JPS6352460B2 - - Google Patents
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- JPS6352460B2 JPS6352460B2 JP18308683A JP18308683A JPS6352460B2 JP S6352460 B2 JPS6352460 B2 JP S6352460B2 JP 18308683 A JP18308683 A JP 18308683A JP 18308683 A JP18308683 A JP 18308683A JP S6352460 B2 JPS6352460 B2 JP S6352460B2
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- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は紫外線消去形プログラマブル・リー
ド・オンリ・メモリ装置(EPROM装置)の製造
方法に関するものである。
ド・オンリ・メモリ装置(EPROM装置)の製造
方法に関するものである。
(従来技術)
第1図は従来のサーデイツプパツケージ構造の
EPROM装置の斜視図であり、第2図は第1図の
A−A′線切断面図である。また、第3図は第2
図の部分拡大図である。
EPROM装置の斜視図であり、第2図は第1図の
A−A′線切断面図である。また、第3図は第2
図の部分拡大図である。
サーデイツプヘツダ(以下ヘツダという)1は
基材2とリード3と低融点ガラス4で構成されて
いる。サーデイツプキヤツプ(以下キヤツプとい
う)5は基材2と低融点ガラス4で構成されてい
る。前記基材2は通常アルミナ(Al2O3)で作ら
れている。ヘツダ1の素子搭載部6にメモリ素子
7と頭部8がアルミニウム蒸着されたグランド・
ダイス9とをダイボンデイングし、アルミニウム
などでの金属細線10でワイヤーボンド後、ヘツ
ダ1の上にキヤツプ5をのせて、低融点ガラス4
の融点、例えば400〜500℃に設定したシール炉の
中をベルトに乗せて低融点ガラス4を溶解させて
パツケージを封止してEPROM装置を完成した。
このような従来の組立法はシール温度が高温であ
るため、メモリ素子7の接地電極パツド12と、
素子搭載部6を経由してメモリ素子7の基板とを
電気的に接続するアルミニウム細線10は金ペー
ストが焼結された前記素子搭載部6と直接接続で
きないため、シリコンの小片からなるグランド・
ダイス9の頭部8と一担接続するといつた極めて
わずらわしい作業を伴う。さらに、サーデイツプ
パツケージはこの種の装置パツケージでは現在最
も安価なパツケージであるが、シール温度が高い
ために前述の欠点の他に金線(Au線)によるワ
イヤーボンドができず組立時間がかかること、さ
らに衝撃に弱くしばしばパツケージがかけたりす
る。また、装置の重量が重いためプリント基板へ
の搭載数が制限されるなど種々の欠点を有してい
た。
基材2とリード3と低融点ガラス4で構成されて
いる。サーデイツプキヤツプ(以下キヤツプとい
う)5は基材2と低融点ガラス4で構成されてい
る。前記基材2は通常アルミナ(Al2O3)で作ら
れている。ヘツダ1の素子搭載部6にメモリ素子
7と頭部8がアルミニウム蒸着されたグランド・
ダイス9とをダイボンデイングし、アルミニウム
などでの金属細線10でワイヤーボンド後、ヘツ
ダ1の上にキヤツプ5をのせて、低融点ガラス4
の融点、例えば400〜500℃に設定したシール炉の
中をベルトに乗せて低融点ガラス4を溶解させて
パツケージを封止してEPROM装置を完成した。
このような従来の組立法はシール温度が高温であ
るため、メモリ素子7の接地電極パツド12と、
素子搭載部6を経由してメモリ素子7の基板とを
電気的に接続するアルミニウム細線10は金ペー
ストが焼結された前記素子搭載部6と直接接続で
きないため、シリコンの小片からなるグランド・
ダイス9の頭部8と一担接続するといつた極めて
わずらわしい作業を伴う。さらに、サーデイツプ
パツケージはこの種の装置パツケージでは現在最
も安価なパツケージであるが、シール温度が高い
ために前述の欠点の他に金線(Au線)によるワ
イヤーボンドができず組立時間がかかること、さ
らに衝撃に弱くしばしばパツケージがかけたりす
る。また、装置の重量が重いためプリント基板へ
の搭載数が制限されるなど種々の欠点を有してい
た。
(発明の目的)
本発明の目的は衝撃に対して優れ、装置の重量
が軽く、しかも組立時間の短いEPROM装置の製
造方法を提供することにある。
が軽く、しかも組立時間の短いEPROM装置の製
造方法を提供することにある。
(発明の構成)
本発明はリードフレームの素子搭載部に
EPROMチツプを着設する工程と、その後前記
EPROMチツプとリードフレームの端子部とを金
属細線で接続する工程とを含むEPROM装置の製
造方法において、前記EPROMチツプを収納でき
る大きさの開口部を有し、少なくとも底部が紫外
線を透過する材料で構成された有底筐体の底部と
前記EPROMチツプが対向するように前記金属細
線を接続したリードフレームを前記開口部に載置
する工程と、その後前記有底筐体内に紫外線を透
過する樹脂を注入する工程と、その後樹脂成形型
内に前記リードフレームの端子部の一部が突出
し、かつ前記筐体の底部外側表面が内壁と密接す
るように配置し、前記樹脂成形型内の残部に絶縁
性樹脂を注入する工程とを含むことを特徴とする
EPROM装置の製造方法にある。
EPROMチツプを着設する工程と、その後前記
EPROMチツプとリードフレームの端子部とを金
属細線で接続する工程とを含むEPROM装置の製
造方法において、前記EPROMチツプを収納でき
る大きさの開口部を有し、少なくとも底部が紫外
線を透過する材料で構成された有底筐体の底部と
前記EPROMチツプが対向するように前記金属細
線を接続したリードフレームを前記開口部に載置
する工程と、その後前記有底筐体内に紫外線を透
過する樹脂を注入する工程と、その後樹脂成形型
内に前記リードフレームの端子部の一部が突出
し、かつ前記筐体の底部外側表面が内壁と密接す
るように配置し、前記樹脂成形型内の残部に絶縁
性樹脂を注入する工程とを含むことを特徴とする
EPROM装置の製造方法にある。
(実施例)
第4図は本発明の一実施例によつて得られた
EPROM装置の断面図である。このEPROM装置
20はリードフレーム21の素子搭載部21aに
搭載されたEPROMチツプ22及びこのチツプ2
2の電極と外部リード21bとを接続している金
属細線23自身、さらにリードフレームの端子部
21bとの接続部を完全に包囲する開口部を有す
る有底筐体24を有している。この筐体24は紫
外線を透過する石英、アルミナ、あるいは合成樹
脂によつて作られたものである。またこの筐体2
4の内部はやはり紫外線を透過する樹脂25が充
填され、さらに筐体24の側面及び下面すなわち
開口部はエポキシ樹脂などの絶縁性樹脂26で包
囲されている。
EPROM装置の断面図である。このEPROM装置
20はリードフレーム21の素子搭載部21aに
搭載されたEPROMチツプ22及びこのチツプ2
2の電極と外部リード21bとを接続している金
属細線23自身、さらにリードフレームの端子部
21bとの接続部を完全に包囲する開口部を有す
る有底筐体24を有している。この筐体24は紫
外線を透過する石英、アルミナ、あるいは合成樹
脂によつて作られたものである。またこの筐体2
4の内部はやはり紫外線を透過する樹脂25が充
填され、さらに筐体24の側面及び下面すなわち
開口部はエポキシ樹脂などの絶縁性樹脂26で包
囲されている。
第5図は本発明の一実施例を示す工程図であ
る。まず、第5図aに示すように配線パターン状
に加工されたリードフレーム21を用いて
EPROMチツプ22をリードフレーム21の素子
搭載部(以下アイランドと称す)21aにダイボ
ンデイングする。ダイボンドはAu−Si共晶ボン
ドまたは樹脂ペーストによつて行うとよい。その
後金線またはアルミ線などの金属細線23によつ
てワイヤーボンドを行う。次に第5図bに示すよ
うにリードフレーム21を逆さにして透過する材
料、例えば石英、アルミナで作られた有底筐体2
4上に載置する。また、この筐体24は紫外線を
透過すれば石英やアルミナに限らず樹脂製でも良
い。また形状は半導体素子面に樹脂封止面から紫
外線が透過する形状であれば四角柱または円柱の
中空形状などでもよい。しかも側面は樹脂または
金属を用いて紫外線透過用窓ガラス部だけ石英ま
たは紫外線を透過するアルミナまたは樹脂を用い
てもよい。筐体24へのセツトはEPROMチツプ
22や配線部分をいためない様に注意しなければ
ならない。そして紫外線を透過する樹脂25をリ
ードフレーム21とほぼ同一面となる様に充填す
る。充填が完了したら第5図cに示すように
EPROMチツプ22を搭載したリードフレーム2
1を樹脂成形金型(以下単に金型という)27に
セツト後、絶縁性樹脂26を金型27に圧縮注入
して樹脂よりなる包囲容器を成形し、EPROM装
置が完成する。もし、金型27と筐体24との間
にわずかなすきまができ、そこに絶縁性樹脂26
が入り込んだ場合はフラツシングで除去すればよ
い。しばしばこのような事態に遭偶するのなら、
あらかじめ筐体24の底部外側表面にアセトンあ
るいはトリクレン等で簡単に除去できる樹脂を薄
く塗布しておいてもよいが、アルミナ粉を吹き付
けるいわゆるフラツシングが好ましい。
る。まず、第5図aに示すように配線パターン状
に加工されたリードフレーム21を用いて
EPROMチツプ22をリードフレーム21の素子
搭載部(以下アイランドと称す)21aにダイボ
ンデイングする。ダイボンドはAu−Si共晶ボン
ドまたは樹脂ペーストによつて行うとよい。その
後金線またはアルミ線などの金属細線23によつ
てワイヤーボンドを行う。次に第5図bに示すよ
うにリードフレーム21を逆さにして透過する材
料、例えば石英、アルミナで作られた有底筐体2
4上に載置する。また、この筐体24は紫外線を
透過すれば石英やアルミナに限らず樹脂製でも良
い。また形状は半導体素子面に樹脂封止面から紫
外線が透過する形状であれば四角柱または円柱の
中空形状などでもよい。しかも側面は樹脂または
金属を用いて紫外線透過用窓ガラス部だけ石英ま
たは紫外線を透過するアルミナまたは樹脂を用い
てもよい。筐体24へのセツトはEPROMチツプ
22や配線部分をいためない様に注意しなければ
ならない。そして紫外線を透過する樹脂25をリ
ードフレーム21とほぼ同一面となる様に充填す
る。充填が完了したら第5図cに示すように
EPROMチツプ22を搭載したリードフレーム2
1を樹脂成形金型(以下単に金型という)27に
セツト後、絶縁性樹脂26を金型27に圧縮注入
して樹脂よりなる包囲容器を成形し、EPROM装
置が完成する。もし、金型27と筐体24との間
にわずかなすきまができ、そこに絶縁性樹脂26
が入り込んだ場合はフラツシングで除去すればよ
い。しばしばこのような事態に遭偶するのなら、
あらかじめ筐体24の底部外側表面にアセトンあ
るいはトリクレン等で簡単に除去できる樹脂を薄
く塗布しておいてもよいが、アルミナ粉を吹き付
けるいわゆるフラツシングが好ましい。
(発明の効果)
本発明はEPROM装置の包囲容器を絶縁性樹脂
の圧縮注入によつて一体成形して作るため、組立
工程が容易で装置は衝撃に強く、しかも装置自身
は軽くなるという利点がある。
の圧縮注入によつて一体成形して作るため、組立
工程が容易で装置は衝撃に強く、しかも装置自身
は軽くなるという利点がある。
第1図は従来のサーデイツプパツケージ構造の
EPROM装置の斜視図、第2図は第1図のA−
A′線切断面図、第3図は第2図の部分拡大図、
第4図は本発明の一実施例によつて得られた
EPROM装置の断面図、第5図は本発明の一実施
例の工程図である。 20……EPROM装置、21……リードフレー
ム、21a……リードフレームの素子搭載部、2
1b……リードフレームの端子部、22……
EPROMチツプ、23……金属細線、24……有
底筐体、25……紫外線を透過する樹脂、26…
…絶縁性樹脂、27……樹脂成形金型。
EPROM装置の斜視図、第2図は第1図のA−
A′線切断面図、第3図は第2図の部分拡大図、
第4図は本発明の一実施例によつて得られた
EPROM装置の断面図、第5図は本発明の一実施
例の工程図である。 20……EPROM装置、21……リードフレー
ム、21a……リードフレームの素子搭載部、2
1b……リードフレームの端子部、22……
EPROMチツプ、23……金属細線、24……有
底筐体、25……紫外線を透過する樹脂、26…
…絶縁性樹脂、27……樹脂成形金型。
Claims (1)
- 1 リードフレームの素子搭載部にEPROMチツ
プを着設する工程と、その後前記EPROMチツプ
とリードフレームの端子部とを金属細線で接続す
る工程とを含むEPROM装置の製造方法におい
て、前記EPROMチツプを収納できる大きさの開
口部を有し、少なくとも底部が紫外線を透過する
材料で構成された有底筐体の底部と前記EPROM
チツプが対向するように前記金属細線を接続した
リードフレームを前記開口部に載置する工程と、
その後前記有底筐体内に紫外線を透過する樹脂を
注入する工程と、その後樹脂成形型内に前記リー
ドフレームの端子部の一部が突出し、かつ前記筐
体の底部外側表面が内壁と密接するように配置
し、前記樹脂成形型内の残部に絶縁性樹脂を注入
する工程とを含むことを特徴とするEPROM装置
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18308683A JPS6076152A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | Eprom装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18308683A JPS6076152A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | Eprom装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6076152A JPS6076152A (ja) | 1985-04-30 |
JPS6352460B2 true JPS6352460B2 (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=16129513
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18308683A Granted JPS6076152A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | Eprom装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6076152A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5179039A (en) * | 1988-02-05 | 1993-01-12 | Citizen Watch Co., Ltd. | Method of making a resin encapsulated pin grid array with integral heatsink |
-
1983
- 1983-10-03 JP JP18308683A patent/JPS6076152A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6076152A (ja) | 1985-04-30 |
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