JPS62152434U - - Google Patents

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JPS62152434U
JPS62152434U JP3911186U JP3911186U JPS62152434U JP S62152434 U JPS62152434 U JP S62152434U JP 3911186 U JP3911186 U JP 3911186U JP 3911186 U JP3911186 U JP 3911186U JP S62152434 U JPS62152434 U JP S62152434U
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JP
Japan
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cooling medium
susceptor
dry etching
medium passage
divided
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JP3911186U
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の第１の実施例を示す１枚処理
装置のサセプター平面図、第２図は本考案の第２
の実施例を示すバツチ式装置のサセプター平面図
である。 １０…第１の冷却媒体導入口、１１…第１の冷
却媒体排出口、１２…第２の冷却媒体導入口、１
３…第２の冷却媒体排出口、１４…被エツチング
試料、２０…第１の冷却媒体導入口、２１…第１
の冷却媒体排出口、２２…第２の冷却媒体導入口
、２３…第２の冷却媒体排出口、２４…ガスの排
出口、２５…被エツチング試料。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 内部に冷却媒体の通路を有する、半導体ウエハ
    のサセプタを備えたドライエツチング装置におい
    て、 前記冷却媒体の通路は、前記サセプタの中心か
    らの距離によつて複数に分割されているドライエ
    ツチング装置。
JP3911186U 1986-03-19 1986-03-19 Pending JPS62152434U (ja)

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JP3911186U JPS62152434U (ja) 1986-03-19 1986-03-19

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3911186U JPS62152434U (ja) 1986-03-19 1986-03-19

Publications (1)

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JPS62152434U true JPS62152434U (ja) 1987-09-28

Family

ID=30851981

Family Applications (1)

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JP3911186U Pending JPS62152434U (ja) 1986-03-19 1986-03-19

Country Status (1)

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JP (1) JPS62152434U (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03104887A (ja) * 1989-09-20 1991-05-01 Hitachi Ltd 真空処理装置
JP2004259829A (ja) * 2003-02-25 2004-09-16 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置
JP2007254827A (ja) * 2006-03-23 2007-10-04 Fujitsu Ltd スパッタリング装置及びスパッタリング方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03104887A (ja) * 1989-09-20 1991-05-01 Hitachi Ltd 真空処理装置
JP2004259829A (ja) * 2003-02-25 2004-09-16 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置
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