JPS63264118A - 真空排気系用微粒子トラツプ - Google Patents

真空排気系用微粒子トラツプ

Info

Publication number
JPS63264118A
JPS63264118A JP62097521A JP9752187A JPS63264118A JP S63264118 A JPS63264118 A JP S63264118A JP 62097521 A JP62097521 A JP 62097521A JP 9752187 A JP9752187 A JP 9752187A JP S63264118 A JPS63264118 A JP S63264118A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wall
vacuum
cylinder
vacuum pump
inner cylinder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP62097521A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0757297B2 (ja
Inventor
Yoshiyasu Maeba
前羽 良保
Satoshi Toyoda
聡 豊田
Fumio Naruse
文雄 成瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP62097521A priority Critical patent/JPH0757297B2/ja
Priority to US07/182,490 priority patent/US4816046A/en
Priority to EP88106266A priority patent/EP0289858B1/en
Priority to DE8888106266T priority patent/DE3877409T2/de
Publication of JPS63264118A publication Critical patent/JPS63264118A/ja
Publication of JPH0757297B2 publication Critical patent/JPH0757297B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4412Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D47/00Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、真空室と真空ポンプとの間に設置され、該真
空室に存するダスト等の微粒子を真空ポンプに到達する
以前に収集する真空排気系用微粒子トラップ(収集装置
)に関する。
〔従来の技術〕
従来、例えばダストを多量に発生する成膜装置の真空室
を真空ポンプにより真空排気する場合、真空ポンプの保
護のために、排気通路にメツシュを介在させて該メツシ
ュに排気ガス中のダストを付着させるか、或いは該排気
通路の油の中を回転するドラムを設け、該ドラムの表面
又はドラム内に収めた小物体の表面に排気ガス中のダス
トを付着させることが行われていた。また超微粒子製造
装置では、生成した超微粒子を捕集室に堆積させて収集
していた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のような従来のメツシュや油中を回転するドラムに
排気ガスを通過させるものでは、排気ガスが低圧である
ためレイノズル数が小さく、流れの状態は層流で乱流拡
散が期待できないため、ダスト(微粒子)の収集はブラ
ウン拡散効果の作用に頼っていた。
この場合、十分ダストを取り除くためには、排気通路を
狭く形成してダストを通路表面に付着させ易くし、且つ
成膜装置に必要な流量を確保して排気ガスを流す必要が
あり、その結果、排気ガスの通過のために大きな圧力差
が必要になる。ところが、この圧力差は、真空ポンプに
よる真空室に対する真空吸引力をそれだけ途中で減殺(
消費)させることになって、成膜装置の真空室の圧力が
上昇するという不利をもたらす。(それを回避するため
には真空室との間に更に高真空ポンプが必要になる。)
そこで、余り圧力差を大きくしないように排気通路の断
面積を比較的大きく形成すると、そのため、排気ガス中
のダストを十分に除去することが困難になるという問題
点があった。
上記のように、ダストを十分に取去ることと、圧力差を
小さくすることとは両立しないので、成る点で妥協せざ
るを得ない、その結果、必要となる圧力差は余り小さく
することができなので、成膜装置(真空室)と中真空ポ
ンプ(例えばメカニカルブースタポンプ)との間に該ダ
スト収集装置(トラップ)を設置することが難しい場合
が多くなる。その理由は、圧力差の大きいトラップを中
真空ポンプと真空室との間に設置した場合、該中真空ポ
ンプの真空吸引力(到達真空度)が該トラップの圧力差
のために真空室に有効に作用しなくなるからである。
従って、該ダスト収集装置を通過するに必要な圧力差を
十分小さくなし得ないとういことは、成膜装置の真空系
に使用する真空ポンプの性能を劣化させないで高真空状
態を得ることが出来なくなるという不都合をもたらすも
のであった。更に又、ダスト除去のために油を用いた場
合、油成分が真空室へと流れ、成膜装置に悪影響を及ぼ
して好ましくないという問題点もあった。
また、超微粉子はガスと共に真空ポンプに吸引され、収
集性が悪いという欠点があった。
本発明は、低圧のガス中のダスト等の微粒子を圧力差を
高めることなく十分に収集することができ、構造簡単、
製作容易で、比較的高い真空度が得られる真空ポンプを
使用することができ、しかも保守の容易な真空排気系用
微粒子収集装置(ト ・ラップ)を提供することを技術
的課題としている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、上記した従来技術の問題点及び技術的課題を
解決するために、真空室へ接続される流入管と、真空ポ
ンプへ接続される流出管とを備えた容器を、2重筒体に
よって構成し、該2重筒体の間を気体の流れる流路とし
、且つ2重筒体の一方の筒体を高温壁とし、他方の筒体
を低温壁とすると共に、該容器内を通過するに必要な圧
力差を小さくし、又気体中の微粒子を総べて補集できる
ように上記2重筒体の断面積及び長さを適当に保持する
ようにしたことを特徴としている。
〔作 用〕
本発明は上記のように構成されているので、流入管を例
えば成膜装置の真空室に接続し、流出管を低真空又は中
真空を形成し得る真空ポンプに接続して、該真空ポンプ
を作動させると、真空室内のガスは、2重筒体間の流路
を経て真空ポンプへ吸引されるが、該流路は、高温壁と
低温壁とを対向させるようにして形成されているので、
真空ポンプで吸引されるガス中のダスト等の微粒子は、
2重筒体によって形成された高温壁と低温壁の温度勾配
を有する流路中で、高温側から低温側へと熱泳動現象に
より成る速度で移動して低温壁に付着する。この微粒子
の移動速度は、圧力が低い程、小さい温度勾配で同一の
速度となるので、高温壁と低温壁の間隔を大きく取って
温度勾配が小さくなった場合、つまり流路断面積を大き
くした場合であっても、十分にガス中の微粒子を低温壁
に吸着して収集することができる。
また、流路断面積を流入管の断面積よりも大きくした場
合、微粒子収集のための圧力差が小さくて済み、そのた
め、比較的高い真空度が得られる真空ポンプの吸込側に
取付けて使用できるので、可及的に真空室内の圧力を低
くすることが可能になる。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例を図面と共に説明する。
第1図は、本発明の一実施例を示す微粒子トラップの側
断面図である。
図において、1は成膜装置等の真空室11に接続された
流入管3と、メカニカルブースタポンプ等の真空ポンプ
2に接続された流出管4とにそれぞれ接続される2重円
筒からなる容器で、該容器1は、外筒6と内筒7とから
なり、これらの両筒6と7との間には、流路5が形成さ
れている。該流路5は、前記流入管3と流出管4とに、
それぞれ真空フランジ3a、4a等を介して気密を保っ
て接続され、また該流路5の流路断面積は、流入管3の
それよりも大きく形成されている。
上記外筒6の外壁には、加熱用ヒータ8が巻き付けられ
ており、図示しない熱電対などにより温度を測定して核
外筒6の温度をコントロールしている。また、内筒7の
内部には、容器1の蓋1aを貫通して設けられた流入及
び流出用の冷却水パイプ9.9を経て冷却水が導入及び
導出されるようになっており、該内筒7を低温に保持し
ている。
図中、12は真空ポンプ2と真空室11とを2重円筒容
器lを迂回して側路するバイパス、13は流入管3及び
流出管4に設けられたパルプ、14はバイパス12に設
けられたパルプである。
次に、作用について説明するに、バイパス12のパルプ
14.14を閉鎖した状態で、真空ポンプ2を作動させ
ると、流入管3に接続された真空室11から、ガスが該
流入管3及び2重円筒容器l内の流路5を経て流出管4
へ流れ、真空ポンプ2に吸引される。上記流路5は、例
えば120℃の高温外筒6と、20℃の低温内筒7との
間に形成れているので、該流路5を流れるガスには、両
筒6と7に直角の温度勾配が生じ、そのため、ガス中の
微粒子は、高温外筒側から低温内筒側へ向・かって成る
速度で熱泳動により移動し、低温の内筒7の壁面に付着
する。この場合、流路5内の圧力が低くなればなる程、
小さい温度勾配でも微粒子の移動速度が同一になる。従
って、低圧で流れるガスから微粒子を収集するために高
温の外筒6と低温の内筒7との間隔を成る程度大きくす
ることができる。このことは、内筒(円筒)7の半径を
自由にとれる点と相俟って、流路5の断面積を流入管3
よりも任意に大きくすることが可能にな゛る。
従ってこの実施例によれば、ガスを流路5に流すために
必要な圧力差が十分小さくなるので、低真空用の真空ポ
ンプのみならず、比較的高い真空度の得られる真空ポン
プが使用できる。しかも、これらの真空ポンプの性能を
十分生かすことができるので、真空室11の圧力を比較
的高い真空度とすることが可能になる。
他方、真空ポンプ2の運転、停止がしばしば行われる場
合には、流入管3.流出管4のパルプ13.13を閉じ
、バイパス12のパルプ14゜14を開いてガスを流路
5を迂回するように流すことにより、容器l内から収集
した微粒子がポンプ2の運転、停止に伴なう圧力変動で
舞い上って流出することを防ぐことができる。また、該
低温の内筒7及び容器lの壁に付着した微粒子は、内筒
7を取り外して、簡単に取り出すことができる。
上記実施例における容器1の寸法は、ガスの流量によっ
て変更されるが、N! 2005ICCI11 (標準
気圧でのcc、/+5in)、0.50sccm、 S
i、Nh5 secm、成膜装置内の圧力0.3 To
rrで流したプラズマCVD装置に、第1図に示す装置
を適用した結果が、第2図に示されている。この場合の
温度は、高温の外筒壁が110℃、低温の内筒壁が10
℃である。第2図の縦軸は成膜装置の圧力(Torr)
を、横軸は時間(分)をそれぞれ示し、図中、実線aは
上記装置(トラップ)を利かせた場合を、また点線すは
利かせない場合をそれぞれ示している。
上記点gbで示すように、上記装置を利かさない状態で
は、反応生成物(Sing)のために真空ポンプ2が目
詰まりを起こし、約10分で排気しなくなり、圧力が1
0Torrにまで上昇したが、上記装置を利かせた状態
では、実線aで示すように、圧力の変動はなく、ポンプ
の目詰まりはなかった。
また、この実験終了後、該装置を分解したところ、内筒
7 (冷却面)に微粒子が多量にトラップされているの
が確認された。
第3図は、本発明の他の実施例を示す断面説明図であっ
て、図中、第1図に記載した符号と同一の符号は同一な
いし同類部分を示すものとする。
この実施例では、2重円筒容器1の外筒6aの外側に冷
却水パイプ8aが巻き付けられ、内筒7aの内部には、
ヒータ9aが内蔵されている点で前記した実施例(第1
図)と相違している。
この実施例によれば、真空ポンプの運転時、容器1内の
微粒子は、高温に保持された内筒7aより低温に保持さ
れた外筒6aの内面へ向かって熱泳動され、核外筒6a
の内壁へ付着する。運転停止後、低温壁である外筒6a
の内壁面に付着した微粒子は、蓋1aと内筒7aを取り
除いたあと、該内壁面を清掃して取り出される。
前記した実施例では、本発明装置(トラップ)を成膜装
置に用いた場合について説明したが、超微粒子製造装置
に適用する場合は、流入管3を超微粒子を生成する真空
室へ接続し、流出管4を真空ポンプに接続すればよい。
また、高温壁の加熱手段は任意でよく、例えば高温壁に
ブロック式ヒータを被せたり、或いはヒータを埋設して
もよい。また該高温側には、外部に保温材を取付けて放
熱を防止することができる。
一方、低温壁の冷却手段も任意でよく、第1実施例にお
けるジャケット式の代りに、第2実施例におけるように
冷却水パイプを巻き付けるようにしてもよい、また、該
低温壁は、水冷などの冷却をせず、室温でもよい。この
場合所定の温度差を保つように高温壁側を制御する。
また、本発明装置を凝縮しても危険のないガスを使用す
る系に使用する場合は、高温側を室温とし、低温側を液
体窒素などで冷却してもよい。
なお、本発明装置の容器を構成する2重筒体は円筒体が
最も好ましいが、多角筒体等で形成することも可能であ
る。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、真空室へ接続され
る流入管と真空ポンプへ接続される流出管とにそれぞれ
接続される容器を、高温壁と低温壁とからなる2重筒体
によって構成し、該2重筒体の間に流路を形成するよう
にしたことにより、次のような効果を奏することができ
る。
(i)流入管から流入するガス中の微粒子を低温壁に付
着させて、効率よく収集することができる。
(ii )上記収集のために圧力差が生ずることが殆ん
どないので、比較的高い真空度が得られる真空ポンプを
使用することができ、該真空ポンプのもつ性能を劣化さ
せることなく真空室内を高真空化することが可能になる
(iii )油を使用せずに乾式で微粒子を収集できる
ので、真空室が汚れることがない。
(iv )容器が2重筒体という簡単な構成からなるの
で、製作が容易で安価ででき、保守も簡単に行なうこと
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す側断面図、第2図は性
能比較線図、第3図は本発明の他の実施例を示す側断面
図である。 1・・・容器、2・・・真空ポンプ、3・・・流入管、
4・・・流出管、5・・・流路、6,6a・・・外筒、
7,7a・・・内筒、8.8a・・・ヒータ、9,9a
・・・冷却水パイプ、11・・・真空室。 第1図 第2図 →時間(分)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、真空室へ接続される流入管と真空ポンプへ接続され
    る流出管とにそれぞれ接続される容器を2重筒体によっ
    て構成し、該2重筒体の間を気体の流れる流路とし、上
    記2重筒体の一方の筒体を高温壁とし、他方の筒体を低
    温壁としたことを特徴とする真空排気系用微粒子トラッ
    プ。 2、前記一方の筒体が容器の外壁で構成され、該外壁に
    加熱手段が設けられており、前記他方の筒体が上記外壁
    のほぼ中央部に配設された内筒で構成され、該内筒の内
    部に冷却手段が設けられている特許請求の範囲第1項記
    載の真空排気系用微粒子トラップ。 3、前記流路の断面積が流入管の断面積より大きく形成
    されている特許請求の範囲第1項記載の真空排気系用微
    粒子トラップ。
JP62097521A 1987-04-22 1987-04-22 真空排気系用微粒子トラツプ Expired - Lifetime JPH0757297B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62097521A JPH0757297B2 (ja) 1987-04-22 1987-04-22 真空排気系用微粒子トラツプ
US07/182,490 US4816046A (en) 1987-04-22 1988-04-18 Fine particle collector trap for vacuum evacuating system
EP88106266A EP0289858B1 (en) 1987-04-22 1988-04-20 Fine particle collector trap for vacuum evacuating system
DE8888106266T DE3877409T2 (de) 1987-04-22 1988-04-20 Sammelkollektor fuer kleine teilchen in einem evakuiersystem.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62097521A JPH0757297B2 (ja) 1987-04-22 1987-04-22 真空排気系用微粒子トラツプ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63264118A true JPS63264118A (ja) 1988-11-01
JPH0757297B2 JPH0757297B2 (ja) 1995-06-21

Family

ID=14194560

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62097521A Expired - Lifetime JPH0757297B2 (ja) 1987-04-22 1987-04-22 真空排気系用微粒子トラツプ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4816046A (ja)
EP (1) EP0289858B1 (ja)
JP (1) JPH0757297B2 (ja)
DE (1) DE3877409T2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002526660A (ja) * 1998-10-07 2002-08-20 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 内部加熱される排気装置
JP2014143210A (ja) * 2008-06-26 2014-08-07 Mks Instruments Inc プラズマ源用粒子捕獲
CN104524897A (zh) * 2014-12-26 2015-04-22 刀楗洪 一种混合流体传送器
WO2015141602A1 (ja) * 2014-03-20 2015-09-24 株式会社テクノス 窒素昇温ユニット
CN115522177A (zh) * 2021-07-23 2022-12-27 上海汉钟精机股份有限公司 用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5250323A (en) * 1989-10-30 1993-10-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Chemical vapor growth apparatus having an exhaust device including trap
JP2601927B2 (ja) * 1990-02-22 1997-04-23 住友重機械工業株式会社 同位体分離方法およびその実施に用いる熱拡散塔
US5072592A (en) * 1990-06-26 1991-12-17 Smc Corporation Gas cleaner
US5303558A (en) * 1992-07-30 1994-04-19 Vlsi Technology, Inc. Thermal trap for gaseous materials
US6187072B1 (en) * 1995-09-25 2001-02-13 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for reducing perfluorocompound gases from substrate processing equipment emissions
US6194628B1 (en) 1995-09-25 2001-02-27 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for cleaning a vacuum line in a CVD system
US6045618A (en) * 1995-09-25 2000-04-04 Applied Materials, Inc. Microwave apparatus for in-situ vacuum line cleaning for substrate processing equipment
US6193802B1 (en) 1995-09-25 2001-02-27 Applied Materials, Inc. Parallel plate apparatus for in-situ vacuum line cleaning for substrate processing equipment
US6888040B1 (en) * 1996-06-28 2005-05-03 Lam Research Corporation Method and apparatus for abatement of reaction products from a vacuum processing chamber
GB2319191B (en) * 1996-11-15 2000-09-27 Boris Zachar Gorbunov A particulate matter concentrator
DE19747090A1 (de) * 1997-10-24 1999-04-29 Leybold Systems Gmbh Staubabscheider
GB2350804A (en) * 1999-06-12 2000-12-13 Johnson Matthey Plc Removing particulate matter from gas by thermophoresis and combustion
US6354241B1 (en) 1999-07-15 2002-03-12 Applied Materials, Inc. Heated electrostatic particle trap for in-situ vacuum line cleaning of a substrated processing
US6255222B1 (en) 1999-08-24 2001-07-03 Applied Materials, Inc. Method for removing residue from substrate processing chamber exhaust line for silicon-oxygen-carbon deposition process
CA2383847C (en) * 1999-09-03 2008-12-30 The Cleveland Clinic Foundation Continuous particle and molecule separation with an annular flow channel
GB9926320D0 (en) * 1999-11-05 2000-01-12 Imperial College Gas filtration
US6432174B1 (en) * 2000-11-13 2002-08-13 Westinghouse Savannah River Induced natural convection thermal cycling device
JP4330467B2 (ja) * 2004-02-26 2009-09-16 東京エレクトロン株式会社 プロセス装置及び該プロセス装置内のパーティクル除去方法
US7722332B2 (en) * 2004-10-01 2010-05-25 Lot Vacuum Co., Ltd. Composite dry vacuum pump having roots rotor and screw rotor
CN101755108B (zh) * 2007-07-13 2012-08-01 N.V.贝卡特股份有限公司 过滤元件
DE502008002998D1 (de) 2007-09-11 2011-05-12 Centrotherm Photovoltaics Ag Vorrichtung zur Abscheidung von Chalkogenen
DE102008039213B4 (de) * 2008-03-06 2013-12-05 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Filtereinrichtung für Vakuumpumpen
DE102009052430A1 (de) * 2009-11-10 2011-06-01 Brückner, Manuela Verfahren und Vorrichtung zum Kühlen und Reinigen von heißen Gasen
CN105126474A (zh) * 2015-08-11 2015-12-09 安徽远鸿机械自动化有限公司 一种用于薄膜包装的粉尘吸料方法
JP6562329B1 (ja) * 2018-10-01 2019-08-21 Ftb研究所株式会社 真空配管トラップ装置、真空配管トラップシステム及び配管清掃方法
CN111773761A (zh) * 2020-07-13 2020-10-16 新兴能源装备股份有限公司 一种压力容器抽空设备辅助提升装置
US20220170151A1 (en) * 2020-12-01 2022-06-02 Applied Materials, Inc. Actively cooled foreline trap to reduce throttle valve drift

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61121931U (ja) * 1985-01-18 1986-08-01

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR852270A (fr) * 1938-04-04 1940-01-27 Ig Farbenindustrie Ag Procédé pour scinder des mélanges gazeux par diffusion thermique
DE2454435B2 (de) * 1974-11-16 1976-09-02 Wilhelm Schuler, Filtertechnik Gmbh, 6719 Eisenberg Vorrichtung zum abscheiden von kondensataerosolen aus druckluft und gasen
US4062781A (en) * 1976-06-04 1977-12-13 Whatman Reeve Angel Limited Disposable filter with interchangeable end elements
SU682748A1 (ru) * 1977-06-20 1979-08-30 Государственный Ордена Октябрьской Революции Научно-Исследовательский И Проектный Институт Редкометаллической Промышленности "Гиредмет" Устройство дл конденсации хлоридов из парогазовой смеси
CH654596A5 (de) * 1983-09-05 1986-02-28 Balzers Hochvakuum Verdampferzelle.
JPS60191269A (ja) * 1984-03-13 1985-09-28 Sharp Corp 電子写真感光体製造装置
EP0164928A3 (en) * 1984-06-04 1987-07-29 Texas Instruments Incorporated Vertical hot wall cvd reactor

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61121931U (ja) * 1985-01-18 1986-08-01

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002526660A (ja) * 1998-10-07 2002-08-20 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 内部加熱される排気装置
JP2014143210A (ja) * 2008-06-26 2014-08-07 Mks Instruments Inc プラズマ源用粒子捕獲
WO2015141602A1 (ja) * 2014-03-20 2015-09-24 株式会社テクノス 窒素昇温ユニット
CN104524897A (zh) * 2014-12-26 2015-04-22 刀楗洪 一种混合流体传送器
CN115522177A (zh) * 2021-07-23 2022-12-27 上海汉钟精机股份有限公司 用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法
CN115522177B (zh) * 2021-07-23 2023-05-09 上海汉钟精机股份有限公司 用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法

Also Published As

Publication number Publication date
US4816046A (en) 1989-03-28
EP0289858A1 (en) 1988-11-09
DE3877409T2 (de) 1993-05-13
DE3877409D1 (de) 1993-02-25
JPH0757297B2 (ja) 1995-06-21
EP0289858B1 (en) 1993-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63264118A (ja) 真空排気系用微粒子トラツプ
JP2007522649A (ja) 半導体反応器用の排気調整システム
US6332925B1 (en) Evacuation system
US5317930A (en) Constant flowrate controller for an aerosol sampler using a filter
JPH0710322B2 (ja) 真空ポンプ用微粒子収集装置
KR960004369B1 (ko) 압축공기용 필터장치
JPS6183959A (ja) 分析装置
CN108837574A (zh) 新型篮式过滤器
KR101480237B1 (ko) 입자 포집장치
CN107261726A (zh) 一种工业用含尘气体过滤装置
JPH0342009A (ja) 真空排気系用微粒子トラツプ
JPS60183018A (ja) 水質計器用試料水ろ過装置
JPH0342010A (ja) 真空排気系用微粒子トラップ
JP3136377B2 (ja) 固形分捕集用トラップ
US3422601A (en) Filter system and method
JPH01151918A (ja) 真空排気系用微粒子捕集装置
JPH0757298B2 (ja) 真空排気系用微粒子捕集装置
JPS63305912A (ja) 真空排気系用微粒子捕集装置
JP4455719B2 (ja) 排ガス濾過装置
JPH0710326B2 (ja) 真空排気系用微粒子捕集装置
JPS63278519A (ja) 真空排気系用微粒子捕集装置
KR100211649B1 (ko) 반도체 lpcvd장비의 콜드트랩
SU1027478A2 (ru) Проходной фильтр дл криогенных сред
SU1001918A1 (ru) Пылесос
KR950004146Y1 (ko) 반도체 증착장치의 트랩

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term