CN115522177B - 用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法 - Google Patents

用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，该智能排粉控制方法，通过适当安排的运行程序或启停程序，能够以周期性的方式运转真空泵组件，使得当泵体温度逐渐下降时，转子与壳体之间间隙也逐渐减小，从而趁粉尘形成后而尚未完全硬化之前，有效刮除转子与壳体内壁的粉尘，配合现有的惰性气体吹扫，将有助于显著改善粉尘排除效果。

Description

用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法
技术领域
本发明涉及用于太阳能电池片的镀膜加工领域，尤其涉及用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法。
背景技术
用于太阳能电池片的镀膜工艺在执行中通常将产生大量的粉尘，尤其是镀膜工艺所采用的真空泵组件中的壳体和设置于壳体中的真空泵转子之间的间隙中的粉尘，可能造成诸多问题。
例如，壳体和真空泵转子之间的间隙中的粉尘的累积聚集，最终有可能造成真空泵卡滞、宕机等问题，甚至可能在长期使用中造成真空泵的使用寿命短、故障率高等严重问题。
目前，相关设备的客户端可使用停机吹扫程序，然而由于尚不具备完善的刮除粉尘能力，以通常的停机吹扫程序利用吹扫接口通入惰性气体的方式，尽管可协助吹扫粉尘以排除粉尘(也称为排粉)，但上述解决方案对于真空泵转子与壳体之间的间隙中粉尘扫除效果仍然不佳，难以解决粉尘在其中慢慢累积及由此引发的其他问题。
因此，亟需设计一种用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，以至少部分地缓解或解决现有技术存在的上述问题。
发明内容
本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术无法有效扫除用于太阳能电池片的镀膜工艺的真空泵设备中的壳体和真空泵转子之间的间隙容易累积粉尘，难以有效排粉的缺陷，提出一种新的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法。
本发明是通过采用下述技术方案来解决上述技术问题的：
本发明提供了一种用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其中所述镀膜工艺的执行涉及真空泵组件，所述真空泵组件包括壳体和设置于所述壳体中的真空泵转子，所述壳体和所述真空泵转子之间具有间隙，执行所述镀膜工艺会产生处于所述真空泵组件中的粉尘，其特点在于，所述智能排粉控制方法包括以下步骤：
第一运行步骤：控制所述真空泵组件运行，以使得所述壳体达到第一温度、所述间隙达到第一间隙尺寸；
第二停运步骤：控制所述真空泵组件停止运行，以使得所述壳体逐渐下降至第二温度、所述间隙逐渐缩小至第二间隙尺寸；
第三运行步骤：控制所述真空泵组件运行，以使得所述壳体逐渐上升至第三温度、所述间隙逐渐增大至第三间隙尺寸；
第四停运步骤：控制所述真空泵组件停止运行，以使得所述壳体逐渐下降至第四温度、所述间隙逐渐缩小至第四间隙尺寸；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第二温度、所述第四温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸被设置为依次缩小。
根据本发明的一些实施方式，所述智能排粉控制方法还包括在所述第四停运步骤后执行的以下步骤：
第五运行步骤：控制所述真空泵组件运行，以使得所述壳体逐渐上升至第五温度、所述间隙逐渐增大至第五间隙尺寸；
第六停运步骤：控制所述真空泵组件停止运行，以使得所述壳体逐渐下降至第六温度、所述间隙逐渐缩小至第六间隙尺寸；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第五温度、所述第二温度、所述第四温度、所述第六温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第五间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸、所述第六间隙尺寸被设置为依次缩小。
根据本发明的一些实施方式，所述第一运行步骤和所述第二停运步骤持续预设的第一时长，所述第三运行步骤和所述第四停运步骤持续预设的第二时长，所述第五运行步骤和所述第六停运步骤持续预设的第三时长，其中所述第三时长大于所述第二时长，且所述第二时长大于所述第一时长。
根据本发明的一些实施方式，所述智能排粉控制方法的执行过程期间，保持用于冷却所述壳体的冷却流体的循环通过。
根据本发明的一些实施方式，当所述镀膜工艺的一个工艺周期执行完毕时，开始执行所述智能排粉控制方法。
本发明还提供了另一种用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其中所述镀膜工艺的执行涉及真空泵组件，所述真空泵组件包括壳体和设置于所述壳体中的真空泵转子，所述壳体和所述真空泵转子之间具有间隙，执行所述镀膜工艺会产生处于所述真空泵组件中的粉尘，其特点在于，所述智能排粉控制方法包括以下步骤：
第一高频运行步骤：控制所述真空泵组件高频运行，以使得所述壳体达到第一温度、所述间隙达到第一间隙尺寸；
第二低频运行步骤：控制所述真空泵组件低频运行，以使得所述壳体逐渐下降至第二温度、所述间隙逐渐缩小至第二间隙尺寸；
第三高频运行步骤：控制所述真空泵组件高频运行，以使得所述壳体逐渐上升至第三温度、所述间隙逐渐增大至第三间隙尺寸；
第四低频运行步骤：控制所述真空泵组件低频运行，以使得所述壳体逐渐下降至第四温度、所述间隙逐渐缩小至第四间隙尺寸；
其中，所述高频运行为利用变频器控制所述真空泵组件运行于预设的第一频率，所述低频运行为利用变频器控制所述真空泵组件运行于预设的第二频率，所述第二频率低于所述第一频率；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第二温度、所述第四温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸被设置为依次缩小。
根据本发明的一些实施方式，所述智能排粉控制方法还包括在所述第四低频运行步骤后执行的以下步骤：
第五高频运行步骤：控制所述真空泵组件高频运行，以使得所述壳体逐渐上升至第五温度、所述间隙逐渐增大至第五间隙尺寸；
第六低频运行步骤：控制所述真空泵组件低频运行，以使得所述壳体逐渐下降至第六温度、所述间隙逐渐缩小至第六间隙尺寸；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第五温度、所述第二温度、所述第四温度、所述第六温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第五间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸、所述第六间隙尺寸被设置为依次缩小。
根据本发明的一些实施方式，所述第一高频运行步骤和所述第二低频运行步骤持续预设的第一时长，所述第三高频运行步骤和所述第四低频运行步骤持续预设的第二时长，所述第五高频运行步骤和所述第六低频运行步骤持续预设的第三时长，其中所述第三时长大于所述第二时长，且所述第二时长大于所述第一时长。
根据本发明的一些实施方式，所述第一频率在所述第二频率的两倍和三倍之间。
根据本发明的一些实施方式，所述智能排粉控制方法的执行过程期间，保持用于冷却所述壳体的冷却流体的循环通过。
根据本发明的一些实施方式，当所述镀膜工艺的一个工艺周期执行完毕时，开始执行所述智能排粉控制方法。
在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可任意组合，即得本发明各较佳实例。
本发明的积极进步效果在于：
根据本发明的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，通过适当安排的运行程序或启停程序，能够以周期性的方式运转真空泵组件，使得当泵体温度逐渐下降时，转子与壳体之间间隙也逐渐减小，从而趁粉尘形成后而尚未完全硬化之前，有效刮除转子与壳体内壁的粉尘，配合现有的惰性气体吹扫，将有助于显著改善粉尘排除效果。
附图说明
图1为根据本发明优选实施例的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法的流程示意图。
图2为根据本发明优选实施例的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法的时序控制示例图。
具体实施方式
下面结合说明书附图，进一步对本发明的优选实施例进行详细描述，以下的描述为示例性的，并非对本发明的限制，任何的其他类似情形也都将落入本发明的保护范围之中。
在以下的具体描述中，方向性的术语，例如“左”、“右”、“上”、“下”、“前”、“后”等，参考附图中描述的方向使用。本发明各实施例中的部件可被置于多种不同的方向，方向性的术语是用于示例的目的而非限制性的。
根据本发明优选实施方式的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其中所述镀膜工艺的执行涉及真空泵组件，所述真空泵组件包括壳体和设置于所述壳体中的真空泵转子，所述壳体和所述真空泵转子之间具有间隙，执行所述镀膜工艺会产生处于所述真空泵组件中的粉尘。
其中，参考图1所示，所述智能排粉控制方法包括以下步骤：
第一运行步骤：控制所述真空泵组件运行，以使得所述壳体达到第一温度、所述间隙达到第一间隙尺寸；
第二停运步骤：控制所述真空泵组件停止运行，以使得所述壳体逐渐下降至第二温度、所述间隙逐渐缩小至第二间隙尺寸；
第三运行步骤：控制所述真空泵组件运行，以使得所述壳体逐渐上升至第三温度、所述间隙逐渐增大至第三间隙尺寸；
第四停运步骤：控制所述真空泵组件停止运行，以使得所述壳体逐渐下降至第四温度、所述间隙逐渐缩小至第四间隙尺寸；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第二温度、所述第四温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸被设置为依次缩小。
根据本发明的一些优选实施方式，所述智能排粉控制方法还包括在所述第四停运步骤后执行的以下步骤：
第五运行步骤：控制所述真空泵组件运行，以使得所述壳体逐渐上升至第五温度、所述间隙逐渐增大至第五间隙尺寸；
第六停运步骤：控制所述真空泵组件停止运行，以使得所述壳体逐渐下降至第六温度、所述间隙逐渐缩小至第六间隙尺寸；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第五温度、所述第二温度、所述第四温度、所述第六温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第五间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸、所述第六间隙尺寸被设置为依次缩小。
根据本发明的一些优选实施方式，所述第一运行步骤和所述第二停运步骤持续预设的第一时长，所述第三运行步骤和所述第四停运步骤持续预设的第二时长，所述第五运行步骤和所述第六停运步骤持续预设的第三时长，其中所述第三时长大于所述第二时长，且所述第二时长大于所述第一时长。
根据本发明的一些优选实施方式，所述智能排粉控制方法的执行过程期间，保持用于冷却所述壳体的冷却流体的循环通过。
根据本发明的一些优选实施方式，当所述镀膜工艺的一个工艺周期执行完毕时，开始执行所述智能排粉控制方法。
根据本发明的另一类实施方式提供了另一种用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，该智能排粉控制方法和以上实施例所描述的控制方法类似，其也采用了这种周期性控制的思想，但采用高低频交替运行的控制方式代替了以上实施例所描述的启停交替控制方式。
根据本实施方式的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法包括以下步骤：
第一高频运行步骤：控制所述真空泵组件高频运行，以使得所述壳体达到第一温度、所述间隙达到第一间隙尺寸；
第二低频运行步骤：控制所述真空泵组件低频运行，以使得所述壳体逐渐下降至第二温度、所述间隙逐渐缩小至第二间隙尺寸；
第三高频运行步骤：控制所述真空泵组件高频运行，以使得所述壳体逐渐上升至第三温度、所述间隙逐渐增大至第三间隙尺寸；
第四低频运行步骤：控制所述真空泵组件低频运行，以使得所述壳体逐渐下降至第四温度、所述间隙逐渐缩小至第四间隙尺寸；
其中，所述高频运行为利用变频器控制所述真空泵组件运行于预设的第一频率，所述低频运行为利用变频器控制所述真空泵组件运行于预设的第二频率，所述第二频率低于所述第一频率；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第二温度、所述第四温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸被设置为依次缩小。
根据本发明的一些优选实施方式，所述智能排粉控制方法还包括在所述第四低频运行步骤后执行的以下步骤：
第五高频运行步骤：控制所述真空泵组件高频运行，以使得所述壳体逐渐上升至第五温度、所述间隙逐渐增大至第五间隙尺寸；
第六低频运行步骤：控制所述真空泵组件低频运行，以使得所述壳体逐渐下降至第六温度、所述间隙逐渐缩小至第六间隙尺寸；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第五温度、所述第二温度、所述第四温度、所述第六温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第五间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸、所述第六间隙尺寸被设置为依次缩小。
换言之，若将如上所述的实施方式中的第一至第六温度分别记为t1至t6，将第一至第六间隙尺寸分别记为t1至t6，则满足下式的关系：
t1≧t3≧t5>t2>t4>t6；
s1≧s3≧s5>s2>s4>s6。
根据本发明的一些优选实施方式，所述第一高频运行步骤和所述第二低频运行步骤持续预设的第一时长，所述第三高频运行步骤和所述第四低频运行步骤持续预设的第二时长，所述第五高频运行步骤和所述第六低频运行步骤持续预设的第三时长，其中所述第三时长大于所述第二时长，且所述第二时长大于所述第一时长。
根据一些具体实施例，第三时长可被设定为约第一时长的三倍，而第二时长被设定为约第一时长的两倍。这种时序上的设定，可参考附图2所示。
根据本发明的一些优选实施方式，所述第一频率在所述第二频率的两倍和三倍之间。
其中，可以利用变频器的功能，设置2个不同的频率段。例如根据一些进一步优选的实施例，可将高频运行的第一频率设定为50Hz，而将低频运行的第二频率设定为20Hz。在控制运转的器件，真空泵持续运转，通过频率的变化，使得真空泵壳体温度逐渐降低，间隙逐渐缩小，持续对粉尘进行刮除。
在这种控制方式下，可以理解的是，频率越高，转速越大，螺杆转子每转一圈腔体内气体就会被压缩一次，这样就会有温升。而当频率降低时，转速下降，单位时间内的气体压缩次数也会相应变少，稳定后的温度会相对更低。这将有利于间隙中的粉尘的刮除。
根据本发明的一些优选实施方式，所述智能排粉控制方法的执行过程期间，保持用于冷却所述壳体的冷却流体的循环通过；和/或
当所述镀膜工艺的一个工艺周期执行完毕时，开始执行所述智能排粉控制方法。
根据本发明如上所述的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，通过适当安排的运行程序或启停程序，能够以周期性的方式运转真空泵组件，使得当泵体温度逐渐下降时，转子与壳体之间间隙也逐渐减小，从而趁粉尘形成后而尚未完全硬化之前，有效刮除转子与壳体内壁的粉尘，配合现有的惰性气体吹扫，将有助于显著改善粉尘排除效果。
虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这些仅是举例说明，本发明的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本发明的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，而且这些变更和修改均落入本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其中所述镀膜工艺的执行涉及真空泵组件，所述真空泵组件包括壳体和设置于所述壳体中的真空泵转子，所述壳体和所述真空泵转子之间具有间隙，执行所述镀膜工艺会产生处于所述真空泵组件中的粉尘，其特征在于，所述智能排粉控制方法包括以下步骤：
第一运行步骤：控制所述真空泵组件运行，以使得所述壳体达到第一温度、所述间隙达到第一间隙尺寸；
第二停运步骤：控制所述真空泵组件停止运行，以使得所述壳体逐渐下降至第二温度、所述间隙逐渐缩小至第二间隙尺寸；
第三运行步骤：控制所述真空泵组件运行，以使得所述壳体逐渐上升至第三温度、所述间隙逐渐增大至第三间隙尺寸；
第四停运步骤：控制所述真空泵组件停止运行，以使得所述壳体逐渐下降至第四温度、所述间隙逐渐缩小至第四间隙尺寸；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第二温度、所述第四温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸被设置为依次缩小。
2.如权利要求1所述的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其特征在于，所述智能排粉控制方法还包括在所述第四停运步骤后执行的以下步骤：
第五运行步骤：控制所述真空泵组件运行，以使得所述壳体逐渐上升至第五温度、所述间隙逐渐增大至第五间隙尺寸；
第六停运步骤：控制所述真空泵组件停止运行，以使得所述壳体逐渐下降至第六温度、所述间隙逐渐缩小至第六间隙尺寸；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第五温度、所述第二温度、所述第四温度、所述第六温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第五间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸、所述第六间隙尺寸被设置为依次缩小。
3.如权利要求2所述的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其特征在于，所述第一运行步骤和所述第二停运步骤持续预设的第一时长，所述第三运行步骤和所述第四停运步骤持续预设的第二时长，所述第五运行步骤和所述第六停运步骤持续预设的第三时长，其中所述第三时长大于所述第二时长，且所述第二时长大于所述第一时长。
4.如权利要求1所述的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其特征在于，所述智能排粉控制方法的执行过程期间，保持用于冷却所述壳体的冷却流体的循环通过。
5.如权利要求1所述的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其特征在于，当所述镀膜工艺的一个工艺周期执行完毕时，开始执行所述智能排粉控制方法。
6.一种用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其中所述镀膜工艺的执行涉及真空泵组件，所述真空泵组件包括壳体和设置于所述壳体中的真空泵转子，所述壳体和所述真空泵转子之间具有间隙，执行所述镀膜工艺会产生处于所述真空泵组件中的粉尘，其特征在于，所述智能排粉控制方法包括以下步骤：
第一高频运行步骤：控制所述真空泵组件高频运行，以使得所述壳体达到第一温度、所述间隙达到第一间隙尺寸；
第二低频运行步骤：控制所述真空泵组件低频运行，以使得所述壳体逐渐下降至第二温度、所述间隙逐渐缩小至第二间隙尺寸；
第三高频运行步骤：控制所述真空泵组件高频运行，以使得所述壳体逐渐上升至第三温度、所述间隙逐渐增大至第三间隙尺寸；
第四低频运行步骤：控制所述真空泵组件低频运行，以使得所述壳体逐渐下降至第四温度、所述间隙逐渐缩小至第四间隙尺寸；
其中，所述高频运行为利用变频器控制所述真空泵组件运行于预设的第一频率，所述低频运行为利用变频器控制所述真空泵组件运行于预设的第二频率，所述第二频率低于所述第一频率；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第二温度、所述第四温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸被设置为依次缩小。
7.如权利要求6所述的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其特征在于，所述智能排粉控制方法还包括在所述第四低频运行步骤后执行的以下步骤：
第五高频运行步骤：控制所述真空泵组件高频运行，以使得所述壳体逐渐上升至第五温度、所述间隙逐渐增大至第五间隙尺寸；
第六低频运行步骤：控制所述真空泵组件低频运行，以使得所述壳体逐渐下降至第六温度、所述间隙逐渐缩小至第六间隙尺寸；
其中，所述第一温度、所述第三温度、所述第五温度、所述第二温度、所述第四温度、所述第六温度被设置为依次下降，所述第一间隙尺寸、所述第三间隙尺寸、所述第五间隙尺寸、所述第二间隙尺寸、所述第四间隙尺寸、所述第六间隙尺寸被设置为依次缩小。
8.如权利要求7所述的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其特征在于，所述第一高频运行步骤和所述第二低频运行步骤持续预设的第一时长，所述第三高频运行步骤和所述第四低频运行步骤持续预设的第二时长，所述第五高频运行步骤和所述第六低频运行步骤持续预设的第三时长，其中所述第三时长大于所述第二时长，且所述第二时长大于所述第一时长。
9.如权利要求6所述的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其特征在于，所述第一频率在所述第二频率的两倍和三倍之间。
10.如权利要求6所述的用于太阳能电池片的镀膜工艺的智能排粉控制方法，其特征在于，所述智能排粉控制方法的执行过程期间，保持用于冷却所述壳体的冷却流体的循环通过；和/或
当所述镀膜工艺的一个工艺周期执行完毕时，开始执行所述智能排粉控制方法。
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Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63264118A (ja) * 1987-04-22 1988-11-01 Ulvac Corp 真空排気系用微粒子トラツプ
WO1999037918A1 (en) * 1998-01-21 1999-07-29 Helix Technology Corporation Cryopump with an exhaust filter
US6116032A (en) * 1999-01-12 2000-09-12 Applied Materials, Inc. Method for reducing particulate generation from regeneration of cryogenic vacuum pumps
JP2008008214A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Namiki Precision Jewel Co Ltd 真空ピストンポンプ
JP2012097691A (ja) * 2010-11-04 2012-05-24 Asahi Sunac Corp プランジャポンプ
CN104179688A (zh) * 2013-05-24 2014-12-03 株式会社荏原制作所 带有除害功能的真空泵
CN106246518A (zh) * 2016-08-24 2016-12-21 中国石油大学(华东) 煤层气井自洁防卡管式泵
BR102016024326A2 (pt) * 2016-10-18 2017-03-28 Lino Machado Rafael aspirador de pó manualmente operável
CN206522239U (zh) * 2016-12-08 2017-09-26 河南常兴泵业有限公司 一种用于水泵的过滤装置
CN206608306U (zh) * 2016-08-19 2017-11-03 华安奥特（北京）科技股份有限公司 微纳米曝气装置防堵塞系统
CN108119342A (zh) * 2018-02-01 2018-06-05 江苏快捷士润滑油有限公司 一种便于除尘过滤的油封式真空泵
CN108754455A (zh) * 2018-07-04 2018-11-06 惠科股份有限公司 一种防真空泵管路堵塞的方法及化学气相镀膜机
CN208330657U (zh) * 2018-06-20 2019-01-04 利民化工股份有限公司 一种粉体干燥用真空系统
JP2019060289A (ja) * 2017-09-27 2019-04-18 応研精工株式会社 急排弁一体型ダイヤフラムポンプ
CN110360092A (zh) * 2019-07-17 2019-10-22 闽南理工学院 一种排除油封式机械真空泵尾气冷凝水的系统及方法
CN110639285A (zh) * 2018-06-11 2020-01-03 领凡新能源科技(北京)有限公司 过滤清洁装置和真空系统
CN210050002U (zh) * 2019-03-21 2020-02-11 南通虹登机械设备有限公司 一种带有变频回收泵的sf6回收装置
CN211314467U (zh) * 2019-12-27 2020-08-21 天津天佑聚沛机械设备有限公司 一种具有防堵塞功能的泥浆泵
CN112334656A (zh) * 2018-12-03 2021-02-05 开利公司 膜吹扫系统
CN213511095U (zh) * 2020-10-14 2021-06-22 杭州德士比泵有限公司 一种具有防堵结构的防爆真空泵

Patent Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63264118A (ja) * 1987-04-22 1988-11-01 Ulvac Corp 真空排気系用微粒子トラツプ
WO1999037918A1 (en) * 1998-01-21 1999-07-29 Helix Technology Corporation Cryopump with an exhaust filter
US6116032A (en) * 1999-01-12 2000-09-12 Applied Materials, Inc. Method for reducing particulate generation from regeneration of cryogenic vacuum pumps
JP2008008214A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Namiki Precision Jewel Co Ltd 真空ピストンポンプ
JP2012097691A (ja) * 2010-11-04 2012-05-24 Asahi Sunac Corp プランジャポンプ
CN104179688A (zh) * 2013-05-24 2014-12-03 株式会社荏原制作所 带有除害功能的真空泵
CN206608306U (zh) * 2016-08-19 2017-11-03 华安奥特（北京）科技股份有限公司 微纳米曝气装置防堵塞系统
CN106246518A (zh) * 2016-08-24 2016-12-21 中国石油大学(华东) 煤层气井自洁防卡管式泵
BR102016024326A2 (pt) * 2016-10-18 2017-03-28 Lino Machado Rafael aspirador de pó manualmente operável
CN206522239U (zh) * 2016-12-08 2017-09-26 河南常兴泵业有限公司 一种用于水泵的过滤装置
JP2019060289A (ja) * 2017-09-27 2019-04-18 応研精工株式会社 急排弁一体型ダイヤフラムポンプ
CN108119342A (zh) * 2018-02-01 2018-06-05 江苏快捷士润滑油有限公司 一种便于除尘过滤的油封式真空泵
CN110639285A (zh) * 2018-06-11 2020-01-03 领凡新能源科技(北京)有限公司 过滤清洁装置和真空系统
CN208330657U (zh) * 2018-06-20 2019-01-04 利民化工股份有限公司 一种粉体干燥用真空系统
CN108754455A (zh) * 2018-07-04 2018-11-06 惠科股份有限公司 一种防真空泵管路堵塞的方法及化学气相镀膜机
CN112334656A (zh) * 2018-12-03 2021-02-05 开利公司 膜吹扫系统
CN210050002U (zh) * 2019-03-21 2020-02-11 南通虹登机械设备有限公司 一种带有变频回收泵的sf6回收装置
CN110360092A (zh) * 2019-07-17 2019-10-22 闽南理工学院 一种排除油封式机械真空泵尾气冷凝水的系统及方法
CN211314467U (zh) * 2019-12-27 2020-08-21 天津天佑聚沛机械设备有限公司 一种具有防堵塞功能的泥浆泵
CN213511095U (zh) * 2020-10-14 2021-06-22 杭州德士比泵有限公司 一种具有防堵结构的防爆真空泵

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