JPS6350128U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6350128U JPS6350128U JP14269586U JP14269586U JPS6350128U JP S6350128 U JPS6350128 U JP S6350128U JP 14269586 U JP14269586 U JP 14269586U JP 14269586 U JP14269586 U JP 14269586U JP S6350128 U JPS6350128 U JP S6350128U
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- JP
- Japan
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- dry etching
- insulators
- processing chamber
- same time
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- Pending
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- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 3
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は、本考案によるドライエツチング装置
の一実施例を示す縦断面図、第２図は、従来例と
本実施例の処理ウエハのエツチング速度の等分布
曲線図である。 １……ガス導入装置、２……対向電極、３……
チヤンバ、４……処理ウエハ、５……絶縁物、６
……試料電極、７……真空排気装置。
の一実施例を示す縦断面図、第２図は、従来例と
本実施例の処理ウエハのエツチング速度の等分布
曲線図である。 １……ガス導入装置、２……対向電極、３……
チヤンバ、４……処理ウエハ、５……絶縁物、６
……試料電極、７……真空排気装置。
Claims (1)
- 複数枚のウエハを同時に処理する平行平板型の
ドライエツチング装置の処理室内において、処理
ウエハを設置する電極の対向電極面に部分的に厚
さの異なる絶縁物を装着したことを特徴とするド
ライエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14269586U JPS6350128U (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14269586U JPS6350128U (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6350128U true JPS6350128U (ja) | 1988-04-05 |
Family
ID=31051665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14269586U Pending JPS6350128U (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6350128U (ja) |
-
1986
- 1986-09-19 JP JP14269586U patent/JPS6350128U/ja active Pending