JPS6338131A - 標準粒子塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ごみ検査装置のごみ検出感度の調査および較
正に使用される標準試料の作製に関する。

〔従来の技術〕

半導体裏作上、清浄空間の重置性が益々高まってきてい
る。現在の制御水準は粒子径０．５μｍ以上の粒子が１
００個／ｆｆ　　以下程度のものが多い。粒子径が小さ
くなる程、ごみ検査装置自体の検出感度の向上とその維
持が問題になってくる。

上記ごみ検査装置の検討のためには、標準試料が必要と
なる。半導体製作上では、半導体基板の表面汚染が問題
になるのであるから、標準試料も半導体基板もしくはそ
れと同等の平滑度、ごみ付着性の平面板で作成する必要
がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、試料作成には、既知の径をもつ標準粒子を均
一に、重ならず塗布しなければならない。従来は特別の
手段はなく、標準粒子をノズルなど噴射していたが、数
個の標準粒子が重なったり、くっついたシする欠点があ
った。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の標準粒子塗布装置は半導体基板または平面板の
被塗布試料の一面を着脱自在に保持して回転を与える手
段と、前と試料の他面上方から標準粒子を噴射するノズ
ルとを備え、前記試料を回転しながら標準粒子を塗布す
るようにしたものである。

〔作用〕

半導体基板は、平滑度が極めて高いから、微細な凹凸も
なく、凹部に微粒子がたまることがない。また回転？半
導体基板に与えると、半導体基板上に噴射さｎｆｃ微粒
子は遠心力で横方向の力を与えられるためか上下に重な
り会うことが少なくなる。これによって均一に粒子が塗
布される。回転速度などを調整することによって最適の
条件全見出すことができる。

〔実施例〕

以下、図面を参照して本発明の一実施例につき説明する
。第１図に示すように、試料２をその面を臭突吸着して
試料ホルダー３上に固定しておき、モータで回転する。

１は標準粒子噴射ノズルであって、標準粒子を溶剤中に
希釈して、試料２の上方から唄射嘔せる。

試料２への噴射終了後、試料ホルダー３から試料２を離
脱させ、乾燥して、標準粒子を均一に塗布した標準試料
が完成する。試料２としては、半導体基板と同一の平滑
度に仕上がり、微粒子の附着度も同一の材質の平面板も
使用できる。

〔発明の効果〕

以上、説明したように、試料を回転しながら標準粒子？
塗布することにより、均一でしかも重なることのないよ
うに粒子が配列した標準試料を得ることができ、ごみ検
査値ムのごみ検出感度の調査および較正に有効である。

なお、標準粒子の径の大きさが異なる場合は、それに応
じて回転速度を調整して最適条件下で塗布するようにす
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の説明図である。 １・・・標準粒子噴射ノズル、 ２・・・試料、　　　　３・・・試料ホルダー、４・・
・モータ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 半導体基板または平面板の被塗布試料の一面を着脱自在
   に保持して回転を与える手段と、前記試料の他面上方か
   ら標準粒子を噴射するノズルとを備え、前記試料を回転
   しながら標準粒子を塗布することを特徴とする標準粒子
   塗布装置。