JPS63303693A - 高エネルギ−放射線加工方法 - Google Patents
高エネルギ−放射線加工方法Info
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- JPS63303693A JPS63303693A JP62137767A JP13776787A JPS63303693A JP S63303693 A JPS63303693 A JP S63303693A JP 62137767 A JP62137767 A JP 62137767A JP 13776787 A JP13776787 A JP 13776787A JP S63303693 A JPS63303693 A JP S63303693A
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Links
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Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
熱伝導率および反射率の高い金属、たとえば銅の表面に
、熱伝導率および反射率がこれより低い皮膜、たとえば
酸化銅、またはニッケルのような他の金属の皮膜を形成
した後に、高エネルギー放射線を照射して、溶接または
溶断などの加工を行なう。
、熱伝導率および反射率がこれより低い皮膜、たとえば
酸化銅、またはニッケルのような他の金属の皮膜を形成
した後に、高エネルギー放射線を照射して、溶接または
溶断などの加工を行なう。
熱伝導率および反射率の高い銅、金、銀などの金属材料
は、レーザービームまたは電子ビームを照射しても、照
射領域において熱が十分に蓄積されない。これを補うた
めに多量のエネルギーを照射すれば、微細な加工領域の
周囲領域も加熱されて材料の強度が劣化する。さらに電
子部品に利用されるこれらの金属材料の加工においては
、搭載される半導体素子を不当に加熱して半導体装置の
性能を劣化させるという困難を伴なうこととなる。
は、レーザービームまたは電子ビームを照射しても、照
射領域において熱が十分に蓄積されない。これを補うた
めに多量のエネルギーを照射すれば、微細な加工領域の
周囲領域も加熱されて材料の強度が劣化する。さらに電
子部品に利用されるこれらの金属材料の加工においては
、搭載される半導体素子を不当に加熱して半導体装置の
性能を劣化させるという困難を伴なうこととなる。
特開昭６２−９７７８号発明は、ニッケル基合金のベロ
ーズ薄板上にニッケルメッキ皮膜の極薄層を形成して、
ＴＩＧ溶接によって耐密溶接する。しかし、この場合は
高エネルギー放射線による溶接でないので、溶接部の反
射による吸収熱の減少は重要ではない。
ーズ薄板上にニッケルメッキ皮膜の極薄層を形成して、
ＴＩＧ溶接によって耐密溶接する。しかし、この場合は
高エネルギー放射線による溶接でないので、溶接部の反
射による吸収熱の減少は重要ではない。
熱伝導率および反射率が高い金属材料は、高エネルギー
放射線を局部的に照射して溶接または溶断することが困
難である。
放射線を局部的に照射して溶接または溶断することが困
難である。
上記問題点は、熱伝導率および反射率が高い金属材料の
高エネルギー放射線加工に、おいて、加工前に表面処理
を行ない、これによって金属の表面に熱伝導率および反
射率がこの金属より低い皮膜を形成することを特徴とす
る高エネルギー放射線加工方法によって解決することが
できる。
高エネルギー放射線加工に、おいて、加工前に表面処理
を行ない、これによって金属の表面に熱伝導率および反
射率がこの金属より低い皮膜を形成することを特徴とす
る高エネルギー放射線加工方法によって解決することが
できる。
〔作 用〕
被加工金属としては、通常鋼を対象とするが、金または
銀でもよい。表面処理はめっきによるニッケル皮膜の形
成が一般的であるが、酸化し易い金属の場合には大気中
の焼鈍または酸化性溶液中の化成処理によって酸化皮膜
を形成することができる。
銀でもよい。表面処理はめっきによるニッケル皮膜の形
成が一般的であるが、酸化し易い金属の場合には大気中
の焼鈍または酸化性溶液中の化成処理によって酸化皮膜
を形成することができる。
熱伝導率および反射率が高い金属材料は、ＪＩＳＣ１０
２０の無酸素銅の２ Ｘ ３ Ｘ２５１１１１の直方体
とした。
２０の無酸素銅の２ Ｘ ３ Ｘ２５１１１１の直方体
とした。
表面処理として、（ａ）常法による膜厚５μｍのニッケ
ルめっき、（ｂ） １２０℃、１時間の大気中焼鈍に
よる膜厚１μｍ未満の赤褐色皮膜の形成、および（ｃ）
１％ＫｚＳｚＯａ ５％ＮａＯＨ水溶液中で１００℃
、３分間の化成処理による膜厚１μｍ未満の黒色皮膜の
形成によって行なった。ニッケルと銅とは、全率固溶型
合金を形成するので、溶接割れが起る可能性が少なく、
銅に対してはニッケルめっきが好ましい。また化成処理
は膜厚の制御が容易であり、また反射率が低い黒色の酸
化皮膜を形成する利点を有する。
ルめっき、（ｂ） １２０℃、１時間の大気中焼鈍に
よる膜厚１μｍ未満の赤褐色皮膜の形成、および（ｃ）
１％ＫｚＳｚＯａ ５％ＮａＯＨ水溶液中で１００℃
、３分間の化成処理による膜厚１μｍ未満の黒色皮膜の
形成によって行なった。ニッケルと銅とは、全率固溶型
合金を形成するので、溶接割れが起る可能性が少なく、
銅に対してはニッケルめっきが好ましい。また化成処理
は膜厚の制御が容易であり、また反射率が低い黒色の酸
化皮膜を形成する利点を有する。
第１図に示すように、皮膜１を形成した試料片２の角部
に、溶接すべき板材料として厚み０．１３ｆｌの銅−ベ
リリウム合金板３の端部が位置するように、仏料片２の
皮膜１上に重ね、試料片２の角部と溶接板３の端面に向
けて、アルゴン雰囲気中でＹＡＧレーザ−ビームを皮膜
１に向けて照射した。
に、溶接すべき板材料として厚み０．１３ｆｌの銅−ベ
リリウム合金板３の端部が位置するように、仏料片２の
皮膜１上に重ね、試料片２の角部と溶接板３の端面に向
けて、アルゴン雰囲気中でＹＡＧレーザ−ビームを皮膜
１に向けて照射した。
このレーザービームは、パルス幅２ｉＳ、パルスレー）
３０ｐｐＳ、溶接速度１５０ｍ／ｗｉｎ 、焦点はずし
量±Ｏ１ｍとして、ピーク出力を０．５〜６に−の範囲
で変化させた。
３０ｐｐＳ、溶接速度１５０ｍ／ｗｉｎ 、焦点はずし
量±Ｏ１ｍとして、ピーク出力を０．５〜６に−の範囲
で変化させた。
（ｃ）は黒色酸化銅の皮膜１を形成した試料片２であり
、試料片２の角部と、溶接板３の端部とが溶融して溶接
部４を形成する。皮膜ｌの延長線が、溶接部４の外面と
残存する皮膜１の端とで限られる距離ｄを溶接の溶は込
み深さとする。深さが長い程溶融が有効である。
、試料片２の角部と、溶接板３の端部とが溶融して溶接
部４を形成する。皮膜ｌの延長線が、溶接部４の外面と
残存する皮膜１の端とで限られる距離ｄを溶接の溶は込
み深さとする。深さが長い程溶融が有効である。
第３図は、この溶は込、み深さくｄ）と、レーザービー
ムのピーク出力との関係を示す。（ｂ）の焼鈍した赤褐
色酸化皮膜は溶は込み深さが比較的浅い。また第２図に
示すように、（ｃ）の化成処理した黒色酸化皮膜はかな
り大きいブローホール５を含む。従って（ａ）のニッケ
ル皮膜がもっとも好ましい。
ムのピーク出力との関係を示す。（ｂ）の焼鈍した赤褐
色酸化皮膜は溶は込み深さが比較的浅い。また第２図に
示すように、（ｃ）の化成処理した黒色酸化皮膜はかな
り大きいブローホール５を含む。従って（ａ）のニッケ
ル皮膜がもっとも好ましい。
本発明によって、熱伝導率および反射率が高い金属材料
を高エネルギー放射線加工して、溶接または切断するこ
とができる。
を高エネルギー放射線加工して、溶接または切断するこ
とができる。
第１図は高エネルギー放射線加工する溶接材料の斜視図
であり、 第２図は、本発明による溶接部の拡大断面図であり、 第３図は本発明におけるピーク出力と溶接部の溶は込み
深さの関係を示すグラフである。 １・・・本発明による皮膜、 ２・・・被加工金属試料片、 ３・・・溶接合金板、 ４・・・溶接部、５・・・ブ
ローホール、 ａ・・・ニッケルめっき膜、ｂ・・・赤
褐色酸化膜、 Ｃ・・・黒色酸化膜、ｄ・・・ン容は込
み深さ。
であり、 第２図は、本発明による溶接部の拡大断面図であり、 第３図は本発明におけるピーク出力と溶接部の溶は込み
深さの関係を示すグラフである。 １・・・本発明による皮膜、 ２・・・被加工金属試料片、 ３・・・溶接合金板、 ４・・・溶接部、５・・・ブ
ローホール、 ａ・・・ニッケルめっき膜、ｂ・・・赤
褐色酸化膜、 Ｃ・・・黒色酸化膜、ｄ・・・ン容は込
み深さ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、熱伝導率および反射率が高い金属材料の高エネルギ
ー放射線加工において、加工前に表面処理を行ない、こ
れによってこの金属の表面に熱伝導率および反射率がこ
の金属より低い皮膜を形成することを特徴とする高エネ
ルギー放射線加工方法。 ２、めっきにより、熱伝導率および反射率が被加工金属
より低い他の金属の皮膜を形成する、特許請求の範囲第
１項記載の方法。 ３、被加工金属の表面に酸化皮膜を形成する、特許請求
の範囲第１項記載の方法。 ４、被加工金属が銅である、特許請求の範囲第１〜４項
のいずれかに記載の方法。 ５、被加工金属の銅を焼鈍して、赤褐色酸化銅皮膜を形
成する、特許請求の範囲第４項記載の方法。 ６、被加工金属の銅を化成処理して、黒色酸化銅皮膜を
形成する、特許請求の範囲第４項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62137767A JPS63303693A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | 高エネルギ−放射線加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62137767A JPS63303693A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | 高エネルギ−放射線加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63303693A true JPS63303693A (ja) | 1988-12-12 |
Family
ID=15206354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62137767A Pending JPS63303693A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | 高エネルギ−放射線加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63303693A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002292486A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-08 | Sanyo Electric Co Ltd | 固定構造 |
| JP2011115827A (ja) * | 2009-12-04 | 2011-06-16 | Kobe Steel Ltd | 銅材料または銅合金材料 |
| JP2013028828A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-02-07 | Furukawa Electric Co Ltd:The | レーザ加工用銅板 |
| WO2020241315A1 (ja) * | 2019-05-28 | 2020-12-03 | Ｊｆｅスチール株式会社 | モータコアの製造方法 |
-
1987
- 1987-06-02 JP JP62137767A patent/JPS63303693A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002292486A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-08 | Sanyo Electric Co Ltd | 固定構造 |
| JP2011115827A (ja) * | 2009-12-04 | 2011-06-16 | Kobe Steel Ltd | 銅材料または銅合金材料 |
| JP2013028828A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-02-07 | Furukawa Electric Co Ltd:The | レーザ加工用銅板 |
| WO2020241315A1 (ja) * | 2019-05-28 | 2020-12-03 | Ｊｆｅスチール株式会社 | モータコアの製造方法 |
| JPWO2020241315A1 (ja) * | 2019-05-28 | 2021-09-13 | Ｊｆｅスチール株式会社 | モータコアの製造方法 |
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