DE2436431B2 - Verdampfer und Verfahren zum Herstellen von Aufdampfschichten, insbesondere aus Selen - Google Patents
Verdampfer und Verfahren zum Herstellen von Aufdampfschichten, insbesondere aus SelenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft einen Verdampfer zum Herstellen von Aufdampfschichten, insbesondere von
Aufdampfschichten aus Selen.
Zum Herstellen von Schichten zahlreicher Stoffe, beispielsweite von Schichten aus Selen, Selenlegierungen
oder Selenverbindungen, haben sich Aufdampfverfahren
all zweckmäßig und vorteilhaft erwiesen. Sie werden unter anderm etwa bei der Fertigung von
Selengleichrichtern oder von elektrophotographischem Aufzeichnungsmaterial auf der Grundlage von Selen in
großem Umfang angewendet
die Form einer Wanne, eines Kastens oder eines Schiffchens aufweisen und die aus einem Material
bestehen, das gegenüber dem geschmolzenen Verdampfungsgui widerstandsfähig ist Die Gefäße werden
entweder durch zusätzliche Heizeinrichtungen auf die zur Verdampfung notwendige Temperatur gebracht
oder stellen, wenn sie aus Metall bestehen, gegebenenfalls
selbst die Widerstände einer elektrischen Widerstandsheizung dar.
to Je nach dem vorgesehenen Verwendungszweck und der Art des Verdampfungsgutes findet entweder die
sogenannte Vollverdampfung oder die Teilverdampfung Anwendung, die beide sowohl Vor- als auch
Nachteile aufweisea Bei der Teilverdampfung wird aus
is einer größeren Stoffmenge im Verdampfungsgefäß
jeweils nur immer ein bestimmter Anteil verdampft und durch Wahl der Bedampfungsdauer und der Bedampfungstemperatur
die Schichtdicke der aufgedampften Schicht bestimmt Von Zeit zu Zeit wird der verdampfte
Anteil durch Zugabe von — gegebenenfalls vorgeschmolzenem — Verdampfungsgut ersetzt Bei genügend
starkwandigen Verdampfungsgefäßen, die während der Aufheizphase wegen der sich laufend
ändernden Temperaturen verschlossen bleiben, läßt sich eine ausreichende Gleichmäßigkeit der Temperaturverteilung
und ausreichende Konstanz der Temperatur während der Verdampfung und damit auch eine
gleichmäßige Verdampfung Ober die gesamte Oberfläche des Verdampfungsgefäßes und während der
gesamten Verdampfungszeit erreichen.
Nachteilig bei der Teilverdampfung wirkt sich die Tatsache aus, daß die vorgesehenen Schichtdicken
praktisch nur über die Verdampfungszeit gesteuert werden können, ungleiche Einfüllhöhe im Verdampfungsgefäß
unter Umständen zu Schwankungen der Schichtdicke führen und während des Füllens und
Aufheizens des Verdampfungsgefäßes sich leichter flüchtige Anteile, z. B. Halogene als Dotierungsstoffe,
verflüchtigen können, ohne die Substratfläche zu erreichen. Die Zusammensetzung der aufgedampften
Schicht kann dadurch, daß dabei etwa erforderliche Dotierstoffe, wie Chlor im Selen, verlorengehen, in
unerwünschter Weise verändert werden. Schließlich muß bei einer Teilverdampfung auch immer damit
gerechnet werden, daß sich im Laufe der Verdampfung mehr und mehr schwerer flüchtige Stoffe, wie
langkettige Selenmoleküle oder Verunreinigungen in der Schmelze in solcher Menge ansammeln, daß die
vorgesehene und erforderliche Zusammensetzung der aufgedampften Schicht nicht mehr gewährleistet ist
Um solche Nachteile zu vermeiden, wird vielfach an Stelle der Teilverdampfung die Vollverdampfung
durchgeführt, bei der der zu verdampfende Stoff vollständig aus dem Verdampfungsgefäß verdampft
wird und sich die Schichtdicke der aufgedampften Schicht nicht nur über die Verdampfungszeit, sondern
auch und besser über die genau einzustellende und erfassende Einfüllmenge steuern läßt Da hierbei die
gesamte Stoffmenge aufgedampft wird und keine
Verluste gewisser Anteile auftreten, läßt sich die Einhaltung einer bestimmten Zusammensetzung der
Aufdampfschicht leichter und sicherer erreichen.
Als nachteilig bei einer Vollverdampfung, bei der der zu verdampfende Stoff etwa in Form von Granalien,
Stäben oder Linsen in das Verdampfungsgefäß eingefüllt wird, muß der ungleiche Wärmeübergang zwischen
dem Boden und den Wänden des Gefäßes und dem Verdampfungsgut und innerhalb des Verdampfungsgu-
tes angesehen werden. Hierdurch wird ein langwieriges und kompliziertes Aufheizverfahren erforderlich, um
örtlich Überhitzungen, Dampfausbrüche, Fortschleudern von festen Teilchen oder Spritzern zu vermeiden.
Es zeigt sich nämlich immer wieder, daß etwa bei einer Selenverdampfung bei Temperaturen bis zu 1500C
einzelne Granalien und bei Temperaturen darüber Selenspritzer gegen die zu bedampfende Schicht
geschleudert werden und dadurch ihre Oberfläche für die spätere Verwendung unbrauchbar machen. Es ist
vorgeschlagen worden, diesen unerwünschten Erscheinungen, die besonders während der Aufheizphase
auftreten, dadurch entgegenzutreten, daß zumal während dieser Phase die Oberfläche des Verdampfungsgutes
mit einem Deckel abgedeckt wird. Das hat jedoch zur Folge, daß erhebliche Anteile des Verdampfungsgutes
am Deckel kondensieren und teilweise haften bleiben, wodurch ein Verlust an Verdampfungsgut
entsteht Oder die kondensierten Anteile blättern — zumindest teilweise — wieder ab und fallen unkontrolliert
als Staub auf das Kondensat oder in die Schmelze zurück, wodurch deren Zusammensetzung in unerwünschter
Weise geändert wird. Außerdem besteht dabei die Gefahr, daß die Kondensation auch und
gerade zwischen dem Verdampfungsgefäß und dem Deckel stattfindet und dadurch das öffnen des Deckels
erschwert oder verhindert wird.
Es ist weiterhin bekannt, die Dampfströme, die aus dem Verdampfungsgut entwickelt werden, durch Einbau
von Schikanen ein- oder mehrmals in ihrer Strömungsrichtung abzulenken. Solche Einrichtungen an dem
Verdampfungsgefäß verhindern zwar das ungewollte Auftreffen von festen Teilchen oder Spritzern auf der zu
beschichtenden Oberfläche, wirken sich dafür aber nachteilig hinsichtlich der Strahlungswärme aus und
erschweren überdies die Handhabung des Verdampfungsgefäßes beim Füllen und Reinigen.
Wird an Stelle eines geschlossenen Deckels ein perforierter Deckel oder ein Sieb verwendet, so läßt
sich bei zu großer Öffnung der Löcher oder zu großer Maschenweite ein Durchtritt der Teilchen nicht
wirksam verhindern. Wählt man dagegen hinreichend kleine Öffnungen der Löcher oder Maschenweiten, die
nur noch dampfförmige Anteile durchlassen, so setzen sich die Öffnungen der Abdeckung innerhalb kurzer
Zeit zu, wodurch diese dann ebenfalls unbrauchbar wird.
Aufgabe der im Anspruch 1 angegebenen Erfindung ist es daher einen Verdampfer zum Herstellen von
Aufdampfschichten, insbesondere von Aufdampfschichten aus Selen, anzugeben, mit dem auch die oben
beschriebenen Vorteile der Vollverdampfung genutzt werden können, ohne aber deren Nachteile in Kauf
nehmen zu müssen. Der Verdampfer soll in erster Linie ein Auftreffen von Spritzern oder abgeschleuderten
festen Teilchen des Verdampfungsgutes auf die Aufdampfschicht wirksam verhindern, gleichzeitig aber
auch eine Verkürzung der Aufheizzeiten ermöglichen, ohne hierfür ein kompliziertes Temperaturprogramm
erforderlich zu machen. Der Verdampfer soll überdies leicht zu reinigen und zu füllen sein und hinsichtlich
seiner Herstellungskosten und seines Umfanges nur wenig aufweni lig sein.
Mit der Erfindung wird erreicht, daß Spritzer oder feste Teilchen nicht auf die Oberfläche der Bedampfungsschicht
gelangen können, da sie von der siebartigen Abdeckung zurückgehalten werden. Ein Verschließen
der Öffnungen der Abdeckschicht als Folge der auftreffenden Teilchen ist aber nicht zu befürchten, da
die Abdeckung selbst beheizbar ist und auf so hohe Temperaturen gebracht wird, daß gegebenenfalls auf
die Abdeckung auftreffende feste oder flüssige Teilchen dort nicht haften bleiben, sondern wiederum bald selbst
verdampfen und dadurch die Öffnungen freigeben. Ebenfalls werden kleinste feste oder flüssige Teilchen,
deren Durchmesser kleiner als der Durchmesser der Öffnungen ist, beim Durchströmen durch diese Öffnungen
in den dampfförmigen Zustand übergeführt, so daß die Beschichtung des Substrates ausschließlich durch
eine Kondensation aus der Dampfphase erfolgt und einwandfreie und gleichmäßige Aufdampfschichten
erhalten werden.
Von besonderem Vorteil ist dabei daß keine Rücksicht auf die Aufheizphase genommen zu werden
braucht und die oben beschriebene schwierige und langwierige Temperaturführung entfällt bei der man
bisher zunächst langsam aufheizen mußte, ohne daß das Verdampfungsgut flüssig wurde und nach dem Flüssigwerden
auf eine Verhinderung eines Siedeverzuges zu achten hatte, der z. B. leicht durch örtliches Anlegieren
des Verdampfungsgutes am Gefäßmaterial auftreten konnte. Vielmehr ist nun die Möglichkeit gegeben, rasch
auf die vorgesehene Endtemperatur hochzuheizen und dann — gleichfalls vorteilhaft — eine hohe Verdampfungsrate
bis zum Ende der Verdampfung beizubehalten.
Ebenfalls ist unmittelbar vor dem Ende der Verdampfung, d.h. zu einem Zeitpunkt, wo die
Schmelze nicht mehr vollständig den Verdampferboden bedeckt, sondern sich zu Tropfen zusammenzieht und
wo örtliche Bodenteile höher erhitzt werden und dann im allgemeinen leicht Spritzer auftreten, deren nachteilige
Wirkung auf die Aufdampfschicht nicht mehr zu befürchten. Schließlich können bei Benutzung eines
Verdampfers gemäß der Erfindung unbeschadet während des Verdampfens auch höhere Temperaturen
angewendet werden, weil unerwünschte Auswirkungen etwa des Leidenfrostschen Phänomens, das dann
gegebenenfalls austreten könnte, wirksam verhindert werden.
An Hand eines Ausführungsbeispiels und der teilweise schematischen Zeichnungen sei der Verdampfer
gemäß der Erfindung noch einmal näher beschrieben, wobei mechanische Verbindungen zwischen Verdampfungsgefäß
und Abdeckung nicht angezeichnet sind.
Handelt es sich etwa darum, Selen oder ein selenhaltiges Verdampfungsgut aufzudampfen, dient
zweckmäßigerweise — wie F i g. 1 zeigt — als Verdampfungsgefäß ein kastenförmiges Schiffchen 1,
das am oberen Rand der Enden Haltebleche 2, 3 aufweist Die Höhe des Verdampfungsgefäßes 1 beträgt
etwa 1,6 cm, seine Länge und Breite werden dem jeweiligen Verwendungszweck angepaßt Während des
Verdampfungsvorganges befindet sich in geringem Abstand über dem Verdampfungsgefäß 1, aber mechanisch
und elektrisch von ihm getrennt, eine Abdeckung 4, beispielsweise ein mit Löchern 5 versehenes Blech,
dessen seitliche Kanten 6 abgebogen sind. Die Stellung des Gefäßes 1 und der Abdeckung 4 zueinander
während des Verdampfungsvorganges sind noch einmal in Fig.2 und Fig.3 im Längs- und Querschnitt
dargestellt, wobei sich gleiche Bezugszeichen auf gleiche Bauteile beziehen.
Die Abdeckung 4 wird zweckmäßigerweise abklappbar angebracht um ebenso ein einfaches und ungehindertes
Einfüllen des Verdampfungsgutes wie auch ein rasches Abdecken nach dem Einfüllen zu ermöglichen.
Eine gegebenenfalls angebrachte Verriegelung verhindert ein ungewolltes öffnen der Abdeckung während
des Betriebes.
Als Material dienen für das Gefäß 1 und die Abdeckung 4 beispielsweise Tantal, Molybdän oder
titanhaltiger Edelstahl, die dann zugleich auch die Widerstände einer elektrischen Widerstandsheizung
bilden. Die Zahl und der Durchmesser der öffnungen 5 werden der vorgesehenen Dampfrate angepaßt, wobei
der Durchmesser nur so groß sein darf, daß noch mit Sicherheit ein Durchströmen von festen oder flüssigen
Teilchen verhindert wird. Im vorliegenden Beispiel beträgt der Durchmesser der öffnungen etwa 0,1 bis
3 mm vorzugsweise etwa 1 mm, ihr Abstand voneinander etwa 0^5 bis 5 mm.
Während des Betriebes soll die Temperatur de
Abdeckung 4 um etwa 5 bis 300C höher liegen als dii
Temperatur des Gefäßes 1. Hat dieses z. B. bei eine Selenverdampfung die Temperatur von etwa 360° C, s<
wird für die Abdeckung 4 zweckmäßigerweise eint Temperatur von etwa 38O0C gewählt.
Die jeweiligen Temperaturen lassen sich bei getrenn ter und voneinander unabhängiger elektrischer Behei
zung unschwer einstellen. Gegegebenenfalls ist es abei auch möglich und stellt dann eine gewisse Vereinfa
chung des Schaltungsaufwandes dar, Gefäß unc Abdeckung mit Hilfe einer Parallelschaltung aufzuhei
zen. In diesem Fall ist es zweckmäßig, daß da! Querschnittsverhältnis von Gefäß 1 und Abdeckung
< etwa 1,5 beträgt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (11)
1. Verdampfer zum Herstellen von Aufdampfschichten, insbesondere von Aufdampfschichten aus
Selen, gekennzeichnet durch ein Verdampfungsgefäß (1) mit einer in einem Teilbereich
mechanisch und elektrisch vom Verdampfungsgefäß (1) getrennten, siebförmigen und elektrisch beheizbaren
Abdeckung (4), deren flichenmäßige Größe wenigstens zum vollständigen Abdecken des Verdampfungsgefäßes
(1) ausreicht, und deren Lochoder Maschenweite nur dampfförmige Anteile des
Verdampfungsgutes durchlaßt
2. Verdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Abdeckung (4) abklappbar
angebracht ist
3. Verdampfer nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gefäß (1) und die
Abdeckung (4) aus Tantal, Molybdän oder titanhaltigem
Edelstahl bestehen.
4. Verdampfer nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Gefäß (1) und die
Abdeckung (4) Widerstände einer elektrischen Widerstandsheizung bilden.
5. Verdamfer nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Gefäß (1) und die
Abdeckung (4) in einer Parallelschaltung geschaltet sind.
6. Verdampfer nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Querschnittsverhältnis des
Gefäßes (1) und der Abdeckung (4) 1,5 beträgt
7. Verdampfer nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Offnungen (5) der Abdekkung
(4) einen Durchmesser von 0,1 bis 3 mm aufweisen.
8. Verdampfer nach Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die öffnungen (5) der Abdekkung
(4) einen Durchmesser von 1 mm aufweisen.
9. Verdampfer nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die öffnungen (5) der Abdekkung
(4) einen Abstand von 0,5 bis 5 mm aufweisen.
10. Verdampfer nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß an der Abdeckung (4) eine
Verriegelung angebracht ist, die ein ungewolltes öffnen der Abdeckung während des Betriebes
verhindert
11. Verfahren zum Herstellen von Aufdampfschichten, insbesondere von Aufdampfschichten aus
Selen, dadurch gekennzeichnet, daß ein Verdampfer gemäß Anspruch 1 bis 10 verwendet wird und die
Temperatur der Abdeckung (4) 5 bis 30° C höher als die Temperatur des Gefäßes (1) gewählt wird.
Priority Applications (1)
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DE19742436431 DE2436431B2 (de) | 1974-07-29 | 1974-07-29 | Verdampfer und Verfahren zum Herstellen von Aufdampfschichten, insbesondere aus Selen |
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DE (1) | DE2436431B2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0028514A1 (de) * | 1979-11-01 | 1981-05-13 | Xerox Corporation | Verfahren zur Dampfabscheidung von photoleitendem Material |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9323034D0 (en) * | 1993-11-09 | 1994-01-05 | Gen Vacuum Equip Ltd | Vacuum web coating |
EP1041169B1 (de) * | 1999-03-29 | 2007-09-26 | ANTEC Solar Energy AG | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung von Substraten durch Aufdampfen mittels eines PVD-Verfahrens |
DE10085115T1 (de) * | 1999-10-22 | 2002-11-07 | Kurt J Lesker Company Clairton | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats im Vakuum |
US8163089B2 (en) | 2009-12-16 | 2012-04-24 | Primestar Solar, Inc. | Vapor deposition apparatus and process for continuous deposition of a thin film layer on a substrate |
-
1974
- 1974-07-29 DE DE19742436431 patent/DE2436431B2/de not_active Ceased
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0028514A1 (de) * | 1979-11-01 | 1981-05-13 | Xerox Corporation | Verfahren zur Dampfabscheidung von photoleitendem Material |
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DE2436431A1 (de) | 1976-02-12 |
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BHV | Refusal |