JPS63294559A - 現像処理の方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビデオディスク、オーディオディスク、ある
いは、データファイル等の信号記録ガラスマスターの作
成のための現像処理の方法に関する。

〔従来の技術〕

一般に、ディスク伏原盤は、ガラス盤などであり、まず
フォトレジストがその上に塗布され、その後に記録すべ
き信号に変調されたレーザービームを記録レンズで微小
なスポットに絞り込んで露光することによって記録が行
なわれる。その原盤を現像することによってポジ型の７
オトレジストの場合であれば、レーザービームに露光さ
れた部分が融解し幾何学的なパターンの信号が得られる
のである。また上記の様なレーザーによる記録以外に電
子ビームによる記録された原盤にも適用される。またマ
スクを介して紫外線を露光される半導体用のウェハーの
現像にも適用できる。

前記の様な原盤の現像処理の方法として現在よく用いら
れているのがスピニング法である。第２図に従来のスピ
ニング法の断面図を示す、これは原盤１を回転させなが
らその上に現像液すを吐出し、原盤の回転による遠心力
によって現像液をほぼ均一に流布させる方法である。

（発明が解決しようとする問題点〕 しかし、前述の従来技術では、ｍｌに、現像液が上方か
ら一点で流出するため、液を全面均一に流すことが難か
しく、局部的に現像不充分な部分すなわち現像ムラを起
こしやすい。第２に、原盤上に流れ出たリンス液あるい
は現像液は原盤の回転により外周部に流れていくが、こ
の時、新たにノズル２から流れ出た液と重なり、液溜ま
りの部分が発生し現像ムラが発生しやすくなる。　第３
に、液の滴下位置の膜減りが大きく膜厚ムラの原因とな
る。第４に、ノズルから液が流出する際、配雪系から、
あるいは、原盤と衝突したとき発生した気泡により現像
ムラが発生しやすい、などの問題点を有した。

更には、現像の進行度すなわち現像度は現像液の吐出時
間で管理することが一般的であるが、この吐出時間以外
に現像液の流量や吐出ノズルの位置の変動によって現像
の進行度は変化し、そのため一定した現像度の製品を得
ることは困難であった。

そこで本発明は、このような問題点を解決するもので、
その目的とするところは、現像工程における現像ムラを
撲滅し、更には、現像度の一定した製品を得ることによ
り、現像工程の歩留を向上させ、高品位の製品を得るこ
とにある。

（問題点を解決するための手段〕 本発明の現像処理の方法は、露光されたフォトレジスト
膜を表面に仔する原盤の露光部を現像する現像液を含浸
した多孔質吸水性弾性体を圧着させることにより現像処
理を行なうことを特徴とする。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。第１図（ａ）、（ｂ）は、本発明の一実施例位お
ける現像処理の方法を示す断面図である。

第１図（ａ）で、原ｆｆ１ｌは、水平状態に保持された
平滑に加工されたターン・テーブル３の上に固定されて
おり、その上方に、水平な平面を存する治具４に固定さ
れて、弾性体５が配置されている。　この弾性体の具体
的物質例として、ポリビニールホルマール化合物やポリ
プロピレン繊維トセルローズの熱結合物等がある。　こ
の弾性体には、あらかじめ現像液が含浸されている。こ
の状態から、治具が原盤表面と水平に下方に移動を開始
しやがてｍ１図（ｂ）に示すように、原盤の表面に接触
する。このとき、弾性体と接触した原盤上の７オトレジ
スト膜の露光部分は弾性体に含浸された最表面層の現像
液で現像が始まる。更に、この状態から治具が下方に移
動すると弾性体に含浸された現像液が、弾性体の下面あ
るいは横断面の方向に均一に移動を始める。このとき、
現像反応が終了した弾性体最下面の現像液は、まだ未反
応の現像液と順次置換を行ない、常に未反応な現像液に
よって現像が進行する。　従って、この置換スピードと
治具の下降スピードをコントロールすることにより、現
像ムラのない均一な現像を行なうことができる。

また、治具の下降位置を管理することにより、現像に寄
与する現像液の量をコントロールすることができるため
、一度最適な現像度である治具の下降位置を決定すれば
、　その後は、再現性の良い、　品質の安定した製品を
得ることが可能である。

次に、治具が所定の現像度の下降位置に到達し現像処理
が終了すると、今までとは逆に上昇を始める。このとき
、弾性体は不要な現像液を横断面方向に放出して縮んだ
状態にあり、その状態から元の形状に復元運動をするこ
とになるため、この際に、不要な現像液が弾性体に吸引
され、原盤の表面には不要な現像液が残留しない、従っ
て、従来、現像処理後のリンス工程で、原盤上に残留す
る不要な現像液が、スピニングにより外周に放出される
際に発生する、現像液の濃淡によるもの、あるいは、装
置の外周壁面からはね返った現像液で発生する現像ムラ
による不良の発生が、本発明によれば撲滅できる。

〔発明の効果〕

以上に述べたように、本発明によれば、フォトレジスト
の現像処理において、現像液を含浸した弾性体を、原盤
に圧着することにより現像処理を行なうことで、現像工
程における不良の発生がほとんどなくなり、歩留が向上
する。更には、安定した品質の製品を得ることが可能と
なる、という効果を存する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、（ｂ）は本発明における現像処理の方法
を示す断面図。第２図は従来の現像処理の方法を示す断
面図。 １・・・原盤 ２・・・吐出ノズル ３・・・ターン・テーブル ４・・・治具 ５・・・多孔質吸水性弾性体 ６・・・現像液 以　　上 易　１　図（α） 第１１量＜ｂ） 属　７１コ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 露光処理されたフォトレジスト膜を表面に有する原盤の
   、露光部を現像する現像液を含浸した多孔質吸水性弾性
   体（以下、単に弾性体と記す。）を圧着することにより
   現像処理を行なうことを特徴とする現像処理の方法。