JPS63270525A - 気体分離用複合膜 - Google Patents
気体分離用複合膜Info
- Publication number
- JPS63270525A JPS63270525A JP62107435A JP10743587A JPS63270525A JP S63270525 A JPS63270525 A JP S63270525A JP 62107435 A JP62107435 A JP 62107435A JP 10743587 A JP10743587 A JP 10743587A JP S63270525 A JPS63270525 A JP S63270525A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- composite membrane
- polymer
- membrane
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- -1 fumaric acid diester Chemical class 0.000 claims abstract description 88
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 44
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Natural products OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims abstract description 20
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 19
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 27
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 22
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 abstract description 8
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 abstract description 5
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 abstract description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 abstract 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Chemical group 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical group 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical group CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- FNMTVMWFISHPEV-AATRIKPKSA-N dipropan-2-yl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CC(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)C FNMTVMWFISHPEV-AATRIKPKSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical group CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PPWNCLVNXGCGAF-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbut-1-yne Chemical group CC(C)(C)C#C PPWNCLVNXGCGAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Chemical group 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Chemical group 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical group 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical class [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 210000002816 gill Anatomy 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N pentadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 208000023504 respiratory system disease Diseases 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/10—Supported membranes; Membrane supports
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/40—Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof, e.g. salts, amides, imides, nitriles, anhydrides, esters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/70—Polymers having silicon in the main chain, with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は混合気体の分離に使用される、良好な選択性、
および透過性を有する気体分離用複合膜に関するもので
ある。
および透過性を有する気体分離用複合膜に関するもので
ある。
[従来の技術]
従来、高分子膜による気体の分離において、気体透過性
および気体分離性の双方に優れた分離膜が求められてき
た。
および気体分離性の双方に優れた分離膜が求められてき
た。
かかる観点から種々の構成による気体分離用複合膜が考
案されている。例えば、米国特許第3874986号明
細書では、ポリフェニレンオキシドとオルガノポリシロ
キサン−ポリカーボネート共重合体からなる薄膜層と多
孔質支持体との間に接着とクッションの役割を兼ねた、
オルガノボリシロキサン−ポリカーボネート共重合体か
らなる中間層を設けた積層複合膜が提案されている。ま
た、米国特許第3980456号明細書では、上記積層
複合膜上にざらに薄膜層を設け、微小粒子の混入等によ
り発生したピンホールを遮蔽している。しかしながら、
かかる積層複合膜では、分離活性層として2種類の高分
子からなる薄膜層を用いているので、相分離等により膜
性能(分離性および透過性)または耐久性が必ずしも十
分とは言えない。
案されている。例えば、米国特許第3874986号明
細書では、ポリフェニレンオキシドとオルガノポリシロ
キサン−ポリカーボネート共重合体からなる薄膜層と多
孔質支持体との間に接着とクッションの役割を兼ねた、
オルガノボリシロキサン−ポリカーボネート共重合体か
らなる中間層を設けた積層複合膜が提案されている。ま
た、米国特許第3980456号明細書では、上記積層
複合膜上にざらに薄膜層を設け、微小粒子の混入等によ
り発生したピンホールを遮蔽している。しかしながら、
かかる積層複合膜では、分離活性層として2種類の高分
子からなる薄膜層を用いているので、相分離等により膜
性能(分離性および透過性)または耐久性が必ずしも十
分とは言えない。
また特開昭57−4203号公報では、ポリ−4−メチ
ルペンテンを用いた膜の表面に、膜形成能を有しない物
質をコーティングした複合膜が提案されているが、コー
ティングにより複合膜の気体分離性は向上するものの、
膜表面に膜形成能を有しない物質の層があるため耐久性
に問題があると考えられる。
ルペンテンを用いた膜の表面に、膜形成能を有しない物
質をコーティングした複合膜が提案されているが、コー
ティングにより複合膜の気体分離性は向上するものの、
膜表面に膜形成能を有しない物質の層があるため耐久性
に問題があると考えられる。
また、特開昭60−202712号公報では、フマル酸
ジエステルの重合体からなる層を直接多孔質支持体上に
設けた複合膜を選択性気体分離膜として用いる技術が提
案されているが、この複合膜は分離性、透過性が充分で
はなかった。
ジエステルの重合体からなる層を直接多孔質支持体上に
設けた複合膜を選択性気体分離膜として用いる技術が提
案されているが、この複合膜は分離性、透過性が充分で
はなかった。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明は、上記のような従来例の欠点を解消しようとす
るもので、すなわち分離性、透過性に優れる気体分離用
複合膜を提供することを目的とする。
るもので、すなわち分離性、透過性に優れる気体分離用
複合膜を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
上記目的を達成するため本発明は下記の構成からなる。
「多孔質支持体上に少なくとも下記(A>および(B)
の2層を設けたことを特徴とする気体分離用複合膜。
の2層を設けたことを特徴とする気体分離用複合膜。
(A)気体透過性を有する高分子を主成分としてなる層
(B)フマル酸ジエステルの高分子を主成分としてなる
層」 本発明における多孔質支持体は、積層する簿膜の分離特
性を効果的に発瑛し、かつ十分な気体透過量を1qるた
めに、その表面に存在する微細孔の大きさが、10〜1
0000人、ざらには10〜2000人であることが好
ましい。多孔質支持体としては、抽出法、層分離法、延
伸法、焼成法等の種々の方法で作られた有機多孔質支持
体または無機多孔質支持体が用いられる。有機多孔質支
持体は、その支持体用物質としてポリスルホン類、セル
ロース類、ポリオレフィン類、ポリエステル類、ポリア
ミド類、ポリイミド類等のホモポリマーiるいはこれら
ポリマーのブレンド物が通常使用されるが、特にこれら
に限定されるものではない。
層」 本発明における多孔質支持体は、積層する簿膜の分離特
性を効果的に発瑛し、かつ十分な気体透過量を1qるた
めに、その表面に存在する微細孔の大きさが、10〜1
0000人、ざらには10〜2000人であることが好
ましい。多孔質支持体としては、抽出法、層分離法、延
伸法、焼成法等の種々の方法で作られた有機多孔質支持
体または無機多孔質支持体が用いられる。有機多孔質支
持体は、その支持体用物質としてポリスルホン類、セル
ロース類、ポリオレフィン類、ポリエステル類、ポリア
ミド類、ポリイミド類等のホモポリマーiるいはこれら
ポリマーのブレンド物が通常使用されるが、特にこれら
に限定されるものではない。
多孔質支持体の形状としては、平膜状以外にも中空糸状
、チューブ状などを使用することができる。
、チューブ状などを使用することができる。
気体透過性を有する高分子を主成分としてなる層(A>
を構成する高分子とは、例えば透過性を示す尺度として
酸素透過係数P○2を用いた場合、PO2が10−9(
cr+f−cm/cnf ・seC@ Cm11g>
以上、更には10−8(cr+f−cm104− se
c −cmtlcl) 以上(Dものが好ましい。酸素
透過係数が前記範囲を満たす高分子としては、例えば、
ポリジメチルシロキサン等のポリオルガノシロキサン、
シルフェニレン−シロキサン共重合体、ポリカーボネー
ト−ポリシロキサン共重合体、ポリスルホン−ポリシロ
キサン共重合体、ポリスチレン−ポリシロキサン共重合
体等のポリオルガノシロキサン共重合体、ポリ(ter
t−ブチルアセチレン)、ポリ(トリメチルシリルプロ
ピン)等の置換ポリアセチレン、ポリ(ビスエトキシフ
ォスフアゼン)等のポリオルガノフォスフ7ゼン等が挙
げられるが、実質的に酸素透過係数が前記範囲を満たす
ものであればこれらに限らず好ましく用いられる。また
、(A>層を構成する高分子は、架橋構造を有していて
も差し支えない。
を構成する高分子とは、例えば透過性を示す尺度として
酸素透過係数P○2を用いた場合、PO2が10−9(
cr+f−cm/cnf ・seC@ Cm11g>
以上、更には10−8(cr+f−cm104− se
c −cmtlcl) 以上(Dものが好ましい。酸素
透過係数が前記範囲を満たす高分子としては、例えば、
ポリジメチルシロキサン等のポリオルガノシロキサン、
シルフェニレン−シロキサン共重合体、ポリカーボネー
ト−ポリシロキサン共重合体、ポリスルホン−ポリシロ
キサン共重合体、ポリスチレン−ポリシロキサン共重合
体等のポリオルガノシロキサン共重合体、ポリ(ter
t−ブチルアセチレン)、ポリ(トリメチルシリルプロ
ピン)等の置換ポリアセチレン、ポリ(ビスエトキシフ
ォスフアゼン)等のポリオルガノフォスフ7ゼン等が挙
げられるが、実質的に酸素透過係数が前記範囲を満たす
ものであればこれらに限らず好ましく用いられる。また
、(A>層を構成する高分子は、架橋構造を有していて
も差し支えない。
これらの中で特に好ましい高分子としては、架橋ポリシ
ロキサン、更に好ましくは架橋ポリオルガノシロキサン
が挙げられる。ポリオルガノシロキサンに含まれるオル
ガノ基としては、水素、メチル、エチル、プロピル、ト
リフルオロプロピル、アミノプロピル、ハロゲノプロピ
ル、ヒドロキシプロピル、イソシアネートプロピル、ビ
ニル、)工二ルなどが上げられるが、メチル基およびメ
チル基を主とする上記基との混合が好ましく用いられる
。
ロキサン、更に好ましくは架橋ポリオルガノシロキサン
が挙げられる。ポリオルガノシロキサンに含まれるオル
ガノ基としては、水素、メチル、エチル、プロピル、ト
リフルオロプロピル、アミノプロピル、ハロゲノプロピ
ル、ヒドロキシプロピル、イソシアネートプロピル、ビ
ニル、)工二ルなどが上げられるが、メチル基およびメ
チル基を主とする上記基との混合が好ましく用いられる
。
前記ポリシロキサンに架橋構造をもたらす方法としては
、特に限定されるものではなく、一般的な方法が用いら
れる。例えば、ポリシロキサンが末端シラノールタイプ
のものには三官能あるいは四官能性架橋剤が用いられる
。かかる架橋剤としてはテトラアシロキシシラン、テト
ラオキシムシラン、テトラアルコキシシラン、アルキル
トリアシロキシシラン、アルキルトリスオキシムシラン
、アルキルトリアルコキシシラン、およびこれらの部分
加水分解物、オリゴマーなどが挙げられる。
、特に限定されるものではなく、一般的な方法が用いら
れる。例えば、ポリシロキサンが末端シラノールタイプ
のものには三官能あるいは四官能性架橋剤が用いられる
。かかる架橋剤としてはテトラアシロキシシラン、テト
ラオキシムシラン、テトラアルコキシシラン、アルキル
トリアシロキシシラン、アルキルトリスオキシムシラン
、アルキルトリアルコキシシラン、およびこれらの部分
加水分解物、オリゴマーなどが挙げられる。
架橋のために必要なら架橋触媒を用いてもよい。
ポリシロキサンが、シラノールに他の官能基、たとえば
アミン、エポキシ、カルボン酸、酸クロリド、アルコー
ル、イソシアネート等の官能基を末端あるいは側鎖に有
する場合、それぞれと反応できる架橋剤、例えば、アミ
ノ基を優するポリシロキサンに対してはイソシアネート
、酸クロリド、酸無水物、アルデヒド、エポキシド、ア
ルキルハライドといった官能基を有する架橋剤、エポキ
シ基を有するボッシロキサンに対しては、アミン、アル
コール等の官能基を有する架橋剤、イソシアネートを有
するポリシロキサンに対してはアミン、アルコール等の
官能基を有する架橋剤といったものが適宜に用いられる
。ビニル基、アリル基といったオレフィンを有するポリ
シロキサンに対しては、光、熱、ラジカル等による自己
架橋、おるいは SiH基を有する架橋剤でヒドロシリ
ル化されることによって架橋される。逆にSi −H基
を有するポリシロキサンに対してはオレフィンによって
ヒドロシリル化することによる架橋あるいはシラノール
等によって架橋することができる。
アミン、エポキシ、カルボン酸、酸クロリド、アルコー
ル、イソシアネート等の官能基を末端あるいは側鎖に有
する場合、それぞれと反応できる架橋剤、例えば、アミ
ノ基を優するポリシロキサンに対してはイソシアネート
、酸クロリド、酸無水物、アルデヒド、エポキシド、ア
ルキルハライドといった官能基を有する架橋剤、エポキ
シ基を有するボッシロキサンに対しては、アミン、アル
コール等の官能基を有する架橋剤、イソシアネートを有
するポリシロキサンに対してはアミン、アルコール等の
官能基を有する架橋剤といったものが適宜に用いられる
。ビニル基、アリル基といったオレフィンを有するポリ
シロキサンに対しては、光、熱、ラジカル等による自己
架橋、おるいは SiH基を有する架橋剤でヒドロシリ
ル化されることによって架橋される。逆にSi −H基
を有するポリシロキサンに対してはオレフィンによって
ヒドロシリル化することによる架橋あるいはシラノール
等によって架橋することができる。
気体透過性を有する高分子像主成分としてなる層(A>
の厚さは、あまり薄すぎると機械的強度が低下し、逆に
あまり厚すぎると気体透過量が低下することから、一般
に0.01〜3μ、好ましくは0.03〜1μにあるこ
とが適当でおる。
の厚さは、あまり薄すぎると機械的強度が低下し、逆に
あまり厚すぎると気体透過量が低下することから、一般
に0.01〜3μ、好ましくは0.03〜1μにあるこ
とが適当でおる。
(S>層を構成する、フマル酸ジエステルの高分子とは
、下記一般式を有する構造を主成分とするホモポリマー
およびコポリマーである。
、下記一般式を有する構造を主成分とするホモポリマー
およびコポリマーである。
0OR2
−CH−CH−
0ORI
(ここでR1とR2は、水素ないしは炭素数が1から2
0までの置換基で、同じであっても責なっていてもよく
、R1とR2は、水素、メチル、エチル、n−プロピル
、i−プロピル、n−ブチル、t−ブチル、1−メチル
プロピル、2−メチルプロピル、n−ペンチル、1−メ
チルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、1
,3−ジメチルブチル、1,1−ジメチルプロピル、2
,2−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、
1−エチルプロピル、n−ヘキシルなどのアルキル基、
またはシクロブチル、シクロペンデル、シクロヘキシル
、アルキル置換シクロペンチル、アルキル置換シクロヘ
キシルなどのシクロアルキル基、またはフェニル、メチ
ルフェニル、ニトロフェニル、ハロゲノフェニルなどの
芳香族基、またはベンジル、フェニルエチルなどのアラ
ルキル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
トリメチルシリルメチル基、トリエチルシリルメチル基
、トリエチルシリルプロピル基、ペンタメチルジシロキ
サニルブロビル基、ペンタメチルジシロキサニルメチル
基等の含ケイ素アルキル基等をさす。nは50以上の整
数を示す。)前記一般式で表されるフマル酸ジエステル
の高分子の合成法としては、種々の方法があるが、一般
的には相当するフマル酸ジエステルをアゾビスイソブチ
ロニトリル、ベンゾイルパーオキシド等のラジカル重合
開始剤を用いて、バルク重合または溶液重合することに
よって容易に合成される。
0までの置換基で、同じであっても責なっていてもよく
、R1とR2は、水素、メチル、エチル、n−プロピル
、i−プロピル、n−ブチル、t−ブチル、1−メチル
プロピル、2−メチルプロピル、n−ペンチル、1−メ
チルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、1
,3−ジメチルブチル、1,1−ジメチルプロピル、2
,2−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、
1−エチルプロピル、n−ヘキシルなどのアルキル基、
またはシクロブチル、シクロペンデル、シクロヘキシル
、アルキル置換シクロペンチル、アルキル置換シクロヘ
キシルなどのシクロアルキル基、またはフェニル、メチ
ルフェニル、ニトロフェニル、ハロゲノフェニルなどの
芳香族基、またはベンジル、フェニルエチルなどのアラ
ルキル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
トリメチルシリルメチル基、トリエチルシリルメチル基
、トリエチルシリルプロピル基、ペンタメチルジシロキ
サニルブロビル基、ペンタメチルジシロキサニルメチル
基等の含ケイ素アルキル基等をさす。nは50以上の整
数を示す。)前記一般式で表されるフマル酸ジエステル
の高分子の合成法としては、種々の方法があるが、一般
的には相当するフマル酸ジエステルをアゾビスイソブチ
ロニトリル、ベンゾイルパーオキシド等のラジカル重合
開始剤を用いて、バルク重合または溶液重合することに
よって容易に合成される。
かかるフマル酸ジエステルの高分子としては、ポリ(フ
マル酸ジメチル)、ポリ(フマル酸ジエチル)、ポリ(
フマル酸ジプロピル)、ポリ(フマル酸ジイソプロピル
)、ポリ(フマル酸ジブチル)、ポリ(フマル酸ジ5e
c−ブチル)、ポリ(フマル酸ジt−ブチル〉、ポリ(
フマル酸ジペンチル)、ポリ(フマル酸ジシクロヘキシ
ル)などが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。
マル酸ジメチル)、ポリ(フマル酸ジエチル)、ポリ(
フマル酸ジプロピル)、ポリ(フマル酸ジイソプロピル
)、ポリ(フマル酸ジブチル)、ポリ(フマル酸ジ5e
c−ブチル)、ポリ(フマル酸ジt−ブチル〉、ポリ(
フマル酸ジペンチル)、ポリ(フマル酸ジシクロヘキシ
ル)などが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。
さらにフマル酸ジエステルの高分子を主成分としてなる
層(B)には第2成分として下記のポリマーが一部含ま
れていても差し支えない。即ら、第2成分としては、ポ
リ(4−メチルペンテン)、ポリ(ビニルトリメチルシ
ラン)、ポリスチレン、等の各種オレフィン系ポリマー
、ポリ(2,6−ジメチル−p−フェニレンオキシド〉
等の芳香族ポリエーテル、ポリジメチルシロキサン、ポ
リメチルフェニルシロキサン等のポリオルガノシロキサ
ン、シルフェニレン−シロキサン共重合体、ポリカーボ
ネート−ポリシロキサン共重合体、ポリスルホン−ポリ
シロキサン共重合体等のポリオルガノシロキサン共重合
体、ポリ(tert−ブチルアセチレン)、ポリ(トリ
メチルシリルプロピン)等の置換ポリアセチレン、ポリ
(ビスエトキシフオスファビン)等のポリオルガノフォ
スフ7ゼン等が挙げられる。添加方法としては、第2成
分ポリマーとの混合法、第2成分ポリマーとの積層法等
がある。フマル酸ジエステルの高分子を主成分としてな
る層(B)中に、前記第2成分等のフマル酸ジエステル
以外の成分としては、50%未満の91合で含有されて
いてもよい。
層(B)には第2成分として下記のポリマーが一部含ま
れていても差し支えない。即ら、第2成分としては、ポ
リ(4−メチルペンテン)、ポリ(ビニルトリメチルシ
ラン)、ポリスチレン、等の各種オレフィン系ポリマー
、ポリ(2,6−ジメチル−p−フェニレンオキシド〉
等の芳香族ポリエーテル、ポリジメチルシロキサン、ポ
リメチルフェニルシロキサン等のポリオルガノシロキサ
ン、シルフェニレン−シロキサン共重合体、ポリカーボ
ネート−ポリシロキサン共重合体、ポリスルホン−ポリ
シロキサン共重合体等のポリオルガノシロキサン共重合
体、ポリ(tert−ブチルアセチレン)、ポリ(トリ
メチルシリルプロピン)等の置換ポリアセチレン、ポリ
(ビスエトキシフオスファビン)等のポリオルガノフォ
スフ7ゼン等が挙げられる。添加方法としては、第2成
分ポリマーとの混合法、第2成分ポリマーとの積層法等
がある。フマル酸ジエステルの高分子を主成分としてな
る層(B)中に、前記第2成分等のフマル酸ジエステル
以外の成分としては、50%未満の91合で含有されて
いてもよい。
フマル酸ジエステルの高分子を主成分としてなる層(B
)の厚さは、薄すぎると機械的強度、均一性が低下し、
逆に必まり厚すぎると気体透過量が低下することから、
一般に0.01〜1μ、好ましくは0.01〜0.5μ
の範囲にあることが適当である。
)の厚さは、薄すぎると機械的強度、均一性が低下し、
逆に必まり厚すぎると気体透過量が低下することから、
一般に0.01〜1μ、好ましくは0.01〜0.5μ
の範囲にあることが適当である。
本発明に用いられるフマル酸ジエステルの高分子は、そ
の組成によっても異なるが、一般に、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、シクロヘキサ
ン、n−ヘキサジ等の脂肪族炭化水素系溶媒、クロロベ
ンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、トリフルオロ
トリクロロエタン等の含ハロゲン化炭化水素系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒等の
単独または混合溶媒に可溶であり、これらを溶媒とする
溶液を用いて製膜または薄膜化が可能である。
の組成によっても異なるが、一般に、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、シクロヘキサ
ン、n−ヘキサジ等の脂肪族炭化水素系溶媒、クロロベ
ンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、トリフルオロ
トリクロロエタン等の含ハロゲン化炭化水素系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒等の
単独または混合溶媒に可溶であり、これらを溶媒とする
溶液を用いて製膜または薄膜化が可能である。
気体透過性を有する高分子を主成分としてなる層(A)
みよびフマル酸ジエステル高分子を主成分としてなるI
I(B)の積層法としては、かかる(A>または(B)
を構成するための重合体の溶液を液面上に流延し溶媒を
蒸発させることによって得られた重合体薄膜を積層する
方法(液面展開法;例えば特願昭61−12502月記
載の方法)ないしは浸漬法、ロールコーティング法、ス
プレーコーティング法等のコーティングによる方法、イ
ンサイチュ−(Irl 5itu)重合、界面重合に
よる方法が挙げられる。(B)層を液面展開法により設
ける場合、フマル酸ジエステルの高分子を溶解する溶媒
を用いた溶液を該溶液と非混和性あるいは一部混和性の
液体上へ滴下法、連続法等の種々の方法により供給、展
開し、溶液を蒸発させることにより薄膜を形成させ、該
薄膜を接触法、吸引法等の方法により積層する。展開す
るポリマー溶液の濃度は、展開する溶媒や供給法により
異なるが0.1〜5%の範囲であることが好ましい。
みよびフマル酸ジエステル高分子を主成分としてなるI
I(B)の積層法としては、かかる(A>または(B)
を構成するための重合体の溶液を液面上に流延し溶媒を
蒸発させることによって得られた重合体薄膜を積層する
方法(液面展開法;例えば特願昭61−12502月記
載の方法)ないしは浸漬法、ロールコーティング法、ス
プレーコーティング法等のコーティングによる方法、イ
ンサイチュ−(Irl 5itu)重合、界面重合に
よる方法が挙げられる。(B)層を液面展開法により設
ける場合、フマル酸ジエステルの高分子を溶解する溶媒
を用いた溶液を該溶液と非混和性あるいは一部混和性の
液体上へ滴下法、連続法等の種々の方法により供給、展
開し、溶液を蒸発させることにより薄膜を形成させ、該
薄膜を接触法、吸引法等の方法により積層する。展開す
るポリマー溶液の濃度は、展開する溶媒や供給法により
異なるが0.1〜5%の範囲であることが好ましい。
また、支持液体としては、展開する溶液と非混和性また
は一部混和性のものならいずれも用いうるが、水を用い
ることが好ましい。(B)層をコーティング法により設
ける場合、コーティング溶液のポリマー濃度は、使用す
る溶媒、塗工面の状態により異なるが、0.01〜5%
の範囲であることが好ましい。使用する溶媒としては、
フマル酸ジエステルの高分子を溶解しかつ塗工面を著し
く犯さないものでおれば差し支えないが、トリフルオロ
トリクロロエタン等の含フツ素溶剤を用いることが好ま
しい。また、積層の順序としては、(A)層−(B)層
−多孔質支持体、(B)層−(A)層−多孔質支持体、
(A)層−(B)層−(A)層−多孔質支持体という構
成が適当でおり、好ましくは(B)層−(A)層−多孔
質支持体からなる構成である。かかる積層体の各層の間
には他の高分子からなる層が介在していても差し支えな
い。
は一部混和性のものならいずれも用いうるが、水を用い
ることが好ましい。(B)層をコーティング法により設
ける場合、コーティング溶液のポリマー濃度は、使用す
る溶媒、塗工面の状態により異なるが、0.01〜5%
の範囲であることが好ましい。使用する溶媒としては、
フマル酸ジエステルの高分子を溶解しかつ塗工面を著し
く犯さないものでおれば差し支えないが、トリフルオロ
トリクロロエタン等の含フツ素溶剤を用いることが好ま
しい。また、積層の順序としては、(A)層−(B)層
−多孔質支持体、(B)層−(A)層−多孔質支持体、
(A)層−(B)層−(A)層−多孔質支持体という構
成が適当でおり、好ましくは(B)層−(A)層−多孔
質支持体からなる構成である。かかる積層体の各層の間
には他の高分子からなる層が介在していても差し支えな
い。
本発明の膜は、気体混合物の分離性および透過性に優れ
、水素、酸素、窒素、−酸化炭素、二酸化炭素、炭化水
素、硫化水素、アルゴン、ヘリウム、二酸化硫黄等の種
々の気体の分離、濃縮に用いることができる。また、本
発明の膜を空気より酸素富化空気を製造する酸素富化シ
ステムに組込み、エンジン、ボイラー、暖房器具等の燃
焼システムに用いることにより燃焼効率を向上すること
ができる。さらに酸素富化システムは、呼吸器疾患用や
未熟児用の治療器、人工肺等の医療用途、人工えら、窒
素富化空気製造等の気体回収用途に利用することができ
る。
、水素、酸素、窒素、−酸化炭素、二酸化炭素、炭化水
素、硫化水素、アルゴン、ヘリウム、二酸化硫黄等の種
々の気体の分離、濃縮に用いることができる。また、本
発明の膜を空気より酸素富化空気を製造する酸素富化シ
ステムに組込み、エンジン、ボイラー、暖房器具等の燃
焼システムに用いることにより燃焼効率を向上すること
ができる。さらに酸素富化システムは、呼吸器疾患用や
未熟児用の治療器、人工肺等の医療用途、人工えら、窒
素富化空気製造等の気体回収用途に利用することができ
る。
[実施例]
以下の実施例によって本発明をざらに詳細に説明する。
実施例中のフィルムの酸素透過係数P02、窒素透過係
数PN 2は、(株)柳本製作所製ガス透過率測定装置
を用いて25°Cにて測定した。また複合膜における気
体透過速度Qは、(株)エステツク製精密膜流量計を用
いて測定した。
数PN 2は、(株)柳本製作所製ガス透過率測定装置
を用いて25°Cにて測定した。また複合膜における気
体透過速度Qは、(株)エステツク製精密膜流量計を用
いて測定した。
フマル酸ジエステルの高分子の製造
上ツマ−としてフマル酸ジイソプロピルを1゜06g、
ラジカル重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル
を28m!l]用いて封管中にて、80°C18,5時
間バルク重合させた。得られた固体状の小合体をTHF
2mlに溶解させてから、メタノールへ再沈澱精製する
ことによって白色の目的物ポリ(フマル酸ジイソプロピ
ル)が0.90g得られた。GPCにより求めた数平均
分子量(ポリスルホン換算)は11.9x104であり
、このポリマーのTHF溶液をキセストして得られたフ
ィルムの酸素透過係数P。2は7.4X10[aK −
cm/ t:i ・sec −cmtlglであり、分
離係数α(=Po2/PN2)は4.2であった。
ラジカル重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル
を28m!l]用いて封管中にて、80°C18,5時
間バルク重合させた。得られた固体状の小合体をTHF
2mlに溶解させてから、メタノールへ再沈澱精製する
ことによって白色の目的物ポリ(フマル酸ジイソプロピ
ル)が0.90g得られた。GPCにより求めた数平均
分子量(ポリスルホン換算)は11.9x104であり
、このポリマーのTHF溶液をキセストして得られたフ
ィルムの酸素透過係数P。2は7.4X10[aK −
cm/ t:i ・sec −cmtlglであり、分
離係数α(=Po2/PN2)は4.2であった。
同様にしてポリ(フマル酸ジシクロヘキシル)を合成し
た。得られたポリマーのP。2=3.0×−10。
た。得られたポリマーのP。2=3.0×−10。
10 [cn−cm/QTf−sec−cmHg]
、αは5.3であった。
、αは5.3であった。
実施例1
両末端が、シラノール基であるポリジメチルシロキサン
(数平均分子量約5万)9.5g、テトラキス(2−プ
ロパノンオキシム)シラン0.4C1、ジブチル錫ジア
セテート0.1gをシクロヘキサンに溶解し、固形分0
.5重量%の、A層を形成するための溶液を調製する。
(数平均分子量約5万)9.5g、テトラキス(2−プ
ロパノンオキシム)シラン0.4C1、ジブチル錫ジア
セテート0.1gをシクロヘキサンに溶解し、固形分0
.5重量%の、A層を形成するための溶液を調製する。
この稀薄溶液の一部をポリスルホン多孔質支持体[QN
2=約200(Tr13/Tr12・hr−atm)1
上へコーティングし、130′Cで1分間加熱乾燥キュ
アし、次いで室温で1時間乾燥して架橋シロキサン複合
膜を得た。この複合膜のポリジメチルシロキサン層の膜
厚は、約0.1μであった。複合脱酸素透過速度Q。2
は、7、0 (m”/1712−hr−atm)テアリ
、分1係1α(=Qo2/QN2〉は2.0であった。
2=約200(Tr13/Tr12・hr−atm)1
上へコーティングし、130′Cで1分間加熱乾燥キュ
アし、次いで室温で1時間乾燥して架橋シロキサン複合
膜を得た。この複合膜のポリジメチルシロキサン層の膜
厚は、約0.1μであった。複合脱酸素透過速度Q。2
は、7、0 (m”/1712−hr−atm)テアリ
、分1係1α(=Qo2/QN2〉は2.0であった。
製造例で合成したポリマー[ポリ(フマル酸ジイソプロ
ピル)コをトリクロロトリフルオロエタンに溶解して得
られた0、26%溶液を上記架橋シロキサン複合膜に浸
漬法により塗布し、乾燥させることにより積層複合膜を
得た。この積層複合膜の酸素透過速度Q。2は0.5
(m!/m2・hr−atm)、分離係数α(=Qo2
/QN2)は4.2と良好な性能であった。
ピル)コをトリクロロトリフルオロエタンに溶解して得
られた0、26%溶液を上記架橋シロキサン複合膜に浸
漬法により塗布し、乾燥させることにより積層複合膜を
得た。この積層複合膜の酸素透過速度Q。2は0.5
(m!/m2・hr−atm)、分離係数α(=Qo2
/QN2)は4.2と良好な性能であった。
実施例2
実施例1で調製した架橋シロキサン複合膜上に、製造例
で合成したポリマー[ポリ(フマル酸ジイソプロピル)
]のクロロホルム溶液から水面展開法によって得られた
該ポリマーの薄膜を二枚積層し、複合膜を1qた。この
積層複合膜の酸素透過速度Qo2は1 、3 (m’/
712− hr −atm)であり、分離係数α(=Q
o2/QN2)は3.5と良好な性能であった。
で合成したポリマー[ポリ(フマル酸ジイソプロピル)
]のクロロホルム溶液から水面展開法によって得られた
該ポリマーの薄膜を二枚積層し、複合膜を1qた。この
積層複合膜の酸素透過速度Qo2は1 、3 (m’/
712− hr −atm)であり、分離係数α(=Q
o2/QN2)は3.5と良好な性能であった。
実施例3
実施例1で調製した架橋シロキサン複合股上に製造例で
合成したポリ(フマル酸ジシロヘキシル)の0.19%
シクロヘキサン−トリクロロトリフルオロエタン溶液[
シクロヘキサン/トリクロロトリフルオロエタン=1/
3(重量比)]を浸漬法により塗布し、乾燥させること
により、積層複合膜を得た。この積層複合膜の酸素透過
速度Q。2は0 、3 (m’/mz−hr −atm
)、分離係数α=(Qo2/QN2)は4.6であった
。
合成したポリ(フマル酸ジシロヘキシル)の0.19%
シクロヘキサン−トリクロロトリフルオロエタン溶液[
シクロヘキサン/トリクロロトリフルオロエタン=1/
3(重量比)]を浸漬法により塗布し、乾燥させること
により、積層複合膜を得た。この積層複合膜の酸素透過
速度Q。2は0 、3 (m’/mz−hr −atm
)、分離係数α=(Qo2/QN2)は4.6であった
。
比較例1
架橋シロキサン複合膜(架橋シロキサン/ポリスルホン
多孔質支持膜〉の代りに、ポリスルホン多孔質支持膜を
用いた以外は、実施例1と同様にして、ポリ(フマル酸
ジイソプロピル)/ポリスルホン多孔質支持膜からなる
複合膜を調製した。
多孔質支持膜〉の代りに、ポリスルホン多孔質支持膜を
用いた以外は、実施例1と同様にして、ポリ(フマル酸
ジイソプロピル)/ポリスルホン多孔質支持膜からなる
複合膜を調製した。
この複合膜の気体透過性能は、α=(Qo2/Q
)=1.8、Q02= 1 、6 [Tl+’/ m2
・hr ・atmlと低い分離係数を示した。
)=1.8、Q02= 1 、6 [Tl+’/ m2
・hr ・atmlと低い分離係数を示した。
比較例2
ポリ(フマル酸ジイソプロピル)のフレオン溶液濃度を
1.25重但%とじた以外は、比較例1と同様にポリ(
フマル酸ジイソプロピル)/ポリスルホン多孔質支持膜
からなる複合膜を調製した。
1.25重但%とじた以外は、比較例1と同様にポリ(
フマル酸ジイソプロピル)/ポリスルホン多孔質支持膜
からなる複合膜を調製した。
この複合膜は、分離係数αは4.1であったが、Qo2
は0.1 [m’/ly12−hr−atmlと低い値
を示した。
は0.1 [m’/ly12−hr−atmlと低い値
を示した。
[発明の効果]
本発明の気体分離用複合膜は、透過性と選択性に優れる
ため、効果的、経済的な気体分離が可能となった。
ため、効果的、経済的な気体分離が可能となった。
Claims (5)
- (1)多孔質支持体上に少なくとも下記(A)および(
B)の2層を設けたことを特徴とする気体分離用複合膜
。 (A)気体透過性を有する高分子を主成分としてなる層 (B)フマル酸ジエステルの高分子を主成分としてなる
層 - (2)(A)層が、1×10^−^8[cm^3・cm
/cm^2・sec・cmHg]以上の酸素透過係数を
有することを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
の気体分離用複合膜。 - (3)気体透過性を有する高分子が、架橋ポリシロキサ
ンであることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載の気体分離用複合膜。 - (4)(A)層が、多孔質支持体と、(B)層との間に
設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第(1
)項記載の気体分離用複合膜。 - (5)多孔性支持体が、平膜状、中空糸状、チューブ状
から選ばれる一種の形状を有していることを特徴とする
特許請求の範囲第(1)項記載の気体分離用複合膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62107435A JPS63270525A (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 気体分離用複合膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62107435A JPS63270525A (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 気体分離用複合膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63270525A true JPS63270525A (ja) | 1988-11-08 |
Family
ID=14459069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62107435A Pending JPS63270525A (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 気体分離用複合膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63270525A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7811359B2 (en) | 2007-01-18 | 2010-10-12 | General Electric Company | Composite membrane for separation of carbon dioxide |
CN104841288A (zh) * | 2015-04-30 | 2015-08-19 | 天津工业大学 | 一种用于co2/n2气体分离的微凝胶复合膜及其制备方法 |
-
1987
- 1987-04-30 JP JP62107435A patent/JPS63270525A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7811359B2 (en) | 2007-01-18 | 2010-10-12 | General Electric Company | Composite membrane for separation of carbon dioxide |
CN104841288A (zh) * | 2015-04-30 | 2015-08-19 | 天津工业大学 | 一种用于co2/n2气体分离的微凝胶复合膜及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0094050B1 (en) | Ultrathin film, process for production thereof, and use thereof for concentrating a specified gas in a gaseous mixture | |
JPH07304887A (ja) | 複合膜およびその製造方法 | |
JP2008178874A (ja) | 二酸化炭素分離用複合メンブレン | |
JPS59209609A (ja) | 選択性透過膜 | |
JPS59209610A (ja) | 選択透過膜 | |
JPH0696106B2 (ja) | 気体分離膜 | |
JPS643134B2 (ja) | ||
JPH07114937B2 (ja) | 分離膜 | |
JPS6274406A (ja) | 分離膜 | |
JPH0230292B2 (ja) | ||
JPH0824830B2 (ja) | 分離膜 | |
JPS63270525A (ja) | 気体分離用複合膜 | |
JPH0224574B2 (ja) | ||
Ohyanagi et al. | Oxygen-permselectivity in new type polyorganosiloxanes with carboxyl group on the side chain | |
JPH022608B2 (ja) | ||
JPH0224577B2 (ja) | ||
JPS627418A (ja) | 気体分離用複合膜およびその製造方法 | |
JPH0371170B2 (ja) | ||
JPH0693990B2 (ja) | 気体分離用複合膜 | |
JPS61101226A (ja) | 分離膜 | |
JPH0479689B2 (ja) | ||
JPS62216624A (ja) | 気体分離用選択透過性複合膜 | |
JPS6230524A (ja) | 選択透過膜 | |
JPH0322206B2 (ja) | ||
JPH0214088B2 (ja) |