JPS63308529A - 容量性圧力変換器 - Google Patents
容量性圧力変換器Info
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- JPS63308529A JPS63308529A JP63110330A JP11033088A JPS63308529A JP S63308529 A JPS63308529 A JP S63308529A JP 63110330 A JP63110330 A JP 63110330A JP 11033088 A JP11033088 A JP 11033088A JP S63308529 A JPS63308529 A JP S63308529A
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- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 48
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 37
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 35
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 16
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 26
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000007620 mathematical function Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
- G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
- G01L9/0072—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance
- G01L9/0073—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance using a semiconductive diaphragm
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、特許請求の範囲第1項の前提部に記載の容
量性圧力変換器に関する。
量性圧力変換器に関する。
[従来の技術]
従来技術の引用例には、以下のような特許公報がある。
(1) US 4589054(にuisn+a)
(2) U s 4597027 fLehto)
(3) U S 3397278 (Po1
1erantz)(4) U S 46099
66 (KuisIla)(5) U S
4599906 (Freud et al、)
< 6 ) U S 4542435 [Freu
d et al、)(7) U S 425727
4 (Shinada et al、)(8) U
S 4628403 (にuisma)[発明が
解決しようとする課題] 従来技術の構造の欠点は、コンデンサーを大量に生産す
ることが困難なことである。さらに、穏当なレベルまで
温度依存誤差を除去することが従来できなかっな。
(2) U s 4597027 fLehto)
(3) U S 3397278 (Po1
1erantz)(4) U S 46099
66 (KuisIla)(5) U S
4599906 (Freud et al、)
< 6 ) U S 4542435 [Freu
d et al、)(7) U S 425727
4 (Shinada et al、)(8) U
S 4628403 (にuisma)[発明が
解決しようとする課題] 従来技術の構造の欠点は、コンデンサーを大量に生産す
ることが困難なことである。さらに、穏当なレベルまで
温度依存誤差を除去することが従来できなかっな。
この発明の目的は、従来技術の欠点を除去し、全く新し
い、圧力変換器のためのコンデンサー構造を提供するこ
とにある。
い、圧力変換器のためのコンデンサー構造を提供するこ
とにある。
[課題を解決するための手段]
この発明では、例えば弾性体から製造された弾性絶縁層
によって、変換器のケースの2つの金属性シート半休の
間に、容量性センサー要素が取付けられ、その結果、容
量性センサー要素が弾性絶縁層の間で浮上している。
によって、変換器のケースの2つの金属性シート半休の
間に、容量性センサー要素が取付けられ、その結果、容
量性センサー要素が弾性絶縁層の間で浮上している。
換言すると、この発明に基づくコンデンサー構造は、特
許請求の範囲第1項の特徴部に記載されていることが特
徴である。
許請求の範囲第1項の特徴部に記載されていることが特
徴である。
[効果コ
この発明には、以下のような効果がある。
引用例(6)(7)における同様な物質から製造された
差圧コンデンサーより、大量生産に適し、結合性が良い
。
差圧コンデンサーより、大量生産に適し、結合性が良い
。
容量性センサーと金属ケースとの間の熱膨張係数の差に
基づく誤差の生起、及び計測圧力がかけられている金属
部品の変形に基づく誤差の生起が除去されている。例え
は、引用例(6)と比較すれば、引用例(6)には、同
じ効果を達成するために、複雑な構造が述べられている
。
基づく誤差の生起、及び計測圧力がかけられている金属
部品の変形に基づく誤差の生起が除去されている。例え
は、引用例(6)と比較すれば、引用例(6)には、同
じ効果を達成するために、複雑な構造が述べられている
。
引用例(8)から知られているように、コンデンサーの
圧力感度の効果的な依存性により、高い圧力における感
度に比べると、低い圧力において高い感度が得られる。
圧力感度の効果的な依存性により、高い圧力における感
度に比べると、低い圧力において高い感度が得られる。
この特性は、差圧センサーに利用される。これにより、
溝22の圧力P1は、溝23の圧力P2より大きくされ
なければならない。引用例(6)<7)における差圧コ
ンデンサーの対称的な構造に比べると、この発明では、
単一のセンサー要素により広い計測範囲が得られる。
溝22の圧力P1は、溝23の圧力P2より大きくされ
なければならない。引用例(6)<7)における差圧コ
ンデンサーの対称的な構造に比べると、この発明では、
単一のセンサー要素により広い計測範囲が得られる。
センサーのコンデンサーと金属ケースとの熱膨張係数の
相違に基づく熱膨張の差によって生起される、又は金属
ケースの変形によって生起される機械的応力は、弾性体
の弾性が高いため、弾性体を通してセンサーのコンデン
サーに伝達されない。
相違に基づく熱膨張の差によって生起される、又は金属
ケースの変形によって生起される機械的応力は、弾性体
の弾性が高いため、弾性体を通してセンサーのコンデン
サーに伝達されない。
センサーのコンデンサーの位置は、2つの支持面の間に
固定されているなめ、計測されるべき圧力差によって、
弾性体の層(1つ)は、その面に垂直な方向に過度に伸
ばされない。弾性体のせん断強さは、広い領域の薄い層
を用いることによって、充分な水準まで増大される。
固定されているなめ、計測されるべき圧力差によって、
弾性体の層(1つ)は、その面に垂直な方向に過度に伸
ばされない。弾性体のせん断強さは、広い領域の薄い層
を用いることによって、充分な水準まで増大される。
この発明では、絶縁物質の誘電特性の温度依存の補償が
提供されるだけでなく、弾性応力特性及び熱膨張特性に
よって生起される温度依存誤差がなくなり、隔離ダイア
フラムがセンサー要素に近接して位置され且つセンサー
要素に熱的に良く接触していれば、シリコンオイル圧力
媒体の熱膨張によって生起される温度依存誤差がなくな
る。
提供されるだけでなく、弾性応力特性及び熱膨張特性に
よって生起される温度依存誤差がなくなり、隔離ダイア
フラムがセンサー要素に近接して位置され且つセンサー
要素に熱的に良く接触していれば、シリコンオイル圧力
媒体の熱膨張によって生起される温度依存誤差がなくな
る。
「実施例の説明]
第1図及び第2図には、センサーのコンデンサー !R
36の圧力感知部分が示されている。この圧力感知部分
は、引用例(1)の第3.4図の構造に類似している。
36の圧力感知部分が示されている。この圧力感知部分
は、引用例(1)の第3.4図の構造に類似している。
コンデンサーは、等しい熱膨張係数を有するシリコン及
びホウケイ酸ガラスの厚さの異なる層からなる。第1図
において、シリコンは、ウェハ1のための物質である。
びホウケイ酸ガラスの厚さの異なる層からなる。第1図
において、シリコンは、ウェハ1のための物質である。
シリコンウェハ1は、従来の方法、例えば、引用例(1
)(2>に示された方法を用いて、ガラスウェハ4に接
着されている。同様に、シリコンウェハ2は、シリコン
から製造されており、ガラスウェハ5に接着されている
。シリコンウェハ1とガラスウェハ4とが、一つのウェ
ハm3I 1 、4を構成しており、シリコンウェハ2
とガラスウェハ5とが、他のウェハ構造を構成している
。これらのウェハ′M4造の間に、シリコンから製造さ
れたシリコン要素3が介在されている。このシリコン要
素3は、薄い中央領域6(シリコンダイアフラム)を囲
う厚い境界リムを有するように形成されている。シリコ
ン要素3は、ウェハ構造(1,4)(2,5)のガラス
ウェハ4,5の面に、その厚い境界リムによって、例え
ば、引用例(3)に示された陽極接着方法を用いて接着
されている。
)(2>に示された方法を用いて、ガラスウェハ4に接
着されている。同様に、シリコンウェハ2は、シリコン
から製造されており、ガラスウェハ5に接着されている
。シリコンウェハ1とガラスウェハ4とが、一つのウェ
ハm3I 1 、4を構成しており、シリコンウェハ2
とガラスウェハ5とが、他のウェハ構造を構成している
。これらのウェハ′M4造の間に、シリコンから製造さ
れたシリコン要素3が介在されている。このシリコン要
素3は、薄い中央領域6(シリコンダイアフラム)を囲
う厚い境界リムを有するように形成されている。シリコ
ン要素3は、ウェハ構造(1,4)(2,5)のガラス
ウェハ4,5の面に、その厚い境界リムによって、例え
ば、引用例(3)に示された陽極接着方法を用いて接着
されている。
シリコン要素3のガラスウェハ5の側に、井筒状の空洞
12が形成されている。この空洞12は、センサーのコ
ンデンサーの誘電間隙を形成している。空洞12は、溝
10,11を介して、外部圧力に連通している。薄肉に
されたシリコンダイアフラム6の他側には、井筒状の第
2の空洞7Bが形成されている。この第2の空洞7Bは
、ウェハ構造(1,4>内に形成された孔7を介して、
外部圧力に連通されている。気体の又は液体の圧力媒体
を用いて、外部圧力PIが孔7を介して第2の空洞7B
に加えられる一方、外部圧力P2が溝10.11を介し
て空洞12に加えられた場合、シリコンダイアフラム6
は、圧力差p2−p、に応じて偏向する。
12が形成されている。この空洞12は、センサーのコ
ンデンサーの誘電間隙を形成している。空洞12は、溝
10,11を介して、外部圧力に連通している。薄肉に
されたシリコンダイアフラム6の他側には、井筒状の第
2の空洞7Bが形成されている。この第2の空洞7Bは
、ウェハ構造(1,4>内に形成された孔7を介して、
外部圧力に連通されている。気体の又は液体の圧力媒体
を用いて、外部圧力PIが孔7を介して第2の空洞7B
に加えられる一方、外部圧力P2が溝10.11を介し
て空洞12に加えられた場合、シリコンダイアフラム6
は、圧力差p2−p、に応じて偏向する。
第2図に示されるように、薄い金属フィルムの領域15
.1’6.17、これらの連結された導体領域8,9、
及び接着パッド領域14は、共に、ガラスウェハ5の面
に設けられている。陽極の接着領域は、符号13によっ
て示されている。薄い金属フィルムの領域15は、シリ
コン要素3との電気接点を形成しており、シリコン物質
の導体を介してシリコンダイアフラム6に連結されてい
る。
.1’6.17、これらの連結された導体領域8,9、
及び接着パッド領域14は、共に、ガラスウェハ5の面
に設けられている。陽極の接着領域は、符号13によっ
て示されている。薄い金属フィルムの領域15は、シリ
コン要素3との電気接点を形成しており、シリコン物質
の導体を介してシリコンダイアフラム6に連結されてい
る。
金属フィルムの領域17,1.6は、各々、空洞12及
びシリコンダイアフラム6を覆うように位置されている
。そのため、金属フィルムの領域17は、シリコンダイ
アフラム6の圧力差により生起される偏向が最も大きい
所であるウェハ構造の中央に位置されている。金属フィ
ルムの領域16は、シリコンダイアフラムの圧力差によ
る偏向が非常に小さい所であるリムに位置されている。
びシリコンダイアフラム6を覆うように位置されている
。そのため、金属フィルムの領域17は、シリコンダイ
アフラム6の圧力差により生起される偏向が最も大きい
所であるウェハ構造の中央に位置されている。金属フィ
ルムの領域16は、シリコンダイアフラムの圧力差によ
る偏向が非常に小さい所であるリムに位置されている。
その結果、センサーのコンデンサー構造には、次のよう
な2つのコンデンサーが含まれる。一つは、金属フィル
ムの領域17とシリコンダイアフラム6とにより形成さ
れるコンデンサーであり、他方は、金属フィルムの領域
16とシリコンダイアフラムとにより形成されるコンデ
ンサーである。空洞12は、2つのコンデンサーのため
の誘電絶縁間隙である。金属フィルムの領域17とシリ
コンダイアフラム6とにより形成されるコンデンサーの
静電容量は、Cpで表示される一方、金属フィルムの領
域16とシリコンダイアフラムとにより形成されるコン
デンサーの静電容量は、Ctで表示される。
な2つのコンデンサーが含まれる。一つは、金属フィル
ムの領域17とシリコンダイアフラム6とにより形成さ
れるコンデンサーであり、他方は、金属フィルムの領域
16とシリコンダイアフラムとにより形成されるコンデ
ンサーである。空洞12は、2つのコンデンサーのため
の誘電絶縁間隙である。金属フィルムの領域17とシリ
コンダイアフラム6とにより形成されるコンデンサーの
静電容量は、Cpで表示される一方、金属フィルムの領
域16とシリコンダイアフラムとにより形成されるコン
デンサーの静電容量は、Ctで表示される。
静電容lCpは、圧力差に大きく依存する。なぜなら、
変化する圧力差は、シリコンダイフラム6を偏向させ、
シリコンタイアフラム6と金属フィルムの領域17との
間の僅かの距離を変動させ、その結果、静電容量を変化
させるからである。 11m1電容量C1は、圧力差に
ほとんど依存しない。なぜなら、圧力差の変動によって
、シリコンダイアフラム6と金属フィルムの領域17と
の間の僅かの距離がほとんど変化しないからである。静
電容量Cp 、ctが空洞12の絶縁媒体の静電特性に
依存することは、本質的に同じである。
変化する圧力差は、シリコンダイフラム6を偏向させ、
シリコンタイアフラム6と金属フィルムの領域17との
間の僅かの距離を変動させ、その結果、静電容量を変化
させるからである。 11m1電容量C1は、圧力差に
ほとんど依存しない。なぜなら、圧力差の変動によって
、シリコンダイアフラム6と金属フィルムの領域17と
の間の僅かの距離がほとんど変化しないからである。静
電容量Cp 、ctが空洞12の絶縁媒体の静電特性に
依存することは、本質的に同じである。
第1図及び第2図は、圧力差センサーのコンデンサーの
必須の詳細を図示するなめに、簡略化されている。この
コンデンサーのシリコン要素の異なった変形例は、例え
ば、引用例(4)の第1図乃至第6図に示されているよ
うに、可能であり、効果的なこともある。第1図及び第
2図に示された金属パターンに加えて、ガラスウェハ5
の面には、引用例(4)の第1B図に示されるようなガ
ードリングが備えられていても良い。シリコンウェハ2
は、引用例(2)(4)に述べられた方法に基づく、ガ
ラスウェハ5を貫通する供給貫通構造によって、金属の
領域に接着されていても良い。
必須の詳細を図示するなめに、簡略化されている。この
コンデンサーのシリコン要素の異なった変形例は、例え
ば、引用例(4)の第1図乃至第6図に示されているよ
うに、可能であり、効果的なこともある。第1図及び第
2図に示された金属パターンに加えて、ガラスウェハ5
の面には、引用例(4)の第1B図に示されるようなガ
ードリングが備えられていても良い。シリコンウェハ2
は、引用例(2)(4)に述べられた方法に基づく、ガ
ラスウェハ5を貫通する供給貫通構造によって、金属の
領域に接着されていても良い。
圧力差センサーのコンデンサーの寸法は、広い範囲で変
化できる。シリコンウェハ1,2及びシリコン要素3の
幅は、大略的には、2〜20nunであり、好ましくは
、5〜7nunである。シリコンウェハ1,2の厚さは
、大略的には、0.2〜2Inlであり、好ましくは、
約1mnである。シリコン要素3の厚さは、0.1〜0
.51であり、好ましくは、0.38nIIである。ガ
ラスウェハ4,5の厚さは、大略的には、0、OJ〜0
.2uであり、好ましくは、0゜05mmである。シリ
コンダイアフラム6の厚さは、0.005〜0.2mm
の範囲で変化でき、好ましくは、圧力の範囲に応じて0
゜01〜0.1+nI′N内で変化できる。シリコンタ
イアフラム6の側部の長さく即ち、ダイアフラム円の径
)は、1〜10IIlffiであり、好ましくは、2〜
41′Il′Nである。空洞12の誘電距離は、大略的
には、0.001〜0.O2nmであり、好ましくは、
0゜004〜0.008+nmである。
化できる。シリコンウェハ1,2及びシリコン要素3の
幅は、大略的には、2〜20nunであり、好ましくは
、5〜7nunである。シリコンウェハ1,2の厚さは
、大略的には、0.2〜2Inlであり、好ましくは、
約1mnである。シリコン要素3の厚さは、0.1〜0
.51であり、好ましくは、0.38nIIである。ガ
ラスウェハ4,5の厚さは、大略的には、0、OJ〜0
.2uであり、好ましくは、0゜05mmである。シリ
コンダイアフラム6の厚さは、0.005〜0.2mm
の範囲で変化でき、好ましくは、圧力の範囲に応じて0
゜01〜0.1+nI′N内で変化できる。シリコンタ
イアフラム6の側部の長さく即ち、ダイアフラム円の径
)は、1〜10IIlffiであり、好ましくは、2〜
41′Il′Nである。空洞12の誘電距離は、大略的
には、0.001〜0.O2nmであり、好ましくは、
0゜004〜0.008+nmである。
第1図及び第2図に示されるコンデンサーは、第3図に
示されるように、圧力変換器の圧力感知要素として用い
られる。コンデンサーのシリコンウェハ2は、適切な弾
性体、例えば、シリコンラバーの薄い層18を介して、
金属の基板20の上に取付けられている。基板20には
、ガラスブツシュ28により基板20から絶縁されてい
る金属リード線27を有する供給貫通手段が設けられて
いる。ガラスブツシュ28は、供給貫通手段の密封性を
確実にするために、適所で溶解されている。
示されるように、圧力変換器の圧力感知要素として用い
られる。コンデンサーのシリコンウェハ2は、適切な弾
性体、例えば、シリコンラバーの薄い層18を介して、
金属の基板20の上に取付けられている。基板20には
、ガラスブツシュ28により基板20から絶縁されてい
る金属リード線27を有する供給貫通手段が設けられて
いる。ガラスブツシュ28は、供給貫通手段の密封性を
確実にするために、適所で溶解されている。
コンデンサーの接着パッド領域14は、細い金属のワイ
ヤー26によって、金属リードm27に適切に接着され
ている。基板20は、金属のケースの大きい方の部分2
1に、その継目25の回りを溶接することによって、取
付けられている。このケースの部分21には、コンデン
サーのための空間24が備えられている。コンデンサー
のシリコンウェハ1は、薄い弾性体の層19を介して、
ケースの部分21に取付けられている。そのため、コン
デンサーは、2つの弾性体の間で浮上している。弾性体
の層の厚さは、0.05〜0.31であり、好ましくは
、O,]、nnである。
ヤー26によって、金属リードm27に適切に接着され
ている。基板20は、金属のケースの大きい方の部分2
1に、その継目25の回りを溶接することによって、取
付けられている。このケースの部分21には、コンデン
サーのための空間24が備えられている。コンデンサー
のシリコンウェハ1は、薄い弾性体の層19を介して、
ケースの部分21に取付けられている。そのため、コン
デンサーは、2つの弾性体の間で浮上している。弾性体
の層の厚さは、0.05〜0.31であり、好ましくは
、O,]、nnである。
ケースの部分21には、孔(溝)22.23が形成され
ている。この孔22.23を通して、測定圧力がコンデ
ンサーに加えられる。この孔22は、空間24に連通し
ており、孔23は、シリコンウェハ1の孔7に整列され
ている6弾性体の層1つは、2つの孔(溝)22.23
を互いに隔離している。空間24は、液体圧力a体、例
えば、シリコンオイルで充満されているため、この圧力
媒体は、清10,11を通して、空洞J2を充満する。
ている。この孔22.23を通して、測定圧力がコンデ
ンサーに加えられる。この孔22は、空間24に連通し
ており、孔23は、シリコンウェハ1の孔7に整列され
ている6弾性体の層1つは、2つの孔(溝)22.23
を互いに隔離している。空間24は、液体圧力a体、例
えば、シリコンオイルで充満されているため、この圧力
媒体は、清10,11を通して、空洞J2を充満する。
孔7を介して互いに連通されている孔23と第2の空洞
7Bとは、液体又は気体(例えば、空気)である媒体に
より充満されている。
7Bとは、液体又は気体(例えば、空気)である媒体に
より充満されている。
さらに、孔23が、引用例(5M6.)に述べられてい
るのと同様に薄い金属のダイアフラムによって計測圧力
媒体から隔離されているオイル媒体の空間に連通されて
いても良い。圧力変換器が差圧の測定のためではなく、
ゲージ圧測定のために用いられた場合には、孔23に液
体媒体を充満することは不要であり、薄い金属の隔離ダ
イアフラムも不要である。空間24は、センサーのコン
デンサーの寸法に応じて、Jlの量を最少にするように
形成されていれば良い。
るのと同様に薄い金属のダイアフラムによって計測圧力
媒体から隔離されているオイル媒体の空間に連通されて
いても良い。圧力変換器が差圧の測定のためではなく、
ゲージ圧測定のために用いられた場合には、孔23に液
体媒体を充満することは不要であり、薄い金属の隔離ダ
イアフラムも不要である。空間24は、センサーのコン
デンサーの寸法に応じて、Jlの量を最少にするように
形成されていれば良い。
上述したコンデンサー構造には、計測できる2つの静電
容量Cp 、Ctがあるにのうち、C。
容量Cp 、Ctがあるにのうち、C。
は、圧力差に大きく依存しているが、Ctは、圧力差に
ほとんど依存しない。両者共に、媒体の静電特性に依存
している。
ほとんど依存しない。両者共に、媒体の静電特性に依存
している。
空洞12を充満する媒体がシリコンオイルである場合、
その誘電定数の温度係数が高く、略、10001111
1/にである。これにより、静電容量Cp。
その誘電定数の温度係数が高く、略、10001111
1/にである。これにより、静電容量Cp。
Ctの高い温度依存が生起される。この高い温度依存に
よって、静電容量Cρのみが圧力差の計測のなめに用い
られた場合、圧力の計測に温度依存誤差が生起される。
よって、静電容量Cρのみが圧力差の計測のなめに用い
られた場合、圧力の計測に温度依存誤差が生起される。
静電容量Cρの圧力関係と異なる圧力関係を有する静電
容量Ctも、強い温度依存を有している。そのため、静
電容量から、充分な正確さをもって、圧力差と温度のた
めの数値を見出すために、数学関数か公式化されている
。
容量Ctも、強い温度依存を有している。そのため、静
電容量から、充分な正確さをもって、圧力差と温度のた
めの数値を見出すために、数学関数か公式化されている
。
P2〜P1=p (Cp、Ct )
t=t (ct 、cρ)
関数pとtとは、例えば、多孔式で表わされる。
これらの項の係数は、2つの静電容量cp 、 ctを
計測することによって、圧力差と温度との種々の値にお
いて、決定される。
計測することによって、圧力差と温度との種々の値にお
いて、決定される。
第1図は、この発明に基づく容量性センサー構造の断面
側面図、第2図は、第1図のA−A面に沿う断面図、第
3図は、この発明に基づく容量性−15= 圧力変換器の断面側面図である。 1.2.3・・・容量性センサー構造(1,2・・・シ
リコンウェハ、3・・・シリコン要素) 、1.4.2
6・・・電気導体(1,4・・・接着パッド領域、26
・・・金属のワイヤー)、18,1.9・・・弾性WJ
造(弾性体の層)、20.21・・・ケース、22.2
3・・・涌(孔)出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 Fig、1 Fig、3
側面図、第2図は、第1図のA−A面に沿う断面図、第
3図は、この発明に基づく容量性−15= 圧力変換器の断面側面図である。 1.2.3・・・容量性センサー構造(1,2・・・シ
リコンウェハ、3・・・シリコン要素) 、1.4.2
6・・・電気導体(1,4・・・接着パッド領域、26
・・・金属のワイヤー)、18,1.9・・・弾性WJ
造(弾性体の層)、20.21・・・ケース、22.2
3・・・涌(孔)出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 Fig、1 Fig、3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 [1]容量性センサー構造(1、2、3)と、容量性セ
ンサ構造(1、2、3)が取付けられているケース(2
0、21)と、 ケース(21)に適用され、容量性センサー構造(1、
2、3)に計測媒体を導入するための溝(22、23)
と、 容量性センサー構造(1、2、3)からの容量性圧力情
報を外部に伝達するための電気導体(14、26)と、
を具備する容量性圧力変換器において、 容量性センサー構造(1、2、3)が薄い弾性構造(1
8、19)によってケース(20、21)に支持され、
その結果、容量性センサー構造が薄い弾性構造の間で浮
上されていることを特徴とする、容量性圧力変換器。 [2]弾性構造(18、19)の層の厚さは、0.05
〜0.3mmであり、好ましくは、0.1mmである、
特許請求の範囲第1項に記載の容量性圧力変換器。 [3]シリコンウェハ(2)と、このシリコンウェハ(
2)に静電接着方法によつて取付けられたガラスウェハ
(5)とからなり、ガラスウェハ(5)がシリコンウェ
ハ(2)より薄い支持基材板(2、5)と、 支持基材板(2、5)に配置され、固定された第1のコ
ンデンサー板(17)と、 第1のコンデンサー板(17)を囲うように支持基材板
(2、5)に配置され、可動コンデンサー板として働く
ダイアフラム(6)である薄い中心部分を有し、その結
果、計測圧力媒体を導入するための井筒状の空洞(12
、7B)がダイアフラム(6)の上と下とに形成されて
いる、シリコン板(3)と、 シリコン板(3)に配置され、シリコンウェハ(1)と
、このシリコンウェハに取付けられ且つシリコン板(3
)に対して位置されたガラスウェハ(4)とからなり、
ガラスウェハ(4)がシリコンウェハ(1)より薄い、
頂部板(1、4)と、を具備する、容量性圧力変換器で
あって、 シリコン板(3)と第1のコンデンサー板(17)との
間であって、第1のコンデンサーを囲って、支持基材板
(2、5)に配置された第2のコンデンサー板(16)
を備え、 容量性センサー構造(1、2、3)が、シリコンウェハ
(1、2)の上と下で、弾性構造(18、19)によっ
て、ケース(20、21)に取付けられている、特許請
求の範囲第1項又は第2項に記載の容量性圧力変換器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI872050A FI84401C (fi) | 1987-05-08 | 1987-05-08 | Kapacitiv tryckgivarkonstruktion. |
FI872050 | 1987-05-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63308529A true JPS63308529A (ja) | 1988-12-15 |
Family
ID=8524450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63110330A Pending JPS63308529A (ja) | 1987-05-08 | 1988-05-06 | 容量性圧力変換器 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4862317A (ja) |
JP (1) | JPS63308529A (ja) |
DE (1) | DE3814110A1 (ja) |
FI (1) | FI84401C (ja) |
FR (1) | FR2614988B1 (ja) |
GB (1) | GB2204413B (ja) |
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- 1988-05-06 JP JP63110330A patent/JPS63308529A/ja active Pending
- 1988-05-06 FR FR8806140A patent/FR2614988B1/fr not_active Expired - Lifetime
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GB2204413A (en) | 1988-11-09 |
US4862317A (en) | 1989-08-29 |
GB8809220D0 (en) | 1988-05-25 |
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FI872050A (fi) | 1988-11-09 |
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