DE3331653C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Verdampfen eines
verdampfbaren Materials durch Erwärmen, mit der die Bedampfung
von Platten mit solchen Schichten vorgenommen werden kann, die
eine große Homogenität in der Zusammensetzung der Schicht über
die gesamte Fläche aufweisen müssen. Die Erfindung betrifft
weiterhin ein Verfahren zum Herstellen solcher Schichten.
Für die Herstellung solcher Schichten, die vor allem in der
Halbleiterindustrie eingesetzt werden, hat sich das Dampfauf
tragverfahren bewährt. Dabei wird als Schmelze vorliegendes
Legierungsmaterial, beispielsweise eine Selen-Tellur-Mischung,
soweit erhitzt, daß sie verdampft. Die Legierungsbestandteile
der Dampfphase schlagen sich dann an einer kühler gehaltenen
zu beschichtenden Platte nieder. Das Hauptproblem bei diesem
Verfahren ist, daß die Temperaturverteilung in der geschmolzenen
Legierung nicht konstant ist, sondern von Punkt zu Punkt
starken Schwankungen unterworfen ist. Üblicherweise verwendete
Wannen, auch Boote genannt, haben eine Länge bis zu 3 m.
Diese Größe der Boote verschärft die Problematik in besonderem Maße.
Da thermische Strömungen wie Konvektion und Diffusion schon
bei Geräten im Labormaßstab schwer beherrschbar sind, lassen
sich die dort gewonnenen Erfahrungen und Erkenntnisse nicht ohne
weiteres auf Geräte für die industrielle Fertigung übertragen.
Zwar kann eine gleichmäßige Beheizung der Außenseite des
Behälters noch gewährleistet sein, jedoch ist bei bekannten
Booten immer damit zu rechnen, daß sich zum Inneren der
Schmelze hin große Temperaturdifferenzen ergeben. Die verwen
deten Legierungen zeichnen sich zudem durch eine hohe Visko
sität oder Zähigkeit aus. Es ist bekannt, daß Strömungen, bei
denen die Zähigkeit eine entscheidende Rolle spielt, nicht
überall wirbelfrei sind. Dies ergibt sich beispielsweise aus
den Navier-Stokes-Gleichungen. Diese Wirbelbildung trägt zu
einer nicht vorhersagbaren Temperaturverteilung innerhalb der
Schmelze bei. Da in der Schmelze weiterhin eine Legierung vor
liegt, ist das Phänomen der Thermodiffusion zu beachten. Wird
in Mischungen von verschiedenen Flüssigkeiten ein Temperatur
gefälle aufrechterhalten, so findet eine Anreicherung der
leichteren Molekülart an der warmen Seite, der schwereren
Molekülart an der kalten Seite statt. Die Thermodiffusion
verursacht daher eine teilweise Entmischung der Legierungs
komponenten, wodurch das Material schon in der Schmelze und
insbesondere an ihrer Oberfläche inhomogen verteilt vorliegt.
Wird das Schmelzenmaterial an der Oberfläche nun verdampft,
so ist davon auszugehen, daß auch der Niederschlag auf der zu
bedampfenden Platte in seiner Materialzusammensetzung diese
Inhomogenitäten zeigt. Damit wird aber die Qualität der auf
gedampften Schicht entscheidend herabgesetzt.
Das Vermeiden der diese Inhomogenitäten verursachenden Tempe
raturschwankungen und Turbulenzen ist seit langen das Anliegen
der Fachwelt.
Aus der US-PS 39 27 638 ist eine Bedampfungsvorrichtung
bekannt, bei der ein die Schmelze des zu verdampfenden Materials
enthaltenden Behälter durch zwei Heizvorrichtungen beheizt
wird. Die erste Heizvorrichtung ist dabei unterhalb des Behälters
für die Schmelze angebracht und beheizt hauptsächlich
dessen Boden. Um die Heizvorrichtung ist ein Strahlungsschild
angebracht, das dafür sorgt, daß die Wärme möglichst verlust
frei an den Boden des Behälters geführt wird. Eine zweite
Heizvorrichtung ist im Behälter oberhalb der Schmelze ange
bracht. Durch abwechselndes Ein- und Ausschalten der Heizvor
richtungen wird die Temperatursteuerung vorgenommen. Aus den
Fig. 5 und 6 dieses Dokumentes ist zu entnehmen, daß mit
dieser Anordnung das Problem der Inhomogenitäten nur teilweise
gelöst werden konnte. Ab einer bestimmten Schichtdicke steigt
der Gehalt der Schicht an Tellur drastisch an. Hierdurch wird
deutlich gezeigt, daß das Problem der Thermodiffusion mit der
bekannten Vorrichtung nicht beherrschbar ist. Selen als leichtere
Komponente der Legierung konzentriert sich an der Schmelzen
oberfläche und wird vorwiegend verdampft, so daß bei
dünnen Schichtdicken der Gehalt an Tellur vergleichsweise gering
ist. Abhängig von der Temperatur ergibt sich dann bei einer
bestimmten Schichtdicke, was einer gewissen Menge verdampften
Materials entspricht, ein Übergang in einen anderen
thermodynamischen Zustand, in dem, möglicherweise durch Auftreten
unkontrollierbarer Turbulenzen, die Verhältnisse an der
Schmelzenoberfläche so geändert sind, daß weitaus mehr Tellur
als zuvor verdampft wird.
Auch die US-PS 39 84 585 lehrt, zwei Heizvorrichtungen in
einer Bedampfungsvorrichtung zu verwenden, um dem Problem
der Trennung der Legierungskomponenten zu begegnen. Ob die
in dieser Schrift geschilderten Maßnahmen den gewünschten
Erfolg zeigen, kann nicht nachgeprüft werden, jedoch ergibt
sich aus den im Zusammenhang mit Beispiel 1 und Beispiel 2
genannten Zahlenangaben, daß bei dieser Bedampfungsvorrichtung
im wesentlichen die gleichen Nachteile zu nennen sind,
wie bei der Bedampfungsvorrichtung gemäß der US-PS 39 27 638.
Es ist die Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung der ein
gangs genannten Gattung so zu verbessern, daß ein weitgehend
homogener Schichtauftrag auf einer zu bedampfenden Platte her
gestellt werden kann.
Diese Aufgabe wird von einer Vorrichtung gemäß Anspruch 1
gelöst; vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der
Unteransprüche. Ein Dampfbeschichtungsverfahren ist Gegenstand
von Anspruch 6.
Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit Dampfquelle sind ein
Wandteil mit niedrigem Emissionsvermögen, der mit dem zu ver
dampfenden Material in Berührung steht, und andere Wandteile
mit hohem Emissionsvermögen kombiniert. Dadurch wird die von
dem Wandteil mit niedrigem Emissionsvermögen nach außen abge
gebene Wärmemenge beträchtlich herabgesetzt. Vorzugsweise ist
das Emissionsvermögen nicht größer als 0,4 und insbesondere
nicht größer als 0,1. Schwankungen der Temperaturverteilung
in Längs- und Querrichtung der Dampfquelle werden reduziert,
wodurch die Verdampfung stabilisiert und daher ungleichmäßige
Verdampfung unterbunden wird, so daß Dicke und Eigenschaften
der Vakuumauflageschicht und auch die Ausbeute weitgehend ver
bessert werden. Da das Emissionsvermögen des anderen mit dem
verdampfenden Material nicht in Berührung stehenden Bereiches
- dieser Bereich nimmt den größten Teil der Vorrichtung ein -
so groß ist, insbesondere weniger als 0,7, daß die Wärmeab
gabe aus der Vorrichtung insgesamt erhöht werden kann, wobei
die bevorzugte Wärmeabgabe nicht weniger als 90% der Abgabe
der Heizquelle ist, wird das Temperaturansprechvermögen
erheblich verbessert, so daß eine sehr genaue Temperatursteuerung
erfolgen kann. Somit wird ein Überheizen nicht auftreten,
und es wird möglich, über einen kurzen Zeitraum aufzu
heizen und eine bestimmte Verdampfungstemperatur aufrechtzu
erhalten. Da die Kühlrate ebenfalls erhöht wird, wird die
Effektivität des Verdampfungsvorganges entscheidend verbessert.
Gemäß der vorliegenden Erfindung kann der Wandteil mit nied
rigem Emissionsvermögen aus spiegelgeschliffenem Al, Messing,
Cr, Cu, Au, Fe, Mo, Ni, Pt, Ta, W oder einem ähnlichen Werk
stoff bestehen, während der Wandteil mit hohem Emissions
vermögen aus thermisch oxidiertem rostfreien Stahl, alunid
behandeltem Al, Keramik oder dergleichen besteht.
Der Wandteil mit niedrigem Emissionsvermögen kann mit den
anderen Wandteilen in eine Einheit integriert werden. Er ist
bevorzugt mit einem Material mit niedrigem Emissionsvermögen
verkleidet, das an der Außenfläche befestigt ist oder durch
Flanschpritzen oder Dampfauftrag aufgebracht ist.
Mit dieser Vorrichtung ist es möglich, ein Dampfbeschichtungs
verfahren so durchzuführen, daß die Bedampfung unter Einhalten
wenigstens eines der Zustände A oder B für die geschmolzene
Legierung der Dampfquelle durchgeführt wird, wobei
Zustand A
durch Ra≦1700
durch Ra≦1700
und
Zustand B
durch Mn≦100
durch Mn≦100
definiert ist, und in beiden Gleichungen die Größen
g = Gravitationskonstante
b = Wärmeausdehnungskoeffizient
ℓ = Tiefe der Schmelze
ν = kinematische Viskosität
= thermisches Diffusionsvermögen
γ = Oberflächenspannung
T = Temperatur
μ = Viskosität
Δ Tℓ = Temperaturgradient pro Längeneinheit in Richtung der Tiefe der Schmelze
Δ Ts = Temperaturgradient zwischen zwei beliebigen Punkten der Lösungsoberfläche
b = Wärmeausdehnungskoeffizient
ℓ = Tiefe der Schmelze
ν = kinematische Viskosität
= thermisches Diffusionsvermögen
γ = Oberflächenspannung
T = Temperatur
μ = Viskosität
Δ Tℓ = Temperaturgradient pro Längeneinheit in Richtung der Tiefe der Schmelze
Δ Ts = Temperaturgradient zwischen zwei beliebigen Punkten der Lösungsoberfläche
bedeuten.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Zeichnung lediglich
beispielhaft erläutert. Es zeigt bzw. zeigen
Fig. 1 die Hauptkomponenten der erfindungsgemäßen Vakuum-
Bedampfungsvorrichtung,
Fig. 2, 3 und 4 Querschnittsansichten weiterer
erfindungsgemäßer Vorrichtungen,
Fig. 5 eine Seitenansicht der Dampfquelle der in Fig. 1
gezeigten Vorrichtung,
Fig. 6A einen teilweise vergrößerten Querschnitt einer
konventionellen Dampfquelle und eines Bootes, und
Fig. 6B einen vergrößerten Querschnitt, ähnlich wie Fig. 6A,
einer erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig. 7 das Konzentrationsprofil Te der erzielten Vakuum-
Auflageschicht, wobei die durchgezogene Linie die
Kurve für ein konventionelles Beispiel und die
gestrichelte Linie das für die vorliegende Erfindung
darstellt,
Fig. 8 eine Zeitkurve, die die Temperaturschwankungen der
Dampfquelle bei einem konventionellen Beispiel wieder
gibt, und
Fig. 9 eine Zeitkurve, die die Temperaturschwankungen bei
der Vorrichtung der vorliegenden Erfindung wiedergibt.
Fig. 1 zeigt schematisch die Hauptkomponenten einer Vakuum-
Bedampfungsvorrichtung, die eine nicht dargestellte Glocke
aufweist, welche innen einen Behälter 1 mit einer Dampfquelle
und ein zu beschichtendes Substrat 2, beispielsweise eine
drehbare Aluminiumtrommel, dem gegenüberliegend enthält. Der
Behälter 1 umfaßt ein Verdampferboot 4 mit einer Dampfquelle
3, wie zum Beispiel einer Selen-Tellur-Legierung. Das Boot 4
besteht aus oberen Wandteilen 7, die innen zwei Paar Heiz
lampen 5 und 6 aufweisen, wobei ein Paar jeweils nach oben und
unten angeordnet ist, und unteren Wandteilen 8, die innen eine
Dampfquelle 3 enthalten, wobei der obere Wandteil eine Öffnung
9 aufweist, die kleiner ist als der Verdampfungsbereich der
Dampfquelle 3 und durch die Dampf gesteuert nach außen gelangt
(d. h. zum Substrat). Ein solcher Behälter ist vom Typ einer
"Knudsen-Zelle".
In diesem erfindungsgemäßen Behälter hat der die Dampfquelle 3
berührende Teil 8 a des Wandteils 8 ein Emissionsvermögen (ε)
von nicht mehr als 0,4 und besteht insbesondere aus einer sehr
fein geschliffenen Fläche aus Aluminium mit einem Emissions
vermögen von nicht mehr als 0,1 (ε=0,01), die anderen
Wandteile 8 b und 7 bestehen aus einem nicht-rostenden Stahl
(ε≈0,9) mit hohem Emissionsvermögen (insbesondere ε≧0,7).
Der Teil 8 a mit niedrigem Emissionsvermögen wird mit dem
anderen Teil 8 b der Wand 8 beispielsweise verschweißt, und die
Wand 8 wird mit dem anderen Wandteil 7 integral ausgebildet.
Wegen des Materials 8 a mit niedrigem Emissionsvermögen in dem
mit der Dampfquelle in Berührung stehenden Wandteil wird in
dieser Anordnung die durch die Dampfquelle erzeugte Wärme nur
schwer nach außen abgeleitet, und gleichzeitig kann die Wärme
abgabe aus dem gesamten Boot aufgrund der Materialien 8 b und
7 mit hohem Emissionsvermögen erhöht werden.
In dem in Fig. 2 gezeigten Beispiel kann der Bootskörper 4
selbst zum Beispiel aus einem normal wärmebehandelten rost
freien Stahl bestehen, jedoch weist der mit der Dampfquelle
3 in Berührung stehende Teil an seiner Außenseite einen
Überzug 10 auf, der, wie oben beschrieben, ein niedriges
Emissionsvermögen hat. Das Anbringen eines solchen Überzugs 10
kann ebenfalls die Wärmeabgabe durch Strahlung von der Außen
fläche des Bootes reduzieren, insbesondere vom Wandteil der
Dampfquelle 3, insgesamt steigt die Wärmeabgabe des Bootes
jedoch an. In Fig. 3 ist ein Überzug 10 ähnlich wie in Fig. 2
vorgesehen, die Figur zeigt jedoch ein Boot, in dem der die
Dampfquelle 3 enthaltende Wandteil eine andere Form aufweist.
In Fig. 4 sind Wandteil 7 und 8 ähnlich den in Fig. 2 gezeigten
vorgesehen, auf deren Außenfläche ein Überzug 20 mit niedrigem
Emissionsvermögen durch Flammspritzen oder Dampfauf
trag aufgebracht ist.
In den Beispielen der Fig. 2 bis 4 werden Schwankungen in der
Temperaturverteilung durch die Wärmeabgabe aus dem Boot mittels
des Überzugs 10 oder des Überzugs 20 vermieden. Weiter
hin kann die Innenfläche des Bootes diese Materialien mit
niedrigem Emissionsvermögen aufweisen.
Durch die vorstehend dargestellte Kombination aus Materialien
mit niedrigem Emissonsvermögen und Materialien mit hohem
Emissionsvermögen kann folgende bemerkenswerte Wirkung erzielt
werden.
Zunächst wird durch den Auftrag der oben erwähnten Materialien
8 a, 10 und 20 mit niedrigem Emissionsvermögen auf die in Fig. 5
gezeigten Seiten des Bootes (die Figur zeigt jedoch die
Seitenansicht des in Fig. 1 dargestellten Bootes) die Differenz
(Δ T) zwischen der maximalen und der minimalen Temperatur
an jedem der Punkte A, B und C in Längsrichtung des Bootes
1 auf einige Grad Celsius reduziert. Wenn also ein Thermo
element als Temperatursteuerung an einem Temperaturmeßpunkt
(beispielsweise am mittleren Punkt B) bei einem Boot 4 von
3 m Länge vorgesehen wird, ist es möglich, jede gewünschte
Temperatursteuerung vorzunehmen. Wenn nun eine lichtempfind
liche Schicht als Vakuum-Auftragsschicht hergestellt werden
soll, kann jedes mögliche Auftreten einer Ungleichmäßigkeit
der Empfindlichkeit vermieden werden, wodurch die entsprechenden
Eigenschaften verbessert werden. Dagegen beträgt in
konventionellen Booten das Δ T etwa 25°C bis 35°C und verursacht
so das Problem der oben beschriebenen Ungleichmäßigkeit
bei der Verdampfung.
Die Temperaturverteilung in vertikaler Richtung der Dampf
quelle, wie in Fig. 6 dargestellt, wobei die Temperatur der
Flüssigkeitsoberfläche des verdampfenden Materials, der
schmelzlegierten Flüssigkeit 3, als TA, die Bodentemperatur
als TB und die Temperatur der Außenfläche des Wandteils 8
als TC angenommen wird, zeigt für das konventionelle Beispiel
in Fig. 6A (das Emissionsvermögen beträgt mindestens 0,5),
große Schwankungen mit TA (etwa 330°C) » TB (etwa 300°C)
< TC (etwa 295°C). Falls jedoch ein Material 8 a wie das
erfindungsgemäße Wandmaterial mit niedrigem Emissionsvermögen
(Fig. 6B) verwendet wird, so wird die Schwankung gering mit
TA (302°C) ≈ TB (300°C) ≈ TC (299°C) und ergibt so eine ein
heitliche Temperaturverteilung auch in vertikaler Richtung.
Es wurde gefunden, daß eine stabile Verdampfung stattfinden
kann, wenn der Temperaturgradient einer legierten Schmelz
lösung nicht größer als 10°C/cm in Richtung der Tiefe der
Lösung ist. Insbesondere bei dem konventionellen Beispiel
ist die Differenz TA-TB groß, so daß sich die Verdampfungs
temperatur bis zu 30°C ändert, d. h. von 330°C auf 300°C,
und eine ungleichmäßige Verdampfung auftritt, während bei
der vorliegenden Erfindung TA-TB nur etwa 2°C beträgt, was
eine stabile Verdampfung ermöglicht.
Fig. 7 zeigt ein Te-Konzentrationsprofil der Vakuum-Auftrags
schicht aus Se-Te, die in der oben beschriebenen Weise
erhalten wurde. Für das Verdampfen wurde eine Se-Te-Legierung ver
wendet, deren Te-Gehalt 13 Gew.-% betrug. Diese Dampfquelle
wurde auf 300°C unter Vakuum innerhalb der Glocke von nicht
mehr als 1,33 · 10-4 mbar aufgeheizt. Aufgrund der Temperatur
schwankungen in Längsrichtung der Dampfquelle, die in Fig. 5
dargestellt sind, wurde in der konventionellen Vorrichtung
die Te-Konzentrationsverteilung in Richtung der Dicke der
Vakuum-Auftragsschicht, wie in Fig. 7 in durchgehenden Linien
dargestellt, in den Bereichen der maximalen Temperatur (TH),
der mittleren Temperatur (TM) und der minimalen Temperatur
(TL) erhalten, wobei die Te-Konzentration in der Auftrags
schicht deutlich außergewöhnlich uneinheitlich ist. Wenn
jedoch Wandteile des erfindungsgemäßen Bootes aus den Materialien
8 a, 10 und 20, die zum Beispiel ein Emissionsvermögen
von 0,06 haben, geformt oder damit verkleidet werden (siehe
Fig. 1 bis 4), werden die Temperaturschwankungen sehr klein,
wie dies in gestrichelten Linien in Fig. 7 gezeigt ist, so
daß die Te-Konzentration der Auftragsschicht insgesamt sehr
einheitlich wird und die Steuerung unter ±1% abfällt.
Außerdem war der Temperaturgradient der Oberfläche der
schmelzlegierten Lösung zwischen zwei beliebigen Punkten
nicht größer als 20°C.
Andererseits zeigt Fig. 8 die Temperaturschwankungen bei Ver
wendung eines konventionellen Bootes mit niedrigem Emissions
vermögen. Da, wie bereits früher festgestellt, die Temperatur
nach Beginn des Aufheizens rasch ansteigt, tritt das Überheiz
phänomen A auf, und wenn danach der Heizvorgang abgestellt
wird, sinkt die Temperatur übermäßig ab, worauf das Instabi
litätsphänomen B auftritt. Dementsprechend gibt es Fälle, in
denen die Zeit (ti), die notwendig ist, um die vorgegebene
Temperatur (T) in den stabilen Zustand zu bringen (z. B. eine
Verdampfungstemperatur von 300°C), bis zu 60 Minuten betragen
kann. Die durchgehende Linie in Fig. 8 zeigt dies. Wenn andere
Einrichtungen für das Anheben der Temperatur verwendet werden,
um das Instabilitätsphänomen zu vermeiden, wird manchmal ein
Zeitraum von bis zu 2 Stunden benötigt, bevor die stabile vor
gegebene Temperatur (T) erreicht wird. Die gestrichelte Linie
in Fig. 8 zeigt diese Situation.
Da außerdem das Boot nicht rasch gekühlt werden kann, ist ein
wesentlicher Zeitraum zwischen dem Beginn des Kühlens (te)
und dem Punkt notwendig, an dem die Temperatur wieder den
ursprünglichen Wert erreicht. Wenn jedoch die erfindungsgemäße
Vorrichtung eingesetzt wird, so steigt die gesamte Wärmeabgabe
aufgrund des hohen Emissionsvermögens der Materialien 8 b und 7
an, so daß, wie in Fig. 9 gezeigt, die zum Erreichen der vor
gegebenen Temperatur (T) notwendige Zeit (ti) wesentlich
reduziert wird, z. B. um 15 Minuten, so daß eine Verdampfungszeit
von etwa 40 bis 70 Minuten ausreichend sein kann; außerdem
wird die nachfolgende Kühlzeit (te) ebenfalls wesentlich ver
ringert. Dementsprechend läßt sich bei der erfindungsgemäßen
Vorrichtung die Temperatur leicht durch den Einsatz eines
Thermoelementes usw. steuern. Weiterhin kann durch die erfin
dungsgemäße Vorrichtung auch auf einfache Weise der Zustand
von Ra≦1700 und Mn≦100 erreicht werden.
Es kann die Konfigurationenstruktur des Verdampfungsbootes so
verändert werden, daß das oben erwähnte verdampfende Material
in einem getrennten Behälter untergebracht wird, und dieser
Behälter kann in dem Raum der Dampfquelle angeordnet werden.
Auch in diesem Fall kann die Außenwand der Dampfquelle aus dem
erfindungsgemäßen Material mit hohem Emissionsvermögen gebildet
werden. Als verdampfendes Material können nicht nur Se-TE,
sonder auch Se-S, Fe-Ni, AgBr-I oder dergleichen verwendet
werden.
Claims (6)
1. Vorrichtung zum Verdampfen eines verdampfbaren Materials
durch Erwärmen, mit einem Behälter für das zu verdampfende
Material, welcher eine Öffnung zum Ableiten des Dampfes des
Materials aufweist, die kleiner ist, als der Verdampfungs
bereich des Materials, und mit einer Wärmequelle,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Emissionsvermögen wenigstens der Außenfläche des
mit dem Material (3) in Berührung stehenden Wandteils (8 a)
des Behälters kleiner ist als wenigstens dasjenige der
Außenfläche des anderen Wandteils (7, 8 b) des Behälters,
der mit dem Material (3) nicht in Berührung steht.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß der mit dem Material (3) in Berührung stehende Wandteil
(8 a) mit niedrigem Emissionsvermögen in einer Einheit mit
dem anderen Wandteil (8 b) integriert ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Außenfläche des Wandteils (8 a) mit niedrigem
Emissionsvermögen mit einem Material mit niedrigem Emissions
vermögen verkleidet ist, daß dieses Material auf den
Wandteil (8 a) aufgetragen oder an seiner Außenfläche
befestigt ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Emissionsvermögen des mit dem verdampfbaren
Material (3) in Berührung stehenden Wandteils (8 a) nicht mehr
als 0,4 beträgt und das Emissionsvermögen der anderen Wand
teile (7,8 b) weniger als 0,7 beträgt.
5. Vorrichtung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Wandteil (8 a) mit niedrigem Emissionsvermögen aus
einem Material aus der Gruppe spiegelgeschliffenes Al,
Messing, Cr, Cu, Au, Fe, Mo, Ni, Pt, Ta und W besteht.
6. Dampfbeschichtungsverfahren, bei dem die Dampfquelle nach
den Ansprüchen 1 bis 5 eine Legierung enthält,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Bedampfung unter Einhalten wenigstens eines der
Zustände A oder B für die geschmolzene Legierung der Dampf
quelle durchgeführt wird, wobei
Zustand A
durch Ra≦1700 und
Zustand B
durch Mn≦100 definiert ist, und in beiden Gleichungen die Größeng = Gravitationskonstante
β = Wärmeausdehnungskoeffizient
ℓ = Tiefe der Schmelze
ν = kinematische Viskosität
= thermisches Diffusionsvermögen
γ = Oberflächenspannung
T = Temperatur
μ = Viskosität
Δ Tℓ = Temperaturgradient pro Längeneinheit in Richtung der Tiefe der Schmelze
Δ Ts = Temperaturgradient zwischen zwei beliebigen Punkten der Lösungsoberflächebedeuten.
Zustand A
durch Ra≦1700 und
Zustand B
durch Mn≦100 definiert ist, und in beiden Gleichungen die Größeng = Gravitationskonstante
β = Wärmeausdehnungskoeffizient
ℓ = Tiefe der Schmelze
ν = kinematische Viskosität
= thermisches Diffusionsvermögen
γ = Oberflächenspannung
T = Temperatur
μ = Viskosität
Δ Tℓ = Temperaturgradient pro Längeneinheit in Richtung der Tiefe der Schmelze
Δ Ts = Temperaturgradient zwischen zwei beliebigen Punkten der Lösungsoberflächebedeuten.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57154236A JPS5943873A (ja) | 1982-09-04 | 1982-09-04 | 蒸発材料収容器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3331653A1 DE3331653A1 (de) | 1984-03-08 |
DE3331653C2 true DE3331653C2 (de) | 1990-10-31 |
Family
ID=15579815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833331653 Granted DE3331653A1 (de) | 1982-09-04 | 1983-09-02 | Behaelter mit dampfquelle |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4576797A (de) |
JP (1) | JPS5943873A (de) |
DE (1) | DE3331653A1 (de) |
GB (1) | GB2127315B (de) |
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JP2005029895A (ja) * | 2003-07-04 | 2005-02-03 | Agfa Gevaert Nv | 蒸着装置 |
WO2007122203A2 (en) * | 2006-04-20 | 2007-11-01 | Shell Erneuerbare Energien Gmbh | Thermal evaporation apparatus, use and method of depositing a material |
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- 1982-09-04 JP JP57154236A patent/JPS5943873A/ja active Granted
-
1983
- 1983-08-30 US US06/527,667 patent/US4576797A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-09-02 DE DE19833331653 patent/DE3331653A1/de active Granted
- 1983-09-05 GB GB08323731A patent/GB2127315B/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5943873A (ja) | 1984-03-12 |
GB2127315A (en) | 1984-04-11 |
JPH0254426B2 (de) | 1990-11-21 |
GB2127315B (en) | 1986-02-26 |
DE3331653A1 (de) | 1984-03-08 |
GB8323731D0 (en) | 1983-10-05 |
US4576797A (en) | 1986-03-18 |
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|
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8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |