JPS5857614A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS5857614A JPS5857614A JP15716081A JP15716081A JPS5857614A JP S5857614 A JPS5857614 A JP S5857614A JP 15716081 A JP15716081 A JP 15716081A JP 15716081 A JP15716081 A JP 15716081A JP S5857614 A JPS5857614 A JP S5857614A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic head
- polishing
- thin film
- resistance
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
- G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は研磨量の調整に係る技術的改善を施した薄膜磁
気ヘッドの製造方法に関する。
気ヘッドの製造方法に関する。
強磁性薄膜をフォトリソグラフィー等の微細加工技術を
用いて加工して得られる薄膜磁気ヘッドは、従来の強磁
性体バルク材料を加工して得られる磁気ヘッドに比して
狭トラック化、狭ギャップ化が容易であるため高密度磁
気記録装置の記録用あるいは再生用ヘッドに適している
。また多素子化も容易なことから、マルチチャンネル固
定ヘッド型ＰＣＭ録音機用の磁気ヘッドとして有望視さ
れている。
用いて加工して得られる薄膜磁気ヘッドは、従来の強磁
性体バルク材料を加工して得られる磁気ヘッドに比して
狭トラック化、狭ギャップ化が容易であるため高密度磁
気記録装置の記録用あるいは再生用ヘッドに適している
。また多素子化も容易なことから、マルチチャンネル固
定ヘッド型ＰＣＭ録音機用の磁気ヘッドとして有望視さ
れている。
上記マルチチャンネル固定ヘッド型Ｐ ＣＭ録音機では
磁気テープの速度が遅く巻線型磁気ヘッドでは十分な再
生出力が得られないため、再生用磁気ヘッドとして磁気
抵抗効果素子を用いた静束応答型の磁気ヘッドが用いら
れる。又記録用磁気ヘッドとしては巻線型磁気ヘッドが
用いられる。
磁気テープの速度が遅く巻線型磁気ヘッドでは十分な再
生出力が得られないため、再生用磁気ヘッドとして磁気
抵抗効果素子を用いた静束応答型の磁気ヘッドが用いら
れる。又記録用磁気ヘッドとしては巻線型磁気ヘッドが
用いられる。
上記の記録用あるいは再生用の薄膜磁気ヘッドを製造す
る場合薔こは蒸着、スパッタあるいはメッキ等の薄膜技
術と微細加工技術を用いて磁気コアあるいは磁気抵抗効
果素子、リード線等を形成し次に所定の大きさに切断し
た後シールドケース等に収納し、次に磁気テープと接触
する面を所定の寸法まで研磨するという手順で製造され
る。しかし上記研磨の際、特に磁気ヘッドが多素子構造
を有していると両端の素子で研磨量番こ差が生じ、この
ことが素子間の特性のバラツキの原因となった。
る場合薔こは蒸着、スパッタあるいはメッキ等の薄膜技
術と微細加工技術を用いて磁気コアあるいは磁気抵抗効
果素子、リード線等を形成し次に所定の大きさに切断し
た後シールドケース等に収納し、次に磁気テープと接触
する面を所定の寸法まで研磨するという手順で製造され
る。しかし上記研磨の際、特に磁気ヘッドが多素子構造
を有していると両端の素子で研磨量番こ差が生じ、この
ことが素子間の特性のバラツキの原因となった。
再生用磁気ヘッドの場合には磁気抵抗効果素子自身が研
磨されるため、磁気抵抗効果素子の抵抗をモニターする
ことによって研磨量を決定することができる。しかしな
がら記録用磁気ヘッドの場合には、再生用磁気ヘッドの
ように簡単に研磨量を決定する方法がないため、別個番
こ研磨用モニター抵抗を設ける必要がある。
磨されるため、磁気抵抗効果素子の抵抗をモニターする
ことによって研磨量を決定することができる。しかしな
がら記録用磁気ヘッドの場合には、再生用磁気ヘッドの
ように簡単に研磨量を決定する方法がないため、別個番
こ研磨用モニター抵抗を設ける必要がある。
本発明は上記の記録用磁気ヘッドの研磨用モニター抵抗
の形成に関するものであり、従来のヘッド製造方法に比
してプロセスの増加をともなうことなく研磨用モニター
抵抗を形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法を与えるもの
である。以下本発明に係わる薄膜磁気ヘッドの製造方法
について説明する。
の形成に関するものであり、従来のヘッド製造方法に比
してプロセスの増加をともなうことなく研磨用モニター
抵抗を形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法を与えるもの
である。以下本発明に係わる薄膜磁気ヘッドの製造方法
について説明する。
第７図乃至第７図は本発明に係わる薄膜磁気ベッドの製
造手順を示す図であり、同図（ａ）は平面図、同図（＋
））は側面図である。フェライト等の強磁性体基板／上
に５Ｉ０２等の第１の絶縁層−をスノｆツタ等で形成し
た後鍋等の導電体で巻線３を形成する（第１図）。その
上に８１０２等の第２の絶縁層グを第７の絶縁層−と同
様Ｇこ形成する。しかる後、第一の絶縁層りの上にＴｉ
等の導電体で密着層ｊを形成する（第２図）。続いてノ
Ｒ−マロイ等の金属強磁性層Ｚをメッキあるいは蒸着等
で全面ラグギャップとなる部分の第２の絶縁層ダを除去
すれば磁気回路の抵抗値を下けることができる。
造手順を示す図であり、同図（ａ）は平面図、同図（＋
））は側面図である。フェライト等の強磁性体基板／上
に５Ｉ０２等の第１の絶縁層−をスノｆツタ等で形成し
た後鍋等の導電体で巻線３を形成する（第１図）。その
上に８１０２等の第２の絶縁層グを第７の絶縁層−と同
様Ｇこ形成する。しかる後、第一の絶縁層りの上にＴｉ
等の導電体で密着層ｊを形成する（第２図）。続いてノ
Ｒ−マロイ等の金属強磁性層Ｚをメッキあるいは蒸着等
で全面ラグギャップとなる部分の第２の絶縁層ダを除去
すれば磁気回路の抵抗値を下けることができる。
次に金属強磁性層にのみを選択的にエソナングして磁気
コアおよび研磨用モニター抵抗のリード線Ｚとなるｕ＞
’ｙｔτ同時（こ加工する（第３図）。しかる後密着層
ｊを一本のリード線の間のモニター抵抗♂となる部分の
みを残して除去することによっ゛ て研磨用モニター抵
抗どが形成される。次薔こ第一の絶縁層の一部に巻線と
リード線の接続の為の窓２を設ける（第７図）。金属強
磁性層乙の厚みは密着層５より充分に厚いため、リード
部の抵抗はモニター抵抗よりも充分低くなる。
コアおよび研磨用モニター抵抗のリード線Ｚとなるｕ＞
’ｙｔτ同時（こ加工する（第３図）。しかる後密着層
ｊを一本のリード線の間のモニター抵抗♂となる部分の
みを残して除去することによっ゛ て研磨用モニター抵
抗どが形成される。次薔こ第一の絶縁層の一部に巻線と
リード線の接続の為の窓２を設ける（第７図）。金属強
磁性層乙の厚みは密着層５より充分に厚いため、リード
部の抵抗はモニター抵抗よりも充分低くなる。
マルチチャンネル固定ヘッド型ＰＣＭ録音機の磁気ヘッ
ドのよう（こ多素子構造を持つ場合（こは、上記研磨用
モニター抵抗を磁気ヘッドの両端をこ一個設けることに
よ−て全素子を均一（こ研磨するこ吉ができる。また研
磨されない部分に別のモニター抵抗を設ければ、実際（
こ研磨きれるモニター抵抗とこの研磨されないモニター
抵抗とを比較することによ−て研磨量を校正しながら研
磨することができる。また上記の実施例ではシングルタ
ーン型の磁気ヘッドを示しているが本発明はマルチター
ｙ型磁気ヘッドについても実施可能であり、σら（こ多
素子型磁気ヘッドで共通バイアス用のＩＪ−ド線が各素
子番こ共通して設けられた場合にも、本発明を適用でき
ることは明らかである。
ドのよう（こ多素子構造を持つ場合（こは、上記研磨用
モニター抵抗を磁気ヘッドの両端をこ一個設けることに
よ−て全素子を均一（こ研磨するこ吉ができる。また研
磨されない部分に別のモニター抵抗を設ければ、実際（
こ研磨きれるモニター抵抗とこの研磨されないモニター
抵抗とを比較することによ−て研磨量を校正しながら研
磨することができる。また上記の実施例ではシングルタ
ーン型の磁気ヘッドを示しているが本発明はマルチター
ｙ型磁気ヘッドについても実施可能であり、σら（こ多
素子型磁気ヘッドで共通バイアス用のＩＪ−ド線が各素
子番こ共通して設けられた場合にも、本発明を適用でき
ることは明らかである。
以上のよう昏こ不発明番こよれば従来の薄膜磁気ヘッド
の製造工程を大きく変更することなく、容易に研磨用モ
ニター抵抗を形成することができる。
の製造工程を大きく変更することなく、容易に研磨用モ
ニター抵抗を形成することができる。
第１図乃至第７図は本発明（こ係わる薄膜磁気ヘッドの
製造手順を示し、同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）は側
面図である。 図中、／：強磁性体基板、 、２：第１の絶縁層、３：
導体巻線、 グ：第一の絶縁層１、ｓ：密着層、
Ｚ：金属強磁性層、 ７：リード線、 ８′：モニ
ター抵抗、 ２：リード線接続用の窓。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦 第１図 第２図 第３図 第μ図
製造手順を示し、同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）は側
面図である。 図中、／：強磁性体基板、 、２：第１の絶縁層、３：
導体巻線、 グ：第一の絶縁層１、ｓ：密着層、
Ｚ：金属強磁性層、 ７：リード線、 ８′：モニ
ター抵抗、 ２：リード線接続用の窓。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦 第１図 第２図 第３図 第μ図
Claims (1)
- １、磁気コアを構成する金属強磁性体を密着させるＴｉ
等からなる密着層（こより研磨用モニター抵抗を形成し
たことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15716081A JPS5857614A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15716081A JPS5857614A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5857614A true JPS5857614A (ja) | 1983-04-05 |
Family
ID=15643488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15716081A Pending JPS5857614A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857614A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4727643A (en) * | 1985-04-15 | 1988-03-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for manufacturing a magnetic head by a thin-film technique |
-
1981
- 1981-09-30 JP JP15716081A patent/JPS5857614A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4727643A (en) * | 1985-04-15 | 1988-03-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for manufacturing a magnetic head by a thin-film technique |
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