JPS6337699B2 - - Google Patents
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- JPS6337699B2 JPS6337699B2 JP58080159A JP8015983A JPS6337699B2 JP S6337699 B2 JPS6337699 B2 JP S6337699B2 JP 58080159 A JP58080159 A JP 58080159A JP 8015983 A JP8015983 A JP 8015983A JP S6337699 B2 JPS6337699 B2 JP S6337699B2
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高分子フイルム上にSiO、SiO2、
TiO2、ZrO2、Al2O3、Ta2O5の群から選ばれた
少なくとも１種以上の酸化物層を設け、更に該高
分子層の上に酸化インジウムを主成分とする被膜
を形成した積層導電フイルムに関するものであ
る。
TiO2、ZrO2、Al2O3、Ta2O5の群から選ばれた
少なくとも１種以上の酸化物層を設け、更に該高
分子層の上に酸化インジウムを主成分とする被膜
を形成した積層導電フイルムに関するものであ
る。
透明導電体としては、以前より酸化スズ、酸化
インジウム膜をガラス基板上に形成したものが知
られており、今日では各種デイスプレイの電極や
透明な面発熱体等に広く利用されている。
インジウム膜をガラス基板上に形成したものが知
られており、今日では各種デイスプレイの電極や
透明な面発熱体等に広く利用されている。
一方、透明導電体フイルムは従来のガラス基板
を高分子フイルムに置き換えたものであり、薄く
て軽量、割れないフレキシブルである、加工性が
良い、大面積が可能等ガラス基板にない種々の特
長を持つている。特に液晶用の電極材料としては
有望である。
を高分子フイルムに置き換えたものであり、薄く
て軽量、割れないフレキシブルである、加工性が
良い、大面積が可能等ガラス基板にない種々の特
長を持つている。特に液晶用の電極材料としては
有望である。
透明導電体のフイルム化はポリエステルフイル
ムによつて始まつたが、通常２軸延伸法により作
製するため複屈折を生じ、TN（ツイスト・ネマ
テイツク）液晶表示素子の透明電極としては用い
る事が出来ない。
ムによつて始まつたが、通常２軸延伸法により作
製するため複屈折を生じ、TN（ツイスト・ネマ
テイツク）液晶表示素子の透明電極としては用い
る事が出来ない。
そのため一軸延伸ポリエステルフイルムが液晶
素子用透明電極として検討されているが、これを
用いる場合は光学異方性の軸を液晶素子に用いら
れる偏光板の軸に厳密に一致させなくてはなら
ず、作業性が非常に悪い。又、一軸延伸であるた
め、熱時の収縮率に異方性があり、光学的にも外
観的にも透明電極としての性能を損う。
素子用透明電極として検討されているが、これを
用いる場合は光学異方性の軸を液晶素子に用いら
れる偏光板の軸に厳密に一致させなくてはなら
ず、作業性が非常に悪い。又、一軸延伸であるた
め、熱時の収縮率に異方性があり、光学的にも外
観的にも透明電極としての性能を損う。
その他セルロース系のフイルムなどが検討され
ているが、耐熱性がなく液晶表示素子の加工工程
でかなり変形するため使用する事が困難である。
ているが、耐熱性がなく液晶表示素子の加工工程
でかなり変形するため使用する事が困難である。
従つて液晶表示素子用電極としては、特に限定
するものではないが透明性が良く、非晶質で、耐
熱性のあるフイルムを用いなくてはならない。そ
こで鋭意研究を行なつた結果、複屈折が位相差に
して40度以内であり、かつ光弾性常数が2.0mm／
Kg以下であり、更に200℃に於ける熱収縮率が５
％以下である高分子フイルムが最も適している事
を見出した。
するものではないが透明性が良く、非晶質で、耐
熱性のあるフイルムを用いなくてはならない。そ
こで鋭意研究を行なつた結果、複屈折が位相差に
して40度以内であり、かつ光弾性常数が2.0mm／
Kg以下であり、更に200℃に於ける熱収縮率が５
％以下である高分子フイルムが最も適している事
を見出した。
しかしながら従来のガラス基板では生じなかつ
たフイルム化に伴なう水蒸気により液晶の著しい
劣化が起こる事が判明した。
たフイルム化に伴なう水蒸気により液晶の著しい
劣化が起こる事が判明した。
そこで鋭意検討した結果、SiO、SiO2、TiO2、
ZrO2、Al2O3、Ta2O5、Nb2O3の内、少なくとも
１種以上の酸化物層をベースフイルム上に設ける
事によつて、水蒸気透過を防止し、液晶の寿命を
飛躍的に向上する事が出来る積層導電フイルムを
見出したので、以下に於いて詳細に説明する。
ZrO2、Al2O3、Ta2O5、Nb2O3の内、少なくとも
１種以上の酸化物層をベースフイルム上に設ける
事によつて、水蒸気透過を防止し、液晶の寿命を
飛躍的に向上する事が出来る積層導電フイルムを
見出したので、以下に於いて詳細に説明する。
まず第１に液晶用として積層導電フイルムを用
いる際のベースフイルムは、特に限定するもので
はないが厚さにかかわらず40度以上の位相差があ
つてはならない。通常TN型液晶表示素子は明視
野で用いるが、フイルムの複屈折が大きな場合、
地の部分が着色し、文字部分のコントラストが小
さくなるという欠点が生じる。従つてベースフイ
ルム並びに酸化物層の複屈折は全くない事が好ま
しいが、生産工程に於けるバラツキなども考慮し
た場合は複屈折の程度は、厚さにかかわらず位相
差にして40度が限界である事を見出した。尚この
測定は位相差メータにて酸化物層を設けたベース
フイルムの主軸方向の光波の速度差から生ずる位
相差を測定する事により得られる。
いる際のベースフイルムは、特に限定するもので
はないが厚さにかかわらず40度以上の位相差があ
つてはならない。通常TN型液晶表示素子は明視
野で用いるが、フイルムの複屈折が大きな場合、
地の部分が着色し、文字部分のコントラストが小
さくなるという欠点が生じる。従つてベースフイ
ルム並びに酸化物層の複屈折は全くない事が好ま
しいが、生産工程に於けるバラツキなども考慮し
た場合は複屈折の程度は、厚さにかかわらず位相
差にして40度が限界である事を見出した。尚この
測定は位相差メータにて酸化物層を設けたベース
フイルムの主軸方向の光波の速度差から生ずる位
相差を測定する事により得られる。
第２の条件として光弾性常数であるが、これは
フイルムに力を加え変形した場合に於ける複屈折
の生じ易さを表わしている常数である。
フイルムに力を加え変形した場合に於ける複屈折
の生じ易さを表わしている常数である。
一般にフイルム電極を用いた液晶セルに於いて
は、フイルム電極をセツトする場合とか、フイル
ム電極を接着する場合など、フイルム電極に張力
や圧縮応力が加わる事があるが、この際に大きな
複屈折を生じたのでは第１の条件で記した如く、
表示のコントラストが小さくなる。
は、フイルム電極をセツトする場合とか、フイル
ム電極を接着する場合など、フイルム電極に張力
や圧縮応力が加わる事があるが、この際に大きな
複屈折を生じたのでは第１の条件で記した如く、
表示のコントラストが小さくなる。
更に重要な点は、フイルム電極を用いる場合
は、液晶の曲面表示が行なわれる場合があり、こ
の時フイルムにかなりの張力及び圧縮力が掛かる
ため応力下に於いて大きな複屈折を生じる材料で
は、同様の理由により表示のコントラストを小さ
くするため好ましくない。
は、液晶の曲面表示が行なわれる場合があり、こ
の時フイルムにかなりの張力及び圧縮力が掛かる
ため応力下に於いて大きな複屈折を生じる材料で
は、同様の理由により表示のコントラストを小さ
くするため好ましくない。
従つてフイルム電極に用いるベースフイルム並
びに酸化物層は応力下に於いて、出来る限り複屈
折を生じない材質が好ましい。ここで種々の透明
プラスチツクにつき検討した結果、光弾性常数は
2.0mm／Kgが限界であり、これ以下の値が好まし
い。一般に光弾性定数の小さな材料としては、ヤ
ング率が大きく、即ち歪が生じ難く、組成的には
大きな分極率を有する分子を含まない事が好まし
い。尚、光弾性常数の測定は光弾性装置を用い、
酸化物層を設けたベースフイルムにかけた応力と
生じた光弾性縞の関係から求められる。
びに酸化物層は応力下に於いて、出来る限り複屈
折を生じない材質が好ましい。ここで種々の透明
プラスチツクにつき検討した結果、光弾性常数は
2.0mm／Kgが限界であり、これ以下の値が好まし
い。一般に光弾性定数の小さな材料としては、ヤ
ング率が大きく、即ち歪が生じ難く、組成的には
大きな分極率を有する分子を含まない事が好まし
い。尚、光弾性常数の測定は光弾性装置を用い、
酸化物層を設けたベースフイルムにかけた応力と
生じた光弾性縞の関係から求められる。
第三の条件としてベースフイルム並びに酸化物
層の熱的性質であるが、まず透明積層導電フイル
ムの作製時、金属酸化物の安定化のため100℃か
ら200℃の範囲で熱処理を行なうが、フイルムの
収縮率が大きい場合には、計属酸化膜に応力集中
が起り、シワやクラツクが生じる。また電極パタ
ーンに加工する工程に於いては、洗浄、乾燥等の
工程を数回経るが、酸化物層がついたベースフイ
ルムの熱収縮率が大きな場合は、パタン精度が損
なわれ、その後の加工に支障をきたす。その他液
晶表示体を組込んだ機器が比較的高温になる場合
があり、この様な環境では電極フイルムが収縮・
変形し、その機能を損なう恐れがある。この様な
理由から、液晶用電極に用いるフイルム並びに酸
化物層は耐熱性が必要であり、最低限度200℃に
於ける収縮率が５％以下である事が好ましい。
層の熱的性質であるが、まず透明積層導電フイル
ムの作製時、金属酸化物の安定化のため100℃か
ら200℃の範囲で熱処理を行なうが、フイルムの
収縮率が大きい場合には、計属酸化膜に応力集中
が起り、シワやクラツクが生じる。また電極パタ
ーンに加工する工程に於いては、洗浄、乾燥等の
工程を数回経るが、酸化物層がついたベースフイ
ルムの熱収縮率が大きな場合は、パタン精度が損
なわれ、その後の加工に支障をきたす。その他液
晶表示体を組込んだ機器が比較的高温になる場合
があり、この様な環境では電極フイルムが収縮・
変形し、その機能を損なう恐れがある。この様な
理由から、液晶用電極に用いるフイルム並びに酸
化物層は耐熱性が必要であり、最低限度200℃に
於ける収縮率が５％以下である事が好ましい。
第四に液晶等に用いる場合にはフイルムからの
水蒸気透過を防止しなければならない。一般的に
用いられれるシツフベース系、アゾ系、アゾキシ
系、ビフエニル系、フエニルシクロヘキシル系の
液晶いずれに於いても、如水分解を受け易いため
寿命に直接的な影響を与える。特にシツフベース
系では注意が必要である。
水蒸気透過を防止しなければならない。一般的に
用いられれるシツフベース系、アゾ系、アゾキシ
系、ビフエニル系、フエニルシクロヘキシル系の
液晶いずれに於いても、如水分解を受け易いため
寿命に直接的な影響を与える。特にシツフベース
系では注意が必要である。
従つてガラス基板にかわつてフイルム化するた
めには、どうしても水蒸気の透過を防がねば液晶
用途には用いる事が出来ない。そこで防止法とし
ては水蒸気をトラツプ出来るベースフイルムを用
いれば良いが、液晶等に用いる際の最も好ましい
条件である複屈折率が位相差にして40度以内で、
かつ光弾性常数が2.0mm／Kg以下と云う光学定数
を満足するためには無定形高分子でなければ達成
出来ない。しかしながらこれら無定形高分子フイ
ルムの水蒸気透過率は一般的に大きく、液晶の劣
化を防止する事は困難である。
めには、どうしても水蒸気の透過を防がねば液晶
用途には用いる事が出来ない。そこで防止法とし
ては水蒸気をトラツプ出来るベースフイルムを用
いれば良いが、液晶等に用いる際の最も好ましい
条件である複屈折率が位相差にして40度以内で、
かつ光弾性常数が2.0mm／Kg以下と云う光学定数
を満足するためには無定形高分子でなければ達成
出来ない。しかしながらこれら無定形高分子フイ
ルムの水蒸気透過率は一般的に大きく、液晶の劣
化を防止する事は困難である。
そこで種々の酸化物膜につき鋭意検討した結果
可視光領域に於いて、透過率が85％以上で、かつ
水蒸気透過率が0.0002ｇ／cm2・24Hr以下の酸化
物層を設ける事によつて液晶用の信頼性試験であ
る80℃、90％RH、の環境下に於いて、実用可能
な1000時間を大巾に向上する1500時間の使用に耐
える事を見出したものである。これらの酸化物層
としては、SiO、SiO2、TiO2、ZrO2、Al2O3、
Ta2O5、Nb2O3の群から選ばれた少くとも一種以
上を用いることにより、その目的を達することが
できる。
可視光領域に於いて、透過率が85％以上で、かつ
水蒸気透過率が0.0002ｇ／cm2・24Hr以下の酸化
物層を設ける事によつて液晶用の信頼性試験であ
る80℃、90％RH、の環境下に於いて、実用可能
な1000時間を大巾に向上する1500時間の使用に耐
える事を見出したものである。これらの酸化物層
としては、SiO、SiO2、TiO2、ZrO2、Al2O3、
Ta2O5、Nb2O3の群から選ばれた少くとも一種以
上を用いることにより、その目的を達することが
できる。
これらの第１層目の酸化物層の厚さは特に限定
しないが、100〜5000Åの範囲が好ましい。厚さ
が100Å未満では連続的な膜を形成しないため目
的とする水蒸気透過の防止を達成する事は困難で
ある。又5000Åを越えた厚さでは、酸化物層ヒク
ラツクが入つたりして好ましくない。
しないが、100〜5000Åの範囲が好ましい。厚さ
が100Å未満では連続的な膜を形成しないため目
的とする水蒸気透過の防止を達成する事は困難で
ある。又5000Åを越えた厚さでは、酸化物層ヒク
ラツクが入つたりして好ましくない。
以上記した様に従来のガラス基板に代えてフイ
ルムベースによる透明導電性フイルムを用いる事
により、薄く、フレキシブルである新しいタイプ
の液晶素子の作製が可能になると共に、生産面に
於いては取扱いが容易で、打抜き加工も可能であ
り、生産性を飛躍的に向上する事が出来る。更に
性能面ではフイルムからの水蒸気透過を防止した
ため、寿命の大巾な向上が計られる。
ルムベースによる透明導電性フイルムを用いる事
により、薄く、フレキシブルである新しいタイプ
の液晶素子の作製が可能になると共に、生産面に
於いては取扱いが容易で、打抜き加工も可能であ
り、生産性を飛躍的に向上する事が出来る。更に
性能面ではフイルムからの水蒸気透過を防止した
ため、寿命の大巾な向上が計られる。
以上主として液晶用の電極材料について述べた
が、高分子フイルム上に特定の金属酸化物層を設
け、更にその上に酸化インジウムを主体とする被
膜を有した積層導電フイルムは、他の用途におい
てもフイルム面からの水蒸気の拡散を防ぎ、例え
ば種々の電気特性、信頼性等の低下を防止するこ
とが出来、液晶用の電極材料同様きわめて有用な
ものである。
が、高分子フイルム上に特定の金属酸化物層を設
け、更にその上に酸化インジウムを主体とする被
膜を有した積層導電フイルムは、他の用途におい
てもフイルム面からの水蒸気の拡散を防ぎ、例え
ば種々の電気特性、信頼性等の低下を防止するこ
とが出来、液晶用の電極材料同様きわめて有用な
ものである。
以下、実施例により更に詳細に説明する。
実施例
ベースフイルムとしては、100μｍ厚のポリエ
ーテルサルフオンフイルムを用い、酸化物として
SiO2をスパツタ法で500Å厚に形成し、更にイン
ジウム酸化物膜を同様なスパツタ法により250Å
厚に設け積層導電フイルムを作成した。この際の
酸化物層を設けたベースフイルムの複屈折は20度
であり、光弾性常数は1.75mm／Kgであり、200℃
に於ける収縮率は1.0％であつた。又、酸化物層
の水蒸気透過率は0.0002ｇ／cm2・24Hrであり、
可視光領域に於ける透過率は91％であつた。
ーテルサルフオンフイルムを用い、酸化物として
SiO2をスパツタ法で500Å厚に形成し、更にイン
ジウム酸化物膜を同様なスパツタ法により250Å
厚に設け積層導電フイルムを作成した。この際の
酸化物層を設けたベースフイルムの複屈折は20度
であり、光弾性常数は1.75mm／Kgであり、200℃
に於ける収縮率は1.0％であつた。又、酸化物層
の水蒸気透過率は0.0002ｇ／cm2・24Hrであり、
可視光領域に於ける透過率は91％であつた。
又比較例として同一のベースフイルムに同様な
方法でインジウム酸化物膜を250Å厚にした積層
導電膜を作成した。尚、この際のベースフイルム
の水蒸気透過率は0.01ｇ／cm2・24Hrであつた。
方法でインジウム酸化物膜を250Å厚にした積層
導電膜を作成した。尚、この際のベースフイルム
の水蒸気透過率は0.01ｇ／cm2・24Hrであつた。
以上の２種類の積層導電フイルムを用いて液晶
表示体用のセルを作製し、80℃、90％R.H.の環
境下で信頼性試験を行なつた。この結果酸化物で
あるSiO2を設けたセルでは、実用可能な1000時
間を大巾に上回る1500時間の使用が可能であつ
た。
表示体用のセルを作製し、80℃、90％R.H.の環
境下で信頼性試験を行なつた。この結果酸化物で
あるSiO2を設けたセルでは、実用可能な1000時
間を大巾に上回る1500時間の使用が可能であつ
た。
一方、ベースフイルムのみのセルでは、約500
時間に於いて表示が出来なかつた。
時間に於いて表示が出来なかつた。
以上本実施例で示した様に水蒸気透過を防止す
る酸化物層を設ける事によつて、液晶の寿命を飛
躍的に向上出来る積層導電フイルムである事がわ
かる。
る酸化物層を設ける事によつて、液晶の寿命を飛
躍的に向上出来る積層導電フイルムである事がわ
かる。
Claims (1)
- １ 高分子フイルムの片面もしくは両面に、
SiO、SiO2、TiO2、ZrO2、Al2O3、Ta2O5、
Nb2O3の群から選ばれた少なくとも１種以上の酸
化物層を設け、更に該高分子層の少なくとも片面
上に酸化インジウムを主成分とする被膜を形成し
た積層導電フイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8015983A JPS59204545A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 積層導電フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8015983A JPS59204545A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 積層導電フイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59204545A JPS59204545A (ja) | 1984-11-19 |
| JPS6337699B2 true JPS6337699B2 (ja) | 1988-07-26 |
Family
ID=13710520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8015983A Granted JPS59204545A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 積層導電フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59204545A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60127608A (ja) * | 1983-12-12 | 1985-07-08 | 株式会社半導体エネルギ−研究所 | 透明導電膜およびその作製方法 |
| JPS61146533A (ja) * | 1984-12-20 | 1986-07-04 | ダイセル化学工業株式会社 | 透明導電性積層フイルム |
| JPS61183810A (ja) * | 1985-02-07 | 1986-08-16 | 三井東圧化学株式会社 | 透明電極 |
| JPS61190808A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-25 | 三井東圧化学株式会社 | 透明電極 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS55126057A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-29 | Toyo Metalizing | Metallevaporated film and sheet combined material for packing |
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| JPS5610450A (en) * | 1979-07-05 | 1981-02-02 | Teijin Ltd | Transparent conductive film |
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| JPS5711319A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-21 | Toyobo Co Ltd | Transparent conductive film for liquid crystal display device |
| JPS57159645A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-01 | Teijin Ltd | Conductive laminate |
-
1983
- 1983-05-10 JP JP8015983A patent/JPS59204545A/ja active Granted
Patent Citations (11)
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| JPS57159645A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-01 | Teijin Ltd | Conductive laminate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59204545A (ja) | 1984-11-19 |
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