JPH02185957A - ターミナルの表面処理法 - Google Patents

ターミナルの表面処理法

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JPH02185957A
JPH02185957A JP1002871A JP287189A JPH02185957A JP H02185957 A JPH02185957 A JP H02185957A JP 1002871 A JP1002871 A JP 1002871A JP 287189 A JP287189 A JP 287189A JP H02185957 A JPH02185957 A JP H02185957A
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JP
Japan
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surface layer
terminal
laser
contact part
contact
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Application number
JP1002871A
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English (en)
Inventor
Kinya Horibe
堀部 欽也
Tomio Hirano
富夫 平野
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Yazaki Corp
Original Assignee
Yazaki Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は、ターミナル接点部分の耐食性等を向上させ
るターミナルの表面処理法に関するものである。
(従来の技術) コネクタ内に収容されるターミナルでは、その接点部分
に耐食性を持たせかつ接触抵抗を低くするため、金等の
貴金属を部分メツキすることが知られている。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、ターミナルは銅、銅合金から形成されて
いるので、金等をメツキすると、メツキ金属と素地金属
である銅、銅合金との間で異種金属接触腐食が生しるお
それがあり、そして−旦腐食してしまうと、接触抵抗が
安定せず、信頼性の点で問題があった。
また、メツキを行う場合、有害物質を流さないように排
水処理等が必要である上に、金メツキにはピンホールが
多いため、ターミナル上にメツキする場合には、まずニ
ッケルメッキ等を施し、次いでニッケルメッキ等の上に
金メツキを施さなければならず、非常に手間が係る問題
があった。
この発明は上記従来技術の問題点を解消するもので、そ
の目的とするところは、耐食性がよく、接触抵抗が安定
して信頼性か得られ、かつ手間がかからないターミナル
の表面処理法を提供することである。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するためこの発明のターミナルの表面処
理法では、ターミナルの接点部分をレーザー等の加熱手
段により急速加熱して接点部分の表面層を溶融した後に
冷却することにより、接点部分の表面層をアモルファス
化させることを特徴としている。
ここで、加熱手段としては、レザーの他に、プラズマや
電子ビーム等が使用される。レーザを使用する場合、タ
ーミナルが銅、調合金製であることから、これら素地金
属が吸収し易いレーザ、例えばYAGレーザ、CO2レ
ーザ等が好ましい。
また、溶融した表面層の冷却は、表面層以外の部分、す
なわち接点以外の部分や接点部分の内部等で熱を奪って
冷却する他に、例えば冷却ローラ等で強制的に冷却する
ようにしてもよい。
(作用) アモルファス化させることにより、接点部分の表面層は
耐食性や耐摩耗性が向上する。この場合、表面層を構成
する金属と内部を構成する金属は同じで、結晶化してい
るかいないかの相違であり、異種金属接触腐食が生じる
おそれがなく、長期間使用しても接触抵抗が安定する。
(実施例) 以下この発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図および第2図はコネクタに収容される雄型のター
ミナルにこの発明の表面処理法を適用した実施例を示し
ている。
この実施例では、銅、銅合金板をプレス工程で雄型ター
ミナル10の展開板形状に打ち抜き、次いで折り曲げ加
工した後に、雄型ターミナル1゜の接点部分11に加熱
手段であるレーザ3oを照射して急速加熱し接点部分1
1の表面層1−1aを溶融する。そして、レーザ30の
照射を停止する。
これにより、表面層1. ]、 aの熱が接点部分11
以外の部分や接点部分11の内部に奪われて急速冷却さ
れるため、表面層1.1 aがアモルファス化する。
ここで、接点部分11の素地金属が銅、銅合金等の銅系
であるため、レーザ3oとしては銅系金属が吸収し易い
レーザ、例えばパルスYAGレーザ(出力100W〜6
00W、波長1.064μm)を使用する。
また、接点部分11にニッケル、錫等をメツキを施して
いる場合には、レーザ30が反射するので、レーザ30
を吸収し易くするため予めメツキ層上に黒鉛を塗布して
からCO2レーザ(出力IKW〜l0KW、波長1.0
.6μm)を照射する。
このようにして接点部分11の表面層11aをアモルフ
ァス化すると、表面層11aの耐食性、耐摩耗性が向上
する。また、表面層11aとその内部の金属は共に銅系
であり、結晶化しているかいないかの相違で、金メツキ
を施す場合のように異種金属接触腐食が生じるおそれも
なく、長期間使用しても接触抵抗が安定する。
第3図および第4図はコネクタに収容される雌型のター
ミナルにこの発明の表面処理法を適用した他の実施例を
示している。
この実施例では、雌型ターミナル20の接点部分21が
内部に位置していて、レーザを照射することが非常に困
難なので、第4図に示すように、銅、銅合金等の素地金
属板40の段階で接点部分21となる予定部位41にレ
ーザ30を照射してアモルファス化する。この後、素地
金属板40をプレス工程50で雌型ターミナル20の展
開板形状に打ち抜き、折り曲げ加工して第3図に示す雌
型ターミナル20.すなわち接点部分の表面層21aを
アモルファス化した雌型ターミナル20を得る。
なお、ターミナル10.20の接点部分10.21にメ
ツキを施す場合には、メツキ処理の後にレーザ30を照
射する。また、加熱手段としては、レーザ30以外にプ
ラズマ、電子ビームを使用することが出来る。
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明の表面処理法によれば、タ
ーミナルの接点部分をレーザー等の加熱手段により急速
加熱して接点部分の表面層を溶融した後に冷却すること
により、ターミナルの接点部分の表面層をアモルファス
化させるので、異種金属接触腐食が生じるおそれがなく
、接触抵抗が安定して信頼性が得られる。また、メツキ
を施す場合のように排水処理等の問題がないことから手
間がかからない。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図はこの発明の一実施例を示し、第1
図は雄型ターミナルの部分平面図、第2菌量部分拡大断
面図であり、また第3図および第4図はこの発明の他の
実施例を示し、第3図は雌型ターミナルの部分断面図、
第4図は雌型ターミナルの製造工程の説明図である。 10.20・    ・ターミナル 11.21・・・ ・接点部分 11a、21a・ ・表面層 代11?、人ブげ月: 三 なf 升 和第31!ii
! 10.20・・・・・ターミナル 第1 第2rlA

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  ターミナルの接点部分をレーザー等の加熱手段により
    急速加熱して接点部分の表面層を溶融した後に冷却する
    ことにより、接点部分の表面層をアモルファス化させる
    ことを特徴とするターミナルの表面処理法。
JP1002871A 1989-01-11 1989-01-11 ターミナルの表面処理法 Pending JPH02185957A (ja)

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