JPH0329200Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は塗装膜除去装置、特に、塗装した円板
を外周部を同心状に取去る塗装膜除去装置に関す
るものである。

〔技術環境〕

近年の磁気記録媒体や電子デバイスの製造分野
では、基板を回転させ、その表面上に塗料を塗布
し、その後基板を高速回転させて基板上に薄膜を
形成するスピレコータ技術が盛んに活用されてい
る。

例えば塗布型の磁気デイスク板の製造では、円
板状のアルミ基板を回転させ、その基板上に磁性
塗料を塗布し、高速回転させて数umの磁性膜を
得ている。

ここで、その成膜丈態において、円板外周部の
膜厚が中心部より厚くなる傾向や円板側面箇所及
びその近傍に成膜ムラが発生する。

この成膜ムラ等に依る膜厚の変化は、磁気デイ
スク板の性能低下の一原因となつていた。さらに
は、機械式のハンドで円板の外径を挾持した場合
に、その加圧力に依つて塗装膜が欠落し、磁気デ
イスク板としては不良にならしめていた。従つ
て、この成膜ムナ等を均一に除去する必要が生じ
ている。

〔従来の技術〕

従来の塗装膜除去装置は、第２図に示すような
円板の外周部２１の断面形状と概略反対形状に成
形した砥石２２を回転させ、回転している円板の
外周部に接触、加圧させて成膜ムラ等を除去して
いた。

〔考案が解決しようとする問題点〕

上述した従来の塗装膜除去装置は、成膜ムラを
機械的に除去するため、砥石２２自体の寸法に高
精度を要し、かつ砥石２２の接触する位置や圧力
を高精密に調整することが必要となり、時には基
板と砥石２２が直接接触して基板を削り取る等、
基板そのものを損傷するという欠点があつた。ま
た、削除した塗装膜粉が飛散するため、その塵粉
が内周側の塗布膜に付着して、ミクロンメータ単
位の高平面度を要する磁気デイスク板では、品質
不良の大きな要因となつているという欠点があつ
た。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案の塗装膜除去装置は、円板の軸心中央部
を真空吸着して回転させるスピンドルと、前記円
板の外周に位置し、円板の円心方向に移動するテ
ーブルと、該テーブルの下面に固定され雌ねじを
有するナツトと、前記雌ねじと噛み合い回転可能
な雄ねじを有する送りねじと、前記送りねじと継
手により連結し、回転させる制御電動機と、前記
テーブルに固定され、前記円板方向に突出したス
タンドと、該スタンドの突出先端で前記円板の面
方向に指向して固定された小径円筒状のノズル
と、該ノズルと柔軟性を有する管で接続し、前記
円板の塗装膜を溶解させる溶剤を吐出または停止
させる溶剤供給部とを含んで構成される。

〔実施例〕

次に本考案の実施例について、図面を参照して
詳細に説明する。

第１図は本考案の一実施例を示す構成説明図で
ある。

図において、１は、外表面を塗装成膜した円板
２の中心箇所を真空吸着して保持する機能を有
し、かつ制御回転するスピンドルである。３は、
円板２の外周に位置し、長尺のレール４を軌動と
して、それと滑動可能な軸受５を下面を固定した
テーブルである。６は、テーブル３の下面に固定
され、レール４と平行な軸心の雌ねじ７を有する
ナツトで、８は、外周部に雌ねじ７と噛み合い、
回転可能な雄ねじを有し、一端を回転用軸受９を
介してホルダー１０で支持された送りねじであ
る。１１は、継手１２に依り、送りねじ８の一端
と固定し、送りねじ８を回転させる制御電動機例
えば直流制御モータである。１３は、テーブル３
に固定され、円板２の方向に突出したスタンドで
ある。１４は、スタンドの先端付近に、かつ円板
の面方向に指向して固定された小径の孔を有する
管状のノズルである。１５は、円板２を被覆して
いる塗装膜に対して溶解作用を有する溶剤を貯蔵
し、かつその溶剤を供給する溶剤供給部である。
１６は、液入口１７が溶剤供給部１５と管１８に
よつて接続し、作動信号に依り管路の弁を開閉す
るバルブである。１９は、バルブ１６の液出口２
０とノズル１４とを接続する柔軟性を有する管で
ある。

次に動作を説明する。

まず、円板２の中心とスピンドル１の回転中心
とを合致させた位置で真空吸引した円板２を、ス
ピンドル１を回転させ、円板２を一定の速度で回
転する。次いで、制御電動機１１を所定時間作動
し、それに連なる送りねじ８を回転させ、ナツト
６を介してテーブル３を直線移動させる。この時
の送り量は、テーブル３の原点位置から、ノズル
１４の先端から吐出された溶剤が円板２の外周に
吹き付けられる位置までであり、制御電動機１１
の作動時間は、 作動時間＝送り量÷送りねじのピツチ長さ÷
制御電動機の単位時間当りの回転数 で規定される。その後、溶剤供給部１５の働きに
より、バルブ１６の液入口１７まで到達していた
溶剤をバルブ１６を開き、管２０、ノズル１４を
通し、ノズル１４の前方に吐出する。吐出された
溶剤は、円板２の外周部を濡らし、さらには溶剤
の溶解作用により円板２の外周塗装膜を溶解す
る。溶解された塗装膜は、円板２の遠心力によつ
て円板２の外側に飛ばされ除去される。

以上のような塗装膜の除去プロセスによつて、
円板２の外周全域に、つまり円心状の除去面が得
られる。また、円板２の外周端より、さらに中心
方向を除去したい場合は、制御電動機１１を作動
し、テーブル３を移動させれば良い。

〔考案の効果〕

本考案の塗装膜除去装置は、塗装膜の除去を機
械的な手段を用いて行なうのでなく、化学的な溶
解作用を利用して除去するので、基板に全く損傷
を与えず、しかも円板の同心状で均一かつ完全に
行なうことができるという効果がある。

さらに本考案によれば、複雑な装置を用いず、
信頼性の高い除去面が効率的に実現できるので、
磁気デイスク板の製造分野だけでなく、回転塗布
方式を用いる製造分野全般に適用でき、その効果
は大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例を示す斜視図、第２
図は従来の一例を示す側面図である。 １……スピンドル、２……円板、３……テーブ
ル、４……レール、５……軸受、６……ナツト、
８……送りねじ、１１……制御電動機、１３……
スタンド、１４……ノズル、１５……溶剤供給
部、１６……バルブ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 円板の軸心中央部を真空吸着して回転させるス
   ピンドルと、前記円板の外周に位置し、前記円板
   の円心方向に移動するテーブルと、前記テーブル
   の下面に固定され雌ねじを有するナツトと、前記
   雌ねじと噛み合い回転可能な雄ねじを有する送り
   ねじと、前記送りねじと継手に依り連結し、回転
   させる制御電動機と、前記テーブルに固定され、
   前記円板方向に突出したスタンドと、前記スタン
   ドの突出先端で前記円板の面方向に指向して固定
   された小径円筒状のノズルと、前記ノズルと柔軟
   性を有する管で接続し、前記円板の塗装膜を溶解
   させる溶剤を吐出または停止させる溶剤供給部と
   を含むことを特徴とする塗装膜除去装置。