JPS63298704A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPS63298704A JPS63298704A JP12967987A JP12967987A JPS63298704A JP S63298704 A JPS63298704 A JP S63298704A JP 12967987 A JP12967987 A JP 12967987A JP 12967987 A JP12967987 A JP 12967987A JP S63298704 A JPS63298704 A JP S63298704A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は基板上に薄膜形成法によって磁性層、導電層な
どの構成部材を形成し、これらの上にガラスを介して保
護板を接合する構造を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法
に関するものである。
どの構成部材を形成し、これらの上にガラスを介して保
護板を接合する構造を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法
に関するものである。
［従来の技術］
薄膜磁気ヘッドは、面倒なコイル巻線の工程を必要とし
ないので自動化された工程で安価に製造できるという利
点がある。
ないので自動化された工程で安価に製造できるという利
点がある。
第４図に従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す。
図示のように、磁気ヘッドは強磁性ないし非磁性の基板
上にスパッタリング、蒸着法など種々の薄膜形成法によ
って、次のような構成部材を薄膜形成することにより構
成される。
上にスパッタリング、蒸着法など種々の薄膜形成法によ
って、次のような構成部材を薄膜形成することにより構
成される。
まず基板１上には下部磁性層２が形成され、その上にコ
イルとなる導電層４が形成される。続いて、導電層４の
上に上部磁性層３が形成される。
イルとなる導電層４が形成される。続いて、導電層４の
上に上部磁性層３が形成される。
さらに、これらの構成部材上には５ｉ０２などから成る
保護層が形成される。ここでは保護層の図示を省略しで
ある。その後、上記の構成部材を覆う保護層上に接着ガ
ラス６によって保護板５が接合され、磁気ヘッドが完成
さ−れる。
保護層が形成される。ここでは保護層の図示を省略しで
ある。その後、上記の構成部材を覆う保護層上に接着ガ
ラス６によって保護板５が接合され、磁気ヘッドが完成
さ−れる。
［発明が解決しようとする問題点］
接着ガラス６は基板ｌと保護板５の間に均一に分布する
必要があるが、従来の製造方法では保護板５を接着ガラ
ス６によって接着する際、ガラス中に気泡が残るという
闇題があった。
必要があるが、従来の製造方法では保護板５を接着ガラ
ス６によって接着する際、ガラス中に気泡が残るという
闇題があった。
この気泡の大きな原因としては、低融点ガラスが保護層
であるＳ ｉ ０２膜と反応することが考えられる。
であるＳ ｉ ０２膜と反応することが考えられる。
このような気泡が磁気記録媒体の摺動面に発生するとテ
ープのバインダなどの異物が気泡中に入りこんで、磁気
ヘッドの磁電ないし電磁変換特性に悪影響を与えるとい
う問題がある。
ープのバインダなどの異物が気泡中に入りこんで、磁気
ヘッドの磁電ないし電磁変換特性に悪影響を与えるとい
う問題がある。
［問題点を解決するための手段］
上記の問題を解決するため１本発明においては基板上に
薄膜形成法によって形成された磁性層、導電層などの構
成部材を保護層で覆い、さらにその上にガラスを介して
保護板を接合する構造を有する薄膜磁気ヘッドの製造方
法において、前記保護板をガラス接合する工程の前に接
合用のガラスと前記保護層の反応を防止する膜を形成す
る工程を設けた構成を採用した。
薄膜形成法によって形成された磁性層、導電層などの構
成部材を保護層で覆い、さらにその上にガラスを介して
保護板を接合する構造を有する薄膜磁気ヘッドの製造方
法において、前記保護板をガラス接合する工程の前に接
合用のガラスと前記保護層の反応を防止する膜を形成す
る工程を設けた構成を採用した。
［作 用］
１記の構成によれば、接着ガラスを用いて保護板を接合
する際ガラスと基板上の構成部材の反応を反応防止膜に
より防止し、接着ガラス中に気泡が発生するのを抑止で
きる。
する際ガラスと基板上の構成部材の反応を反応防止膜に
より防止し、接着ガラス中に気泡が発生するのを抑止で
きる。
［実施例］
以下１図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細な説明
する。
する。
第１図は本発明の製造方法によって製造された薄膜磁気
ヘッドの断面を示している０図において符号１はｆ５４
図の従来例と同様の基板で、基板ｌ上には下部磁性層２
、導電層４、上部磁性層３が形成され、さらにこれらの
部材上には保護層７が形成される。
ヘッドの断面を示している０図において符号１はｆ５４
図の従来例と同様の基板で、基板ｌ上には下部磁性層２
、導電層４、上部磁性層３が形成され、さらにこれらの
部材上には保護層７が形成される。
従来では、保護層７の上に直に接着ガラス６が流しこま
れ、上部にセラミックなどから成る保護板５が接合され
るが、本実施例によれば保護層の上にガラスを流す工程
に先立って、保護層７上にガラスと保護層７の５ｔＯ２
が反応するのを防止するための反応防止膜８を形成する
０反応防止膜８は、クロムないし酸化クロムなどの金属
膜から構成する。
れ、上部にセラミックなどから成る保護板５が接合され
るが、本実施例によれば保護層の上にガラスを流す工程
に先立って、保護層７上にガラスと保護層７の５ｔＯ２
が反応するのを防止するための反応防止膜８を形成する
０反応防止膜８は、クロムないし酸化クロムなどの金属
膜から構成する。
第２図、第３図に本発明による製造工程を示す。
まず、基板ｌ上に下部磁性層２．導電層４および上部磁
性層３を形成し、この上に５ｔＯ２から成る保護層７を
形成する。
性層３を形成し、この上に５ｔＯ２から成る保護層７を
形成する。
第２図は磁気ヘッドを記録媒体摺動面側から示したもの
で、図示のように磁性層２．３および導電層４は２組形
成されている。したがって図示した母材を中央部で切断
すれば、第１図のような磁気ヘッドを２つ構成できる。
で、図示のように磁性層２．３および導電層４は２組形
成されている。したがって図示した母材を中央部で切断
すれば、第１図のような磁気ヘッドを２つ構成できる。
次に保護層７の上にクロムないし酸化クロムなどの金属
膜から構成された反応防止膜８を形成する。
膜から構成された反応防止膜８を形成する。
次に低融点ガラスから成るガラス棒を１図示のように各
構成部材を薄膜形成された基板ｌ上に載置し、上方から
セラミックなどから成る保護板５によって押さえて加熱
、加圧する。
構成部材を薄膜形成された基板ｌ上に載置し、上方から
セラミックなどから成る保護板５によって押さえて加熱
、加圧する。
これによって、第３図に示すように溶解した接着ガラス
６が反応防止膜８上に流れ、ガラス６によって保護板５
が接合される。
６が反応防止膜８上に流れ、ガラス６によって保護板５
が接合される。
この際、接着ガラス６と５ｉ０２膜から成る保護層７の
間には反応防止Ｉｌ！Ｊ８が設けられているから、保護
層７と低融点ガラスから成る接着ガラス６が反応して、
接着ガラス中に気泡が生じるのを防止できる。
間には反応防止Ｉｌ！Ｊ８が設けられているから、保護
層７と低融点ガラスから成る接着ガラス６が反応して、
接着ガラス中に気泡が生じるのを防止できる。
従って、気泡が記録媒体摺動面に発生して磁気ヘッドの
磁電ないし電磁変換特性を阻害するのを防止できる。
磁電ないし電磁変換特性を阻害するのを防止できる。
以上では２チヤンネル薄膜磁気ヘツドの実施例を示した
が、他の薄膜磁気ヘッドにおいても同様の技術を実施で
きることは言うまでもない。
が、他の薄膜磁気ヘッドにおいても同様の技術を実施で
きることは言うまでもない。
［発明の効果］
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、基板
上に薄膜形成法によって形成された磁性層、導電層など
の構成部材を保護層で覆い、さらにその上にガラスを介
して、保護板を接合する構造を有する薄膜磁気ヘッドの
製造方法において、前記保護板をガラス接合する工程の
前に接合用のガラスと前記保護層の反応を防止する膜を
形成する工程を設けた構成を採用しているので、接着ガ
ラスと保護層の反応によって接着ガラス中に気泡が生じ
るのを効果的に防止し、磁気ヘッドの磁電ないし電磁変
換特性を向上できるという優れた効果がある。
上に薄膜形成法によって形成された磁性層、導電層など
の構成部材を保護層で覆い、さらにその上にガラスを介
して、保護板を接合する構造を有する薄膜磁気ヘッドの
製造方法において、前記保護板をガラス接合する工程の
前に接合用のガラスと前記保護層の反応を防止する膜を
形成する工程を設けた構成を採用しているので、接着ガ
ラスと保護層の反応によって接着ガラス中に気泡が生じ
るのを効果的に防止し、磁気ヘッドの磁電ないし電磁変
換特性を向上できるという優れた効果がある。
第１図は本発明の製造方法によって製造された磁気ヘッ
ドの断面図、第２図、第３図は本発明による磁気ヘッド
製造方法を示した説明図、第４図は従来の薄膜磁気ヘッ
ドの構造を示した一部破断斜視図である。 ｌ・・・基板 ２．３・・・磁性層４・・・
導電層 ５・・・保護板６・・・接着ガラス
７・・・保護層８・・・反応防止膜 ′５帖漬１°Ｆ′４０
ドの断面図、第２図、第３図は本発明による磁気ヘッド
製造方法を示した説明図、第４図は従来の薄膜磁気ヘッ
ドの構造を示した一部破断斜視図である。 ｌ・・・基板 ２．３・・・磁性層４・・・
導電層 ５・・・保護板６・・・接着ガラス
７・・・保護層８・・・反応防止膜 ′５帖漬１°Ｆ′４０
Claims (1)
- 基板上に薄膜形成法によって形成された磁性層、導電層
などの構成部材を保護層で覆い、さらにその上にガラス
を介して保護板を接合する構造を有する薄膜磁気ヘッド
の製造方法において、前記保護板をガラス接合する工程
の前に接合用のガラスと前記保護層の反応を防止する膜
を形成する工程を設けたことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12967987A JPS63298704A (ja) | 1987-05-28 | 1987-05-28 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12967987A JPS63298704A (ja) | 1987-05-28 | 1987-05-28 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63298704A true JPS63298704A (ja) | 1988-12-06 |
Family
ID=15015493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12967987A Pending JPS63298704A (ja) | 1987-05-28 | 1987-05-28 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63298704A (ja) |
-
1987
- 1987-05-28 JP JP12967987A patent/JPS63298704A/ja active Pending
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