CH654596A5 - Verdampferzelle. - Google Patents
Verdampferzelle. Download PDFInfo
- Publication number
- CH654596A5 CH654596A5 CH4848/83A CH484883A CH654596A5 CH 654596 A5 CH654596 A5 CH 654596A5 CH 4848/83 A CH4848/83 A CH 4848/83A CH 484883 A CH484883 A CH 484883A CH 654596 A5 CH654596 A5 CH 654596A5
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- steam
- outlet opening
- stopper
- steam outlet
- plug
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 18
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003915 cell function Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Verdampferzelle für die Vakuumaufdampfung von dünnen Schichten auf Unterlagen mit einer mittels eines mechanischen Elementes beeinflussbaren Dampfaustrittsöffnung zur Steuerung der Dampfabgabe. Unter Verdampferzelle im Sinne dieser Erfindungsbeschreibung sind als geschlossene Behälter ausgebildete Verdampfer zu verstehen, bei denen der Dampf durch eine oder mehrere Öffnungen in der Wand des Behälters hindurch austritt.
Es sind Dampfquellen mit darüber angeordneten beweglichen Blenden bekannt, mit denen der Dampfstrom an- und abgeschaltet werden kann. Damit ist es möglich, die Bedamp-fungszeit den jeweiligen Bedürfnissen anzupassen, nicht aber die Dampfabgabe der Quelle selbst zu verändern.
Bekannt ist auch eine Anordnung zur Steuerung der Bedampfungsgeschwindigkeit beim Bedampfen von Bändern, bei der zwischen der Dampfquelle und dem laufenden Band verstellbare Blenden vorgesehen sind, mittels deren die Grösse des aus dem Dampfstrahl ausgesetzten Bandabschnittes und damit die Zeit, während welcher jede Stelle des vorbeilaufenden Bandes der Bedampfung unterliegt, eingestellt werden kann. Auch bei dieser bekannten Anordnung wird also nicht die Dampfabgabe der Quelle geregelt, sondern nur die Bedampfungszeit jeder Stelle des Bandes.
Für die Verdampfung von Substanzen, die beim Aufschmelzen zum Spritzen neigen, werden in der Vakuumverdampfungstechnik auch Dampfquellen verwendet, die im • wesentlichen als geschlossene, einen Wandteil mit Dampfaustrittsöffnungen (Sieb) aufweisende Behälter ausgebildet sind. Durch die geschlossene Wand werden die Spritzer grösstenteils daran gehindert, auf die zu beschichtenden Substrate zu gelangen. Um auch noch diejenigen Spritzer abzufangen, die durch die Dampfaustrittsöffnungen hindurch in den Aufdampfraum gelangen könnten, wurde vorgeschlagen, diese Öffnungen mit einer zusätzlichen Abschirmung abzudecken, die ebenfalls Öffnungen für den Dampfdurchtritt aufweist, die jedoch gegenüber den Öffnungen in der Behälterwand so versetzt sind, dass die gerade Sichtverbindung zwischen der verdampfenden Substanz und den Substraten unterbrochen ist.
Als Dampfquellen für Vakuumbedampfungsanlagen sind auch sogenannte Effusionszellen bekannt, wobei die zu verdampfende Substanz in einem geschlossenen Behälter erhitzt wird und der Dampfaustritt durch eine Öffnung in der Behälterwand erfolgt, deren Durchmesser klein ist im Verhältnis zur mittleren freien Weglänge des Dampfes im Bereich der Austrittsöffnung.
In den letzten Jahren wurden auch zunehmend leistungsfähigere Verdampfer mit grossen Verdampfungsgeschwindigkeiten entwickelt, um das Aufbringen von Schichten wirtschaftlicher durchführen zu können. Es zeigt sich aber, dass die mit solchen Verdampfern an sich erreichbaren hohen Verdampfungsgeschwindigkeiten oft gar nicht ausgenutzt werden können, weil ihre thermische Trägheit zu gross ist. Z.B. tritt bei der Aufbringung von Schichten aus Stoffgemischen,
wobei die einzelnen Komponenten aus zwei oder mehreren getrennten Verdampfern abgedampft werden, und wenn dabei die Zusammensetzung der Schicht senkrecht zur Schichtoberfläche nach einem vorgeschriebenen Programm sich ändern soll, das Problem auf, dass bei zu hohen Verdampfungsgeschwindigkeiten das Mischungsverhältnis nicht schnell genug geändert werden kann. Die auf thermischem Wege mittels der dem Verdampfer zugeführten Heizleistung mögliche Einstellung der Verdampfungs- und damit Beschichtungsgeschwindigkeit führt zu Zeitkonstanten in der Grössenordnung von 10 bis 60 Sekunden und ist damit für eine wirtschaftliche Fertigung viel zu langsam. Die Verdampfungsgeschwindigkeit sollte vielmehr mit wesentlich kleineren Zeitkonstanten so eingestellt werden können, dass sie den jeweiligen Erfordernissen des gerade durchzuführenden Beschichtungsprozesses entspricht.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Verdampferzelle zu schaffen, bei der eine schnelle mechanische Steuerung der Dampfabgabe möglich ist.
Diese Erfindungsaufgabe wird gelöst durch eine Verdampferzelle für die Vakuumaufdampfung von dünnen Schichten auf Unterlagen mit einer mittels eines mechanischen Elementes beeinflussbaren Dampfaustrittsöffnung zur Steuerung der Dampfabgabe, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das mechanische Element als im Innern der Zelle angeordneter verschiebbarer Stopfen für die Dampfaustrittsöffnung ausgebildet ist.
Die Anordnung des besagten mechanischen Elementes zur Regelung der Dampfabgabe im Innern der Zelle erbringt den grossen Vorteil, dass seine Temperatur während der Verdampfung zwangsläufig genügend hoch ist, um eine Kondensation des Dampfes am Stopfen zu verhindern, womit die Gefahr, dass der Dampfaustritt infolge von Kondensation am Stopfen nicht mehr sauber gesteuert werden kann oder gar eine Blockierung des beweglichen mechanischen Elementes eintritt, wesentlich reduziert wird. Ausserdem kommt die dem Stopfen im Innern der Zelle zugeführte Heizenergie weitgehend auch dem Verdampfungsvorgang zugute.
Bei einer besonders bewährten Konstruktion einer Verdampferzelle gemäss Erfindung ist der Stopfen hohl ausgebildet und im Innern des Stopfens eine elektrische Widerstandsheizung vorgesehen. Bei manchen Verdampfungsmaterialien ist es auch möglich, die Heizung des Stopfens als die einzige Heizung für den Verdampfungsvorgang zu benutzen. Umgekehrt ist es möglich, den Stopfen nicht separat zu beheizen, sondern ihn nur von der Schmelze her, für die eine Heizeinrichtung vorgesehen ist, zu erwärmen. Jedenfalls ist in allen Fällen leicht erreichbar, dass der Stopfen an seiner Stirnseite im Bereich der Dampfaustrittsöffnung die gleiche oder je nach Konstruktion sogar eine höhere Temperatur aufweist als für die Verdampfung erforderlich ist, was die Betriebssicherheit der Vorrichtung gegenüber allen schon vorgeschlagenen anderen Konstruktionen von Verdampferzellen wesentlich erhöht.
Die anliegende Zeichnung zeigt ein Ausführungsbeispiel der Erfindung. Darin haben die Bezugszeichen die folgende Bedeutung:
2
5
to
15
20
25
30
35
40
45
50
53
bO
65
3
654 596
1 Tiegel, z.B. aus Quarz;
2 darin befindliches zu verdampfendes Material ;
3 die Tiegelöffnung verschliessender Deckel, so dass ein im wesentlichen geschlossener Verdampfungsbehälter gebildet wird ;
4 Dampfaustrittsöffnung im Deckel 3 ;
5 elektrische Heizwendel mit Stromzuführungen 6 und 7 zur Beheizung des Tiegels 1 ;
8 in axialer (vertikaler) Richtung verschiebbarer hohler Stopfen zur Regelung der Dampfabgabe durch die Dampfaustrittsöffnung 4;
9 Heizwendel mit Stromzuführungen 10 und 11 zur Beheizung des Stopfens 8;
12/13Gemeinsame hintereinanderliegende (und daher in der Zeichnung nicht getrennt sichtbare) Anschlussklemmen für die Stromzuführungen 6/7 und 10/11 ;
14 Gehäuse;
15 zylindrische Strahlenschutzbleche z.B. aus Molybdän oder Tantal;
16 scheibenförmige Strahlenschutzbleche;
17 Schiebedurchführung des Stopfens 8 durch den Boden des Tiegels 1 ;
18 Öffnung zur Durchführung des Stopfens 8 durch das Gehäuse 14;
19 Bügel zur Halterung der Verdampferzelle und Anschlussleitungen ;
20 Feder, welche den Stopfen 8 in Schliessposition zu drücken sucht;
21 Hebel - gelagert bei 22 - zum Heben und Senken des Stopfens 8;
23 am Stopfen seitlich befestigte Zapfen, an denen der Hebel 21 angreift;
24 Hubstange zur Betätigung des Hebels 21
25 vakuumdichte Durchführung der Hubstange 24 durch die Wand 26 der Vakuumkammer
27 Kühlmittelleitungen zur Kühlung der Wand 26
28 Keramisches Röhrchen zur evtl. Einführung eines Thermoelementes ;
29 Keramische Stützrohre für den Tiegel.
Bei dem in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiel kann durch Betätigung des Hebels 21 mittels der Hubstange 24, wie ersichtlich, der Stopfen 8 gehoben und gesenkt und dabei so eingestellt werden, dass gerade die gewünschte Dampfmenge durch die Öffnung 4 austritt. Wenn die Dampfaustrittsöffnung kleiner als die mittlere freie Weglänge der s Dampfmoleküle bei der Temperatur im Bereich der Dampfaustrittsöffnung bemessen wird, funktioniert die beschriebene Verdampferzelle als sogenannte Knudsenzelle. Als effektive Verdampfungsfläche wirkt dabei nur die von aussen durch die Dampfaustrittsöffnung hindurch gesehene Vorderseite 'o des Stopfens.
Im Falle einer Knudsenzelle ist diese Fläche sehr klein und kann praktisch als punktförmig betrachtet werden, und es wird eine genaue Kosinusverteilung der Dampfstrahlung erhalten. Wird dagegen eine grössere Dampfaustrittsöffnung 15 durch Öffnen des Stopfens bewirkt, kann eine Verteilung erreicht werden, bei der die Richtungen maximaler Dampfemission einen Kegelmantel bilden, dessen Achse mit der Achse des Stopfens 8 zusammenfällt. In der Richtung dieser Achse herrscht dann ein Minimum der Dampfstrahlung vor. 20 Eine solche Betriebsweise kann vorteilhaft sein, z.B. bei einer Aufdampfanlage, um die auf einer drehenden Kalotte (deren Achse ebenfalls mit den beiden genannten Achsen übereinstimmt) befestigte Substrate zu beschichten, wogegen in Achsrichtung ein anderes Bauteil der Anlage, z.B. ein Druck- oder 25 Schichtdickenmessgerät, angeordnet werden kann. Wenn der Abstand der Stopfenvorderseite von der Dampfaustrittsöffnung ungefähr auf das Doppelte des Durchmessers der besagten Öffnung eingestellt wird, hat die Stopfenstellung keinen Einfluss mehr auf die Dampfverteilung und man 3o erhält wiederum im wesentlichen eine Kosinusverteilung, allerdings jetzt mit einer wesentlich grösseren effektiven Verdampfungsfläche.
Für den Fachmann ist ersichtlich, dass das gezeigte Ausführungsbeispiel natürlich in verschiedenster Weise abgewan-35 delt werden kann, ohne von der Erfindungsidee abzuweichen. Der Stopfen muss nicht axial durch die Verdampfungszelle hindurchragend angeordnet werden, sondern kann auch seitlich des Verdampfungsgefässes Platz finden, wobei durch einen entsprechenden Mechanismus dafür gesorgt wird, dass 40 er die Dampfaustrittsöffnung in gewünschtem Masse öffnen bzw. verschliessen kann.
G
1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Verdampferzelle für die Vakuumaufdampfung von dünnen Schichten auf Unterlagen mit einer mittels eines mechanischen Elementes beeinflussbaren Dampfaustrittsöffnung zur Steuerung der Dampfabgabe, dadurch gekennzeichnet, dass das mechanische Element als im Innern der Zelle (Zi) angeordneter verschiebbarer Stopfen (8) für die Dampfaustrittsöffnung (4) ausgebildet ist.
2. Verdampferzelle nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Stopfen (8) hohl ausgebildet ist und im Innern des Stopfens eine elektrische Widerstandsheizung (9) vorgesehen ist.
3. Verdampferzelle nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Verdampferzelle als Gefäss (1) ausgebildet ist, in dessen Deckel (3) die Dampfaustrittsöffnung (4) und in dessen Boden eine Schiebedurchführung für die Betätigung des Stopfens vorgesehen ist.
4. Verdampferzelle nach Patentanspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass Gefäss (1) und Stopfen (8) aus Werkstoffen mit ähnlichem thermischen Ausdehnungskoeffizienten bestehen.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH4848/83A CH654596A5 (de) | 1983-09-05 | 1983-09-05 | Verdampferzelle. |
DE3414669A DE3414669C2 (de) | 1983-09-05 | 1984-04-18 | Verdampferzelle |
JP59126305A JPS6056065A (ja) | 1983-09-05 | 1984-06-19 | 蒸発装置 |
GB08419073A GB2146046B (en) | 1983-09-05 | 1984-07-26 | Evaporation cell |
US06/635,906 US4565158A (en) | 1983-09-05 | 1984-07-30 | Evaporator cell for vacuum deposition on substrates |
NL8402493A NL8402493A (nl) | 1983-09-05 | 1984-08-13 | Verdampercel. |
FR848413490A FR2551458B1 (fr) | 1983-09-05 | 1984-08-31 | Cellule de vaporisation pour depot sous vide de minces couches sur des supports |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH4848/83A CH654596A5 (de) | 1983-09-05 | 1983-09-05 | Verdampferzelle. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH654596A5 true CH654596A5 (de) | 1986-02-28 |
Family
ID=4283607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH4848/83A CH654596A5 (de) | 1983-09-05 | 1983-09-05 | Verdampferzelle. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4565158A (de) |
JP (1) | JPS6056065A (de) |
CH (1) | CH654596A5 (de) |
DE (1) | DE3414669C2 (de) |
FR (1) | FR2551458B1 (de) |
GB (1) | GB2146046B (de) |
NL (1) | NL8402493A (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0757297B2 (ja) * | 1987-04-22 | 1995-06-21 | 日本真空技術株式会社 | 真空排気系用微粒子トラツプ |
IT1240199B (it) * | 1990-04-19 | 1993-11-27 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Effusore di vapori per impianti di deposizione epitassiale. |
US5951769A (en) * | 1997-06-04 | 1999-09-14 | Crown Roll Leaf, Inc. | Method and apparatus for making high refractive index (HRI) film |
DE10211573A1 (de) * | 2002-03-15 | 2003-10-16 | Unaxis Balzers Ag | Vakuumverdampfungseinrichtung |
EP2381011B1 (de) * | 2003-08-04 | 2012-12-05 | LG Display Co., Ltd. | Verdampfungsquelle zum Verdampfen einer organischen elektrolumineszenten Schicht |
JP4344631B2 (ja) * | 2004-03-02 | 2009-10-14 | 長州産業株式会社 | 有機物薄膜堆積用分子線源 |
KR100671673B1 (ko) | 2005-03-09 | 2007-01-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 다중 진공증착장치 및 제어방법 |
KR102144321B1 (ko) * | 2011-10-21 | 2020-08-31 | 에바텍 아크티엔게젤샤프트 | 직접 액상 증착 |
CN104018121A (zh) * | 2014-05-14 | 2014-09-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 防止高温金属材料泄漏的加热容器及其制造方法 |
WO2017163440A1 (ja) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機el表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR872840A (fr) * | 1940-06-04 | 1942-06-19 | Fides Gmbh | Procédé de revêtement de surfaces quelconques avec une couche métallique |
DE747257C (de) * | 1943-03-05 | 1944-09-18 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung zur Metallisierung laufender Baender durch Metallbedampfung im Vakuum |
US3751310A (en) * | 1971-03-25 | 1973-08-07 | Bell Telephone Labor Inc | Germanium doped epitaxial films by the molecular beam method |
US4061800A (en) * | 1975-02-06 | 1977-12-06 | Applied Materials, Inc. | Vapor desposition method |
GB1455973A (en) * | 1975-02-21 | 1976-11-17 | Fisker H J J | Vacuum relief valve |
GB2032580B (en) * | 1978-10-06 | 1982-12-01 | Wirral Borough Council | Flow restrictor device |
US4401052A (en) * | 1979-05-29 | 1983-08-30 | The University Of Delaware | Apparatus for continuous deposition by vacuum evaporation |
CH651592A5 (de) * | 1982-10-26 | 1985-09-30 | Balzers Hochvakuum | Dampfquelle fuer vakuumbedampfungsanlagen. |
-
1983
- 1983-09-05 CH CH4848/83A patent/CH654596A5/de not_active IP Right Cessation
-
1984
- 1984-04-18 DE DE3414669A patent/DE3414669C2/de not_active Expired
- 1984-06-19 JP JP59126305A patent/JPS6056065A/ja active Pending
- 1984-07-26 GB GB08419073A patent/GB2146046B/en not_active Expired
- 1984-07-30 US US06/635,906 patent/US4565158A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-08-13 NL NL8402493A patent/NL8402493A/nl not_active Application Discontinuation
- 1984-08-31 FR FR848413490A patent/FR2551458B1/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2146046A (en) | 1985-04-11 |
DE3414669C2 (de) | 1985-09-19 |
NL8402493A (nl) | 1985-04-01 |
FR2551458B1 (fr) | 1989-06-16 |
US4565158A (en) | 1986-01-21 |
JPS6056065A (ja) | 1985-04-01 |
DE3414669A1 (de) | 1985-03-21 |
GB2146046B (en) | 1986-11-26 |
FR2551458A1 (fr) | 1985-03-08 |
GB8419073D0 (en) | 1984-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2604295C3 (de) | ||
DE3338061C2 (de) | Effusions-Verdampferzelle für Vakuumbedampfungsanlagen | |
DE4012600C2 (de) | Mikrotom | |
EP0499124B1 (de) | Reihenverdampfer | |
EP1970474B1 (de) | Bedampfungseinrichtung zur Molekularstrahlbedampfung und Molekularstrahlepitaxie | |
CH654596A5 (de) | Verdampferzelle. | |
DE19843818A1 (de) | Bedampfungsvorrichtung für Vakuum-Bedampfungsanlagen | |
DE3206622A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum aufbringen eines materials auf ein substrat | |
WO1998020521A1 (de) | Vorrichtung zur herstellung oxidischer dünnschichten | |
EP1862564A1 (de) | Vorrichtung zum Verdampfen von Materialien mit einem Verdampferrohr | |
EP0282540B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum metallisieren von folienoberflächen | |
DE4342574C1 (de) | Bandbedampfungsanlage | |
DE2821130C2 (de) | Verdampfertiegel mit Zuführung des Verdampfungsmaterials in Form von Stangen durch den Tiegelboden | |
DE3331653C2 (de) | ||
EP0729520B1 (de) | Verfahren zur innenwandbeschichtung von hohlköpern, insbesondere kleiner abmessungen | |
DE1806514A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung fuer das Niederschlagen von Dampf | |
DE19742691C1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten | |
DE4442733C2 (de) | Einrichtung zur Bedampfung bandförmiger Substrate im Vakuum | |
DE19720026C2 (de) | Linienförmige Verdampferquelle für Vakuum-Aufdampfanlagen | |
DE2612424A1 (de) | Aufdampfquelle | |
DE976068C (de) | Verfahren zum laufenden UEberziehen band- oder drahtaehnlicher Gebilde nach dem thermischen Aufdampfungsverfahren | |
DE1270354C2 (de) | Verfahren zum vakuumaufdampfen von schichten auf elektrisch isolierende unterlagen aus glas, keramik o.dgl. durch elektronenbeschuss | |
AT392486B (de) | Verfahren und vorrichtung zum aufdampfen einer beschichtung auf einem traeger im vakuum | |
DD265175A1 (de) | Verfahren und einrichtung zur homogenen schichtabscheidung in vakuumanlagen | |
CH627790A5 (en) | Electron beam evaporator and container for holding evaporable material |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PL | Patent ceased |