JPS63267783A - フオトクロミツク化合物 - Google Patents

フオトクロミツク化合物

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JPS63267783A
JPS63267783A JP62100460A JP10046087A JPS63267783A JP S63267783 A JPS63267783 A JP S63267783A JP 62100460 A JP62100460 A JP 62100460A JP 10046087 A JP10046087 A JP 10046087A JP S63267783 A JPS63267783 A JP S63267783A
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JP
Japan
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group
lower alkyl
groups
basic skeleton
substituents
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Application number
JP62100460A
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English (en)
Inventor
Takeaki Iriyou
毅明 井領
Mikito Nakajima
幹人 中島
Takao Mogami
最上 隆夫
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なフォトクロミック化合物に閃するもの
である。
〔従来の技術〕
フォトクロミック物質のなかで、スピロ炭素を存する物
質は、バラエティ−に富んだ色調の変化を示し、モル吸
光係数が大きな物質が多い。代表的な物質として、一般
式(I)、(II)、(III)で表される基本骨格を
訂する物質を掲げることができる。
(1)          ([1) (m) (Rは任意の置換基) このようなフォトクロミック材料は、高分子化合物など
のバインダー中に分散・溶解した形で用いられる場合が
多く、その応用例としては画像表示材料又は光学記録材
料等が知られている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、 前述の一般式(I)で示される物質は、耐久
性に大きな問題があり、 この原因は、3′、4′−位
のC1C二重結合が容易に−、重項酸素の攻撃を受け、
分解するためである。これに対し、一般式(n)、(I
Iりで示される物質は、3’、4’−位がC,Nの二重
結合であるため、酸素の攻撃を受は難く、 耐久性の点
で一般式(I)の物質に比べ非常に優れた特性を存して
いる。しかし、前記一般式(If)、(III)で表さ
れるオキサジン化合物は、常温で紫外線を照射した際に
は優れた発色性能を示すものの、高温側ではしだいにそ
の発色性能が低下し、50’C以上の温度ではほとんど
発色が認められなくなるという問題点を有している。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、モル吸光係数が大きく、耐久性
に優れ、かつ発色時の温度特性を向上させたフォトクロ
ミック化合物を提供することにある。
C問題点を解決するための手段〕 すなわち、 本発明のフォトクロミック化合物は、下記
一般式で示されることを特徴とする。
■ 〔式中、RIは飽和炭化水素環を基本骨格とする置換基
、 R2、R1、R4、R,、R11R1゜、R++、
RIz、RIs及びR14は低級アル、トル質、低級ア
ルコキシ基、炭素数2〜21個のアルコキシアルキル基
、炭素数1〜20個のカルボキシアルキル基あるいはこ
れら置換基を基本骨格とする誘導体又は水素原子、ハロ
ゲンロ子、ニトロ基、シアノ基、アミノn、水酸yg、
−s。
s M CMはフルカ!J金rif4) 、R,及ヒR
7ハ水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭
素数2〜21個のアルフキジアルキル基、アリール基、
ベンジル基あるいはこれら置換基を基本骨格とする誘導
体もしくはR6とR1で不飽和または飽和炭化水素環を
形成する置換基、R,は低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、炭素数2〜21個のアルコキシアルキル基あるい
はこれら置換基を基本骨格とする誘4体又は水素原子で
あり、nは1〜30の整数を表す。〕 本発明のフォトクロミック化合物は、 3′、4′位が
C,Nの二重結合であるため、−重項酸素の攻撃を受は
難(なり従来のスピロピラ/化合物に比べ優れた耐久性
を有している。
また、前記構造のオキサジン化合物のR1位に飽和炭化
水素環を基本骨格とする置換基を導入することにより、
従来のオキサジン化合物に比べ高温側での発色性能を向
上させることができる。こので、本発明における飽和炭
化水素環を基本骨格とする置換基としては、シクロプロ
ピル、シクロデシル、シクロペンチル、シクロヘキシル
、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シ
クロデシル等の1価の置換基あるいはこれらの置換基か
ら誘導される1価の飽和炭化水素基を挙げることができ
る。
このようにして、本発明では、前述の問題点を解決する
に至、た。
本発明のフォトクロミック物質は、合成樹脂や紙への練
り込ろ法や浸漬法、・昇華転写法、コーティング材料 
(プライマー、バインダー、/−1−ドコート)へ溶解
もしくは分散させ基材に塗布する方法、高分子を溶解し
た溶液へ溶解もしくは分散させフィルムにする方法など
適用方法は様々である。 また、ここで使用する合成樹
脂は、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂など様々
である。また、これらの樹脂やコーティング材料中に、
酸化防止剤、−重項酸素クエンチャー、紫外線吸収剤を
加えることは、フォトクロミック物質の寿命の延長や色
調変化に効果的である。
本発明は、′上記に述べた方法に上り、目的を達成する
ことが可能となる。
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本
発明は本実施例に限定されるものでliない。
(実施例〕 (実施例1) 1−シクロプロピルメチル−3,3,4,6−チトラメ
チルスピロ 〔インドリノ−2,3′、(9′−メトキ
シナフト’)(2,1−b)(1,4〕−オキサジノ〕
の合成 500m1の丸底フラスコをウォーターバスで冷却し、
20.1ccの濃塩酸及び水12.5gを加え、さらに
3.5−ジメチルアニリン12.1g (0,1mo 
1)を加え、撹拌し、さらに水12.5gを加えた。 
このフラスコに亜硝酸ナトリウA8.9g (0,1m
1)を水15m1に溶かした溶液を30分かけて滴下し
た。 この時、この水溶液を1ml加えた時点で、ウォ
ーターバスを水冷した。さらに、水25gを加え、30
分間撹拌を続けた。 撹拌後、亜硫酸ナトリウム63g
(0,5mo l)を水150m1に溶かした溶液を反
応溶液中に加えた。 その後、液温を60℃に加温し、
1時間撹拌をし、製塩a 20 c cを加えた。 さ
らに−昼夜、60°Cで撹拌を続け、反応溶液の色が薄
(なったら、濃塩酸100ccを加え、0°Cに冷却し
た。析出した灰色の結晶をガラスフィルターを用いてろ
過e乾燥し、3.5−ジメチルフェニルヒドラジンを得
た(収率81%)3.5−ジメチルフェニルヒドラジン
8.63g (0,05mo 1)及び、3−メチル−
2−ブタノン5.1egをエタノール250m1に溶か
し、さらに濃硫@5.39ccを加え、6時間還流を行
った。 還流後、溶媒を留去し、4%水酸化ナトリウム
水溶液を加え、アルカリ性にし、分離したオイルをエチ
ルエーテルで抽出し、溶媒留去後、減圧蒸留を行い、黄
色の液体2.3.3.4.6− ペンタメチルインドレ
ニン7.29g(収率78%、沸点63℃/6X10−
”mmHg)を得た。
続いて、前記2.3.3.4.6−ベンタメチルインド
レニン5.81 g (0,03mo 1)と(ブロモ
メチル)シクロプロパン4.73g(0,035mo 
1)をクロロホルム中で密閉下60℃で24時間反応を
行った。溶媒留去後、ベンゼンを添加し沈澱物をろ過す
ることにより、1−シクロプロピルメチル−2,3,3
,4,8−ペンタメチルインドレニンの臭素塩 9.0
2g(収率93.4%)を得た。
次に以下の方法で7−メドキシー1−ニトロソ−2−ナ
フトールを合成した。
水300cに2.7−シヒドロキシナフタレンleg 
(0,1mo f)と水酸化ナトリウム4゜30g (
0,1mo ])を溶解し、10°C迄冷却した。 こ
の混合液を撹拌しながらジメチル硫酸6.3g (0,
05mo 1)を徐々に滴下し、滴下終了後、60℃で
2時間□加熱還流を行った。反応終了後、この混合液を
0セ迄冷却し、析出物をろ過し、7−メドキシー2−ナ
フトール10.13g(収率58.2%)を得た。
続いて水100ccに水酸化ナトリウム22.33g 
(0,058mo +)と前g己7−メドキシー2−ナ
フトールを溶解し、0°C迄冷却した。次いで、亜硝酸
ナトリウム4.16g’(0,06m。
l)を加え、十分撹拌を行った後、濃硫酸15゜51c
cを撹拌下、1.5時間かけて滴下し、さらに液温を0
°Cに保ち1時間撹拌した。最後に、沈澱物をろ過・水
洗いし7−メドキシー1−ニトロン−2−ナフトール1
0.97g(収率92゜8%)を得た。
最後に、前記方法で得、られたI−シクロプロピルメチ
ル−2,3,3,4,6−ペンタメチルインドレニンの
臭素塩9.02g (0,028m。
1)と、7−メドキシー1−ニトロソ−2−ナフ)−ル
5.69g (0,028mo +)及びトリエチルア
ミン4.24g (0,042mo 1)をエタノール
に溶解し、窒素気流下3時間加熱還流を行った。反応終
了後、溶媒を留去し、塩化メチレン/水で抽出を行い「
機層を薄層分離することにより、  1−シクロプロピ
ルメチル−3,3,4,6−チトラメチルスピロ〔イン
ドリノ−2,3′、(9′−メトキシナフト)〔2,1
−b〕〔1,4〕−オキサジン)5.51.g(収率4
G、2%)を得た。この結晶は薄い黄色の結晶で融点は
159〜161°Cであった。
こうした得られたオキサジン化合物0.04g(9,3
8X10−’ mol)をメタクリル酸メチル20g 
(0,2mo 1)に溶解し、重合開始剤としてATB
NO,Ig(8,l0XIO−’mol)を加え撹拌し
た後、2枚のガラス板(直径G cs 、厚さ4冒閣)
を酢酸ビニル系樹脂製ガスケットで3■■厚となるよう
固定したガラス型中に注入し、70°Cの恒温槽中で2
4時間重合した。得られた合成樹脂板は、室内では無色
透明で紫外線を照射することにより青色に着色した。ま
た、分光測定の結果、発色時、最大吸収波長は617n
mであった。
尚、このフォトクロミック合成樹脂板の性能を以下のよ
うに評価し、その結果を表1に示した。
(1)、透過率 透過率は、25°Cの条件下で、500Wの超高圧水銀
灯(ウシオ電気社製)を用いて光照射を行い、400〜
700nmの平均透過率を表1に示した。
1熱安定性 50°Cの条件下で、(1)の透過率の測定と同様に光
照射を行い、400nm〜700nmの平均透過率を表
1に示した。
(3)、耐久性 キセノンログライフフェードメーター(スガ試験機社製
FAL−25AX)に50時間放置した後、(1)の透
過率の性能評価を行い表1に示した。
(実施例2) 1−シクロへキシルメチル−3,3,4,6−チトラメ
チルスピロ 〔インドリノ−2,3’ −(9′−メト
キシナフト)〔2,1−b)(1,4〕−オキサジン〕
の合成。
実施例1で得られたと同じ2.3.3.4.6−ベンタ
メチルインドレニン5.61g(0,03mo])と、
(フロモメチル)シキロヘキサン6.16g (0,3
5mo ])をりactホルム中で密閉下60°Cで2
4時間反応を行った。溶媒留去後、ベンゼンを添加し沈
澱物をろ過することにより、■−シクロヘキシルメチル
ー2.3.3.4.6−ペンタメチルインドレニンの臭
1?i 塩0 。
54g(収率87.6%)を得た。
続いて、前3己1−シクロヘキシルメチル−3、3、4
、6−ベンタメチルインドレニ/の臭素塩9.54g 
(0.026mol)と実施例1で得られたと同じ7−
メドキシー1−ニトロソ−2−ナフトール5.33g 
(0.026mo ])及びトリエチルアミン3.94
g (0.039m01)を実施例1と同様に反応舎精
製し、1−シクロヘキシルメチル−3、3、4、6−チ
トラメチルスピロ〔インドリノ−2、3’ −(9’−
メトキシナフト)〔2,1−b)(1,4〕−オキサジ
ン)6.42g(収率52.9%)を得た。
この結晶は薄い黄色の結晶で、融点は167〜169℃
であった。
こうして得られたオキサジン化合物0.044g (9
,38X10−’ mol)  を用いた以外は、実施
例1と同じ方法でメタクリル板を重合した。
得られた合成樹脂板は、室内で無色透明で紫゛外腺を照
射することにより青色に着色した。また、発色時の最大
吸収波長は1315nmであった。
尚、このフォトクロミック合成樹脂板の性能を実施例1
と同様の方法で評価し、その結果を表1に示した。
(実施例3) 1−シクロヘキシルメチル−3,3−ジメチル−4,6
−ジクロロスピロ 〔インドリノ−2,3’ −(8’
−ブロモナフト)(2,1−b〔1,4〕−オキサジン
〕の合成 実施例1と同様に、3.5−ジクロロアニリンを出発原
料として3.5−ジクロロフェニルヒドラジンを合成し
、さらに3−メチル−2−ブタノンと反応させることに
より、2.3.3−トリメチル−4,6−ジクロロイン
ドレニンを得た。この、インドレニン8.84g(0,
03mo 1)と、(ブロモメチル)シクロヘキサンE
3.16g(0,035mo 1)を実施例1と同様に
反応・IalL、1−シクロヘキシル) チ、II/−
2,3,3−トリメチル−4,6−ジクロロインドレニ
ンの臭素塩10.31g(収率85.1%)を得た。
続いて、前記1−シクロヘキシルメチル−2,3,3−
トリメチル−4,6−ジクロロインドレニンの臭素塩1
0.31g(0,026mol)と6−ブロモー2−ナ
フトールをニドロン化して得うれた 6−ブロモ−1−
ニトロン−2−ナフ)−ル6.55g (0,026m
o I)及びトリエチルアミy3.94g(0,039
mol>を実施例1と同様に反応・精製し、!−シクロ
ヘキシルメチルー3.3−ジメチル−4,6−ジクロロ
スピロ 〔インドリノ−2,3’ −(8’ ブロモナ
フト’)(2,1−b)(1,4)−オキサジン)8.
91g(収率61.5%)を得た。この結果は薄い茶白
色の結晶で、融点は165〜168°Cであった。
こうした得られたオキサジン化合物0.052g (9
,38xlO−mol)  を用いた以外は、実施例1
と同じ方法でメタクリル板を重合した0 ・ 得られた合成樹脂板は、室内では無色透明で紫外線を照
射することにより青色に着色した。また発色時の最大吸
収波長は820nmであった。
尚、このフォトクロミック合成樹脂板の性能を実施例1
と同様の方法で評価し、その結果を表1に示した。
(実施例4) 1−シクロペンチルメチル−3,3−ジメチル−5−ニ
トロスピロ〔インドリノ−2,3’−(9′−ヒドロキ
シナフト)〔2,1−b)(1,4)−オキサジン〕の
合成 Xm例1と同様に、3−ニトロフェニルヒドラジンの塩
酸塩と3−メチル−2−ブタノンを反応させることによ
り、2.3.3−)サメチル−5−二トロインドレニ7
を得た。このインドレニン6.12g(0,03mol
)と、(ブロモメチル)シクロベンクン5.71g (
0,035m。
l)を実施例1と同様に反応暢精製し、1−シクロペン
チルメチル−2,3,3−)ジメチル−5−ニトロイン
ドレニンの臭素塩7.46g (収率67.8%)を得
た。
続いて、前記1−シクロペンチルメチル−2,3,3−
トリメチル−5−ニトロインドレニンの臭素塩7.46
g (0,020mo l)と、2.7−ジヒドロキシ
ナフタレンをニトロソ化して得られた1−ニトロソ−2
,7−シヒドロキシナフタレン3.84g (0,02
0mo I)及びトリエチルアミン3.08g (0,
031mol)を実施例1と同様に反応・精製し、1−
シクロペンチルメチル−3,3−ジメチル−5−二トロ
スピロ〔インドリノ−2,3’  (9’−ヒドロキシ
ナフト)(2,1−b)(1,4)−オキサジ/〕4.
98g(収率55.4%)を得た。この結晶は、薄い黄
色の結晶で、融点は167〜170°Cであった。
こうして得られたオキサジン化合物0.042g (9
,38X10−’ mol)  を用いた以外は、実施
例1と同じ方法でメタクリル板を重合した。
得られた合成樹脂板は、室内では無色透明で紫外線を照
射することにより青色に着色した。 また、発色時、最
大吸収波長は、613 n mであった。
尚、このフォトクロミック合成樹脂板の性能を実施例1
と同角の方法で評価し、その結果を表1に示した。
表1 (比較例) 1−(n−プロピル)−3,3,4,6−チトラメチル
スピロ〔インドリノ−2,3’ −(!l)’−メトキ
シナフト)(2,1−b)(1,4)−オキサジン〕の
合成 実施例1で得られたと同じ2.3.3.4.6−ベンタ
メチルインドレ二75.61g (0,03mo +>
とn−プロピルヨーダイト5.95g(0,035mo
l)を実施例1と同様に反応・精製し、  1−(n−
プロピル)−2,3,3,4,6−ベンタルメチルイン
ドレニンのヨウ素塩9.71g(収率90.7%)を得
た。
続いて、前3己1−(n−プロピル)−2,3,3,4
,6−ペンタメチルインドレニンのヨウ素塩9.71g
 (0,027mol)と、7−メドキシー1−二トロ
ン−2−ナフトール5.52g(0,027mo 1)
及びトリエチルアミン4゜09g (0,041mo 
I)を実施例1と同様に反応・精製し、1−(n−プロ
ピル)−3,3゜4.6−チトラメチルスピロ〔インド
リノ−2,3’ −(9’−メトキシナフト)(2,1
−b)〔1,4〕−オキサジン)8.62g  (収率
77.1%)を得た。
こうして得られたオキサジン化合物0039g(9,3
8X10−’ mo +)  を用いた以外は、実施例
1と同じ方法でメタクリル板を重合した。
得られた合成樹脂板は、室内では無色透明で紫外線を照
射することにより青色に着色した。 また、発色時の最
大吸収波長は、811nmであった。
尚、このフォトクロミック合成樹脂板の性能を実施例1
と同様の方法で評価し、その結果を表1に示した。
〔発明の効果〕

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記の一般式で示されることを特徴とするフォトクロミ
    ック化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は飽和炭化水素環を基本骨格とする置換
    基、R_2、R_3、R_4、R_5、R_9、R_1
    _0、R_1_1、R_1_2、R_1_3及びR_1
    _4は低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数2〜
    21個のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20個のカ
    ルボキシアルキル基あるいはこれら置換基を基本骨格と
    する誘導体又は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シ
    アノ基、アミノ基、水酸基、−SO_3M(Mはアルカ
    リ金属)、R_6及びR_7は水素原子、低級アルキル
    基、低級アルコキシ基、炭素数2〜21個のアルコキシ
    アルキル基、アリール基、ベンジル基あるいはこれら置
    換基を基本骨格とする誘導体もしくはR_6とR_7で
    不飽和または飽和炭化水素環を形成する置換基、R_8
    は低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数2〜21
    個のアルコキシアルキル基あるいはこれら置換基を基本
    骨格とする誘導体又は水素原子であり、nは1〜30の
    整数を表す。〕
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1992016538A1 (en) * 1991-03-13 1992-10-01 Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha Transition metal-spirobenzopyran complex, production thereof, and photochromic material comprising the same

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WO1992016538A1 (en) * 1991-03-13 1992-10-01 Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha Transition metal-spirobenzopyran complex, production thereof, and photochromic material comprising the same
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