である。開口１３に積層基板
５を円穴６から露出するメタライズ面７が開口３側に向
くように設置して、開口１８ｔ−閉じた後、容器１０内
部を真空にし、ノズル１４を用いて外部から積層基板５
にＨｅガスを吹き付けた場合に、Ｈ・センサー１１で検
知せられるＨｅガスの量をもって気密性を評価し念。
密着性評価試験 第４図はメタライズ面８の方形基板９に対する密着性評
価試験を行っているところを示す模式図である。メタラ
イズ面８に厚さ２μｍの電解Ｎｉメッキを施し、メッキ
面に太さ０．６Ｗφのリード１５をハンダ付けし、リー
ド１５の他端をばね計り１６で引張り、メタライズ面８
が方形基板９より剥離したときの荷′Ｘをメタライズ面
８の面積で割った値をもって密着性を評価した。なお、
剥離は全試料ともメタライズ面８と方形基板９との間で
起こったため、密着性に対するＮｉメッキ、ハンダ等の
影響はないものと考えられる。
以上の評価結果を第１表に示す。
「効果」 本発明メタライズ組成物は、上記評価方法における気密
性及び密着性がそれぞれ１０（−／ｓｅｅ　）以下及び
１．６〔す／−〕以上となシ、アルミナ含有率９６重量
％以上の磁器の表面を良好に金属化することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図、第２図及び第８図はアルミナ磁器の表面にメタ
ライズ面を形成し、気密性を評価する工程を示す図、第
４図はアルミナ磁器に対するメタライズの密着性を評価
しているところを示す図である。 特許出願人　日本特殊陶業株式会社 代表者　鈴　木　亭　− ＋７ １図　　　　第２図 ｗ／４３図 １１４図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. タングステン１００重量部に対して、Ａｌ＿２Ｏ＿３２
    〜１２重量部、Ｔａ＿２Ｏ＿５　０．１〜０．８重量部
    、ＳｉＯ＿２　０．３〜１．５重量部並びにＣａＯ及び
    ＭｇＯを合量で０．１〜０．５重量部添加含有させてな
    るアルミナ磁器用メタライズ組成物。
JP61209214A 1986-09-05 1986-09-05 アルミナ磁器用メタライズ組成物 Granted JPS6364982A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61209214A JPS6364982A (ja) 1986-09-05 1986-09-05 アルミナ磁器用メタライズ組成物
US07/093,289 US4783380A (en) 1986-09-05 1987-09-04 Metallizing composition on alumina porcelain

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61209214A JPS6364982A (ja) 1986-09-05 1986-09-05 アルミナ磁器用メタライズ組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6364982A true JPS6364982A (ja) 1988-03-23
JPH0317796B2 JPH0317796B2 (ja) 1991-03-08

Family

ID=16569240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61209214A Granted JPS6364982A (ja) 1986-09-05 1986-09-05 アルミナ磁器用メタライズ組成物

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4783380A (ja)
JP (1) JPS6364982A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0251519U (ja) * 1988-05-17 1990-04-11
JPH02143946U (ja) * 1989-05-10 1990-12-06

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2072707B (en) * 1980-03-31 1984-01-25 Hitachi Chemical Co Ltd Electroconductive paste and process for producing electroconductive metallized ceramics using the same
JPS60130494A (ja) * 1983-12-16 1985-07-11 Kitsudo:Kk ダイボンディング用導電性ペ−スト
US4645621A (en) * 1984-12-17 1987-02-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Resistor compositions

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0251519U (ja) * 1988-05-17 1990-04-11
JPH0532094Y2 (ja) * 1988-05-17 1993-08-18
JPH02143946U (ja) * 1989-05-10 1990-12-06

Also Published As

Publication number Publication date
US4783380A (en) 1988-11-08
JPH0317796B2 (ja) 1991-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900004344B1 (ko) 마이크로 전자회로를 위한 세라믹 기판의 제조방법
JPS6341165B2 (ja)
JPS6364982A (ja) アルミナ磁器用メタライズ組成物
JPS6227037B2 (ja)
JPS60264383A (ja) 非酸化物系セラミツク配線板の製造方法
JPH06196831A (ja) ＡｌＮ基板用導電パターンの製造方法
JP2779651B2 (ja) 高純度アルミナセラミックスのメタライズ方法
JPS6028790B2 (ja) 高アルミナ質セラミックスのメタライズ法
JPH01107592A (ja) 電気回路基板
JPS63123886A (ja) メタライズ組成物
JP3628146B2 (ja) 低温焼成磁器組成物および低温焼成磁器
JP3928645B2 (ja) 絶縁ペースト及び絶縁ペーストを用いた絶縁層の形成方法
JPH0369872B2 (ja)
JPH0354181A (ja) メタライズ用組成物
JP3709062B2 (ja) 窒化アルミニウム質配線基板およびその製造方法
JP2693611B2 (ja) アルミナ磁器
JPS62132762A (ja) 磁器組成物
JPH03146487A (ja) 金属化層を有する窒化アルミニウム焼結体の製造方法
JPH01275465A (ja) 多層配線基板用フォルステライト
JPS59164687A (ja) 非酸化物系セラミツクス用メタライズ組成物
JPH03146486A (ja) アルミナ磁器
JP2836847B2 (ja) メタライズペースト
JPS63291860A (ja) 黒色ムライト質焼結体
JPH0725690A (ja) ＡｌＮ基板のメタライズ層の形成方法
JP2002037661A (ja) 低温焼成磁器組成物