JPS636078A - 半導体用薬剤の収納容器部材 - Google Patents

半導体用薬剤の収納容器部材

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JPS636078A
JPS636078A JP14941286A JP14941286A JPS636078A JP S636078 A JPS636078 A JP S636078A JP 14941286 A JP14941286 A JP 14941286A JP 14941286 A JP14941286 A JP 14941286A JP S636078 A JPS636078 A JP S636078A
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JP
Japan
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container
resist
semiconductor chemical
fluoropolymer
chemical
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Application number
JP14941286A
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English (en)
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JPH0146550B2 (ja
Inventor
Shigehiro Komai
古米 重裕
Shigemitsu Kamiya
神谷 重光
Riso Iwata
岩田 理荘
Ryozo Ono
大野 良三
Katsuhiro Fujino
藤野 勝裕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS636078A publication Critical patent/JPS636078A/ja
Publication of JPH0146550B2 publication Critical patent/JPH0146550B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
  • Sealing Material Composition (AREA)
  • Packging For Living Organisms, Food Or Medicinal Products That Are Sensitive To Environmental Conditiond (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体の製造に使用する薬剤を充填収納する
容器のシール部材に閏するものである。
従来の技術 集積回路、トランジスターなどのmll加工技術の進歩
は目ざましいものがあり、その製造に使用されるしシス
トおよびyi像液、リンス液など有機薬剤の品質管理に
対する要求は、とみに厳しくなってきている。特に製品
歩留に直接影響する微細粒子、異物の混入は禁忌であり
、そのため該液は通常精密濾過され、清浄な環境(クリ
ーンルーム内)下で清浄な容器に充填されて製品となる
。−般には、その容器としてポリエチレンなどのプラス
チック製の内蓋でシールされたガラス製のびん。
或いは、NBR,シリコーンゴムなどのゴム製のバッキ
ングでシールされた防食性の金属容器が用いられている
ところが、かかる容器での保存中に、折角精密濾過して
ピンホール・フリーにした内容物にv&纏粒子や異物が
混入し、半導体の製造に使用した際、レジスト塗布工程
においてピンホールが発生し、パターン形成時に欠損部
を生ずるという問題がある。
本発明者らはかかる問題点を解決すべく、先ず、微細粒
子や異物の混入原因を調査した。その結果、容器のシー
ル部材として使用しているプラスチック製の内蓋、或い
は、ゴム製バッキングが内容物の薬剤により犯され、該
シール部材より溶出した高沸点化合物が微細粒子や異物
の原因となっていることを究明した。
発明が解決しようとする問題点 本発明者らは、現在賞用されているシール部材のかかる
欠点を解決すべく鋭意検討した結果、容器接液部の部を
才としてフッ素含有重合体を使用することにより、かか
る問題を解決できることを見い出し、本発明を完成する
に到った。
問題点を解決するための手段 本発明の目的は、半導体用薬剤の容器保存時におけるy
&纏粒子や異物の混入を防止し、レジスト塗布工程にお
けるピンホール発生を低減することにある。
本発明のこの目的は、半導体用薬剤収納容器の接液部部
材としてフッ素含有重合体を使用することにより達成さ
れる。
本発明において使用されるフッ素含有重合体は特に限定
されず、いわゆるフッ素樹脂、フッ素ゴムであれば使用
することができろ。例示するならば、フッ化ビニリデン
と例えばヘキサフルオロプロペン、クロロトリフルオロ
エチレン、ペンタフルオロプロペン、テトラフロロエチ
レン、パーフロロアルコキシフロロエチレンなどの共重
合体が挙げられる。
本発明で使用する薬剤の収納容器としては、現在賞用さ
れているガラス製びん、防食性の金属容器の阿れでもよ
く特に限定されない。
本発明で使用する半導体用薬剤としては特に限定するも
のではないが、例示するならば、フォトレジスト、電子
線レジスト、X線レジストなどの半導体製造用に使用す
るレジスト類、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、脂環
族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、脂肪族アルコール、
多価アルコール、エステル、エーテル、ケトン、ニトロ
化合物。
アミン類、有機アルカリ水溶液などのレジスト現像液お
よびリンス液、ヘキサメチレンジシラザン。
シランカップリング剤、チタネートカップリング剤など
のレジスト定着剤などが挙げられる。
実施例 以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
実施例 ! クリーンルーム内において精密洗浄したガラス製びんに
、0.22ミクロンのフィルターで精密I工過したヘキ
サメチレンジシラザン(以下、tlMDSと略称する)
、ポリイソプレン系ネガ型フォトレジスト(商品名OM
R83(東京応化工業社製))、ノボラック系ポジ型フ
ォトレジスト(商品名OF P R−800東京応化工
業社製)を各々充填し、表−1に示す材質の内蓋でシー
ル密栓し、常温で1日1回1分間横倒しにし、1ケ月間
保存し、レジスト塗布時におけるピンホールを測定した
。結果を表−2に示す。
以下余白 表−l フッ素樹脂 A;ボリビニリデンジフロライドフッ素樹
脂 B;パーフロロアルコキシフロロカーボン ピンボール測定法 1.8MDSビンボール測定 常法により、厚さ4000Aの酸化シリコン層を有する
シリコンウェハにHMDSを回転塗布した後、ポジ型フ
ォトレジスト(商品名0FPR800東京応化工業社!
りを該シリコンウェハ上に回転塗布し、温度90℃で2
0分間ベークし、膜厚1μmのフォトレジスト皮膜を形
成した。
表面欠陥検査表@(サーフェススキャン Tencor
社iりにてピンボール数を測定した。単位面積(l c
m”)当りのとンホール数を5回測定りその平均値をも
ってピンホール数とした。
2、フォトレジストピンホール数 常法により、厚さ4oooLの酸化シリコン層を有する
シリコンウェハに回転塗布し、温度85℃で20分間プ
リベークし、膜厚1μmのフォトレジスト皮膜を形成し
た以外は、HM D Sピンホール測定の場合と全く同
様に行った。
以下余白 表−2 発明の効果 上記の本発明例と比較例に示されるように、本発明によ
れば、長期間に亙り、充填当初と変わらない状態で半導
体用薬剤を安定して保存することができるので、半導体
用薬剤の品質管理がきわめて容易となり、半導体の製造
に対し有用な発明ということができる。
特許出願人 日本七オン株式会社 同   富士通株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)接液部部材としてフッ素含有重合体を使用するこ
    とを特徴とする半導体用薬剤の収納容器部材。
JP14941286A 1986-06-27 1986-06-27 半導体用薬剤の収納容器部材 Granted JPS636078A (ja)

Priority Applications (1)

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JP14941286A JPS636078A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 半導体用薬剤の収納容器部材

Applications Claiming Priority (1)

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JP14941286A JPS636078A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 半導体用薬剤の収納容器部材

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS636078A true JPS636078A (ja) 1988-01-12
JPH0146550B2 JPH0146550B2 (ja) 1989-10-09

Family

ID=15474553

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14941286A Granted JPS636078A (ja) 1986-06-27 1986-06-27 半導体用薬剤の収納容器部材

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59175497A (ja) * 1983-03-25 1984-10-04 Microbial Chem Res Found 新規なアミノプロピルアミノブレオマイシン誘導体及びその製造法
JPS59184199A (ja) * 1983-03-31 1984-10-19 Nippon Kayaku Co Ltd 新規アミドn置換ブレオマイシン類
JPS59210100A (ja) * 1983-05-14 1984-11-28 Nippon Kayaku Co Ltd 新規アミドn置換ブレオマイシン類の製造法
JPH03107554A (ja) * 1989-09-20 1991-05-07 Mazda Motor Corp エンジンの悪臭成分排出制御装置
US5115179A (en) * 1987-10-02 1992-05-19 Hitachi, Ltd. Portable teaching apparatus
WO2000058414A1 (fr) * 1999-03-29 2000-10-05 Daikin Industries, Ltd. Composition de revetement de resine fluoree en poudre

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59175497A (ja) * 1983-03-25 1984-10-04 Microbial Chem Res Found 新規なアミノプロピルアミノブレオマイシン誘導体及びその製造法
JPH03877B2 (ja) * 1983-03-25 1991-01-09 Microbial Chem Res Found
JPS59184199A (ja) * 1983-03-31 1984-10-19 Nippon Kayaku Co Ltd 新規アミドn置換ブレオマイシン類
JPH03878B2 (ja) * 1983-03-31 1991-01-09 Nippon Kayaku Kk
JPS59210100A (ja) * 1983-05-14 1984-11-28 Nippon Kayaku Co Ltd 新規アミドn置換ブレオマイシン類の製造法
JPH03879B2 (ja) * 1983-05-14 1991-01-09 Nippon Kayaku Kk
US5115179A (en) * 1987-10-02 1992-05-19 Hitachi, Ltd. Portable teaching apparatus
JPH03107554A (ja) * 1989-09-20 1991-05-07 Mazda Motor Corp エンジンの悪臭成分排出制御装置
WO2000058414A1 (fr) * 1999-03-29 2000-10-05 Daikin Industries, Ltd. Composition de revetement de resine fluoree en poudre
US6734236B1 (en) 1999-03-29 2004-05-11 Daikin Industries, Ltd. Fluorine-containing resin powder coating composition

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JPH0146550B2 (ja) 1989-10-09

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