JPS63270765A - フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物 - Google Patents
フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
- G11B7/248—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes porphines; azaporphines, e.g. phthalocyanines
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0696—Phthalocyanines
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は近赤外吸収性色素として有用な、700〜1
、500nmに吸収を有する新規のフタロシアニン系化
合物およびこれを含有する樹脂組成物を提供するもので
ある。
、500nmに吸収を有する新規のフタロシアニン系化
合物およびこれを含有する樹脂組成物を提供するもので
ある。
近年、コンパクトディスク、ビデオディスク、など光記
録媒体、液晶表示装置、光学文字読取機等における書込
み或いは読み取りのために、半導体レーザ光を利用する
ことが提案されている。
録媒体、液晶表示装置、光学文字読取機等における書込
み或いは読み取りのために、半導体レーザ光を利用する
ことが提案されている。
半導体レーザ光による書込み又は読み取りのためには、
半導体レーザ光、即ち、近赤外光を吸収する物質が不可
欠である。
半導体レーザ光、即ち、近赤外光を吸収する物質が不可
欠である。
また、近赤外光を吸収する色素としては、この他電子写
真記録、近赤外吸収フィルター、眼鏡等への用途が知ら
れている。
真記録、近赤外吸収フィルター、眼鏡等への用途が知ら
れている。
これらの具体的な使用例としては、例えば光ディスクの
例としては[発明182巻50〜55頁、[光機能性高
分子の合成と応用」 シーエムシー刊100〜115頁
、特開昭57−11090、特開昭59−55794な
どに、また液晶装置についての原理は「表示デバイスの
最新技術」シーエムシー社刊 80〜129頁、「写真
工業」42巻 6号 121〜123頁、などにまた近
赤外吸収フィルターの例としては特開昭56−1355
11 、特開昭60−69602に記載されている。
例としては[発明182巻50〜55頁、[光機能性高
分子の合成と応用」 シーエムシー刊100〜115頁
、特開昭57−11090、特開昭59−55794な
どに、また液晶装置についての原理は「表示デバイスの
最新技術」シーエムシー社刊 80〜129頁、「写真
工業」42巻 6号 121〜123頁、などにまた近
赤外吸収フィルターの例としては特開昭56−1355
11 、特開昭60−69602に記載されている。
また眼鏡への利用例としては眼精疲労防止用、電子写真
記録については「材料技術」3巻 4号9〜12頁に例
がある。その他レーザー光利用レジストパターン形成法
などに関しては特開昭57−40256などに開示され
ている。
記録については「材料技術」3巻 4号9〜12頁に例
がある。その他レーザー光利用レジストパターン形成法
などに関しては特開昭57−40256などに開示され
ている。
近赤外光を吸収する有機色素としては、従来、シアニン
色素がよく知られている。しかし、シアニン色素は、反
面、耐光堅牢性が極めて低いので、これを使用する場合
には多くの制約を受けざるを得ない。また、オキシムや
チオールの金属錯体もその能力は低いが、近赤外光を吸
収する有機色素として知られている。しかし、これらは
ある種の媒体中では錯体から金属が脱離して、近赤外光
の吸収能力が消失する欠点がある。
色素がよく知られている。しかし、シアニン色素は、反
面、耐光堅牢性が極めて低いので、これを使用する場合
には多くの制約を受けざるを得ない。また、オキシムや
チオールの金属錯体もその能力は低いが、近赤外光を吸
収する有機色素として知られている。しかし、これらは
ある種の媒体中では錯体から金属が脱離して、近赤外光
の吸収能力が消失する欠点がある。
また最近では特開昭60−23451にみられるような
ナフタロシアニン化合物が知られているが、その製造工
程が長(、かつ工業的には高価な化合物であり工業的使
用には不充分であった。さらに特開昭59−13149
3にみられるようなナフトキノン化合物も、化合物の安
定性、又製造工程が長くかつ高価な原料を使用するため
、実用化には不充分であった。
ナフタロシアニン化合物が知られているが、その製造工
程が長(、かつ工業的には高価な化合物であり工業的使
用には不充分であった。さらに特開昭59−13149
3にみられるようなナフトキノン化合物も、化合物の安
定性、又製造工程が長くかつ高価な原料を使用するため
、実用化には不充分であった。
また、フタロシアニン系近赤外吸収色素はこれまで樹脂
中に溶解させると曇り現象が生じ、透明な樹脂板または
フィルムを得られなかったために実用化には到っていな
いのが現状である。
中に溶解させると曇り現象が生じ、透明な樹脂板または
フィルムを得られなかったために実用化には到っていな
いのが現状である。
上記の問題点を解決するため、本発明者らは新規の近赤
外線吸収色素を鋭意検討した結果、下記の式([)で示
されるフタロシアニン系化合物が極めて有用な色素であ
ることを見出し、本発明に達した。
外線吸収色素を鋭意検討した結果、下記の式([)で示
されるフタロシアニン系化合物が極めて有用な色素であ
ることを見出し、本発明に達した。
すなわち、本発明は下記式(1)で示される700〜1
、500に吸収を有する新規の近赤外吸収色素を提供
するものである。
、500に吸収を有する新規の近赤外吸収色素を提供
するものである。
本発明に係る色素は式(1)
勲
〔式中R+、RhおよびR1は、同−又は各々独立に水
素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、シクロへキシルア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル
基、アシルオキシアルキル基、アシルアミノアルキル基
、ハロゲン化アルギル基、シアノアルキル基、アルコキ
シカルボニルアルキル基、アルケニル基またはアラルキ
ル基を示し、R2、R1、R4およびR3は同−又は各
々独立に水素原子、直鎖又は分岐アルキル基、シクロア
ルキル基、直鎖又は分岐アルコキシ基、シクロアルキル
オキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキ
シ基、アラルキル基またはハロゲン原子を示し、またR
tとR1又はR4とR3は互いに連結して環状になって
もよ<、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基又
は水酸基を表し、lは1〜4の整数を示シ、m ハO〜
5の整数を示し、nは0−14の整数を示すが、24!
+m+nは托であり、hは金属原子または金rf4ri
&化物を示す。〕で表されるフタロシアニン系化合物で
ある。
素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、シクロへキシルア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル
基、アシルオキシアルキル基、アシルアミノアルキル基
、ハロゲン化アルギル基、シアノアルキル基、アルコキ
シカルボニルアルキル基、アルケニル基またはアラルキ
ル基を示し、R2、R1、R4およびR3は同−又は各
々独立に水素原子、直鎖又は分岐アルキル基、シクロア
ルキル基、直鎖又は分岐アルコキシ基、シクロアルキル
オキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキ
シ基、アラルキル基またはハロゲン原子を示し、またR
tとR1又はR4とR3は互いに連結して環状になって
もよ<、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基又
は水酸基を表し、lは1〜4の整数を示シ、m ハO〜
5の整数を示し、nは0−14の整数を示すが、24!
+m+nは托であり、hは金属原子または金rf4ri
&化物を示す。〕で表されるフタロシアニン系化合物で
ある。
本発明色票の前記式(1)の化合物において、R,、R
1又はR1で示される直鎖又は分岐のアルキル基の例と
しては、メチル、エチル、n−プロピル、1so−プロ
ピル、n−ブチル、1so−ブチル、tert−ブチル
、n−ペンチル、1.2−ジメチルプロピル、ヘキシル
、ヘプチル、ノニルなと炭素数1〜20の直鎖又は分岐
のアルキル基が挙げられ、またシクロへキシルアルキル
基の例としては、置換又は無置換の2−シクロヘキシル
エチル、3−シクロへキシルプロピル、3−シクロヘキ
シル−2−メチルプロピルなどが挙げられ、ヒドロキシ
アルキル基の例としては、ヒドロキシメチル、β−ヒド
ロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、などが挙げら
れる。アルコキシアルキル基の例としては、メトキシメ
チル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチ
ル、プロポキシエチル、ブトキシエチル、ヘキシルオキ
シエチル、3−メトキシブチル、フェノキシエチルなど
が挙げられ、アシルオキシアルキル基の例としては、ア
セチルオキシエチル、プロピオニルオキシエチルなどが
挙げられる。またアシルアミノアルキル基の例としては
、アセチルアミノエチル、プロピオニルアミノプロピル
などが挙げられ、ハロゲン化アルキル基としてはトリフ
ルオロメチル基などのフッ素置換アルキル、β−クロル
エチル基などのクロル置換アルキル、β−臭化プロビル
等の臭素置換アルキル、β−沃化エチル等の沃素置換ア
ルキルなど挙げられ、シアノアルキル基の例としてはシ
アノメチル、シアノエチルなどが挙げられ、アルコキシ
カルボニルアルキル基の例としては、メトキシカルボニ
ルメチル、エトキシカルボニルエチル、ブトキシカルボ
ニルプロビルなどが挙げられる。またアルケニル基の例
としては、アリル、メタリル、クロチルなどが挙げられ
、アラルキル基の例としてはベンジル、フェネチルなど
が挙げられる。
1又はR1で示される直鎖又は分岐のアルキル基の例と
しては、メチル、エチル、n−プロピル、1so−プロ
ピル、n−ブチル、1so−ブチル、tert−ブチル
、n−ペンチル、1.2−ジメチルプロピル、ヘキシル
、ヘプチル、ノニルなと炭素数1〜20の直鎖又は分岐
のアルキル基が挙げられ、またシクロへキシルアルキル
基の例としては、置換又は無置換の2−シクロヘキシル
エチル、3−シクロへキシルプロピル、3−シクロヘキ
シル−2−メチルプロピルなどが挙げられ、ヒドロキシ
アルキル基の例としては、ヒドロキシメチル、β−ヒド
ロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、などが挙げら
れる。アルコキシアルキル基の例としては、メトキシメ
チル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチ
ル、プロポキシエチル、ブトキシエチル、ヘキシルオキ
シエチル、3−メトキシブチル、フェノキシエチルなど
が挙げられ、アシルオキシアルキル基の例としては、ア
セチルオキシエチル、プロピオニルオキシエチルなどが
挙げられる。またアシルアミノアルキル基の例としては
、アセチルアミノエチル、プロピオニルアミノプロピル
などが挙げられ、ハロゲン化アルキル基としてはトリフ
ルオロメチル基などのフッ素置換アルキル、β−クロル
エチル基などのクロル置換アルキル、β−臭化プロビル
等の臭素置換アルキル、β−沃化エチル等の沃素置換ア
ルキルなど挙げられ、シアノアルキル基の例としてはシ
アノメチル、シアノエチルなどが挙げられ、アルコキシ
カルボニルアルキル基の例としては、メトキシカルボニ
ルメチル、エトキシカルボニルエチル、ブトキシカルボ
ニルプロビルなどが挙げられる。またアルケニル基の例
としては、アリル、メタリル、クロチルなどが挙げられ
、アラルキル基の例としてはベンジル、フェネチルなど
が挙げられる。
R2、R2、RaおよびP、で示される直鎖又は分岐の
アルキル基の例としてはメチル、エチル、n−プロピル
、1so−プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、
n−ペンチル、1.2−ジメチルプロピル、ヘキシル、
ヘプチル、ノニルなどの炭素数1〜20の直鎖又は分岐
のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基の例として
は置換又は無置換のシクロペンチル、シクロヘキシルな
どが挙げられ、直鎖又は分岐アルコキシ基の例としては
、メトキシ、エトキシ、1so−プロピルオキシ、3.
5.5−)ジメチルへキシルオキシなどの基が挙げられ
、シクロアルキルオキシ基の例としては、シクロへキシ
ルオキシ、4−エチルシクロへキシルオキシ、4−メト
キシシクロヘキシルオキシなどの基が挙げられ、また、
アルコキシアルキル基の例としては、メトキシメチル、
メトキシエチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エ
トキシエチル、プロポキシエチル、ブトキシエチル、ヘ
キシルオキシエチル、3−メトキシブチル、フェノキシ
エチルなどが挙げられ、アルコキシアルコキシ基の例と
しては2−メトキシエトキシ、2−エトキシエトキシ、
3−フェノキシプロピルオキシが挙げられ、アラルキル
基の例としては、ベンジル、フェネチルなどが挙げられ
、またR2とR3又はR4とR1は互いに連結して、芳
香環、ヘテロ環又は脂肪族環などを形成していてもよい
。
アルキル基の例としてはメチル、エチル、n−プロピル
、1so−プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、
n−ペンチル、1.2−ジメチルプロピル、ヘキシル、
ヘプチル、ノニルなどの炭素数1〜20の直鎖又は分岐
のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基の例として
は置換又は無置換のシクロペンチル、シクロヘキシルな
どが挙げられ、直鎖又は分岐アルコキシ基の例としては
、メトキシ、エトキシ、1so−プロピルオキシ、3.
5.5−)ジメチルへキシルオキシなどの基が挙げられ
、シクロアルキルオキシ基の例としては、シクロへキシ
ルオキシ、4−エチルシクロへキシルオキシ、4−メト
キシシクロヘキシルオキシなどの基が挙げられ、また、
アルコキシアルキル基の例としては、メトキシメチル、
メトキシエチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エ
トキシエチル、プロポキシエチル、ブトキシエチル、ヘ
キシルオキシエチル、3−メトキシブチル、フェノキシ
エチルなどが挙げられ、アルコキシアルコキシ基の例と
しては2−メトキシエトキシ、2−エトキシエトキシ、
3−フェノキシプロピルオキシが挙げられ、アラルキル
基の例としては、ベンジル、フェネチルなどが挙げられ
、またR2とR3又はR4とR1は互いに連結して、芳
香環、ヘテロ環又は脂肪族環などを形成していてもよい
。
Xは具体的例としては水素原子、塩素、フッ素、臭素な
どのハロゲン原子、またメトキシ基、エトキシ基、1s
o−プロピルオキシ基などのアルコキシ基、および水酸
基が挙げられる。Mの具体的例としては、銅、亜鉛、鉛
、マグネシウム、鉄、コバルトおよびバナジウム等の金
属原子、または金属酸化物が挙げられる。
どのハロゲン原子、またメトキシ基、エトキシ基、1s
o−プロピルオキシ基などのアルコキシ基、および水酸
基が挙げられる。Mの具体的例としては、銅、亜鉛、鉛
、マグネシウム、鉄、コバルトおよびバナジウム等の金
属原子、または金属酸化物が挙げられる。
本発明の色素は、例えば下記の方法により容易に製造す
ることができる。
ることができる。
一例を挙げると、パークロロ銅フタロシアニン(−最急
フタロシアニングリーン)をジメチルホルムミド又はキ
ノリンのような非プロトン性溶媒に分散させ、苛性カリ
ウム等で代表される塩基の存在下、0−アミノチオフェ
ノール類と反応温度70−160°C1好ましくは11
0−140°Cで反応して得られた化合物をジメチルホ
ルムアミド等の極性溶媒中で炭酸カリウム等の塩基の存
在下ハロゲン化アルキル等の試薬と反応させることによ
って得ることができる。
フタロシアニングリーン)をジメチルホルムミド又はキ
ノリンのような非プロトン性溶媒に分散させ、苛性カリ
ウム等で代表される塩基の存在下、0−アミノチオフェ
ノール類と反応温度70−160°C1好ましくは11
0−140°Cで反応して得られた化合物をジメチルホ
ルムアミド等の極性溶媒中で炭酸カリウム等の塩基の存
在下ハロゲン化アルキル等の試薬と反応させることによ
って得ることができる。
本発明色素を用いて光ディスクを試作する方法は公知方
法、例えば特開昭59−131493 、特開昭58−
100247 、特開昭57−11090、特開昭57
−402546、特開昭59−55794、特開昭59
−55795、特開昭59−104625などに記載の
方法に準じて試作すればよい。
法、例えば特開昭59−131493 、特開昭58−
100247 、特開昭57−11090、特開昭57
−402546、特開昭59−55794、特開昭59
−55795、特開昭59−104625などに記載の
方法に準じて試作すればよい。
又、液晶表示装置の試作方法は、常法に従い本発明の色
素と液晶を混合溶解した後セルに封入することにより得
ることができる。
素と液晶を混合溶解した後セルに封入することにより得
ることができる。
又、近赤外吸収フィルターの試作方法としては、透明樹
脂例えば、ポリアクリロニトリル樹脂、メタクリルニト
リル樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリ塩化ビニ
ル樹脂、ABS樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂
、ポリスチレン樹脂などと本発明色素とを混合し、形成
する方法、溶媒して本発明色素を溶解又は分散し、上記
樹脂を浸漬し加熱処理着色する方法、本発明色素を上記
樹脂又はコーティングガラス等に塗布又は蒸着する方法
などがある。
脂例えば、ポリアクリロニトリル樹脂、メタクリルニト
リル樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリ塩化ビニ
ル樹脂、ABS樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂
、ポリスチレン樹脂などと本発明色素とを混合し、形成
する方法、溶媒して本発明色素を溶解又は分散し、上記
樹脂を浸漬し加熱処理着色する方法、本発明色素を上記
樹脂又はコーティングガラス等に塗布又は蒸着する方法
などがある。
OA機器端末のビジュアルディスプレーによる眼精疲労
防止用近赤外吸収眼鏡のつくり方としては、レンズ用樹
脂と本発明の色素を混合し射出成形すること、又は本発
明色素の溶液又は分散液にレンズを浸漬し染色すること
により得ることができる。
防止用近赤外吸収眼鏡のつくり方としては、レンズ用樹
脂と本発明の色素を混合し射出成形すること、又は本発
明色素の溶液又は分散液にレンズを浸漬し染色すること
により得ることができる。
高屈折率のレンズ用樹脂としては、インシアナート化合
物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物と反
応して得られる樹脂、イソシアナート化合物とテトラブ
ロムビスフェノールAなどのハロゲン原子を有するヒド
ロキシ化合物と反応して得られる樹脂、インシアナート
化合物とメルカプト基を有する化合物と反応して得られ
る樹脂などが挙げられる。
物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物と反
応して得られる樹脂、イソシアナート化合物とテトラブ
ロムビスフェノールAなどのハロゲン原子を有するヒド
ロキシ化合物と反応して得られる樹脂、インシアナート
化合物とメルカプト基を有する化合物と反応して得られ
る樹脂などが挙げられる。
近年、近赤外光を吸収する物質が光記録媒体、液晶表示
装置、光学文字読取機、電子写真記録、近赤外吸収フィ
ルター、眼鏡等に利用されている。
装置、光学文字読取機、電子写真記録、近赤外吸収フィ
ルター、眼鏡等に利用されている。
本発明の色素は上記の分野に用いた場合耐光堅牢度が極
めて高く、吸収能力も消失せず、又製造工程も短く実用
極めて価値ある色素である。
めて高く、吸収能力も消失せず、又製造工程も短く実用
極めて価値ある色素である。
特に、透明な樹脂板又はフィルムを得るには、式(1)
中R1、R4およびR7に種々置換基を有していてもよ
い炭化水素基を導入したものが有効であった。
中R1、R4およびR7に種々置換基を有していてもよ
い炭化水素基を導入したものが有効であった。
以下実施例を示すが、実施例中「部」は「重層部」を示
す。
す。
実施例−1
パークロロ銅フタロシアニン(一般試薬名フタロシアニ
ングリーン)113部、および苛性力1月12部をジメ
チルホルムアミド2,200部に懸濁させ、窒素気流下
2−アミノチオフェノール73部を加え、110〜13
0’Cで5時間反応した後、温水1 、000部に排出
した。
ングリーン)113部、および苛性力1月12部をジメ
チルホルムアミド2,200部に懸濁させ、窒素気流下
2−アミノチオフェノール73部を加え、110〜13
0’Cで5時間反応した後、温水1 、000部に排出
した。
濾過、水洗し、乾燥して147部の弐(A)で示される
化合物を得た。
化合物を得た。
この化合物67部、炭酸カリウム70部をジメチルホル
ムアミド2,010部に加え、窒素気流下、臭化−〇−
オクチル116部を加え100℃で3時間、120〜1
25°Cで1時間反応した。放冷後、反応液をメタノー
ル10,000部に加え、1時間攪拌した後、濾過、水
洗、乾燥して520部の粗生成物を得た。
ムアミド2,010部に加え、窒素気流下、臭化−〇−
オクチル116部を加え100℃で3時間、120〜1
25°Cで1時間反応した。放冷後、反応液をメタノー
ル10,000部に加え、1時間攪拌した後、濾過、水
洗、乾燥して520部の粗生成物を得た。
この生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒トルエン)により精製して式(B)以下余白 で示される化合物320部を得た。本化合物のトルエン
中における吸収極大波長(スmax)ば940部mであ
り、元素分析結果は下記の通りであった。
開溶媒トルエン)により精製して式(B)以下余白 で示される化合物320部を得た。本化合物のトルエン
中における吸収極大波長(スmax)ば940部mであ
り、元素分析結果は下記の通りであった。
元素分析値:
計算値 Cニア5.94χ、Il:4.78χ、)h6
.64χ実測値 Cニア4.62Z 、II:4.60
X 、)b6.03X本化合物0.2部とポリスチレン
樹脂100部を混合し、射出成形して得られたプレート
板は、1.OIOnmに吸収極大を有して透明性の良好
な近赤外線フィルター特性を示した。
.64χ実測値 Cニア4.62Z 、II:4.60
X 、)b6.03X本化合物0.2部とポリスチレン
樹脂100部を混合し、射出成形して得られたプレート
板は、1.OIOnmに吸収極大を有して透明性の良好
な近赤外線フィルター特性を示した。
又、サンシャインウェザ−メーターによるl、000時
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
実施例−2
パークロロバナジウムフクロシアニンを用いて、実施例
−1と全く同様に操作により、式(B)の銅の代わりに
バナジウムである化合物を得た。この化合物のクロロホ
ルム中の吸収極大波長(λa+ax)は980部mであ
り、ポリスチレン樹脂中の吸収極大は1 、1100n
であツタ。
−1と全く同様に操作により、式(B)の銅の代わりに
バナジウムである化合物を得た。この化合物のクロロホ
ルム中の吸収極大波長(λa+ax)は980部mであ
り、ポリスチレン樹脂中の吸収極大は1 、1100n
であツタ。
本化合物をメチルメククリレート樹脂と混合し、射出成
形して得られた眼鏡は1,1105nに吸収極大を示し
ており、これを用いてディスプレ一端末機器操作をした
ところ眼の疲労はほとんど感知できなかった。
形して得られた眼鏡は1,1105nに吸収極大を示し
ており、これを用いてディスプレ一端末機器操作をした
ところ眼の疲労はほとんど感知できなかった。
又、サンシャインウェザ−メーターによるl、000時
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
実施例−3
パークロロ亜鉛フタロシアニン113部、および苛性カ
リ112部をキノリンI 、 800部に加え、2〜ア
ミノ−5−メチルフェノール38部を窒素気流下加え、
140’Cで6時間反応した。この反応液をメタノール
3,000部に排出し、濾過、水洗、乾燥した。得られ
た固体をジメチルホルムアミド1,200部に熔解し、
炭酸カリウム70部、および4−エチルベンジルクロラ
イド62部を加え、窒素気流下110°Cで4.5時間
反応して、冷却後、メタノール4゜500部に排出し、
濾過、水洗および乾燥を行った。
リ112部をキノリンI 、 800部に加え、2〜ア
ミノ−5−メチルフェノール38部を窒素気流下加え、
140’Cで6時間反応した。この反応液をメタノール
3,000部に排出し、濾過、水洗、乾燥した。得られ
た固体をジメチルホルムアミド1,200部に熔解し、
炭酸カリウム70部、および4−エチルベンジルクロラ
イド62部を加え、窒素気流下110°Cで4.5時間
反応して、冷却後、メタノール4゜500部に排出し、
濾過、水洗および乾燥を行った。
これをトルエンを展開溶媒とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより精製して式(C)で示される化合
物lO5部を得た0本色素のクロロホルム中での吸収極
大波長(λmax)は842n+iであり、クロロホル
ム2容ン皮をメタクリル酸メチル樹刀旨上に塗布するこ
とにより作製した光記録用ディスクは良好な性能を示し
た。
マトグラフィーにより精製して式(C)で示される化合
物lO5部を得た0本色素のクロロホルム中での吸収極
大波長(λmax)は842n+iであり、クロロホル
ム2容ン皮をメタクリル酸メチル樹刀旨上に塗布するこ
とにより作製した光記録用ディスクは良好な性能を示し
た。
又、サンシャインウェザ−メーターによる1、000時
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
実施例−4
m−キシリレンジイソシアネート94部、ペンタエリス
リトールテトラキス−(3−メルカプトプロピオネート
)122部、及び実施例−1で得られたフタロシアニン
化合物2部とジブチルスズタウリレート0.1部を混合
し、均一にした液をシリコン系焼付タイプの乱型剤で表
面処理したガラスモールドと塩ビ製ガスケットよりなる
鋳型の中に注入した。これを45°Cで5時間、50°
Cで2時間、55°Cで2時間、60°Cで1時間、7
0°Cで1時間、80℃で1時間、100°Cで1時間
、順次加熱を行った後、冷却して離型した。得られた含
硫ウレタン樹脂製レンズは淡緑色の透明なレンズであり
、優秀な耐候性を示し、近赤外部の吸収は700〜1
、200部mにあり、この部分の光はほとんど透過しな
かった。
リトールテトラキス−(3−メルカプトプロピオネート
)122部、及び実施例−1で得られたフタロシアニン
化合物2部とジブチルスズタウリレート0.1部を混合
し、均一にした液をシリコン系焼付タイプの乱型剤で表
面処理したガラスモールドと塩ビ製ガスケットよりなる
鋳型の中に注入した。これを45°Cで5時間、50°
Cで2時間、55°Cで2時間、60°Cで1時間、7
0°Cで1時間、80℃で1時間、100°Cで1時間
、順次加熱を行った後、冷却して離型した。得られた含
硫ウレタン樹脂製レンズは淡緑色の透明なレンズであり
、優秀な耐候性を示し、近赤外部の吸収は700〜1
、200部mにあり、この部分の光はほとんど透過しな
かった。
以下、実施例−1、又は3と同様な方法により合成した
色素の構造と、クロロホルム中での吸収極大波長を表−
1に示す。なお、 表1中のR1〜Rt、M、 X、
ffi、mおよびnは式(1)中の記号と同じ意味を示
している。
色素の構造と、クロロホルム中での吸収極大波長を表−
1に示す。なお、 表1中のR1〜Rt、M、 X、
ffi、mおよびnは式(1)中の記号と同じ意味を示
している。
従来の色素は200°C以上では分解し、更に耐光性の
弱いものが大半であるが、以上の色素は、例えば樹脂埋
込みの際、約300°Cで処理しても変化はなく耐光性
の点については、サンシャインウェザ−メーターによる
i、ooo時間のテストでも何ら変化は認められず良好
であった。
弱いものが大半であるが、以上の色素は、例えば樹脂埋
込みの際、約300°Cで処理しても変化はなく耐光性
の点については、サンシャインウェザ−メーターによる
i、ooo時間のテストでも何ら変化は認められず良好
であった。
(以下余白)
Claims (2)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中R_1、R_6およびR_7は、同一又は各々独
立に水素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、シクロヘキ
シルアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシア
ルキル基、アシルオキシアルキル基、アシルアミノアル
キル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、ア
ルコキシカルボニルアルキル基、アルケニル基またはア
ラルキル基を示し、R_2、R_3、R_4およびR_
5は同一又は各々独立に水素原子、直鎖又は分岐アルキ
ル基、シクロアルキル基、直鎖又は分岐アルコキシ基、
シクロアルキルオキシ基、アルコキシアルキル基、アル
コキシアルコキシ基、アラルキル基またはハロゲン原子
を示し、またR_2とR_3又はR_4とR_5は、互
いに連結して環状になってもよく、Xは水素原子、ハロ
ゲン原子、アルコキシ基又は水酸基を表し、lは1〜4
の整数を示し、mは0〜5の整数を示し、nは0〜14
の整数を示すが、2l+m+nは16であり、Mは金属
原子または金属酸化物を示す。〕で表されるフタロシア
ニン系化合物。 - (2)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中R_1、R_6およびR_7は、同一又は各々独
立に水素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、シクロヘキ
シルアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシア
ルキル基、アシルオキシアルキル基、アシルアミノアル
キル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、ア
ルコキシカルボニルアルキル基、アルケニル基またはア
ラルキル基を示し、R_2、R_3、R_4およびR_
5は同一又は各々独立に水素原子、直鎖又は分岐アルキ
ル基、シクロアルキル基、直鎖又は分岐アルコキシ基、
シクロアルキルオキシ基、アルコキシアルキル基、アル
コキシアルコキシ基、アラルキル基またはハロゲン原子
を示し、またR_2とR_3又はR_4とR_5は、互
いに連結して環状になってもよく、Xは水素原子、ハロ
ゲン原子、アルコキシ基又は水酸基を表し、lは1〜4
の整数を示し、mは0〜5の整数を示し、nは0〜14
の整数を示すが、2l+m+nは16であり、Mは金属
原子または金属酸化物を示す。〕で表されるフタロシア
ニン系化合物を含有することを特徴とする樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62324673A JP2515356B2 (ja) | 1986-12-26 | 1987-12-22 | フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-308915 | 1986-12-26 | ||
JP30891586 | 1986-12-26 | ||
JP62324673A JP2515356B2 (ja) | 1986-12-26 | 1987-12-22 | フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63270765A true JPS63270765A (ja) | 1988-11-08 |
JP2515356B2 JP2515356B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=26565736
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62324673A Expired - Lifetime JP2515356B2 (ja) | 1986-12-26 | 1987-12-22 | フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2515356B2 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63308073A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-12-15 | ゼネカ・リミテッド | フタロシアニン化合物 |
EP0373643A2 (en) * | 1988-12-15 | 1990-06-20 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Near infrared absorbers and display/recording materials prepared by using same |
EP0484018A2 (en) * | 1990-11-02 | 1992-05-06 | Zeneca Limited | Phthalocyanine compounds useful as an infrared absorber |
EP0636664A1 (en) * | 1993-07-29 | 1995-02-01 | Zeneca Limited | Substituted phthalocyanines |
EP0718375A2 (en) * | 1994-12-21 | 1996-06-26 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Near infrared absorber, preparation process thereof and use thereof |
EP0767221A1 (en) * | 1995-10-02 | 1997-04-09 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Near infrared ray absorbing compound having high durability and its use |
EP0799831A1 (de) * | 1996-04-02 | 1997-10-08 | Basf Aktiengesellschaft | IR-absorbierende Phthalocyanine |
US5712332A (en) * | 1993-01-13 | 1998-01-27 | Nippon Shokubai Co. | Method for absorbing heat radiation |
US5788914A (en) * | 1995-10-02 | 1998-08-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Near infrared ray absorbing compound having high durability and its use |
JP2006282980A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-10-19 | Yamamoto Chem Inc | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JP2012137728A (ja) * | 2010-12-10 | 2012-07-19 | Asahi Glass Co Ltd | 赤外光透過フィルタ及びこれを用いた撮像装置 |
WO2020218615A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 三井化学株式会社 | 光学材料、光学材料用重合性組成物、プラスチックレンズ、アイウェア、赤外線センサー及び赤外線カメラ |
WO2020218614A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 三井化学株式会社 | 光学材料、光学材料用重合性組成物、プラスチックレンズ、アイウェア、赤外線センサー及び赤外線カメラ |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101835310B1 (ko) * | 2017-09-26 | 2018-03-08 | 나노씨엠에스(주) | 보안용 근적외선 표지제, 이의 제조방법, 이를 이용한 근적외선 흡수 및 반사 잉크 조성물 및 인쇄물품 |
-
1987
- 1987-12-22 JP JP62324673A patent/JP2515356B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS63308073A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-12-15 | ゼネカ・リミテッド | フタロシアニン化合物 |
EP0373643A2 (en) * | 1988-12-15 | 1990-06-20 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Near infrared absorbers and display/recording materials prepared by using same |
EP0484018A2 (en) * | 1990-11-02 | 1992-05-06 | Zeneca Limited | Phthalocyanine compounds useful as an infrared absorber |
US5712332A (en) * | 1993-01-13 | 1998-01-27 | Nippon Shokubai Co. | Method for absorbing heat radiation |
EP0636664A1 (en) * | 1993-07-29 | 1995-02-01 | Zeneca Limited | Substituted phthalocyanines |
US5705101A (en) * | 1994-12-21 | 1998-01-06 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Near infrared absorber, preparation process therefor and use thereof |
EP0718375A3 (en) * | 1994-12-21 | 1997-03-05 | Mitsui Toatsu Chemicals | Near infrared absorber, its manufacturing process and its use |
EP0718375A2 (en) * | 1994-12-21 | 1996-06-26 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Near infrared absorber, preparation process thereof and use thereof |
EP0767221A1 (en) * | 1995-10-02 | 1997-04-09 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Near infrared ray absorbing compound having high durability and its use |
US5788914A (en) * | 1995-10-02 | 1998-08-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Near infrared ray absorbing compound having high durability and its use |
EP0799831A1 (de) * | 1996-04-02 | 1997-10-08 | Basf Aktiengesellschaft | IR-absorbierende Phthalocyanine |
JP2006282980A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-10-19 | Yamamoto Chem Inc | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JP2012137728A (ja) * | 2010-12-10 | 2012-07-19 | Asahi Glass Co Ltd | 赤外光透過フィルタ及びこれを用いた撮像装置 |
WO2020218615A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 三井化学株式会社 | 光学材料、光学材料用重合性組成物、プラスチックレンズ、アイウェア、赤外線センサー及び赤外線カメラ |
WO2020218614A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 三井化学株式会社 | 光学材料、光学材料用重合性組成物、プラスチックレンズ、アイウェア、赤外線センサー及び赤外線カメラ |
CN113711113A (zh) * | 2019-04-26 | 2021-11-26 | 三井化学株式会社 | 光学材料、光学材料用聚合性组合物、塑料透镜、护目镜、红外线传感器及红外线照相机 |
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JPWO2020218614A1 (ja) * | 2019-04-26 | 2021-12-09 | 三井化学株式会社 | 光学材料、光学材料用重合性組成物、プラスチックレンズ、アイウェア、赤外線センサー及び赤外線カメラ |
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JP2515356B2 (ja) | 1996-07-10 |
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