JPS63275561A - 置換ピロール類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は置換されたピロール、その製造に対する中間体
、その製造及び薬剤におけるその用途に関する。

菌・カビ培養（ｆｕｎｇａｌ　ｃｕｌｔｕｒｅｓ）から
単離されたラクトン誘導体は３−ヒドロキシ−３−メチ
ル−グルタリル−補酵素Ａ還元酵素（ＨＭＧ　−ＣＯＡ
　　ｒ６ｄｕｃｔａｓｅ）の阻害剤であることがすでに
公知である［メビノリン（ｍｅｖｉｎｃｌｉｎ）　、ヨ
ーロッパ特許第２２，４７８号：米国特許第４．２３１
゜９３８号］。更に、またある種のインドール誘導体及
びピラゾール誘導体はＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素の阻害剤
である［ヨーロッパ特許出願第Ａ−１゜１１４．０２７
号；及び米国特許第第４．６１３゜６１０号］。

一般式（Ｉ） 式中、 Ｒ１はシクロアルキルを表わすか、或いはアルキルを表
わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコキシ、ア
ルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロメチル
、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ト
リフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボニルも
しくはアシルで、または式 ％式％ Ｒ８及びＲ番は同一もしくは相異なるものであり、アル
キル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルスルホ
ニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルファモイ
ル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロアリール、アリ
ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
基のへテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
基で置換されていてもよく、 Ｒ２およびＲ３は同一もしくは相異なるものであり、ヘ
テロアリールを表わし、数基はハロゲン、アルキル、ア
ルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリー
ル、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニ
ル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリ
フルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−Ｎ
Ｒ５Ｒ６、ここで、 Ｒ８及びＲ６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ２及びＲ３はアリールを表わし、数基はアルキル、ア
ルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリー
ル、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニ
ル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、アラ
ルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメ
チルチオ、アルコキシカルボニル、スルファモイル、ジ
アルキルスルファモイル、カルバモイル、ジアルキルカ
ルバモイル及び式−Ｎ　Ｒ’Ｒ＠、ここで、 Ｒ５及びＲ６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
置換基で置換されていてもよく、Ｒ３はまたアルキルを
表わし、 Ｒ４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニルま
たはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基はア
ルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、または
アミノカルボニル、アルキルアミノ キルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルもし
くはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキル
を表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルはハ
ロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキル
スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルスル
ホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、また
は式 ％式％ Ｒｓ及びＲ６は同一もしくは相異なるものであり、アル
キル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルスルホ
ニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルファモイ
ル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロアリール、アリ
ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
基のへテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
基で置換されていてもよく、或いはＲ′はヘテロアリー
ルを表わし、数基はハロゲン、アルキル、アルコキシ、
アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリー
ルオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメ
チルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ５Ｒ６、
ここで、 ＲＳ及びＲ６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ４はアリールを表わし、数基はアルキル、アルコキシ
、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、アラ
ルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルスル
ホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチ
ル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、
アルコキシカルボニル、スルファモイル、ジアルキルス
ルファモイル、カルバモイル呟　ジアルキルカルバモイ
ル及ヒ式−Ｎ　Ｒ　’Ｒ　’、ここで、 Ｒｓ及びＲ１は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
置換基で置換されていてもよく、Ｘは式−Ｃ　Ｈ　２−
Ｃ　Ｈ　！−または一ＣＨ＝ＣＨ−の基を表わし、 Ａは式 ％式％ Ｒ７は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ１は水素
、アルキル、アリール、アラルキルまたは陽イオンを表
わす、 の置換されたピロールが見出された。

上記の定義において： 「シクロアルキル」は一般に炭素原子３〜８を有する環
式炭化水素基を表わす。シクロプロパン、シクロペンタ
ン、及びシクロヘキサン環が好ましい。挙げ得る例はシ
クロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル及びシクロオクチルである。

「アルキル」は一般に炭素原子１〜１２個を有する直鎖
状または分校鎖状炭化水素基を表わす。

炭素原子１〜約６個を有する低級アルキルが好ましい。

挙げ得る例はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル、ペンチル、インペンチル、ヘキ
シル、イソヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、オクチ
ル及びイソオクチルである。

「アルコキシ」は一般に炭素原子１−１２個を有し且つ
酸素原子を介して結合する直鎖状または分枝鎖状炭化水
素基を表わす。炭素原子１〜約６個を有する低級アルコ
キシが好ましい。炭素原子１〜４個を有するアルコキシ
基が殊に好ましい。

挙げ得る例はメトキシ、エトキシ、ズロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペントキシ、イソ
ペントキシ、ヘキソキシ、インヘキソキシ、ヘプトキシ
、イソへブトキシ、オクトキシ及びインオクトキシであ
る。

「アルキルチオ」は〒般に炭素原子１−１２個を有し且
つ硫黄原子を介して結合する直鎖状または分枝鎖状炭化
水素基を表わす。炭素原子１〜約６個を有する低級アル
キルチオが好ましい。炭素原子１〜４個を有するアルキ
ルチオが殊に好ましい。挙げ得る例はメチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ
、イソブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、
ヘキシルチオ、イソへキシルチオ、ヘプチルチオ、イソ
へブチルチオ、オクチルチオ及びイソオクチルチオであ
る。

「アルキルスルホニル」は一般に炭素原子１〜１２個を
有し且つＳＯ２基を介して結合する直鎖状または分鋼状
炭化水素基を表わす。炭素原子１〜約６個を有する低級
アルキルスルホニルが好マしい。挙げ得る例は次のもの
である：メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピ
ルスルホニル、イソプロピルスルホニ／Ｌ＝、ブチルス
ルホニル、インブチルスルホニル、ペンチルスルホニル
、イソペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル及びイ
ソへキシルスルホニル、 「アリール」は一般に炭素原子６〜約１２個を有する芳
香族基を表わす。好ましくはアリール基はフェニル、ナ
フチル及びビフェニルである。

「アリールオキシ」は一般に炭素原子６〜約１２個を有
し且つ酸素原子を介して結合する芳香族基を表わす。好
ましいアリールオキシ基はフェノキシ及びす７チルオキ
シである。

「アリールチオ」は一般に炭素原子６〜約１２個を有し
且つ硫黄原子を介して結合する芳香族基を表わす。好ま
しいアリールチオはフェニルチオ及びす７チルチオであ
る。

「アリールスルホニル」は一般に炭素原子６〜約１２個
を有し且つＳＯ□基を介して結合する芳香族基を表わす
。挙げ得る例は次のものである：フェニルスルホニル、
ナフチルスルホニル及びビフェニルスルホニル。

「アラルキル」は一般に炭素原子７〜１４個を有し且つ
アルキレン鎖を介して結合するアリール基を表わす。脂
肪族部分に炭素原子１〜６個及び芳香族部に炭素原子６
〜１２個を有するアラルキル基が好ましい。例として次
のアラルキル基を挙げることができる：ベンジル、ナフ
チルメチル、フェネチル及びフェニルプロピル。

「アラルコキシ」は一般に炭素原子７〜１４個を有する
アラルキル基を表わし、該アルキレン鎖は酸素原子を介
して結合している。脂肪族部分に炭素原子１〜６個及び
芳香族部分に炭素原子６〜１２個を有するアルコキシ基
が好ましい。例として次のアルコキシ基を挙げることが
できる：ベンジルオキシ、ナフチルメトキン、７エネト
キシ及びフェニルプロピルシ。

「アラルキルチオ」は一般に炭素原子７〜約１４個を有
するアラルキル基を表わし、該アルキル鎖は硫黄原子を
介して結合している。脂肪族部分に炭素原子１〜６個及
び芳香族部分に炭素原子６〜１２個を有するアラルキル
チオ基が好ましい。

例として次のアラルキルチオ基を挙げることかできる：
ベンジルチオ、ナフチルメチルチオ、フェネチルチオ及
びフェニルプロピルチオ。

「アラルキルスルホニル」は一般に炭素原子７〜約１４
個を有するアラルキル基を表わし、該アルキル基はＳ０
２鎖を介して結合している。脂肪族部分に炭素原子１〜
６個及び芳香族部分に炭素原子６〜１２個を有するアラ
ルキルスルホニル基が好ましい。例として次のものを挙
げることかできる：ベンジルスルホニル、ナフチルメチ
ルスルホニル ピルスルホニル 「アルコキシカルボニル」は例えば式−Ｃ−Ｏ葺 ーアルキルによって表わすことができる。ここで、アル
キルは炭素原子１−１２個を有する直鎖状または分枝鎖
状炭化水素基を表わす。アルキル部分に炭素原子１〜約
６個を有する低級アルコキシカルボニルが好ましい。ア
ルキル部分に炭素原子１〜４個を有するアルコキシカル
ボニルが好マシい。

例として次のアルコキシカルボニル基を挙げることがで
きる：エトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル及びイソブトキシカルボニル。

「アシル」は一般にフェニルまた炭素原子１〜約６個を
有する直鎖状または分枝鎖状低級アルキルを表わし、こ
れらの基はカルボニル基を介して結合する。フェニル及
び炭素原子４個までを有するアルキル基が好ましい。挙
げ得る例は次のものである：ベンゾイル、アセチル、エ
チルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカ
ルボニル、ブチルカルボニル及びイソブチルカルボニル
。

「ハロゲン」は一般にフッ素、塩素、臭素またはヨウ素
、好ましくはフッ素、塩素または臭素を表わす。ハロゲ
ンは殊に好ましくはフッ素または塩素を表わす。

「ヘテロアリール」は、上記の定義に関して、一般に５
〜６−員の芳香族環を表わし、該環はへテロ原子として
酸素、硫黄及び／または窒素原子を含んでいてもよく、
そしてこれに更に芳香族環が融合していてもよい。酸素
１個、硫黄１個及び／または窒素２個までを含み且つ随
時ベンゾ−融合していてもよい５及び６−員の芳香族環
が好ましい。挙げ得る殊に好ましいヘテロアリール基は
次のものである：チェニル、フリル、ピロリル、ピラゾ
リル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニ
ル、キノリル、イソキノリル、キ，ナゾリル、キノキサ
リル、フタラジニル、シンノリル、チアゾリル、ベンゾ
チアゾリル、イソチアゾリル、オキサシリル、ベンズオ
キサゾリル、インキサゾリル、イミダゾリル、ベンズイ
ミダゾリル、ピラゾリル、インドリル及びイソインドリ
ル。

Ｒ８がエステル基を形成するアルキル、アリール、アラ
ルキルを表わす場合、これらの基は好ましくは生体内で
容易に加水分解されて遊離カルボキシル基及び対応する
生理学的に許容し得るアルコールを生成する生理学的に
許容し得るエステル基を意味する。これらの基には例え
ばアルキルエステル（Ｃ．〜ｃｍ）及ヒアラルキルエス
テル（ｃｒ〜Ｃ，。）、好ましくは低級アルキルエステ
ル及びベンジルエステルが含まれる。次のエステル基を
更に挙げることができる：メチルエステ／Ｕ。

エチルエステル、プロピルエステル及ヒベンジルエステ
ル。

Ｒ８が陽イオンを表わす場合、該イオンは好ましくは生
理学的に許容し得る金属またはアンモニウム塩である。

ここで好ましい陽イオンはアルカリ金属及びアルカリ土
類金属陽イオン、例えばナトリウム、カリウム、マグネ
シウムまたはカルシウム陽イオン、及びアルキニウムま
たはアンモニウム陽イオン、並びにアミン、例えばジ−
低級アルキルアミン、トリー低級アルキルアミン、プロ
力イン、ジベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレ
ンアミン、Ｎ−ベンジル−β−フェニルエチルアミン、
Ｎ−メチルモルホリンもしくはＮ−エチルモルホリン、
ｌ−エフエナミン、ジヒドロアビエチルアミン、Ｎ、Ｎ
’−ビス−ジヒドロアビエチルエチレンアミン、Ｎ−低
級アルキルピペリジン及び塩生成に使用し得る他のアミ
ンによる無毒性の置換されたアンモニウム陽イオンであ
る。

本発明に関連して、置換されたピロール（Ｉ　ａ）は一
般式 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ及びＡは上記の意味
を有する、 に対応する。

本発明に関連して、Ｎ−置換されたピロール（Ｉ　ｂ）
は一般式 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ及びＡは上記の意味
を有する、 に対応する。

一般式（１）に関連して、一般式（Ｉ　ａ）及び（Ｉ　
ｂ）を有する化合物が好ましい。

好ましい化合物は一般式（Ｉ　ａ）及び（Ｉ　ｂ）式中
、Ｒ’がシクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロ
ヘキシルを表わすか、或いは低級アルキルを表わし、該
アルキルはフッ素、塩素、臭素、シアノ、低級アルコキ
シ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル、トリ
フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
メチルスルホニル、低級アルコキシカルボニル、ベンゾ
イルもしくは低級アルキルカルボニルで、または式−Ｎ
Ｒ’Ｒ＠の基で、但し、 Ｒ８及びＲ＠は同一もしくは相異なるものであす、低級
アルキル、フェニル、ベンジル、アセチル、ベンゾイル
、フェニルスルホニルまたは低級アルキルスルホニルを
表わす、或いは ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、キ
ノリル、イソキノリル、ピリル、インドリル、チェニル
、フリル、イミダゾリル、オキサシリル、チアゾリル、
フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホ
ニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルホ
ニル、フェニルエトキシ、フェニルエチルチオまたはフ
ェニルエチルスルホニルで置換されていてもよく、上記
のへテロアリール及びアリール基はフッ素、塩素、臭素
、低級アルキル、低級アルコキシ、トリフルオロメチル
及びトリフルオロメトキシよりなる群からの２個までの
同一もしくは相異なる置換基で置換されていてもよく、 Ｒ２及びＲ３は同一もしくは相異なるものであり、チェ
ニル、フリル、チアゾリル、インチアゾリル、オキサシ
リル呟　インキサゾリノ呟ピリジル、ビリミジノ呟　ピ
ラジニル、ピリダジニル、インドリル、イソインドリノ
呟キノリル、イソキノリル、フタラジニル、キノキサリ
ニル、キナゾリニル、シンノリニル、ベンゾチアゾリル
、ベンズオキサゾリルまたはベンズイミダゾリルを表わ
し、数基はフッ素、塩素、臭素、低級アルキル、低級ア
ルコキシ、フェニル、フェノキシ、トリフルオロメチ／
呟トリフルオロメトキシ及び低級アルコキシカルボニル
よりなる群からの２個までの同一もしくは相異なる置換
基で置換されていてもよく、或いはフェニルまたはナフ
チルを表わし、数基は低級アルキノ呟低級アルコキシ、
低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニノペ７工二ル
、フェニルオキシ、フェニルチオ、フェニルスルホニル
、ベンジル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジル
スルホニル、フェネチル、フェニルエトキシ、フェニル
エチルチオ、フェニルエチルスルホニル、フッ素、塩素
、臭素、シアノ、トリフルオロメチル、トルフルオロメ
トキシ、トリフルオロメチルチオ、低級アルコキシカル
ボニル及び式−ＮＲ５Ｒ６、但し、 Ｒ５及びＲ６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの４個までの同一もしくは相異なる
置換基で置換されていてもよく、Ｒ４が水素を表わすか
、ベンゾイルまたは低級アルキルカルボニルを表わすか
、低級アルキルスルホニル、フェニルスルホニルまたは
トリルスルホニルを表わすか、アミノカルボニル、低級
アルキルアミノカルボニル、ジー低級アルキルカルボニ
ル、フェニルアミノカルボニルまたは低級アルコキシカ
ルボニルを表わすか、シクロプロピル、シクロペンチル
またはシクロヘキシル基を表わすか、低級アルキルを表
わし、該アルキルはフッ素、塩素、臭素、シアノ、低級
アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニ
ル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリ
フルオロメチルスルホニル、低級アルコキシカルボニル
、ベンゾイルもしくは低級アルキルカルボニルで、式−
Ｎ　Ｒ５Ｒ６、但し、Ｒ３及びＲ曝は同一もしくは相異
なるものであす、低級アルキル、フェニル、ベンジル、
アセチル、ベンゾイル、フェニルスルホニルまたは低級
アルキルスルホニルを表わす の基で、またはピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピ
リダジニル、キノリル、イソキノリル、ピロリル、イン
ドリル、チェニル、フリル、イミダゾリル、オキサシリ
ル、チアゾリル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ
、フェニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ
、ベンジルスルホニル、フェニルエトキシ、フェニルエ
チルチオもしくはフェニルスルホニルで置換されていて
もよく、該ヘテロアリール及びアリール基は７ツ素、塩
素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシ、トリフルオ
ロメチル及びトリフルオロメトキシよりなる群からの２
個までの同一もしくは相異なる置換基で置換されていて
もよく、或いはＲ′がチェニル、フリル、チアゾリル、
インチアゾリル、オキサシリル、インキサゾリル、ピリ
ジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、インド
リル、イソインドリル、キノリル、イソキノリル、フタ
ラジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニ
ル、ベンゾチアゾリル、ベンズオキサゾリルまたはベン
ズイミダゾリルを表わし、数基はフッ素、塩素、臭素、
低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、フェノキシ
、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ及び低級
アルコキシカルボニルよりなる群からの２個までの同一
もしくは相異なる置換基で置換されていてもよく、或い
はフェニルまたはナフチルを表わし、数基は低級アルキ
ル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキル
スルホニル、フェニル、フェニルエトキシ、フェニルチ
オ、フェニルスルホニル、ベンジル、ベンジルオキシ、
ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、フェネチル、フェ
ニルエトキシ、フェニルエチルチオ、フェニルエチルス
ルホニル、フッ素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロ
メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
オ、低級アルコキシカルボニル及ヒ式％式％ Ｒ５及びＲ６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの４個までの同一もしくは相異なる
置換基で置換されていてもよく、Ｘが式−ＣＨ、−ＣＨ
、−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、 Ａは式 ％式％ Ｒ１は水素または低級アルキルを表わし、そして Ｒ８は水素、アルキルＣＣ，−Ｃ４）、アリール（ＣＳ
−Ｃｌ２）、アラルキル（ｃｙ〜Ｃ１゜）を表わすか、
または生理学的に許容し得る陽イオンを表わす、 の化合物である。

殊に好ましい化合物は一般式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）、但
し、 Ｒ１がシクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘ
キシルを表わすか、或いはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ　、−ブチルまたはｔｅ
ｒｔ、−ブチルを表わし、数基はフッ素、塩素、臭素、
シアノ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ、ｓｅｃ、−ブトキシ、ｔｅｒｔ、−ブ
トキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソ
プロピルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、
プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソ
ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニル
、ベンゾイル、アセチル、ピリジル、ピリミジル、チェ
ニル、フリル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、
フェニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオま
たはベンジルスルホニルで置換されていてもよく、 Ｒ２及びＲ３が同一もしくは相異なるものであり、フッ
素、塩素、メチル、メトキシまたはトリフルオロメチル
で置換されていてもよいピリジル、ピリミジル、キノリ
ルまたはイソキノリルを表わすか、或いはフェニルを表
わし、該フェニルはメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ、−ブチル、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ、−ブトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロポキシす、メ
チルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニ
ル、イソプロピルスルホニル、フェニル、ベンジル、ベ
ンジルオキシ、７ツ素、塩素、臭素、シアノ、トリフル
オロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブト
キシカルボニル及びｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニルよ
りなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換基
で置換されていてもよく、 Ｒ４が水素、シクロプロピル、シクロペンチルまたはシ
クロヘキシルを表わすか、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ、−ブチ
ル、ペンチル、インペンチル、ヘキシルまたはイソヘキ
シルを表わし、数基はフッ素、塩素、臭素、シアノ、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ、　−ブトキシ、メチル
チオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、
ブチルチオ、イソブチルチオ、Ｅａｒｌ−ブチルチオ、
メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホ
ニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イ
ンブチルスルホニル、ｔｅｒｔ、−ブチルスルホニル、
トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル、ｔａｒｔ、−ブトキシカルボ
ニル、ベンゾイル、アセチルもしくはエチルカルボニル
で、または基 −ＮＲ５Ｒ６で、但し、 Ｒ８及びＲ６は同一もしくは相異なるものであり、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｔｅｒｔ、−ブチル、フェニル、ベンジル、アセ
チル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピル
スルホニル、イソプロピルスルホニルまたはフェニルス
ルホニルを表わす、或いは ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、キ
ノリル、イソキノリル、チェニル、フリル、フェニル、
フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホニル、ベン
ジルオキシ、ベンジルチオまたはベンジルスルホニルで
置換されていてもよく、該ヘテロアリール及びアリール
基はフッ素、塩素、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ。

−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ、ブトキシ、インブトキシ、ｔｅｒｔ、−ブトキ
シ、トリフルオロメチルまたはフルオロメトキシで置換
されていてもよく、或いは Ｒ４がチェニル、フリル、ピリジル、ピリミジル、ピラ
ジニル、ピリダジニル、オキサシリル、インキサゾリル
、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾ
リル、キノリル、イソキノリル、ベンズオキサゾリル、
ベンズイミダゾリルまたはベンゾチアゾリルを表わし、
数基はフッ素、塩素、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ、−ブチル、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、インブトキシ、ｔｅｒｔ、−ブトキシ、フェニ
ル、フェノキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
トキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、イソブトキシカルボニルまたはｔｅｒ
ｔ、−ブトキシカルボニルで置換されていてもよく、或
いはＲ４がフェニルを表わし、数基はメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒ
ｔ、−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イ
ソヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ、−ブト
キシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔａｒｔ、
−ブチルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、
プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチル
スルホニル、インブチルスルホニル、ｔｅｒｔ、　−７
’チルスルホニル、フェニル、フェノキシ、フェニルチ
オ、フェニルスルホニル、ベンジル、ベンジルオキシ、
ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、フッ素、塩素、臭
素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、トリフルオロメチルチオ、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポ
キシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカ
ルボニル、ｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニル及び基−Ｎ
Ｒ５Ｒ６、但し、 Ｒ５及びＲｅは上記の意味を有する、 よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
基で置換されていてもよく、或いは Ｒ４がベンゾイル、アセチル、エチルカルボニル、プロ
ピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、メチルスル
ホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソ
プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルス
ルホニル、ｔｅｒｔ、−ブチルスルホニル、フェニルス
ルホニルまたはトリルスルホニルを表わすか、或いはア
ミノカルボニル、メチル−、エチル−、プロピル−、イ
ソプロピルー、ブチル−、イソブチル−もしくはｔｅｒ
ｔ、−ブチルアミノカルボニル、ジメチル−、ジエチル
−、ジプロピル−、ジ−イソプロピル−、ジブチル−も
しくはジイソブチルアミノカルボニル、フェニルアミノ
カルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブ
トキシカルボニルまたはｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニ
ルを表わし、 Ｘが式−ＣＨ，−ＣＨ，−または−〇Ｈ−ＣＨ−の基を
表わし、そして Ａが式 ％式％ Ｒ７は水素、メチル、エチル、プロピル、イソブロビル
、ブチル、イソブチルまたはｔｅｒｔ、−ブチルを表わ
し、そして Ｒ′は水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ、−ブチルまたはベン
ジルを表わすか、或いはナトリウム、カリウム、カルシ
ウムもしくはマグネシウムイオンまたはアンモニウムイ
オンを表わす、 の化合物である。

本発明における一般式（１）の置換されたビロールは数
個の不斉炭素原子を有し、従って種々な立体化学的型で
存在するこ七ができる。本発明は個個の異性体及びその
混合物の双方に関する。

基Ｘまたは基Ａの意味に応じて、異なる立体異性体が生
じ、これを次に更に詳細に説明する：ａ）基−Ｘ−が式
−ＣＨ−ＣＨ−の基を表わす場合、本発明における化合
物は２種の立体異性体型で存在することができ、これら
のものは二重結合に関連してＥ−立体配置（ｎ）または
Ｚ−立体配置を有することができる。

（Ｒ１−Ｒ４及びＡは上記の意味を有する）。

一般式（１）の好ましい化合物はＥ−立体配置（ＩＩ）
を有するものである。

ｂ）基−Ａ−が式 の基を表わす場合、一般式（Ｉ）の化合物は少なくとも
２個の不斉炭素原子、即ち、ヒドロキシル基が結合した
２個の炭素原子を有する。相互に関連してこれらのヒド
ロキシル基の位置に応じて、本発明における化合物はエ
リスロー立体配置（■）またはスレオ−立体配置（Ｖ）
として存在することができる。

またエリスロー立体配置及びスレオ−立体配置における
双方の化合物に各々２種のエナンチオマー、即ち３Ｒ，
５Ｓ＝異性体及び３Ｓ、５Ｒ−異性体（エリスロー型）
並びに３Ｒ，５Ｒ−異性体及び３ｓ、５Ｓ−異性体（ス
レオ−型）が存在する。

エリスロー立体配置における異性体が好ましく、３Ｒ，
５Ｓ−異性体及び３　Ｒ，５Ｓ−３Ｓ、５　Ｒ−異性体
が殊に好ましい。

Ｃ）基−Ａｍが式 の基を表わす場合、置換されたピロールは少なくとも２
個の不斉炭素原子、即ち、ヒドロキシル基が結合した炭
素原子及び式 の基が結合した炭素原子を有する。ラクトン環における
遊離原子価に関してヒドロキシル基の位置に応じて、置
換されたとロールはシス−ラクトン（Ｖｌ）またはトラ
ンス−ラクトン（■）として存在することができる。

またシス−ラクトン及びトランス−ラクトンの双方の場
合に２種の異性体、即ち、４Ｒ，６Ｒ−異性体及び４Ｓ
、６Ｓ−異性体（シス−ラクトン）並びに４Ｒ，６Ｓ−
異性体及び４Ｓ、６Ｒ−異性体（トランス−ラクトン）
が存在する。好ましい異性体はトランス−ラクトンであ
る。４Ｒ，６Ｓ−異性体（トランス）及び４　Ｒ，６Ｓ
−４Ｓ、６　Ｒ−異性体が殊に好ましい。

次の置換されたビロールの異性体型を例として挙げるこ
とができる： Ｏｌｌ　　　　０１１ 「 Ｏｌｌ　　　　０１１ Ｒ″ 特に好ましい化合物は一般式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）、但
し、 Ｒ１はシクロプロピル、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチルまたはｔｅｒｔ、−ブ
チルを表わし、 Ｒ２及びＲ３は同一もしくは相異なるものであり、フェ
ニルを表わし、数基はメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジル
オキシ、フッ素、塩素またはトリフルオロメチルよりな
る群からの２個までの同一もしくは相異なる置換基で置
換されていてもよく、或いは Ｒ３はメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルを
表わし、 Ｒ４は水素、シクロプロピル、シクロペンチルまたはシ
クロヘキシルを表わすか、或いはメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ、
−ブチル、ペンチル、インペンチル、ヘキシルまたはイ
ソヘキシルを表わし、Ｒ５及びＲ６は同一もしくは相異
なるものであり、随時フッ素、塩素、メチル、メトキシ
、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシで置
換されていてもよいピリジル、ピリミジル、キノリル、
チェ°ニル、フリル、フェニル、フェノキシ、フェニル
スルホニルまたはベンジルオキシを表わし、或いはＲ４
はフェニルを表わし、数基はメチル、エチル、メトキシ
、エトキシ、フェニル、ベンジル、フッ素、塩素、トリ
フルオロメチルよりなる群からの２個までの同一もしく
は相異なる置換基で置換されていてもよく、 Ｘは式 ％式％） Ａは式 ＯＨＯＨ の基を表わし、ここに、 Ｒ７は水素を表わし、そして Ｒ８は水素、メチルまたはエチルを表わすか、或いはナ
トリウムまたはカリウム陽イオンを表わす、の化合物で
ある。

また一般式（■） 式中、Ｒ】、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記の意味を有し、
そして Ｒ１／はアルキルを表わす、 のケトンを還元し、酸を製造する場合には、エステルを
加水分解し、ラクトンを製造する場合には、カルボン酸
を環形成させ、塩を製造する場合には、エステルまたは
ラクトンを加水分解し、エチレン化合物（Ｘ−−ＣＨ，
−ＣＨ，−）を製造する場合には、エテン化合物（Ｘ−
−ＣＨ−ＣＨ−）を普通の方法で水素添加し、そして適
当ならば異性体を分離することを特徴とする一般式（１
） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ＠、Ｘ及びＡ
は上記の意味を有する、 の置換されたビロールの製造方法が見出された。

本発明における方法は次の反応式によって説明すること
ができる； ↓加水分解 ＯＨ 還元は普通の還元剤、好ましくはケトンをヒドロキシ化
合物に還元するために適する還元剤を用いて行うことが
できる。適当ならばトリアルキルルポランの存在下にお
いて不活性溶媒中の金属水素化物または複合金属水素化
物が殊に適当である。

還元は好ましくは複合金属水素化物、例えばりチウムポ
ラネート、ナトリウムポラネート、カリウムポラネート
、亜鉛ポラネート、リチウムトリアルキルヒドリド−ポ
レート、ナトリウムトリアルキル−ヒドリドポラネート
、ナトリウムシアノ−トリヒドリド−ポレートまたは水
素化リチウムアルミニウムを用いて行われる。還元は特
に好ましくはトリエチルポランの存在下において水素化
ホウ素ナトリウムを用いて行われる。

適当な溶媒は反応条件下で変化せぬ普通の有機溶媒であ
る。これらの溶媒には好ましくはエーテル、例えばジエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランまたは
ジメトキシエタン、ハロゲノ炭化水素、例えば塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素または１．２−ジクロ
ロエタン、或いは炭化水素、例えばベンゼン、トルエン
またはキシレンが含まれる。また上記溶媒の混合物を用
いることもできる。

ケトン基のヒドロキシル基への還元は殊に好ましくは他
の官能基、例えばアルコキシカルボニル基を変えぬ条件
下で行われる。このためには、不活性溶媒、好ましくは
エーテル中でトリエチルポランの存在下において還元剤
として水素化ホウ素ナトリウムを用いることが殊に適当
である。

一般に還元は一８０℃乃至室温、好ましくは一７８℃乃
至０℃の温度範囲で行われる。

一般に本発明における方法は大気圧下で行われる。しか
しながら、また本方法を減圧下または外圧下（例えば０
．５〜５バール）で行うこともできる。

一般に還元剤をケト化合物１モル当り１〜２モル、好ま
しくはｌ　−１，５モルの量で用いる。

上記の反応条件下で、一般に二重結合の還元により単結
合の生成を起こすことなく、カルボニル基がヒドロキシ
ル基に還元される。

Ｘがエチレン基を表わす一般式（Ｉ）の化合物を製造す
るために、ケトン（ＩＩＩ）の還元をカルボニル基及び
二重結合の双方が還元される条件下で行うことができる
。

更にまた、カルボニル基の還元及び二重結合の還元を２
つの別個の工程で行うこともできる。

一般式（Ｉ）に関連するカルボン酸は式（Ｉｃ）式中、
Ｒ１１Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７及びｘは上記の意味を有
する、 に対応する。

一般式（Ｉ）に関連するカルボン酸エステルは式（Ｉｄ
） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７及びＸは上記の意
味を有し、そして Ｒａはアルキルを表わす、 に対応する。

一般式（Ｉ）に関連する本発明における化合物の塩は式
（Ｉｅ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７及びＸは上記の意
味を有し、そして Ｍｌは陽イオンを表わす、 に対応する。

一般式（Ｉ）に関連するラクトンは式（Ｉｆ）式中、Ｒ
１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７及びＸは上記の意味を有す
る、 に対応する。

本発明における一般式（Ｉｃ）のカルボン酸を製造する
ために、一般に、一般式（Ｉｄ）のカルボン酸エステル
または一般式（Ｉｆ）のラクトンを普通の方法によって
加水分解する。一般に加水分解は不活性溶媒中でエステ
ルまたはラクトンを普通の塩基で処理して行われ、その
際、一般にまず一般式（１ｅ）の塩を生じ、次にこのも
のを第二工程において酸で処理して一般式（Ｉｃ）の遊
離酸に転化することができる。

加水分解に対する適当な塩基は普通の無機塩基である。

これらの塩基には好ましくはアルカリ金属水酸化物また
はアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムまたは水酸化バリウム、アルカリ金属
炭酸塩、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは重
炭酸ナトリウム、或いはアルカリ金属アルコレート、例
えばナトリウムメチレート、ナトリウムメチレート、カ
リウムメチレート、カリウムメチレートまたはカリウム
ｔｅｒｔ、−ブチレートが含まれる。水酸化ナトリウム
または水酸化カリウムを用いることが殊に好ましい。

加水分解に対する適当な溶媒は水または加水分解に対す
る普通の有機溶媒である。これらの溶媒には好ましくは
アルコール、例えばメタノール、エタノール、イソプロ
パツールまたはブタノール、エーテル、例えばテトラヒ
ドロフランまたはジオキサン、或いはジメチルホルムア
ミドまたはジメチルスルホキシドが含まれる。アルコー
ル、例えばメタノール、エタノール、プロパノールまた
はインプロパツールを用いることが殊に好ましい。

また上記溶媒の混合物を用いることもできる。

一般に加水分解は０℃乃至＋１００℃、好ましくは＋２
０℃乃至＋８０℃の温度範囲で行われる。

一般に加水分解は大気圧下で行われる。しかしながら、
また加水分解を減圧下または昇圧下（例えば０．５〜５
バール）で行うこともできる。

加水分解を行う際に、一般にエステルまたはトルエン１
モル当り塩基を１〜３モル、好ましくは１〜１．５モル
の量で用いる。反応体の等モル量を用いることが殊に好
ましい。

反応を行なう際に、本発明における化合物（Ｉｅ）を第
一工程において中間生成物として生成させ、そして単離
することができる。本発明における酸（Ｉｃ）は塩（ｌ
ｅ）を普通の無機酸で処理して得られる。これらの酸に
は好ましくは鉱酸、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸また
はリン酸が含まれる。カルボン酸（Ｉｃ）を製造する際
、加水分解の塩基性反応混合物を第二工程において、塩
を単離せずに、酸性にすることが有利であることがわか
った。次に酸を普通の方法で単離することができる。

本発明における式（Ｉｆ）のラクトンを製造するために
、一般にカルボン酸（Ｉｃ）を普通の方法で、例えば不
活性有機溶媒中で、適当ならば分子ふるいの存在下にお
いて対応する酸を加熱することによって環形成させる。

適当な溶媒は炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレンまたは石油留分、或いはテトラリンまたはジグリ
ムもしくはトリグリムである。ベンゼン、トルエンまた
はキシレンを用いることが好ましい。また上記溶媒の混
合物を用いることもできる。分子ふるいの存在下におい
て炭化水素、例えばトルエンを用いることが殊に好まし
い。

一般に環形成は一４０℃乃至＋２００℃、好ましくは一
２５°Ｃ乃至＋５０°Ｃの温度範囲で行われる。

一般に環形成は大気圧下で行われるが、しかし、またこ
の処理を減圧下または昇圧下（例えば０．５〜５パール
の範囲）で行うこともできる。

更に、また環形成は不活性有機溶媒中で環形成剤または
脱水剤を用いて行われる。脱水剤として好ましくはカル
ボジイミドを用いる。好ましくはカルボジイミドとして
、Ｎ、Ｎ’−ジシクロヘキシルカルホシイミＦｐ−トル
エンスルホネー）、Ｎ−シクロへキシル−Ｎ’−［２−
（Ｎ“−メチルモルホリニウム）エチル］カルボジイミ
ドまたはＮ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ′−
エチルカルボジイミド塩酸塩が用いられる。

適当な溶媒は普通の有機溶媒である。これらの溶媒には
好ましくはエーテル、例えばジエチルエーテ／Ｕ、テト
ラヒドロフランまたはジオキサン、クロロ炭化水素例え
ば塩化メチレン、クロロホルムまたは四塩化炭素、炭化
水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたは石油
留分が含まれる。

クロロ炭化水素例えば塩化メチレン、クロロホルムまた
は四塩化炭素、或いは炭化水素、例えばベンゼン、トル
エンもしくはキシレンまたは石油留分が殊に好ましい。

殊に好ましくはクロロ炭化水素、例えば塩化メチレン、
クロロホルムまたは四塩化炭素を用いる。

一般に反応は０℃乃至＋８０℃、好ましくは＋１０℃乃
至＋５０℃の温度範囲で行われる。

環形成反応を行う際に、環形成法に脱水剤としてカルボ
ジイミドを用いることが有利であることがわかった。

一般に異性体はイー・エル・エリエル（Ｅ、Ｌ。

Ｅｌｉｅｌ）によって炭素化合物の立体化学（Ｓ　ｔｅ
ｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｃａｒｂｏｎ　Ｃｏ
＋ｍｐｏｕｎｄｓ、　ＭｃＧｒａｗＨｉｌｌ、　　ｌ　
９６２）に記載された如き普通の方法によって、立体化
学的に均一な成分に分割される。

ラセミ性ラクトンまたはエステル段階での異性体の分割
が好ましい。殊に好ましくはエリスローエステル（ＩＶ
）のラセミ性混合物を普通の方法によってＤ−（＋）−
またはＬ−（−）−σ−メチルベンジルアミンで処理し
て、ジアステレオマー性ジヒドロキシアミド（Ｉｇ） に転化し、次にこのものを普通の方法においてクロマト
グラフィーまたは結晶化によって個々のジアステレオマ
ーに分割することができる。次に純粋なジアステレオマ
ー性アミドを普通の方法によって、例えばジアステレオ
マ性アミドを水及び／または有機溶媒例えばアルコール
、例えばメタノール、エタノール、プロパツールまたは
イソプロパツール中にて無機塩基、例えば水酸化ナトリ
ウムまたは水酸化カリウムで処理して加水分解し、対応
するエナンチオマー的に純粋なジヒドロキシ酸（Ｉｃ）
を生成させ、このものを上記の如く環形成させてエナン
チオマー的に純粋なラクトンに転化することができる。

一般に、エナンチオマー的に純粋な型における本発明に
よる一般式（Ｉ）の化合物を製造する際に、上記方法に
よって得られる目的生成物の立体配置は出発物質の立体
配置に依存する。

異性体の分割を例として次の反応式によって説明する： 出発物質として用いるケトン（■）は新規なものである
。

一般式（ＩＩ） 式中、Ｒ１、Ｒ８、Ｒ３及びＲ４は上記の意味を有する
、 のアルデヒドを塩基の存在下において不活性溶媒中で一
般式（Ｘ） Ｈ２ＯＣ−ＣＨ２−Ｃ０ＯＲ”　　（Ｘ）式中、Ｒ１′
はアルキルを表わす、 のアセト酢酸エステルと反応させることを特徴とする本
発明による一般式（■） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ”、Ｒ’及びＲ８は
上記の意味を有する、 のケトンの製造方法が見出された。

本発明による方法は例えば次の反応式によって説明する
ことができる； 使用可能な塩基は普通の強塩基化合物である。

これらの塩基には好ましくは有機リチウム化合物、例え
ばｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ、−ブチルリチウム、ｔ
ｅｒｔ、−ブチルリチウムまたはフェニルリチウム、ア
ミド、例えばリチウムジイソプロピルアミド、ナトリウ
ムアミドまたはカリウムアミドまたはリチウムへキサメ
チルジシリルアミド、或いはアルカリ金属水素化物、例
えば水素化ナトリウムまたは水素化カリウムが含まれる
。また上記塩基の混合物を用いることもできる。殊に好
ましくはｎ−ブチルリチウムまｔ；は水素化ナトリウム
或いはその混合物を用いる。

適当な溶媒は反応条件下で変化せぬ普通の有機溶媒であ
る。これらの溶媒には好ましくはエーテル、例えばジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたは
ジメトキシエタン、或いは炭化水素、例えばベンゼン、
トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ヘキサンまたは
石油留分が含まれる。また上記溶媒の混合物を用いるこ
ともできる。殊に好ましくはエーテル、例えばジエチル
エーテルまたはテトラヒドロフランを用いる。

一般に温度は一８０℃乃至＋５０℃、好ましくは一２０
℃乃至室温の温度範囲である。

一般にこの方法は大気圧下で行われるが、しかし、また
減圧下または昇圧下、例えば０．５〜５バールの範囲で
行うこともできる。

この方法を行う際に、一般にアルデヒド１モル当りアセ
ト酢酸エステルを１〜２モル、好ましくはｌ−１，５モ
ルの量で用いる。

出発物質とし用いる式（Ｘ）のアセト酢酸エステルは公
知のものであるか、或いは公知の方法によって製造する
ことができる［パイルシュタインの有機化学のハンドブ
ック（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ’ｓ　１（ａｎｄ−ｂｕｃｈ
　ｄｅｒ　ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅ＋１ｉｅ）
、■、６３２：４３８］　。

本発明における方法に対してアセト酢酸エステルの挙げ
得る例は次のものである：アセト酢酸メチル、アセト酢
酸エチル、アセト酢酸プロピル及びアセト酢酸イソプロ
ピル。

出発物質として用いる一般式（ｒｌ）のアルデヒドは新
規なものである。

また一般式（Ｉ［） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記の意味を有する
、 のピロールを補助剤の存在下において不活性溶媒中で式
（Ｘｌ） Ｈ，Ｃ Ｎ−ＣＨ−ＣＨ−ＣＨｏ　　　（ｎ） Ｈ，Ｃ のＮ、Ｎ−ジメチルアクロレインと反応させることを特
徴とする一般式（ＩＩ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１、Ｒ６及びＲ’は上記の
意味を有する、 のアルデｔドの製造方法が見出された。

本発明による方法は例えば次の反応式によって説明する
ことができる： 適当な溶媒は反応条件下で安定である普通の有機溶媒で
ある。これらの溶媒には好ましくは炭化水素、例エハヘ
ンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、石油留分、ク
ロロベンゼンもしくはジクロロベンゼン、エーテル、例
えばジエチルエーテル、ジオキサンまたはテトラヒドロ
７ラン、クロロ炭化水素例えば塩化メチレン、クロロホ
ルムまたは四塩化炭素、或いはアセトニトリルが含まれ
る。また上記溶媒の混合物を用いることもできる。

殊に好ましくは無水アセトニトリルまたはクロロホルム
を用いる。

一般に使用する補助剤は酸塩化物である。オキシ塩化リ
ンまたはホスゲンを用いることが好ましく、オキシ塩化
リンが殊に好ましい。

この反応は一２０℃乃至＋１５０℃、好ましくは０℃乃
至＋１００℃の温度範囲で行われる。

一般にこの方法は大気圧下で行われる。しかしながら、
またこの方法を減圧下または昇圧下（例えば０．５〜５
バールの範囲）で行うこともできる。

一般にこの方法を行う際に、ビロール１当りジメチルア
ミノアクロレインを２〜６モル、好ましくは３〜４モル
の量で用いる。

出発物質として用いる一般式（Ｔ１）のピロールは公知
のものであるか、或いは公知の方法によって製造するこ
とができる［エイ・グロツソイエル（Ａ　、　Ｇ　１ｏ
ｓｓａｕｅｒ）、「ピロールの化学」（“ＤｉｅＣｈｅ
ｍｉｅ　ｄｅｒ　Ｐｙｒｒｏｌｅ”）、Ｓｐｒｉｎｇｅ
ｒ　ＶｅｒｌａｇＢｅｒｌｉｎ％ｌ　９７４　］。

本発明による一般式ＣＩ）の化合物は有用な薬理学的特
性を有し、殊に本化合物は３−ヒドロキシ−３−メチル
グルタリル補酵素Ａ（ＢＧＭ−ＣｏＡ）還元酵素の阻害
剤であり、結果として、コレステロール生体合成の抑制
剤である。従って、本化合物は過脂肪蛋白質症（ｈｙｐ
ｅｒｌｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎａｅｍｉａ）、脂肪蛋白質
症（Ｌ　ｉｐｏｐｒｏｔｅｉｎａｅｍｉａ）またはアテ
ローム性動脈硬化症の処置に対して用いることができる
。加えて、本発明による活性化合物は血中コレステロー
ル含量の減少をもたらす。

本発明による活性化合物は公知の方法において普通の調
製物、例えば不活性な無毒性の製薬学的に適当な賦形剤
または溶媒を用いて、錠剤、糖衣丸、乳剤、粒剤、エア
ロゾル、シロップ、乳剤、懸濁剤及び溶液に転化するこ
とができる。各々の場合に、治療的に活性な化合物が全
混合物の約０゜５〜９８重量％、好ましくは１〜９０重
量％の濃度、・即ち、指示した投薬量範囲にするために
十分な量で存在すべきである。

調製物は例えば活性化合物を、適当ならば乳化剤及び／
または分散剤を用いて、溶媒及び／または賦形剤で伸展
することによって製造され、そして例えば希釈剤として
水を用いる場合、適当ならば補助溶媒として有機溶媒を
用いることができる。

挙げ得る補助剤の例は次のものである：水、無毒性の有
機溶媒、例えばパラフィン（例えば石油留分）、植物油
（例えば落花生油／ゴマ油）、アルコール（例えばエチ
ルアルコールまたはグリセリン）、賦形剤、例えば天然
岩石粉末（例えばカオリン、アルミナ、タルク及びチョ
ーク）、合成岩石粉末（例えば高分散性ケイ酸及びシリ
ケート）、糖（例えばスクロース、ラクトース及びグル
コース）、乳化剤（例えばポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル
、アルキルスルホネート及びアリールスルホネート）、
分散剤（例えばリグニン−亜硫酸塩廃液、メチルセルロ
ース、殿粉及びポリビニルピロリドン）並びに潤滑剤（
例えばステアリン酸マグネシウム、タルク、ステアリン
酸及びラウリル酸ナトリウム）。

投与は普通の方法において、好ましくは経口的、非経口
的、舌下的または静脈内に行われる。経口用途の場合、
勿論、また錠剤には上記の賦形剤に加えて、更に種々な
物質、例えば殿粉、好ましくはポテト殿粉、ゼラチン等
と共に、添加物、例えばクエン酸ナトリウム、炭酸カル
シウム及びリン酸二カルシウムを含ませることができる
。更に、錠剤を製造する際に、潤滑剤、例えばステアリ
ン酸マグネシウム、ラウリル硫酸ナトリウム及びタルク
を共に用いることができる。水性懸濁液の場合、上記の
補助剤に加えて、活性化合物に種々な風味−改警剤また
は着色剤を加えることができる。

非経口投与の場合、活性化合物の溶液は、適当な液体賦
形剤を用いて使用することができる。

一般に静脈内投与の場合、効果的な成果を達成するため
に、約０．００１〜ｌＩＩＩｇ／ｋｇ体重、好ましくは
約０．Ｏ１〜０　、５　ｍｇ／　ｋｇ体重の量を投与す
ることが有利であることがわかり、一方、経口投与の場
合、投薬量は約０．０１〜２０　ｍｇ／　ｋｇ体重、好
ましくは０．１〜１０　ｍｇ／　ｋｇ体重である。

しかしながら、時には上記の量からはずれる必要があり
、殊にそのことは体重または投与径路の特質、薬剤に対
するその個々の反応並びに投与する時期または間隔に依
存する。かくして、ある場合には、上記の最少量より少
なく用いて十分であり、一方他の場合には、上記の上限
を越えなければならないことがある。多量を投与する場
合、これを１日に数回に分けて投与することが考えられ
る。

製造実施例 実施例１ ｌ−（４−フルオロフェニル）−４−メチル−ペント−
１−エン−３−オン １５％水酸化カリウム溶液７５ｍ（２をメタノール３０
０ｍ１２中の新しく蒸留した４−フルオロベンズアルデ
ヒド１９８．４ｇ（１，６モル）及びメチルイソプロピ
ルケトン１３７．６ｇ（１，６モル）に滴下し、この混
合物を室温で一夜撹拌した。次に酢酸１０鱈で中和し、
水１１２を加え、混合物をエーテル２Ｘ５００ｉ＋ｆｆ
で抽出した。合液した有機相を飽和塩化ナトリウム溶液
５００１１１（ｌで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
Ｉ；。溶媒をストリッピングした後、残渣を高真空下で
蒸留した。

収量：帯黄色消１９８．６ｇ（理論量の６５％）沸点：
１３０℃（０，３ミリバール） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）：δ−１，２（ｄ、　６Ｈ
，ＣＨ，）：　２．９　（七重線、ＩＨ，ＣＨ−（ＣＨ
ｓ）２）；　６−８　（ｄ、ｌ　Ｈ，オレフィン−Ｈ）
；　７．１　（ｍ、２Ｈ，芳香族−〇）；７．６（ｍ、
３Ｈ，芳香族−Ｈ＋オレフィン−Ｈ）。

実施例２ ２−（４−フルオロフェニル）−５−メチル−１−フェ
ニル−ヘキサン−１，４〜ジオンジメチルホルムアミド
３０ＯｒａＱ中の新しく蒸留したベンズアルデヒド６３
．６ｇ（０，６モル）の溶液をジメチルホルムアミド３
００ｒｔｔＱ中のシアノ化ナトリウム５．８８　ｇ　（
０，１２モル）の溶液に３５’Ｃで３０分間にわたって
滴下し、混合物この温度で更に５分間撹拌した。次にジ
メチルホルムアミＦ５００＋Ｑ中の１−（４−フルオロ
フェニル）−４−メチル−ペント−１−エン−３−オン
（実施例１）８６．５ｇ　（０，４５モル）を１゜５時
間にわたって滴下し、次に混合物を１時間撹拌し、温度
を常に３５℃に保持した。

水ＩＱを加えた後、混合物をクロロホルム各４００＋ｍ
１２で４回抽出し、合液した有機相を飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液ｉｆｆ及び水１１２で洗浄し、そして硫酸ナト
リウム上で乾燥した。真空下で濃縮した後、残渣を減圧
下で、最終的にフラクションが１３８〜１４２℃（０，
９ミリバール）で通過するまで蒸留した。蒸留残渣（１
３２ｇ）を２回に分けてカラム（シリカゲル１．５ｋｇ
、２３０〜４００メツシユ、０．９ｃｍ）で、石油エー
テル／酢酸エチルを用いてクロマトグラフィーにがけた
。溶離剤４〜７Ｑで溶離した後、生成物が得られた。溶
媒をストリッピングした後、無色の油９０．０ｇ（理論
量の６７％）が残った。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）：　ａ−１，０８（ｄ。

３Ｈ，ＣＨ３）；　１．１２　（ｄ、３Ｈ，ＣＨ３）；
２．６５（七重線、ＩＨ，旦Ｈ−（ＣＨ，）ｚ）；２．
７　（ｄｄ、ｌ　Ｈ，−Ｃｏ　　ＣＨｚ　　ＣＨ）；３
．６　　（ｄｄ、ＩＨ，−Ｃｏ−ＣＨ２−ＣＨ）；５．
１２　　（ｄ　ｄ、　　ｌ　Ｈ，ＨＣＣｌＨ４Ｆ）　　
；６．９５（ｍ、２Ｈ，芳香族−Ｈ）；７．２３　（ｍ
。

２Ｈ，芳香族−Ｈ）；　７．４　（ｍ、３Ｈ，芳香族Ｈ
）；　７．９５　（ｍ、２Ｈ，芳香族−Ｈ）。

実施例３ ３−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−１
−メチル−２−７エニルーピロール２−（４−フルオロ
フェニル）−５−メチル−１−フェニル−ヘキサン−１
，４−ジオン（実施例２）１．９８ｇ　（ｌ　０８９モ
ル）を４０％メチルアミン水溶液ｌＯ＋ｌＩＱ中で８０
℃に加熱し、エタノール約１４＋ｌ１１２を加え、かく
して透明な溶液を生じた。この溶液を還流下で更に３０
分間加熱し、冷却後、沈殿物を吸引濾別した。このもの
を少量のエタノールで洗浄し、五酸化リン上で真空デシ
ケータ−中にて乾燥した。

収量：無色の結晶１．８ｇ（理論量の６１％）融点：１
１４℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，）：δ−１，３５（ｄ。

６Ｈ，ＣＨ−（９旦３）　、）　；　３．９　（七重線
、ＩＨ，ＣＨ−（ＣＨｓ）ｚ）；３．４２　（ｓ、３Ｈ
。

Ｎ−ＣＨ５）；　６．１７（Ｓ、ｌ　Ｈ，ビＣ７−ルー
Ｈ）；６．８−７．４　（ｍ、９Ｈ，芳香族−Ｈ）。

実施例４ （Ｅ）−３−［３−（４−フルオロフェニル）−５−イ
ソプロとルーｌ−メチル−２−フェニル−ピロル−４−
イル］フロア’−２−エナールオキシ塩化リン１．６４
ｍＱ　（１８ミリモル）を無水アセトニトリル１０ｒａ
Ｑに採り入れた。アルボン下にて、アセトニトリル７１
ＲＱ中の９０％ジメチルアミノアクロレイン１．８５ｇ
（１６，８ミリモル）の溶液を一１θ℃〜０℃で最初に
滴下し、次にアセトニトリル７ｒａＱ中の３−（４−フ
ルオロフェニル）−５−イソプロピル−１−メチル−２
−フェニル−ピロール（実施例３）１．７６ｇ（６ミリ
モル）の溶液を一り℃〜θ℃で滴下した。

混合物を還流下で一夜加熱した。このものを水６５ｉｌ
Ｉ２及びトルエン６５ｍ＜２中の水酸化ナトリウム４．
４ｇの懸濁液に１０℃で加え、その際、温度が２５℃以
上にならぬようにした。混合物を室温で１．５時間撹拌
した後、ケイソウ土で濾過し、相を分離した。

有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮し、残渣をカ
ラム（シリカゲル１００ｇ、２３０〜４００メツシユ、
０．４ｃｍ、塩化メチレン）でクロマトグラフィーにか
けた。精製した生成物を最後にメタノール中で沸騰させ
た。

収量：帯黄色の固体１．３ｇ（理論量の６２％）融点：
２１５℃ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ　ｓ）：　δ−１，５（ｄ、　　
６Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）ｚ）；　３．５　　（ｍ、４　Ｈ
，Ｎ−ＣＨ，十見旦−（ＣＨ３）り；　５．８　　（ａ
ｄ、　　ｌＨ，オレフィン−Ｈ）；　６．８−７．３　
（ｍ、９Ｈ。

芳香族−Ｈ）；７．６　（ｄ、ＩＨ，オレフィン−Ｈ）
；　９．４　（ｄ、Ｉ　Ｈ，ＣＨＯ）。

実施例５ メチル（Ｅ）−７−［３−（４−フルオロフエニル）−
５−イソプロピル−１−メチル−２−７エニルーピロル
ー４−イル］−５−ヒドロキシー３−オキソ−ヘプト−
６−エノエート アセト酢酸メチル０．３８　ｇ　（３，３ミリモル）を
アルゴン下にて０℃で乾燥テトラヒドロ７ラン１０ｍｆ
ｆ中の８０％水素化ナトｌＪ＋７ム０．ｌ　ｌ　ｇ（３
，６ミリモル）の懸濁液に滴下した。１５分後、ヘキサ
ン中の１５％ブチルリチウム２．　ｌ　ｒａＱを同一温
度で１０分間にわたって滴下し、次に混合物を１５分間
撹拌した。乾燥テトラヒドロフラン１５准Ｑ中の（Ｅ）
　−３−［３’−（４〜−フルオロフェニル）−５’−
イソプロピル−１’−メチル−２’−−ｙユニルーピロ
ル−４′−イル］フロブー２−エナール（実施例４）１
．０４ｇ　（３ミリモル）の溶液を０℃で滴下し、混合
物をこの温度で更に１５分間撹拌した。次に０．６Ｎ塩
酸１５寵Ｑを注意して加え、混合物をエーテル各１５ｉ
＊ｆｆで３回抽出し、合液した有機相を飽和塩化ナトリ
ウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。

真空下で濃縮した後、残渣をカラム（シリカゲル５０　
ｇ、　２３０〜４００メツシユ、０．３　ｃ　ｍ）で、
トルエン／酢酸エチル（５：ｌ）を用いてクロマトグラ
フィーにかけた。

収量：帯黄色消０．５８ｇ（理論量の４２％）”Ｈ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣＩ３）：δ＝１．４５（ｄ。

６Ｈ，ＣＨ−（９旦５）ｚ）　　；　２−６５　（ｍ、
　　２　Ｈ。

−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２Ｇｏ　　）；　３−４５　（ｍ
。

５Ｈ，Ｎ−ＣＨ３，ＣＨ，−ＣＯＣＨ３）；　３．７３
（ｓ、３Ｈ，ＯＣＨｓ）；　４−５８　（ｍ、ｌ　Ｈ。

ＨＯ−Ｃ一旦）；　５．２　（ｄｄ、ＩＨ，オレフィン
−Ｈ）；　６．０　（ｄ、ＩＨ，オレフィン−Ｈ）；６
．８−７．３　（ｍ、９Ｈ，芳香族−Ｈ）実施例６ メチルエリスロー（Ｅ）−７−［３−（４−フルオロフ
ェニル）−５−イソプロピル−１−メチル−２−フェニ
ル−ピロル−４−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプ
ト−６−エノエート０）Ｉ ヘキサン中のＩＭ）リエチルボラン溶液１．２１１２　
（１，２ミリモル）を乾燥テトラヒドロフラン１５ａ＋
Ｑ中のメチル（Ｅ）−７−［３’−（４“−フルオロフ
ェニル）−５’−イソプロピル−１′−メチル−５′−
メチルエチル−２′−フェニル−ピロル−４′−イル〕
−５−ヒドロキシー３−オキソ−ヘプト−６−エノエー
ト（実施例５）４６５ｍｇ　（１ミリモル）の溶液にア
ルゴン下にて室温で滴下し、溶液に空気を５分間通し、
次に混合物を一７８℃に冷却した。

水素化ホウ素ナトリウム４７ｍｇ（１，２４ミリモル）
を加え、メタノール０．６ｒａＱを徐々に加え、混合物
を一７８℃で１５分間、そして−３０℃で１５分間撹拌
した。

次に水ＶｗｒＱ中の３０％過酸化水素３．３ｔｓＱの溶
液を０℃で滴下し、混合物を室温に加温し、酢酸エチル
１５ｍｆｆで抽出し、有機相を０．５Ｎ塩酸及び飽和塩
化ナトリウム溶液各１＋）ｍＲで洗浄し、減圧下で濃縮
した。残渣を直系４ｃｍのカラム中の２３０〜４００メ
ツシユのシリカゲル８０ｇ上で、石油エーテル／酢酸エ
チル（１：　ｌ）を用いてクロマトグラフィーにかけた
。

収量：帯黄電油２４０ｍｇ（理論量の５２％）ＭＳ：ｍ
／ｅ　　４６５　（５％、Ｍつ、４４７（８０％、Ｍ−
Ｈ，Ｏ） ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３）：　＆　−１，４５（ｄ。

６Ｈ，ＣＨ−（９旦ｓ）　ｚ）　　；　１．６　（ｍ、
　　２　Ｈ。

ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ，−ＣＨｏＨ）；　２．４５　（ｍ
。

２Ｈ，（：Ｈ，−Ｃｏ、−ＣＨ５）：　２．６　　（ｄ
、ｌ　Ｈ。

ＯＨ）；３．４（七重線、ｌＨ，Ｃ旦−（ｃ　Ｈ５）ｚ
）；３．５　（ｓ、３Ｈ，Ｎ　　ＣＨ３）；　３．６　
　（ｄ、ＩＨ，ＯＨ）；　３．７　　（ｓ、３Ｈ，０−
ＣＨ５）；　４−２　（ｍ、ＩＨ，ＯＨ−９旦）；　４
．４　（ｍ、ＩＨ。

ＨＯ−ＣＨ）；　５．２　（ｄｄ、ＩＨ，オレフィン−
Ｈ）；６．６　（ｄ、１）（、オレフィン−Ｈ）；６゜
８−７．３　（ｍ、９Ｈ，芳香族−Ｈ）。

実施例７ ｌ−（４−フルオロフェニル）−４−メチル−ベント−
２−エン−１−オン 水１２５鱈／メタノール１２５＋ａ（２中の水酸化カリ
ウム１７ｇ（０，３モル）の５０℃に加温した溶液を４
−フルオロアセトフェノン１３８．１ｇ（１，０モル）
に加え、２−メチルプロパナール８０ｇ（１，１モル）
を１．５時間にわたって滴下し、固体が沈殿した。５０
℃で更に３．５時間撹拌した後、混合物を２５℃に冷却
し、固体を吸引濾別し、メタノール１５０鱈で洗浄し、
乾燥後、二量体状縮合生成物１３２．３ｇが得られた。

この固体を酢酸ナトリウム５ｇと混合し、水流ポンプに
よる真空下で２０ｃｍビグローカラムを通して蒸留した
。１−　（４−フルオロフェニル）−４−メチル−ベン
ト−２−工ン−１−オン及ヒ１−（４−フルオロフェニ
ル）−４−メチル−ベント−３−エン−１−オンの混合
物（１：１．８）が得られた。

収量：１２０．２ｇ（理論量の６２％）沸点＝１３２°
０（１４ミリバール） ’ＨＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ　３）　：δ−１，１５（
ｄ。

６Ｈ，ＣＨｓ）；　１．７　（Ｓ、３Ｈ，ＣＨ３）；１
．８　（ｓ、３Ｈ，Ｃ’Ｈ３）；　２．６　（七重線、
ＩＨ，９旦−（ＣＨｓ）ｚ）；　３．７　　（ｄ、２Ｈ
。

旦Ｈｚ−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨｓ）　ｉ）　　；　５．４　　
（ｍ、　　ｌ　Ｈ。

ＣＨ２ＣＨ−Ｃ（ＣＨｓ）　ｚ）　　；　６−７　（ｄ
　、　　ｌ　Ｈ。

オレフィン−Ｈ）　；７．１　（ｄｄ、ＩＨ，オレフィ
ン−Ｈ）；　７．２　（ｍ、４Ｈ，芳香族−Ｈ）；８．
０　（ｍ、４Ｈ，芳香族−Ｈ）。

実施例８ １−　（４−フルオロフェニル）−４−メチル−３−（
１−ニトロエチル）−ペンタン−１−オンアセトニトリ
ル１００ｍＱ中の１．５−ジアザビシクロ［５，４，０
１ウンデク−５−エン１８゜９ｇ　（０，１３モル）を
ｏ　’ｃでアセトニトリル１５０＋ｍｆｆ中の実施例７
による異性体混合物５０ｇ（０，２６モル）及びニトロ
エタン２５ｇ（０，３モル）の溶液に滴下した。２５℃
で２時間撹拌した後、ＩＮ塩酸２６０ｍＱを加え、混合
物をジクロロメタンで３回抽出した。合液した有機相を
ｌＮ塩酸、重炭酸ナトリウム溶液及び水で洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、真空下で濃縮した。

油６３ｇが得られ、このものをシリカゲル８００ｇ上で
、石油エーテル／酢酸エチル１０：ｌを用いてクロマト
グラフィーにかけた。

収量：ジアステレオマー混合物として油３１ｇ（理論量
の４４％）。

実施例９ ｌ−（４−フルオロフェニル）−３−イソプロピル−ペ
ンタン−１，４−ジオン ２Ｎ水酸化ナトリウム溶液４０ｍＱをエタノール１２０
ｍＱ中の実施例８による油１８．７ｇ（７０ミリモル）
の溶液に加え、この溶液を３Ｎ硫酸６４ＩＩＩＱに０℃
で滴下した。室温で１時間撹拌した後、エタノールを真
空下で除去、残液を水／ジクロロメタンに採り入れ、ジ
クロロメタンで３回抽出し、合液した有機相をｌＮ塩酸
、飽和重炭酸ナトリウム溶液及び水で洗浄した。硫酸ナ
トリウム上で乾燥した溶液を真空下で濃縮し、得られた
油（１８，４ｇ）をシリカゲル上で、石油エーテル／酢
酸エチル（１０：ｌ）を用いてクロマトグラフィーにか
けた。

収量：１６ｇ（理論量の９７％） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　ｓ）：δ−０，９（ｄ、　３
Ｈ，ＣＨ３）；　１．０　（Ｓ、３Ｈ，ＣＨ３）；　２
．１（七重線、ＩＨ，Ｃ旦（ＣＨｓ）２）；　２．３　
（ｓ。

３Ｈ，ＣＨ３Ｃ−０）；２．９　（ｄｄ、ＩＨ。

ＣＨ，−Ｃ−０）；　３．１　（ｍ、ＩＨ，ＣＨ−Ｃ＝
０）；　３．５　（ｄ　ｄ、ｌ　Ｈ，ＣＨｓ　　Ｃ＝Ｏ
）；７．１　（ｍ、２Ｈ，芳香族−Ｈ）；　８．０　（
ｍ、２Ｈ９芳香族−Ｈ）。

実施例１０ ２−（４−フルオロフェニル）−５−メチル−１−フェ
ニル−４−イソプロピル−ピロールトルエン中の実施例
９の生成物２５．３ｇ（０゜１１モル）、アニリン７０
ｇ（０，７５モル）及びｐ−トルエンスルホン酸スパチ
ュラ１杯の溶液を、水分離を用いて、還流下で一夜加熱
した。次に溶媒を真空下で除去し、残渣（２０，２ｇ）
を石油エーテルから再結晶させた。

収量：　７．１　ｇ　（理論量の２２．５％）’ＨＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ］　ｓ）　：δ−１，３（ｄ、　６ＨＩ　Ｃ
Ｈ３）！ＯＨ）；　２．１　（Ｓ、３Ｈ，０Ｈ３）。

２．９（七重線、ＩＨ，見旦（ＣＨ３）　り　；　６．
３（ｓ、ＩＨ，ピロール−Ｈ）；　６−８　（ｍ、２Ｈ
。

芳香族−Ｈ）；　７．０　（ｍ、２Ｈ，芳香族−Ｈ）；
７．１　（ｍ、２Ｈ，芳香族−Ｈ）；　７．４　（ｍ、
３Ｈ９芳香族−Ｈ）。

実施例１１ （Ｅ）−３−［２−（４−フルオロフェニル）−５−メ
チル−１−フェニル−４−インプロピル−ビロール−３
−イル］フログー２−エナール上記化合物を実施例４と
同様にして、実施例１Ｏによる化合物から得た。

収量：理論量の８２％ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）：δ−１，４（ｄ、　６Ｈ
，（見上５）ｚＯＨ）；　２．１　（ｓ、３Ｈ，ＣＨ３
）；３．３（七重線、ＩＨ，見上（ＣＨ３）　２）　；
　６．２（ｄｄ、ＩＨ，オレフィン−Ｈ）；　６．９　
（ｍ。

２Ｈ，芳香族−Ｈ）；　７．０　（ｍ、４Ｈ，芳香族−
Ｈ）；　７．３　（ｍ、３Ｈ，芳香族−Ｈ）；７．４（
ｄ、　　１１−１．オレフィン−Ｈ）；　９．４　（ｄ
、ＩＨ，ＣＨＯ）。

実施例１２ メチル（Ｅ）−７−［２−（４−フルオロフェニル）−
５−メチル−１−フェニル−４−インプロピル−ピロル
−３−イル］−５−ヒドロキシー３＝オキソ−ヘプト−
６−エノエート 上記化合物を実施例５と同様にして、実施例１１による
化合物から得た。

収量：０．７ｇ（理論量の３５％） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）：δ−１，４（ｄ、　６Ｈ
，（ＣＨｓ）ｚＯＨ）；　２．１　（ｓ、３Ｈ，ＣＨｓ
）；２．７　（ｍ、２Ｈ，ＣＨ（ＯＨ）Ｃ旦、）；３．
２（七重線、ＩＨ，■（ＣＨ３）ｚ）；　３．５　（ｓ
。

２Ｈ，ＣＨ，Ｃ００ＣＨ３）；　３．７　（Ｓ、３Ｈ。

０ＣＨ３）；　４．６　（ｍ、Ｉ　Ｈ，ＣＨＯＨ）；　
５゜４　（ｄｄ、ＩＨ，オレフィン−）（）；　６．５
　（ｄ。

ＩＨ，オレフィン−Ｈ）；　６．８　（ｍ、２Ｈ，芳香
族−Ｈ）；　７．０　（ｍ、２Ｈ，芳香族−Ｈ）；７．
２　（ｍ、５Ｈ，芳香族−Ｈ）。

実施例１３ メチルエリスロー（Ｅ）−７−［２−（４−フルオロフ
ェニル）−５−メチル−１−フェニル−４−イツプロピ
ルーピロルー３−イル］−３，５−ジヒドロキシ−ヘプ
ト−６−エノエート上記化合物を実施例６と同様にして
、実施例１２による化合物から得た。

収量：０．４２ｇ（理論量の６９％） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）：δ−１，４（ｄ、　６Ｈ
，ＣＨ（見上３）ｚ）；　ｌ　、６　（ｍ、　　２　Ｈ
，見上。

ＣＨＯＨ）；　２．ｌ　（ｓ、３Ｈ，ＣＨ３）；２．５
（ｍ、２Ｈ，ＣＨｉＣＯＯＣＨｓ）：　３．２　（七重
線、ＩＨ，見上（ＣＨｓ）ｘ）；　３．７　（ｓ、３Ｈ
。

０ＣＲ３）　　；　　４−２　　（ｍ、　　ｌ　Ｈ，Ｃ
ＨＯＨ）　　；　　４゜４　　（ｍ、　　ＩＨ，ＣＨＯ
Ｈ）　　：　　５．４　　（ｄｄ、　　ＩＨ。

オレフィン−Ｈ）；　６．５　（ｄ、Ｉ　Ｈ，オレフィ
ン−Ｈ）；　６．８−７．３　（ｍ、９Ｈ，芳香族−Ｈ
）。

実施例１４ メチルエリスロー（Ｅ）−７−ｒｌ−（２，６−シメチ
ルフエニル）−２−（４−フルオロフェニル）−５−メ
チル−４−イソプロピル−ピロル−３−イル］−３，５
−ジヒドロキシ−ヘプト−６−エノエート 上記化合物を実施例１３と同様にして得た。

収量：理論量の６７％ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）：δ−１，４（ｄ、　６Ｈ
，（見上３）りＣＨ）　　；　ｌ　−６（ｍ、　　２　
Ｈ、見上２ＣＨＯＨ）；　２−０　　（ｍ、９Ｈ，ＣＨ
３）；　２．５（ｍ、　　２　Ｈ，ＣＨｚＣ００ＣＨ３
）　　；　３−２　　（ｍ。

ＩＨ，ＯＨ（ＣＨｓ）ｘ）；　３．７　　（ｓ、３Ｈ。

０ＣＨｓ）；　４．２　　（ｍ、ｌ　Ｈ，ＣＨＯＨ）；
　４　。

４　　（ｍ、ＩＨ，ＣＨＯＨ）；５．５　　（ｄｄ、Ｉ
Ｈ。

オレフィン−Ｈ）；６．５　（ａ、ＩＨ，オレフィン−
Ｈ）；　６．７−７．３　（ｍ、７Ｈ，芳香族−Ｈ）。

実施例１５ メチルエリスロー（Ｅ）−７−Ｎ−ベンジル−２−（４
−フルオロフェニル）−４−イソプロピル−５−メチル
−ピロル−３−イル］−３，５−ジヒドロキシーヘプト
−６−エノエート上記化合物を実施例１３と同様にして
得た。

収量：理論量の３９％ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）：δ−１，３（ｄ、　６Ｈ
，（立上５）ｘｃ　Ｈ）　　；　ｌ　、６　（ｍ、　２
　Ｈ，立上２ＣＨＯＨ）；　２．１　（ｓ、３Ｈ，ＣＨ
ｓ）；　２．５（ｍ、２Ｈ，Ｃ旦２ＣＯＯＣＨ３）；　
３．１　　（ｍ。

ＩＨ，ＣＨ（ＣＨｓ）ｚ）；　３．７　　（ｓ、３Ｈ。

０ＣＨｓ）；　４．２　（ｍ、ｌ　Ｈ，ＣＨＯＨ）；　
４゜３　（ｍ、ＩＨ，ＣＨＯＨ）；４．９　（ｓ、２Ｈ
。

ｃＨ，ｐｈ）；　５．３　（ａａ、ＩＨ，オレフィン−
Ｈ）；　６．５　（ｄ、ＩＨ，オレフィン−Ｈ）；６゜
７−７．３　（ｍ、９Ｈ，芳香族−Ｈ）。

第１表に示した化合物を実施例１５及び実施例１〜５に
述べた反応と同様にして得た。

実施例３４ ３−（４−フルオロフェニル）−５−イソプロピル−１
，２−ジフェニルーピロール トルエ／１５０ｍｆｌ中の２−（４−フルオロフェニル
）−５−メチル−１−フェニル−ヘキサン−１，４−ジ
オン（実施例２）Ｉ　Ｏ，１ｇ（３４ミリモル）及びア
ニリン９．３ｇ（１０２ミリモル）を、水分離器を用い
て、ｐ−トルエンスルホン酸５０Ｑｍｇの添加して還流
下で２４時間加熱した。冷却し、酢酸エチルで希釈した
後、反応混合物をＩＮ塩酸、次に重炭酸ナトリウム溶液
で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空下で濃縮
した。次に残渣をシリカゲル上でクロマトグラフィーに
か（すｊこ。

収量：４．４ｇ（理論量の３７％） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆ２３）：　−１，１７（ｄ、６
Ｈ）；２．７０（七重線、ｌ　Ｈ）；６．２８　（ｓ、
　ｌ　Ｈ）；６．８０−７．３０　　（ｍ、１４Ｈ）　
　。

第２表に示した化合物を実施例６並びに実施例１１２．
３．４及び５に述べた反応と同様して得ｔこ　。

実施例４３ ２−（４−フルオロフェニル）−１，５−ジメチル−ヘ
キサン−１，４−ジオン アセトニトリルｐ、ａ、　５０　ｍａ中の１．５−シア
サビシクロ［５，４，０１ウンデク−５−エン７．９ｇ
（０，０５モル）の溶液をアセトニトリルｐ、ａ、　１
００−中の１−（４−フルオロフェニル）−４−メチル
−ベント−１−エン−３−オン１９．２ｇ（０，１モル
）及びニトロエタン８．６ｍ（！（０，１２モル）の溶
液に０℃で滴下した。次に混合物を室温で３時間撹拌し
、０．５Ｎ塩酸１００＋ｍＱを加えた。

塩化メチレンで抽出した後、有機相を硫酸ナトリウムを
用いて乾燥し、そして濃縮した。油状残渣をエタノール
１００ｍ１２に溶解し、水６０ｔ１２中の水酸化ナトリ
ウム４．８ｇ（０，１２モル）の溶液を室温で加えた。

次に反応溶液を氷冷しながら、水１００ｍＱ中の濃硫酸
１３．３ｍ（２（０，２５モル）の溶液に滴下しｔ；。

室温で０．５時間撹拌した後、混合物を水で希釈し、エ
ーテルで数回抽出した。

有機相を０．５Ｎ塩酸及び飽和重炭酸ナトリウム溶液で
各々２回づつ洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、真
空下で濃縮し、残渣をシリカゲル上でクロマトグラフィ
ーにかけた。

収量：１４．７ｇ（理論量の６２．３％）’Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ２３）：δ−１，０７（ｄ、３Ｈ）；１．１
２（ｄ、３　Ｈ）；２．１３（ｓ、３　Ｈ）；２．６０
（ｍ、２　Ｈ）；３．４２（ｄｄ、ｌ　Ｈ）；　４．２
４（ｄｄ。

Ｉ　Ｈ）；７．００−７．３０　（ｍ、４　Ｈ）。

第３表に示した化合物を実施例６並びに実施例１１４３
．３または３４．４及び５に述べた反応と同様にして得
た。

実施例４９ メチルエリスロー（Ｅ）−７−［３−（４−フルオロフ
ェニル）−５−イソプロピル−１−メチル−２−フェニ
ル−ピロル−４−イル］　−３，５−ジヒドロキシ−・
＼ブタノエート Ｒ 実施例６による化合物１００ｍｇをメタノール２０ｍ（
ｌ及びトリエチルアミンｌＯμａに溶解し、獣炭に担持
させた１０％パラジウム１５＋＋＋ｇの添加後、混合物
を２．５バールで３．５時間水素添加した。

触媒を濾別し、溶液を真空下で濃縮した。

収量：９１ｍｇ（理論量の９０％） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ２．）；δ−１，４５（ｍ、ｌ
　ＯＨ）；２．４８（ｍ、２　Ｈ）；　２．６０（ｍ、
２　Ｈ）；２．９７（ｍ、ｌＨ）；３３−２８（、ｌＨ
）；３．４９（ｓ、３Ｈ）；３．７０（ｓ、３Ｈ）；４
．１２（ｍ、ＩＨ）；６．８０−７．３０　（ｍ、９　
Ｈ）。

使用実施例 実施例５０ 酸素活性の測定をシイ・シイ・ネス（Ｇ、Ｃ，Ｎｅ５ｓ
）等、アールカイブス・オブ・バイオケミストリイ・ア
ンド・バイオフイジイクス（Ａ　ｒｃｈｉｖｅｓｏｆ　
　Ｂ　ｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　　ａｎｄ　　Ｂ　１ｏ
ｐｈｙｓｉｃｓ　ｌ　９７．４９３〜４９９（１９７９
）の方法の変法によって行った。雄すコー（Ｒ１ｃｏ）
ラット（体重３００〜４００ｇ）を、飼料１ｋｇ当りコ
レスチルアミン４０ｇを加えたアルトロミン（ａＨｒｏ
ｍｉｎ）粉末飼料で１１日間処置した。断頭後、動物か
ら肝臓を取り出し、氷の上に置いた。肝臓を細かく砕き
、ボッター・エルベジエム・ホモジナイザー（Ｐｏｔｔ
ｅｒ　−Ｅ　ｌｖｅｊｅｍ　　ｈｏｍｏｇｅｎｉｚｅｒ
）中にて０．１Ｍスクロース、０．０５Ｍ　　ＫＣＬＳ
　０．０４ＭＫ、Ｈ，緩衝剤（ｐＨ値７．２を有するに
２ＨＰＯ，及びＫＨ，ＰＯ，の混合物）、０．０３Ｍエ
チレンジアミンテトラ酢酸、０．００２Ｍジチオスレイ
ト−ル（ＳＰＥ）緩衝剤（スクロース／リン酸塩／エチ
レンジアミンテトラ酢酸緩衝剤、ｐＨ値７．２）の３倍
容量中で３回均等化した。次に混合物を１５分間遠心分
離し、沈渣をすてた。上澄液を１００．０００ｇで７５
分間沈降させＩ；。ベレットをＳＰＥ緩衝剤の％容量に
採り入れ、再び均等化し、次に６０分間再び遠心分離し
た。ベレットをその容量の５倍のＳＰＥ緩衝剤に採り入
れ、均等化し、凍結し、そして−７８℃で保存した（＝
酵素溶液）。

試験のために、試験化合物（及び参照物質としてのメビ
ノリン）を、ＩＮ　　ＮａＯＨ５容量％を添加したジメ
チルホルムアミドに溶解し、種々な濃度において１０℃
ｇの量で酵素試験に用いた。

化合物を酵素と共に３７℃で２０分間予備培養した後、
試験を開始した。試験バッチは０．３８０ｍＱであり、
そしてグルコース６−ホスフェート４μＭ、ウシ血清ア
ルブミン１　、１　ｍｇ、ジチオスレイトール２．１７
７Ｍ、ＮＡＤＰ　（β−ニコチンアミドーアデニンージ
ヌクレオリドーホス７エート）０．３５℃Ｍ１グルコー
ス６−ホスフェートデヒドロゲナーゼｌ単位、ｐＨ値７
．２のに、Ｈ，緩衝剤３５μＭ、酵素調製物２０μＱ及
び３−ヒドロキシ−３−メチル−グルタリル補酵素Ａ（
グルタリル−３−１４Ｃ）　１００．０００ｄｐｍ　５
６ｎＭを含有していた。

混合物を３７°Ｃで６０分間培養し、反応を０゜２４Ｍ
　　ＨＣＱ　　３００μＱの添加によって止めた。

３７℃で６０分間、後−培養した後、バッチを遠心分離
し、上澄液６００μＱを粒径１００〜２００メツシユの
５−クロライド陰イオン交換体で充填した０−０−７Ｘ
ｄカラムに加えた。カラムを蒸留水２ＩＩＩＱですすぎ
、シンチレーション液３ｍＱを溶出液＋洗浄水に加え、
混合物をシンチレーション計数器で計数した。ＩＣｓ。

値を試験化合物の濃度に対する抑制％をプロットして、
補間法によって決定した。

相対抑制効力を決定するために、参照物質メビノリンの
ＩＣ５ｏ値を１００とし、試験化合物に対して同時に測
定したＩＣ，。値と比較した。

実施例５１ イヌにおける血中コレステロールに関する本発明による
化合物の亜慢性作用を数週間続けて飼料供給実験によっ
て試験した。この目的のために、試験物質を健康なピー
グル犬に数週間にわたりカプセル剤として、飼料と共に
１日１回経口的に投与した。加えて、胆汁酸隔離剤とし
てコレスチルアミン（４ｇ／１００ｇ飼料）を全体の実
験期間にわたり、即ち、試験物質の投与前、投与中及び
投与後の期間中に飼料に混合した。静脈血を動物から週
２回採血し、血清コレステロールを酵素的に測定した。

投与期間中の血清コレステロールレベルを投与期間前の
血清コレステロールレベル（対照）と比較し。その結果
を次に示した。

例えば実施例６による活性化合物に対しては、毎日２　
ｍｇ／　ｋｇ経口のレベルで２週間投与後、血清コレス
テロールが２７％減少した。

特許出願人　バイエル・アクチェンゲゼルシャフト

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、 Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いはアルキルを
   表わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコキシ、
   アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロメチ
   ル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、
   トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボニル
   もしくはアシルで、または式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２およびＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり
   、ヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、アルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
   トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾２及びＲ＾３はアリールを表わし、該基はアルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、
   アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
   ロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフアモイル
   、ジアルキルスルフアモイル、カルバモイル、ジアルキ
   ルカルバモイル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾３はまたアルキル
   を表わし、 Ｒ＾４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニル
   またはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基は
   アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、また
   はアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジア
   ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルも
   しくはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキ
   ルを表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルは
   ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
   ルホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４はヘテロアリ
   ールを表わし、該基はハロゲン、アルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
   ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ＾５Ｒ
   ＾６、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４はアリールを表わし、該基はアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、ア
   リールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、ア
   ラルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルス
   ルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
   、アルコキシカルボニル、スルフアモイル、ジアルキル
   スルフアモイル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイ
   ル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｘは式−ＣＨ＿２−Ｃ
   Ｈ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−の基を表わし、 Ａは式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ の基を表わし、ここに、 Ｒ＾７は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ＾８は
   水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは陽イオン
   を表わす、 の置換されたピロール。 ２、Ｒ＾１がシクロプロピル、シクロペンチルまたはシ
   クロヘキシルを表わすか、或いは低級アルキルを表わし
   、該アルキルはフッ素、塩素、臭素、シアノ、低級アル
   コキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル、
   トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフル
   オロメチルスルホニル、低級アルコキシカルボニル、ベ
   ンゾイルもしくは低級アルキルカルボニルで、または式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   低級アルキル、フエニル、ベンジル、アセチル、ベンゾ
   イル、フエニルスルホニルまたは低級アルキルスルホニ
   ルを表わす、或いは ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、キ
   ノリル、イソキノリル、ピリル、インドリル、チエニル
   、フリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、
   フエニル、フエノキシ、フエニルチオ、フエニルスルホ
   ニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルホ
   ニル、フエニルエトキシ、フエニルエチルチオまたはフ
   エニルエチルスルホニルで置換されいてもよく、上記の
   ヘテロアリール及びアリール基はフッ素、塩素、臭素、
   低級アルキル、低級アルコキシ、トリフルオロメチル及
   びトリフルオロメトキシよりなる群からの２個までの同
   一もしくは相異なる置換基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２及びＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり、
   チエニル、フリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキ
   サゾリル、イソキサゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピ
   ラジニル、ピリダジニル、インドリル、イソインドリル
   、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、キノキサリ
   ニル、キナゾリニル、シンノリニル、ベンゾチアゾリル
   、ベンズオキサゾリルまたはベンズイミダゾリルを表わ
   し、該基はフッ素、塩素、臭素、低級アルキル、低級ア
   ルコキシ、フエニル、フエノキシ、トリフルオロメチル
   、トリフルオロメトキシ及び低級アルコキシカルボニル
   よりなる群からの２個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはフエニルまたはナフ
   チルを表わし、該基は低級アルキル、低級アルコキシ、
   低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル、フエニル
   、フエニルオキシ、フエニルチオ、フエニルスルホニル
   、ベンジル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジル
   スルホニル、フエネチル、フエニルエトキシ、フエニル
   エチルチオ、フエニルエチルスルホニル、フッ素、塩素
   、臭素、シアノ、トリフルオロメチル、トルフルオロメ
   トキシ、トリフルオロメチルチオ、低級アルコキシカル
   ボニル及び式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの４個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾４が水素を表わす
   か、ベンゾイルまたは低級アルキルカルボニルを表わす
   か、低級アルキルスルホニル、フエニルスルホニルまた
   はトリルスルホニルを表わすか、アミノカルボニル、低
   級アルキルアミノカルボニル、ジ−低級アルキルカルボ
   ニル、フエニルアミノカルボニルまたは低級アルコキシ
   カルボニルを表わすか、シクロプロピル、シクロペンチ
   ルまたはシクロヘキシル基を表わすか、低級アルキルを
   表わし、該アルキルはフッ素、塩素、臭素、シアノ、低
   級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホ
   ニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ト
   リフルオロメチルスルホニル、低級アルコキシカルボニ
   ル、ベンゾイルもしくは低級アルキルカルボニルで、式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、ここで、Ｒ＾５及びＲ＾６は同一も
   しくは相異なるものであり、低級アルキル、フエニル、
   ベンジル、アセチル、ベンゾイル、フエニルスルホニル
   または低級アルキルスルホニルを表わす の基で、またはピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピ
   リダジニル、キノリル、イソキノリル、ピロリル、イン
   ドリル、チエニル、フリル、イミダゾリル、オキサゾリ
   ル、チアゾリル、フエニル、フエノキシ、フエニルチオ
   、フエニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ
   、ベンジルスルホニル、フエニルエトキシ、フエニルエ
   チルチオもしくはフエニルスルホニルで置換されていて
   もよく、該ヘテロアリール及びアリール基はフッ素、塩
   素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシ、トリフルオ
   ロメチル及びトリフルオロメトキシよりなる群からの２
   個までの同一もしくは相異なる置換基で置換されていて
   もよく、或いはＲ＾４がチエニル、フリル、チアゾリル
   、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、ピ
   リジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、イン
   ドリル、イソインドリル、キノリル、イソキノリル、フ
   タラジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリ
   ニル、ベンゾチアゾリル、ベンズオキサゾリルまたはベ
   ンズイミダゾリルを表わし、該基はフッ素、塩素、臭素
   、低級アルキル、低級アルコキシ、フエニル、フエノキ
   シ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ及び低
   級アルコキシカルボニルよりなる群からの２個までの同
   一もしくは相異なる置換基で置換されていてもよく、或
   いはフエニルまたはナフチルを表わし、該基は低級アル
   キル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキ
   ルスルホニル、フエニル、フエニルオキシ、フエニルチ
   オ、フエニルスルホニル、ベンジル、ベンジルオキシ、
   ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、フエネチル、フエ
   ニルエトキシ、フエニルエチルチオ、フエニルエチルス
   ルホニル、フッ素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロ
   メチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチ
   オ、低級アルコキシカルボニル及び式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの４個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｘが式−ＣＨ＿２−Ｃ
   Ｈ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、 Ａは式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ の基を表わし、 Ｒ＾７は水素または低級アルキルを表わし、そして Ｒ＾８は水素、アルキル（Ｃ＿１〜Ｃ＿４）、アリール
   （Ｃ＿８〜Ｃ＿１＿２）、アラルキル（Ｃ＿７〜Ｃ＿１
   ＿０）を表わすか、または生理学的に許容し得る陽イオ
   ンを表わす、 特許請求の範囲第１項記載の置換されたピロール。 ３、Ｒ＾１がシクロプロピル、シクロペンチルまたはシ
   クロヘキシルを表わすか、或いはメチル、エチル、プロ
   ピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ．−ブチルまたは
   ｔｅｒｔ．−ブチルを表わし、該基はフッ素、塩素、臭
   素、シアノ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
   ロポキシ、ブトキシ、ｓｅｃ．−ブトキシ、ｔｅｒｔ．
   −ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
   イソプロピルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニ
   ル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカ
   ルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
   イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ．−ブトキシカルボ
   ニル、ベンゾイル、アセチル、ピリジル、ピリミジル、
   チエニル、フリル、フエニル、フエノキシ、フエニルチ
   オ、フエニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジルチ
   オまたはベンジルスルホニルで置換されていてもよく、 Ｒ＾２及びＲ＾３が同一もしくは相異なるものであり、
   フッ素、塩素、メチル、メトキシまたはトリフルオロメ
   チルで置換されていてもよいピリジル、ピリミジル、キ
   ノリルまたはイソキノリルを表わすか、或いはフエニル
   を表わし、該フエニルはメチル、エチル、プロピル、イ
   ソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．−ブチル
   、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、
   ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ．−ブトキシ、メチ
   ルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ
   、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスル
   ホニル、イソプロピルスルホニル、フエニル、ベンジル
   、ベンジルオキシ、フッ素、塩素、臭素、シアノ、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカル
   ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
   イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソ
   ブトキシカルボニル及びｔｅｒｔ．−ブトキシカルボニ
   ルよりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置
   換基で置換されていてもよく、 Ｒ＾４が水素、シクロプロピル、シクロペンチルまたは
   シクロヘキシルを表わすか、メチル、エチル、プロピル
   、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．−ブ
   チル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシルまたはイソヘ
   キシルを表わし、該基はフッ素、塩素、臭素、シアノ、
   メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
   トキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ．−ブトキシ、メチル
   チオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、
   ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔｅｒｔ．−ブチルチオ
   、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスル
   ホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、
   イソブチルスルホニル、ｔｅｒｔ．−ブチルスルホニル
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキ
   シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
   ニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
   、イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ．−ブトキシカル
   ボニル、ベンゾイル、アセチルもしくはエチルカルボニ
   ルで、または基 −ＮＲ＾５Ｒ＾６で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
   ソブチル、ｔｅｒｔ．−ブチル、フエニル、ベンジル、
   アセチル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
   ピルスルホニル、イソプロピルスルホニルまたはフエニ
   ルスルホニルを表わす、或いは ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、キ
   ノリル、イソキノリル、チエニル、フリル、フエニル、
   フエノキシ、フエニルチオ、フエニルスルホニル、ベン
   ジルオキシ、ベンジルチオまたはベンジルスルホニルで
   置換されていてもよく、該ヘテロアリール及びアリール
   基はフッ素、塩素、メチル、エチル、プロピル、イソプ
   ロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ．−ブチル、メトキシ、
   エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イ
   ソブトキシ、ｔｅｒｔ．−ブトキシ、トリフルオロメチ
   ルまたはフルオロメトキシで置換されていてもよく、或
   いは Ｒ＾４がチエニル、フリル、ピリジル、ピリミジル、ピ
   ラジニル、ピリダジニル、オキサゾリル、イソキサゾリ
   ル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチア
   ゾリル、キノリル、イソキノリル、ベンズオキサゾリル
   、ベンズイミダゾリルまたはベンゾチアゾリルを表わし
   、該基はフッ素、塩素、メチル、エチル、プロピル、イ
   ソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．−ブチル
   、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、
   ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ．−ブトキシ、フエ
   ニル、フエノキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
   メトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
   イソプロポキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
   トキシカルボニル、イソブトキシカルボニルまたは ｔｅｒｔ．−ブトキシカルボニルで置換されていてもよ
   く、或いはＲ＾４がフエニルを表わし、該基はメチル、
   エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル
   、ｔｅｒｔ．−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキ
   シル、イソヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ
   、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ
   ．−ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ
   、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔ
   ｅｒｔ．−ブチルチオ、メチルスルホニル、エチルスル
   ホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル
   、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｔｅｒｔ
   ．−ブチルスルホニル、フエニル、フエノキシ、フエニ
   ルチオ、フエニルスルホニル、ベンジル、ベンジルオキ
   シ、ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、フッ素、塩素
   、臭素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
   トキシ、トリフルオロメチルチオ、メトキシカルボニル
   、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプ
   ロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキ
   シカルボニル、ｔｅｒｔ．−ブトキシカルボニル及び基
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意
   味を有する、 よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４がベンゾイル
   、アセチル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、
   イソプロピルカルボニル、メチルスルホニル、エチルス
   ルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニ
   ル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｔｅｒ
   ｔ．−ブチルスルホニル、フエニルスルホニルまたはト
   リルスルホニルを表わすか、或いはアミノカルボニル、
   メチル−、エチル−、プロピル−、イソプロピル−、ブ
   チル−、イソブチル−もしくはｔｅｒｔ．−ブチルアミ
   ノカルボニル、ジメチル−、ジエチル−、ジプロピル−
   、ジ−イソプロピル−、ジブチル−もしくはジイソブチ
   ルアミノカルボニル、フエニルアミノカルボニル、メト
   キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
   ボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル
   またはｔｅｒｔ．−ブトキシカルボニルを表わし、 Ｘが式−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−の
   基を表わし、そして Ａが式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ の基を表わし、ここに、 Ｒ＾７は水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
   ル、ブチル、イソブチルまたはｔｅｒｔ．−ブチルを表
   わし、そして Ｒ＾８は水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
   ル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．−ブチルまたはベ
   ンジルを表わすか、或いはナトリウム、カリウム、カル
   シウムもしくはマグネシウムイオンまたはアンモニウム
   イオンを表わす、 特許請求の範囲第１項及び第２項記載の置換されたピロ
   ール。 ４、Ｒ＾１がシクロプロピル、メチル、エチル、プロピ
   ル、イソプロピル、ブチル、イソブチルまたはｔｅｒｔ
   ．−ブチルを表わし、該基はフッ素、塩素、メトキシ、
   フエニルまたはフエノキシで置換されていてもよく、 Ｒ＾２及びＲ＾３が同一もしくは相異なるものであり、
   フエニルを表わし、該基はメチル、エチル、プロピル、
   イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．−ブチ
   ル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
   、フエノキシ、ベンジルオキシ、フッ素、塩素、臭素、
   シアノ、トリフルオロメチル及びトリフルオロメトキシ
   よりなる群からの２個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、 Ｒ＾４が水素、シクロプロピル、シクロペンチルまたは
   シクロヘキシルを表わすか、メチル、エチル、プロピル
   、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．−ブ
   チル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシルまたはイソヘ
   キシルを表わし、該基はフッ素、塩素、メトキシ、エト
   キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、メチルチオ、エチ
   ルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、トルフ
   ルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカルボ
   ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニルもし
   くはイソプロポキシカルボニルで、または式−ＮＲ＾５
   Ｒ＾６の基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、フエ
   ニルまたはベンジルを表わす、或いは 随時フッ素、塩素、メチル、メトキシ、トリフルオロメ
   チルもしくはトリフルオロメトキシで置換されていても
   よいピリジル、ピリミジル、キノリル、チエニル、フリ
   ル、フエニル、フエノキシ、フエニルスルホニルまたは
   ベンジルオキシで置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４が随時フッ素、塩素、メチル、エチル、プロピル
   、イソプロピル、メトキシ、フエニル、メトキシカルボ
   ニルもしくはエトキシカルボニルで置換されていてもよ
   いチエニル、フリル、ピリジル、ピリミジル、キノリル
   、イソキノリル、ベンズオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
   ルまたはベンズイミダゾリルを表わすか、或いはフエニ
   ルを表わし、該フエニルはメチル、エチル、プロピル、
   イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．−ブチ
   ル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
   、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルホニル、エチル
   スルホニル、フエニル、フエノキシ、フエニルスルホニ
   ル、ベンジルオキシ、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカ
   ルボニル、エトキシカルボニル及び式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの２個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４がアセチル、メチルスルホニル、エチルスルホニ
   ル、フエニルスルホニル、トリルスルホニル、アミノカ
   ルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカ
   ルボニル、フエニルアミノカルボニル、メトキシカルボ
   ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イ
   ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブ
   トキシカルボニルまたはｔｅｒｔ．−ブトキシカルボニ
   ルを表わし、Ｘが式 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｅ−立体配置） の基を表わし、そして Ａが式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ の基を表わし、ここに、 Ｒ＾７は水素を表わし、そして Ｒ＾８は水素、メチルまたはエチルを表わすか、或いは
   ナトリウムまたはカリウムを表わす、特許請求の範囲第
   １〜３項のいずれかに記載の置換されたピロール。 ５、治療用途に対する式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いはアル
   キルを表わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコ
   キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
   ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
   チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
   ボニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾５Ｒ＾６の
   基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２およびＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり
   、ヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、アルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
   トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾２及びＲ＾３はアリールを表わし、該基はアルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、
   アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
   ロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフアモイル
   、ジアルキルスルフアモイル、カルバモイル、ジアルキ
   ルカルバモイル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾３はまたアルキル
   を表わし、 Ｒ＾４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニル
   またはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基は
   アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、また
   はアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジア
   ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルも
   しくはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキ
   ルを表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルは
   ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
   ルホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４はヘテロアリ
   ールを表わし、該基はハロゲン、アルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
   ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ＾５Ｒ
   ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４はアリールを表わし、該基はアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、ア
   リールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、ア
   ラルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルス
   ルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
   、アルコキシカルボニル、スルフアモイル、ジアルキル
   スルフアモイル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイ
   ル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｘは式−ＣＨ＿２−Ｃ
   Ｈ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−の基を表わし、 Ａは式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ の基を表わし、ここに、 Ｒ＾７は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ＾８は
   水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは陽イオン
   を表わす、 の置換されたピロール。 ６、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いはアル
   キルを表わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコ
   キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
   ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
   チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
   ボニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾５Ｒ＾６の
   基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２およびＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり
   、ヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、アルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
   トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾２及びＲ＾３はアリールを表わし、該基はアルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、
   アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
   ロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフアモイル
   、ジアルキルスルフアモイル、カルバモイル、ジアルキ
   ルカルバモイル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾３はまたアルキル
   を表わし、 Ｒ＾４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニル
   またはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基は
   アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、また
   はアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジア
   ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルも
   しくはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキ
   ルを表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルは
   ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
   ルホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４はヘテロアリ
   ールを表わし、該基はハロゲン、アルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
   ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ＾５Ｒ
   ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４はアリールを表わし、該基はアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、ア
   リールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、ア
   ラルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルス
   ルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
   、アルコキシカルボニル、スルフアモイル、ジアルキル
   スルフアモイル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイ
   ル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、ここで、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｘは式−ＣＨ＿２−Ｃ
   Ｈ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−の基を表わし、 Ａは式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ の基を表わし、ここに、 Ｒ＾７は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ＾８は
   水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは生理学的
   に許容し得る陽イオンを表わす、 の置換されたピロールを製造するにあたり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は上記の意味
   を有し、そして Ｒ＾８′はアルキルを表わす、 のケトンを還元し、酸を製造する場合には、該エステル
   を加水分解し、ラクトンを製造する場合には、該カルボ
   ン酸を環形成させ、塩を製造する場合には該エステルま
   たはラクトンを加水分解し、エチレン化合物（Ｘ＝−Ｃ
   Ｈ＿２−ＣＨ＿２−）を製造する場合には、エテン化合
   物を普通の方法で加水分解し、そして適当ならば、異性
   体を分離することを特徴とする上記式（ I ）の置換さ
   れたピロールの製造方法。 ７、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いはアル
   キルを表わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコ
   キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
   ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
   チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
   ボニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾５Ｒ＾６の
   基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２およびＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり
   、ヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、アルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
   トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾２及びＲ＾３はアリールを表わし、該基はアルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、
   アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
   ロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフアモイル
   、ジアルキルスルフアモイル、カルバモイル、ジアルキ
   ルカルバモイル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾３はまたアルキル
   を表わし、 Ｒ＾４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニル
   またはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基は
   アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、また
   はアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジア
   ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルも
   しくはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキ
   ルを表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルは
   ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
   ルホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４はヘテロアリ
   ールを表わし、該基はハロゲン、アルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
   ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ＾５Ｒ
   ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４はアリールを表わし、該基はアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、ア
   リールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、ア
   ラルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルス
   ルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
   、アルコキシカルボニル、スルフアモイル、ジアルキル
   スルフアモイル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイ
   ル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｘは式−ＣＨ＿２−Ｃ
   Ｈ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−の基を表わし、そして Ｒ＾８′はアルキルを表わす、 のケトン。 ８、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いはアル
   キルを表わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコ
   キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
   ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
   チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
   ボニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾５Ｒ＾６の
   基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２およびＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり
   、ヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、アルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
   トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾２及びＲ＾３はアリールを表わし、該基はアルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、
   アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
   ロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフアモイル
   、ジアルキルスルフアモイル、カルバモイル、ジアルキ
   ルカルバモイル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾３はまたアルキル
   を表わし、 Ｒ＾４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニル
   またはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基は
   アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、また
   はアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジア
   ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルも
   しくはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキ
   ルを表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルは
   ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
   ルホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４はヘテロアリ
   ールを表わし、該基はハロゲン、アルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
   ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ＾５Ｒ
   ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４はアリールを表わし、該基はアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、ア
   リールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、ア
   ラルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルス
   ルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
   、アルコキシカルボニル、スルフアモイル、ジアルキル
   スルフアモイル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイ
   ル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、そして Ｒ＾８′はアルキルを表わす、 のケトンを製造するにあたり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は上記の意味
   を有する、 のアルデヒドを塩基の存在下において不活性溶媒中で一
   般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 式中、Ｒ＾８′は上記の意味を有する、 のアセト酢酸エステルと反応させることを特徴とする上
   記式のケトンの製造方法。 ９、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いはアル
   キルを表わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコ
   キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
   ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
   チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
   ボニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾５Ｒ＾６の
   基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２およびＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり
   、ヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、アルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
   トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾２及びＲ＾３はアリールを表わし、該基はアルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、
   アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
   ロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフアモイル
   、ジアルキルスルフアモイル、カルバモイル、ジアルキ
   ルカルバモイル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾３はまたアルキル
   を表わし、 Ｒ＾４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニル
   またはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基は
   アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、また
   はアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジア
   ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルも
   しくはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキ
   ルを表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルは
   ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
   ルホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４はヘテロアリ
   ールを表わし、該基はハロゲン、アルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
   ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ＾５Ｒ
   ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４はアリールを表わし、該基はアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、ア
   リールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、ア
   ラルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルス
   ルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
   、アルコキシカルボニル、スルフアモイル、ジアルキル
   スルフアモイル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイ
   ル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよい、のアルデヒド。 １０、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いはアル
   キルを表わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコ
   キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
   ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
   チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
   ボニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾５Ｒ＾６の
   基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリ、フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アル
   キル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニ
   ルよりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置
   換基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２およびＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり
   、ヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、アルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
   トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾２及びＲ＾３はアリールを表わし、該基はアルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、
   アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
   ロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフアモイル
   、ジアルキルスルフアモイル、カルバモイル、ジアルキ
   ルカルバモイル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾３はまたアルキル
   を表わし、 Ｒ＾４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニル
   またはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基は
   アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、また
   はアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジア
   ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルも
   しくはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキ
   ルを表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルは
   ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
   ルホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４はヘテロアリ
   ールを表わし、該基はハロゲン、アルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
   ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ＾５Ｒ
   ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４はアリールを表わし、該基はアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、ア
   リールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、ア
   ラルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルス
   ルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
   、アルコキシカルボニル、スルフアモイル、ジアルキル
   スルフアモイル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイ
   ル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよい、のアルデヒドを製造す
   るにあたり、一般式（Ｘ I ）▲数式、化学式、表等が
   あります▼（Ｘ I ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は上記の意味
   を有する、 のピロールを補助剤の存在下において不活性溶媒中で式
   （ＸII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸII） のＮ，Ｎ−ジメチルアミノアクロレインと反応させるこ
   とを特徴とする上記式（IX）のアルデヒドの製造方法。 １１、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いはアル
   キルを表わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコ
   キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
   ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
   チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
   ボニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾５Ｒ＾６の
   基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２およびＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり
   、ヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、アルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
   トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾２及びＲ＾３はアリールを表わし、該基はアルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、
   アラルトリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ト
   リフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフ
   アモイル、ジアルキルスルフアモイル、カルバモイル、
   ジアルキルカルバモイル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し
   、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾３はまたアルキル
   を表わし、 Ｒ＾４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニル
   またはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基は
   アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、また
   はアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジア
   ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルも
   しくはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキ
   ルを表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルは
   ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
   ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
   キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
   ルホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、ま
   たは式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４はヘテロアリ
   ールを表わし、該基はハロゲン、アルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
   ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ＾５Ｒ
   ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４はアリールを表わし、該基はアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、ア
   リールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、ア
   ラルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルス
   ルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
   、アルコキシカルボニル、スルフアモイル、ジアルキル
   スルフアモイル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイ
   ル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｘは式−ＣＨ＿２−Ｃ
   Ｈ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−の基を表わし、 Ａは式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ の基を表わし、ここに、 Ｒ＾７は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ＾８は
   水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは陽イオン
   を表わす、 の置換されたピロールを含有する薬剤。 １２、置換されたピロール０．５〜９８重量％を含有す
   る特許請求の範囲第１１項記載の薬剤。 １３、薬剤の製造において、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＾１はシクロアルキルを表わすか、或いはアル
   キルを表わし、該アルキルはハロゲン、シアノ、アルコ
   キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
   ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
   チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
   ボニルもしくはアシルで、または式−ＮＲ＾５Ｒ＾６の
   基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、 Ｒ＾２およびＲ＾３は同一もしくは相異なるものであり
   、ヘテロアリールを表わし、該基はハロゲン、アルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、トルフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
   トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル及び式
   −ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾２及びＲ＾３はアリールを表わし、該基はアルキル
   、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
   リール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスル
   ホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、
   アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ト
   リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
   ロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフアモイル
   、ジアルキルスルフアモイル、カルバモイル、ジアルキ
   ルカルバモイル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｒ＾３はまたアルキル
   を表わし、 Ｒ＾４は水素を表わすか、アシル、アルキルスルホニル
   またはアリールスルホニルを表わすか、該アリール基は
   アルキルまたはハロゲンで置換されていてもよく、また
   はアミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジア
   ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルも
   しくはアルコキシカルボニルを表わすか、シクロアルキ
   ルを表わすか、或いはアルキルを表わし、該アルキルは
   ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
   ル、スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメ
   トキシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチル
   スルホニル、アルコキシカルボニルもしくはアシルで、
   または式 −ＮＲ＾５Ｒ＾６の基で、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は同一もしくは相異なるものであり、
   アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
   ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、或いは カルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフアモイ
   ル、ジアルキルスルフアモイル、ヘテロアリール、アリ
   ール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホ
   ニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキル
   スルホニルで置換されていてもよく、最後に述べた置換
   基のヘテロアリール及びアリール基はハロゲン、シアノ
   、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキ
   ル、アルコキシ、アルキルチオ及びアルキルスルホニル
   よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる置換
   基で置換されていてもよく、或いはＲ＾４はヘテロアリ
   ールを表わし、該基はハロゲン、アルキル、アルコキシ
   、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、アリ
   ールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、トリ
   フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
   メチルチオ、アルコキシカルボニル及び式−ＮＲ＾５Ｒ
   ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの３個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、或いは Ｒ＾４はアリールを表わし、該基はアルキル、アルコキ
   シ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、ア
   リールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、ア
   ラルキル、アルコキシ、アラルキルチオ、アラルキルス
   ルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
   チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
   、アルコキシカルボニル、スルフアモイル、ジアルキル
   スルフアモイル、カルバモイル、ジアルキルカルバモイ
   ル及び式−ＮＲ＾５Ｒ＾６、但し、 Ｒ＾５及びＲ＾６は上記の意味を有する、 の基よりなる群からの５個までの同一もしくは相異なる
   置換基で置換されていてもよく、Ｘは式−ＣＨ＿２−Ｃ
   Ｈ＿２−または−ＣＨ＝ＣＨ−の基を表わし、 Ａは式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ の基を表わし、ここに、 Ｒ＾７は水素またはアルキルを表わし、そしてＲ＾８は
   水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは陽イオン
   を表わす、 の置換されたピロールの使用。 １４、３−ヒドロキシ−３−メチル−グルタリル補酵素
   Ａ（ＨＭＧ−ＣｏＡ）還元酵素の阻害剤を製造するため
   に特許請求の範囲第１３項記載の用途。