JPS63316054A - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
- Publication number
- JPS63316054A JPS63316054A JP62152191A JP15219187A JPS63316054A JP S63316054 A JPS63316054 A JP S63316054A JP 62152191 A JP62152191 A JP 62152191A JP 15219187 A JP15219187 A JP 15219187A JP S63316054 A JPS63316054 A JP S63316054A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- scrubber
- end surface
- section
- scrubs
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title abstract description 25
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 claims description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は基板洗浄装置に関し、特に集積回路の製造に用
いられるフォトマスクの洗浄装置に関する。
いられるフォトマスクの洗浄装置に関する。
従来、スクラバーと呼ばれるフォトマスクの洗浄装置は
、第３図（ａ）、（ｂ）に示すようにフォトマスク１が
バキュームチャック２により固定され、ワイヤー３をモ
ータ８の駆動により往復運動させ。
、第３図（ａ）、（ｂ）に示すようにフォトマスク１が
バキュームチャック２により固定され、ワイヤー３をモ
ータ８の駆動により往復運動させ。
その間ノズルからは洗剤やリンス液が噴射され。
モータ７ａにより駆動軸６ａを介して洗浄回転部５ａ（
スポンジやナイロンブラシ等）で表面を擦ることにより
洗浄を行っていた。
スポンジやナイロンブラシ等）で表面を擦ることにより
洗浄を行っていた。
上述した従来のスクラバーでは洗浄回転部がフォトマス
クの表面を擦り洗浄することはできるが、最もダストの
付着しやすいフォトマスク端面の擦り洗浄ができなかっ
た。そのため、フォトマスク端面に付着したダストが、
後のフォトマスク製造プロセスにおいて、ドツト及びピ
ンホール等の欠陥を生じる可能性が大きいという欠点が
あった。
クの表面を擦り洗浄することはできるが、最もダストの
付着しやすいフォトマスク端面の擦り洗浄ができなかっ
た。そのため、フォトマスク端面に付着したダストが、
後のフォトマスク製造プロセスにおいて、ドツト及びピ
ンホール等の欠陥を生じる可能性が大きいという欠点が
あった。
本発明の目的は前記問題点を解消する基板洗浄装置を提
供することにある。
供することにある。
上述した従来の基板洗浄装置に対し、本発明は、洗浄回
転部により端面を洗浄することが可能であるという相違
点を有する。
転部により端面を洗浄することが可能であるという相違
点を有する。
本発明は基板をスクラブ洗浄する装置において、基板表
面をスクラブ洗浄するスクラバー部と、該基板の端面を
スクラブ洗浄する端面擦り部とを有することを特徴とす
る基板洗浄装置である。
面をスクラブ洗浄するスクラバー部と、該基板の端面を
スクラブ洗浄する端面擦り部とを有することを特徴とす
る基板洗浄装置である。
以下１本発明の実施例を図により説明する。
（実施例１）
第１図（ａ）、（ｂ）は本発明の第１の実施例を示す図
である。
である。
第１図において１本発明はフォトマスク１の表面をスク
ラブ洗浄するスクラバー部Ｓ工と、該フォトマスク１の
側端面をスクラブ洗浄する端面擦り部Ｓ２とを備え、ス
クラバー部Ｓ１と端面擦り部Ｓ２とを前後に配設し、ス
クラバー部Ｓ、と端面擦り部Ｓ３とに跨って、フォトマ
スク１を吸着するバキュームチャック２を往復動可能に
設置したものである。
ラブ洗浄するスクラバー部Ｓ工と、該フォトマスク１の
側端面をスクラブ洗浄する端面擦り部Ｓ２とを備え、ス
クラバー部Ｓ１と端面擦り部Ｓ２とを前後に配設し、ス
クラバー部Ｓ、と端面擦り部Ｓ３とに跨って、フォトマ
スク１を吸着するバキュームチャック２を往復動可能に
設置したものである。
スクラバー部Ｓ、はフォトマスク１の表面に接触する洗
浄回転部５ａと、駆動軸６ａとモータ７ａとからなり、
−右端面擦り部Ｓ２はフォトマスク１の側端面に接触す
る洗浄回転部５ｂと、駆動軸６ｂとモータ７ｂとからな
る。
浄回転部５ａと、駆動軸６ａとモータ７ａとからなり、
−右端面擦り部Ｓ２はフォトマスク１の側端面に接触す
る洗浄回転部５ｂと、駆動軸６ｂとモータ７ｂとからな
る。
またバキュームチャック２はワイヤー３．滑車４、ワイ
ヤー駆動モータ８により往復動され、図中右端のステー
ジ９により９０°回転されて姿勢転換される。
ヤー駆動モータ８により往復動され、図中右端のステー
ジ９により９０°回転されて姿勢転換される。
実施例において、フォトマスク１はバキュームチャック
２によりそのガラス面が吸い付けられて固定され、まず
、スクラバー部Ｓ１の真下に搬送される。スクラバー部
Ｓ１は洗浄回転部５ａをフォトマスク１の表面に接触さ
せた後、該洗浄回転部５ａを回転させてフォトマスク１
の表面をスクラブ洗浄する０次にフォトマスク１は端面
擦り部Ｓ２の真下に搬送される。端面擦り部Ｓ２は洗浄
回転部５ｂをフォトマスク１の側端面に接触させた後、
該洗浄回転部５ｂを回転させてフォトマスク１の側端面
をスクラブ洗浄する。
２によりそのガラス面が吸い付けられて固定され、まず
、スクラバー部Ｓ１の真下に搬送される。スクラバー部
Ｓ１は洗浄回転部５ａをフォトマスク１の表面に接触さ
せた後、該洗浄回転部５ａを回転させてフォトマスク１
の表面をスクラブ洗浄する０次にフォトマスク１は端面
擦り部Ｓ２の真下に搬送される。端面擦り部Ｓ２は洗浄
回転部５ｂをフォトマスク１の側端面に接触させた後、
該洗浄回転部５ｂを回転させてフォトマスク１の側端面
をスクラブ洗浄する。
ここで、洗浄回転部５ｂの回転方向はフォトマスクの端
面の溝に入り込んだダストを効率よく取り除くため、ラ
インの前後段において互いに逆方向に回転させている。
面の溝に入り込んだダストを効率よく取り除くため、ラ
インの前後段において互いに逆方向に回転させている。
そしてフォトマスク１はステージ９により９０°回転さ
せられて、再び端面擦り部Ｓ２でスクラブ洗浄され、フ
ォトマスクの全周の端面を洗浄することができ、スクラ
ブ洗浄されたフォトマスク１は再び図中左端に戻る。
せられて、再び端面擦り部Ｓ２でスクラブ洗浄され、フ
ォトマスクの全周の端面を洗浄することができ、スクラ
ブ洗浄されたフォトマスク１は再び図中左端に戻る。
（実施例２）
第２図（ａ）、（ｂ）は本発明の第２の実施例の平面図
及び正面図である。実施例１との違いは、スクラバー部
Ｓ１の洗浄回転部５ｃであり５回転方向の違う複数の洗
浄回転部５ｃから構成されている点である。
及び正面図である。実施例１との違いは、スクラバー部
Ｓ１の洗浄回転部５ｃであり５回転方向の違う複数の洗
浄回転部５ｃから構成されている点である。
この実施例では、回転方向が違う複数の洗浄回転部５ｃ
からなるため、フォトマスク１が安定し、フォトマスク
１に接触する洗浄回転部５ｃの力学的バランスの調整が
容易であるという利点がある。
からなるため、フォトマスク１が安定し、フォトマスク
１に接触する洗浄回転部５ｃの力学的バランスの調整が
容易であるという利点がある。
尚、実施例では基板としてのフォトマスクを洗浄する場
合について説明したが、フォトマスク以外のものの洗浄
にも適用できるものである。
合について説明したが、フォトマスク以外のものの洗浄
にも適用できるものである。
以上説明したように本発明は、端面擦り部を設けること
により、フォトマスクの端面に付きやすいダストを除去
できる効果がある。
により、フォトマスクの端面に付きやすいダストを除去
できる効果がある。
第１図（ａ）は本発明の第１の実施例を示す平面図、第
１図（ｂ）は同圧面図、第２図（ａ）は本発明の第２の
実施例を示す平面図、第２図（ｂ）は同正面図、第３図
（ａ）は従来のスクラバーを示す平面図、第３図（ト）
は同正面図である。 １・・・フォトマスク ２・・・バキュームチャッ
ク３・・・ワイヤー ４・・・滑車５ａ 、
５ｂ 、 ５ｃｍ洗浄回転部 ６ａ、６ｂ、６ｃｍ駆動
軸７ａ、７ｂ、７ｃ・・・モータ ８・・・ワイヤ
ー駆動モータ９・・・ステージ Ｓｌ・・・ス
クラバー部Ｓ３・・・端面擦り部
１図（ｂ）は同圧面図、第２図（ａ）は本発明の第２の
実施例を示す平面図、第２図（ｂ）は同正面図、第３図
（ａ）は従来のスクラバーを示す平面図、第３図（ト）
は同正面図である。 １・・・フォトマスク ２・・・バキュームチャッ
ク３・・・ワイヤー ４・・・滑車５ａ 、
５ｂ 、 ５ｃｍ洗浄回転部 ６ａ、６ｂ、６ｃｍ駆動
軸７ａ、７ｂ、７ｃ・・・モータ ８・・・ワイヤ
ー駆動モータ９・・・ステージ Ｓｌ・・・ス
クラバー部Ｓ３・・・端面擦り部
Claims (1)
- （１）基板をスクラブ洗浄する装置において、基板表面
をスクラブ洗浄するスクラバー部と、該基板の端面をス
クラブ洗浄する端面擦り部とを有することを特徴とする
基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62152191A JPS63316054A (ja) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62152191A JPS63316054A (ja) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | 基板洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63316054A true JPS63316054A (ja) | 1988-12-23 |
Family
ID=15535052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62152191A Pending JPS63316054A (ja) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63316054A (ja) |
-
1987
- 1987-06-18 JP JP62152191A patent/JPS63316054A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4879399B2 (ja) | ウエハを処理するための方法および装置 | |
| JP2001007069A5 (ja) | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | |
| EP0878831A3 (en) | Double side cleaning apparatus for semiconductor substrate | |
| JPH11625A (ja) | ウェーハの洗浄装置 | |
| JPH1131674A (ja) | ウェーハ洗浄装置 | |
| JP2003163196A (ja) | 半導体基板の基板洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JPH10261605A (ja) | 半導体処理装置 | |
| JPS63316054A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JPS60240129A (ja) | スクラブ洗浄装置 | |
| JP6892176B1 (ja) | ワーク洗浄装置 | |
| JP2004105848A (ja) | 基板洗浄装置とその洗浄方法 | |
| JP2000150441A (ja) | ローラブラシ洗浄装置 | |
| JPH1034090A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH09246224A (ja) | ウエハの洗浄方法 | |
| JPH10337543A (ja) | 洗浄処理装置 | |
| JPH0936076A (ja) | 洗浄装置 | |
| US20040049870A1 (en) | Substrate scrubbing apparatus having stationary brush member in contact with edge bevel of rotating substrate | |
| KR20050047147A (ko) | 웨이퍼 세정 장치 | |
| JPH11216430A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH0471232A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP3818333B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JPS62122131A (ja) | ブラシスクラブ方法 | |
| JPS63224332A (ja) | 半導体ウエハの両面洗浄装置 | |
| JPH0831780A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH069491Y2 (ja) | 半導体ウェーハ用ブラシスクラブ装置 |