JPS63262624A - エレクトロクロミツク素子 - Google Patents

エレクトロクロミツク素子

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JPS63262624A
JPS63262624A JP9627087A JP9627087A JPS63262624A JP S63262624 A JPS63262624 A JP S63262624A JP 9627087 A JP9627087 A JP 9627087A JP 9627087 A JP9627087 A JP 9627087A JP S63262624 A JPS63262624 A JP S63262624A
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JP
Japan
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layer
redox
transparent conductive
electrochromic device
conductive film
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Pending
Application number
JP9627087A
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English (en)
Inventor
Junichi Nagai
永井 順一
Tetsuya Seike
清家 哲也
Tadatoshi Kamimori
神森 忠敏
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はエレクトロクロミック(EC)素子に係り、特
に大型のE’C素子に関するものである。
[従来の技術] EC素子の電解質として光又は熱硬化性の樹脂原料を用
いて光または熱硬化させて大型のEC素子を製造するこ
とを本発明者らが提案してきている。
この電解質として光又は熱硬化性の樹脂原料を用いて光
または熱硬化させることにより、大面積のEC素子であ
っても、容易に作業性よく製造できるものであり、全体
が固体化されているため、製造後、所望のサイズに切断
して使用できるため、調光窓のような現場施工の用途に
向いている。
[発明の解決しようとする問題点] このように電解質については、スピンナー法やロールコ
ート法で極めて生産性よく製造できるが、EC層につい
ては蒸着等により製造する必要があり、このEC層の形
成工程が全体の生産性を低下させるもとどなっていた。
[問題点を解決するための手段〕 本発明は、この様な従来のEC素子の欠点を解消するた
めになされたものであり、透明導電膜付の基板間にEC
物質層を含有する層を設けてなるEC素子において、透
明導電膜付の基板間にレドックス剤を含有させた光また
は熱硬化性の樹脂原料を硬化させたレドックス層と、ポ
リ酸塩を含有させた光または熱硬化性の樹脂原料を硬化
させたEC層とを積層挟持したことを特徴とするEC素
子を提供するものである。
第1図は、本発明のEC素子の基本的構造を示す断面図
である。
第1図において、 1.6はガラス、プラスチック等の
基板、2.5は酸化錫(SnO□)または酸(1,イン
ジウム・酸化錫(ITO)等°の透明導電膜、3は透明
導電膜2の上に形成されたレドックス剤を含有させた光
または熱硬化性の樹脂原料を硬化させたレドックス層、
4はポリ酸塩を含有させた光または熱硬化性の樹脂原料
を硬化させたEC層を示しており、この基板lと透明導
電膜2とで対向電極基板となる第1の基板が構成され、
基板6と透明導電膜5とで表示電極基板となる第2の基
板が構成されている。
本発明では、EC素子を構成する基板は、第1の基板、
第2の基板とも、通常のガラス、プラスチック等の基板
が使用できる。また、鏡や反射型の表示素子のように反
射型で使用する場合には、一方の基板は金属、セラミッ
ク、着色プラスチック等不透明な基板であってもよい。
これらの基板は連続した基板であってもよいし、所望の
サイズに切断された基板であってもよい。
これらの基板の上に形成される透明導電膜としては、酸
化錫(SnO□)または酸化インジウム・酸化錫[IT
O)等透明導電膜が使用される。もっとも、この透明導
電膜に金属、カーボン等の導電性材料の細線を線状、格
子状、亀甲状等に積層して抵抗値を下げて用いてもよい
本発明では、この対向電極基板の透明導電膜の上にレド
ックス剤を含有させた光または熱硬化性の樹脂原料を硬
化させたレドックス層を形成する。
このレドックス層に使用される光または熱硬化性の樹脂
原料としては、光硬化性または熱硬化性の樹脂原料であ
る千ツマ−、オリゴマー等を5wt%以上、γ−ブチロ
ラクトン(γ−■)、スルホラン、スルホキシド、プロ
ピレンカーボネート、ブチルアルコール等の有機溶媒゛
に溶解したものが使用でき、必要に応じて支持電解質を
添加して使用される。
この光硬化性または熱硬化性の樹脂原料である千ツマ−
、オリゴマー等としては、EC物質に悪影響を与えない
限り、種々のものが使用できるが、アクリル系、ビニル
系のものが安定性の点からみて好ましい。
本発明では、これらの中でも光硬化可能な樹脂が好まし
く、耐久性及び応答性の点からみて光硬化性のヒドロキ
シアルキルアクリレートが好ましく、特に2−ヒドロキ
シエチルアクリレートが好ましい。
これらの樹脂原料は、樹脂原料のみで使用されてもよい
し、前述の溶媒な0〜95wt%添加して電解質溶液と
して使用されてもよい。
レドックス剤としては、レドックス電位が0〜1,5■
の範囲にあるもので、前述の樹脂原料または溶媒に溶解
するものが使用できる。中でも、レドックス電位が0〜
0.5■のものが、EC素子に印加する電圧低減効果が
あるため好ましい。
具体的には、アルカリ金属のヨウ化物、テトラアルキル
アンモニウムのヨウ化物、遷移金属の錯体、メタロセン
等が好適に使用できる。なお、ヨウ素化合物中でもヨウ
化リチウムはレドックス剤と支持電解質とを1つの物質
で兼用することができる。
このレドックス剤は、電解質溶液に対して、0、001
〜5M/β程度添加されればよい。
さらに、必要に応じて過塩素酸リチウム、過塩素酸、四
フッ化ボウ素化リチウム等の支持電解質を0.001〜
IM/n添加したり、重合開始剤、印刷性改良剤、粘度
調製剤、着色剤等の添加剤を添加してもよい。
この支持電解質は、光照射または加熱により硬化された
樹脂自体がその末端にスルホン酸基やカルボン酸基を有
するようなイオン交換性の樹脂である等陽イオン電導性
のある場合には必ずしも必要としないが、陽イオン電導
性の無い場合には、添加される。なお、ヨウ化リチウム
のようにレドックス剤と支持電解質とを1つの物質で兼
用することができるものをレドックス剤として使用した
場合には、他の支持電解質を添加しなくてもよい。
このレドックス剤を含有した電解質溶液は、スピンナー
法、ロールコート法、流延法、印刷法等により基板」二
に供給され、光照射又は加熱により硬化させて5〜10
00μm程度の厚さになるように積層されればよい。
また、本発明では、第2の基板である表示電極基板の透
明導電膜の上にポリ酸塩を含有させた光または熱硬化性
の樹脂原料を硬化させたEC層を形成し、このEC層と
レドックス層とが積層されるようにされる。
このEC層の光または熱硬化性の樹脂原料は前述したレ
ドックス層の樹脂原料と同様の樹脂原料が使用できる。
この光または熱硬化性の樹脂原料に混合されるポリ酸塩
としては、メタタングステン酸、リンタングステン酸、
ケイタングステン酸、リンモリブデン酸、ケイモリブデ
ン酸等のポリタングステン酸、ポリモリブデン酸等があ
る。
これらのポリタングステン酸、ポリモリブデン酸等では
、通常消色時に透明になり、着色時に青色になる。
また、コバルトとタングステン等のヘテロポリ酸を使用
した場合には、透明状態と着色状態との単なる着消色で
はなく、色相が変化する駆動が可能になる。例えば以下
のようになる。
還元 この例では、酸化により、黒に近いダークブラウンにな
り、還元によりエメラルドグリーンになる。
本発明では、このようなポリ酸を樹脂原料と有機溶媒と
による溶液に対して、0.001− IM/氾加え、必
要に応じて重合開始剤、印刷性改良剤、粘度調製剤、着
色剤等の添加剤を添加してEC層溶液を調整してスピン
ナー法、ロールコート法、流延法、印刷法等により基板
」二に供給され、光照射又は加熱により硬化させて1〜
1000μm程度の厚さで所望の着色度となるように積
層されればよい。
このポリ酸は、一般的には強酸であるため、透明導電膜
を溶解して抵抗が増大してしまうことがある。このよう
な場合には、ポリ酸のプロトンをリチウムイオン、ナト
リウムイオン、カリウムイオン等で予めイオン交換して
弱酸性にしておいて使用することが好ましい。
また、対向電極基板の透明導電膜とレドックス層との間
に、プルシアンブルー等の表示−極基板のEC層とは逆
極性の電圧の印加によって着消色するE9物質や可視光
域では着消色を生じないEC物質等を積層したものを用
いてもよい。
これは、本発明では、対向電極基板上のレドックス層は
、レドックス剤を含んでいるため、対向電極自体がIT
Oのように単なる透明導電膜であっても表示電極基板の
EC物質を着消色させることができるためである。また
、この対向電極に何らかのEC物質を積層して使用する
場合には、対向電極の容量が大きくなり、着消色の応答
が速くなる等の利点もある。
また、これらの基板の端部にメッキや導電ペースト等に
よる半田付は可能な端子を形成したり、リードを接着し
たりすると外部との導電接続に便利である。
本発明では、レドックス層とEC層とは対向電極基板と
表示電極基板との間に積層配置されればよい。もっとも
、レドックス層とEC層のいずれか一方を硬化させる際
に、その層の硬化と両者の接着を同時に行なうことによ
り、接着工程を新たに設ける必要がない。
具体的には、対向電極基板上にレドックス剤を含有させ
た光または熱硬化性の樹脂原料を供給し硬化させてレド
ックス層を積層し、このレドックス層上にさらにポリ酸
塩を含有させた光または熱硬化性の樹脂原料を供給し、
表示電極基板を積層して光照射又は加熱により硬化させ
ることにより、EC層の硬化とレドックス層とEC層と
の接着を同時に完了させることができる。
もちろん、表示電極基板の透明導電膜上にポリ酸塩を含
有させた光または熱硬化性の樹脂原料を供給し、この上
に硬化させられたレドックス層を有する対向電極基板を
重ねるようにしてもよい。このように、予めレドックス
層を硬化させておくことにより、EC,層中にレドック
ス剤が侵入しにくくなり、EC素子のメモリー性が向上
する。
また、EC層を先に硬化させておき、後でレドックス層
の硬化を行ない、レドックス層の硬化と同時に両者の接
着をすることもできる。
なお、レドックス層の電解質溶液の供給前または同時に
ガラスピーズ、ガラス繊維、セラミック粒子、プラスチ
ック粒子等の間隙制御用のスペーサーを散布することが
好ましい。このスペーサーは基板間の間隙を制御するも
のでり、電解質溶液とは別に気体または液体中に分散さ
せて散布してもよいし、電解質溶液中に混合されて供給
されてもよい。また、スペーサーの表面に接着材をつけ
ておき、スペーサーを基板表面に固定するようにしても
よい。
スペーサーを使用することにより、セルギャップの大き
さは、間隙制御用のスペーサーにより定まる。このため
、精密な金型で押圧しなくても2枚の基板の内面の電極
が接触する心配がなく、型と基板の位置合せする必要が
ないので作業性がよい。特に、大型のEC素子の場合に
適しており、フロートガラスのような長尺のガラスを基
板に使用したEC素子にも適用できる。ひいては、連続
プロセスで生産された透明型極付のガラス、プラスチッ
クフィルム上に連続して電解質溶液を供給して連続的に
EC素子を製造することも可能である。
このようにして、硬化一体化されたEC素子は、必要に
応じて周辺にシールをする。
本発明では、電解質が固体化されており、周辺にシール
がなくてもよいため、大型のEC素子を製造しておいて
、これを切断して所望の大きさにできるため、全面ベタ
電極の調光用EC素子であって、種々のサイズがある調
光窓ガラス、調光鏡等の用途に適している。これにより
現場で所望のサイズに切断して施工することも可能とな
る。
このようにして製造されたEC素子に必要に応じて、基
板の端部に焼成用導電性ペースト、導電性接着材層、金
属層若しくは半田層を形成し、外部電源に接続するリー
ト線を半田付けするまたはリート線を導電性接着剤で接
着する等して端子用のリードを接続したり、さらに周辺
に耐久性を向上させる目的でブチルゴム、フッ素樹脂、
エポキシ樹脂等の接着材によるシール材を設けたりして
もよい。
本発明は、このように大型で着消色の頻度が低いEC素
子に好適であり、窓や間仕切り等の調光体、調光鏡等に
特に適している。
実施例を示し、更に詳細に説明する。
[実施例] 実施例I ITO膜を面抵抗が10Ω/口となるように蒸着した4
00X  800mmのガラス基板を準備した。
このITO−Fに2−ヒドロキシエチルアクリレートに
スルホランを7=3の比で混合した溶液に、重合開始剤
としてベンゾインエチルエーテル0.2wt%、レドッ
クス剤としてヨウ化リチウムIM/βを溶解し、ロール
コート法で約50μm塗布し、紫外線照射して硬化させ
て、レドックス層を形成した。
次いで、別のITO上に2−ヒドロキシエチルアクリレ
ートにスルホランを7:3の比で混合した溶液に、重合
開始剤としてベンゾインエチルエーテル0.2wt%、
ポリ酸としてリンタングステン酸5wt%を溶解し、ロ
ールコート法で約50μm塗布し、前に製造したレドッ
クス層を有する対向電極基板をレドックス層とEC層と
が接するように配置して、紫外線照射して硬化させてE
C素子を製造した。
このようにして製造したEC素子は、蒸着によるWO2
膜を有するEC素子とほぼ同等の着消色特性及び耐久性
を有しており、かつ、それよりも生産性がよいものであ
った。
実施例2 実施例1のヨウ化リチウムの代りに、レドックス剤とし
てフェロセン0.1M/β、支持電解質として過塩素酸
リチウム0.5M/βとを溶解した外は実施例1と同様
にしてEC素子を製造した。
このようにして製造したEC素子は、実施例1と同様に
蒸着によるWO2膜を有するEC素子と同等の着消色特
性、応答速度及び耐久性を有しており、かつ、それより
も生産性がよいものであった。
実施例3 先に実施例1と同一のEC層を表示電極基板側に形成し
た。
次いで、実施例1と同一の電解質溶液中に、粒径約50
μmの樹脂ビーズを加えて、対向電極基板」二にスピン
ナーを用いて約50μm塗布した後、先に硬化させたE
C層付の表示電極基板をIE C層とレドックス層とが
接するように配置して、紫外線照射して硬化させてEC
素子を製造した。
このようにして製造したEC素子は、実施例】と同様に
、蒸着によるWO2膜を有するEC素子と同等の着消色
特性、応答速度及び耐久性を有しており、かつ、それよ
りも生産性がよいものであった。さらに樹脂ビーズを用
いているため、硬化時に加圧しても、EC層と対向電極
基板の透明導電膜とが接触することがなく、均一なEC
素子が容易に得られた。
実施例4〜6 実施例1のリンタングステン酸の代りに、ケイタングス
テン酸、リンモリブデン酸、ケイモリブデン酸を5wt
%溶解して用いた外は、実施例1と同様にしてEC素子
を製造した。
このようにして製造したEC素子は、いずれも実施例1
と同様の特性を示した。
実施例7〜lO 実施例1のリンタングステン酸の代りに、リンタングス
テン酸、ケイタングステン酸、リンモリブデン酸、ケイ
モリブデン酸のリチウム塩を5wt%溶解して用いた外
は、実施例1と同様にしてEC素子を製造した。
とあようにして製造したEC素子は、いずれもリチウム
塩を用いたことによりITOの劣化が少ないため、透明
導電膜の抵抗値の増加が少なく、実施例1よりも応答速
度が速く、他の特性については実施例1とほぼ同様であ
った。
実施例11 実施例1のリンタングステン酸の代りに、ヘテロポリ酸
であるコバルトタングステン酸を5wt%溶解して用い
た外は、実施例1と同様にしてEC素子を製造した。
このようにして製造したEC素子は、電圧の印加により
、エメラルドグリーン(還元状態)からダークブラウン
(酸化状態)へと色調が変化し、従来のEC素子にない
カラフルな色調の変化が得られた。
実施例12〜13 実施例1の溶媒のスルホランの代りに、3−メチルスル
ホランまたはγ−ブチロラクトンを用いた外は、実施例
1と同様にしてEC素子を製造した。
溶媒として3−メチルスルホランを用いたEC素子は、
実施例1と同様の特性を示した。
また、溶媒としてγ−ブチロラクトンを用いEC素子は
、太陽光の直射下での耐久性は実施例1よりは劣ったが
、通常の室内での使用においてはほぼ同様の特性を示し
た。
実施例14 実施例1の樹脂原料の2−ヒドロキシエチルアクリレー
トの代りに、熱硬化性のメチルメタクリレートを使用し
、これに重合開始剤として過酸化ベンゾイルを0.1w
t%加えて用い、光照射の代りに加熱を行なった外は、
実施例1と同様にしてEC素子を製造した。
このようにして製造したEC素子は、加熱したため、I
TOの劣化がやや大きく、応答速度は実施例1よりもや
や遅くなったが、他の特性は実施例1と同様であった。
実施例15 実施例7(ポリ酸としてリンタングステン酸のリチウム
塩を用いた例)の樹脂原料の2−ヒドロキシエチルアク
リレートの代りに、熱硬化性のメチルメタクリレートを
使用し、これに重合開始剤として過酸化ベンゾイルを0
.1wt%加えて用い、光照射の代りに加熱を行なった
外は、実施例7と同様にしてEC素子を製造した。
このようにして製造したEC素子は、加熱したがポリ酸
のリチウム塩を使用しているため、ITOの劣化が少な
く、応答速度は実施例14よりも速く、他の特性も実施
例14と同様であった。
実施例16 基板としてポリエステルフィルムにチタン膜を線状に形
成し、さらにその上にITO膜を全面に形成したロール
フィルムを用いて、この基板をコンベヤーで移送しつつ
、そのITO上に実施例1と同様のレドックス層を形成
するための電解質溶液を流し込み、ローラーで厚みを規
制して、水銀灯下で紫外線硬化させ、その後、実施例1
と同様のEC層を形成するための溶液を同じ方法で供給
し、他の透明導電膜付の基板を重ね合せ、再度水銀灯下
で紫外線硬化させ連続的にプラスチックEC素子を製造
した。
このプラスチックEC素子は実施例1のEC素子よりは
やや特性が劣ったが、生産性は極めて良いものであった
実施例17 実施例1の対向電極基板のITO上にプルシアンブルー
膜を形成し、この上にレドックス層を形成した外は、実
施例1と同様にしてEC素子を製造した。
このようにして製造したEC素子は、実施例1と同様の
性能を示すとともに、プルシアンブルー膜が酸化タング
ステンと逆極性で着色すること及び対向電極の容量が大
きくなることにより応答速度が実施例1のEC素子より
も速くなった。また、対向電極にプルシアンブルー膜を
用いているため、実施例1のEC素子よりも太陽光直射
下での寿命が長いものであった。
[発明の効果] 以」二説明したように、本発明のEC素子は、WO8の
ようなEC物質を蒸着のような生産性の低い工程無しに
製造可能とするものであり、製造プロセスが簡略化され
、生産性が極めて向」二するものである。
さらに、レドックス層が硬化させられているため、大き
なサイズであっても2枚の基板の電極間での短絡を生じ
なく、垂直に立てて使用しても下部が膨れるということ
もない。また、風圧や人体の衝突等の外圧に対しても破
損しにくくなり、安全性も高いものである。
さらに、大型EC素子であっても製造が容易であり、後
で切断してより小型のEC素子とすることができるため
、生産性がよい。
また、製造工程中に減圧する必要がなく、全工程を一連
のコンヘヤー」二で連続して行えるため、大型のEC素
子を極めて容易に生産性よく製造できるものでもある。
これにより大型のIE C素子を製造しておき、その後
所望のサイズに切断して、場合によっては末端の建築現
場で切断して使用することもでき、窓ガラスにこのEC
素子を適用して調光窓ガラスにする場合に好適である。
本発明は、この外、本発明の効果を損しない範囲内で種
々の応用が可能なものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のEC素子の基本的構造を示す断面図
である。 基板       : 1.6 透明導電膜    : 2.5 レドックス層   : 3 EC層      = 4 第1 1:基板 2:透明導電膜 3ニレドックス層 4:EC層 5:透明導電膜 6:基板

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)透明導電膜付の基板間にエレクトロクロミック物
    質層を含有する層を設けてなるエレクトロクロミック素
    子において、透明導電膜付の基板間にレドックス剤を含
    有させた光または熱硬化性の樹脂原料を硬化させたレド
    ックス層と、ポリ酸塩を含有させた光または熱硬化性の
    樹脂原料を硬化させたエレクトロクロミック層とを積層
    挟持したことを特徴とするエレクトロクロミック素子。
  2. (2)硬化性の樹脂原料が光硬化可能な樹脂原料である
    特許請求の範囲第1項記載のエレクトロクロミック素子
  3. (3)硬化性の樹脂原料が熱硬化可能な樹脂原料である
    特許請求の範囲第1項記載のエレクトロクロミック素子
  4. (4)一方の基板の透明導電膜上にレドックス層を硬化
    させた後、レドックス層と他方の基板の透明導電膜との
    間にポリ酸塩を含有させた樹脂原料を挟み、重ね合わせ
    硬化させる特許請求の範囲第1項または第2項記載のエ
    レクトロクロミック素子。
  5. (5)重ね合わせ硬化後、基板周辺がシールされる特許
    請求の範囲第1項記載のエレクトロクロミック素子。
  6. (6)レドックス剤がヨウ化リチウムである特許請求の
    範囲第1項記載のエレクトロクロミック素子。
  7. (7)レドックス剤がフェロセンである特許請求の範囲
    第1項記載のエレクトロクロミック素子。
  8. (8)光重合可能な樹脂がヒドロキシアルキルアクリレ
    ートである特許請求の範囲第2項記載のエレクトロクロ
    ミック素子。
  9. (9)光重合可能な樹脂が2−ヒドロキシエチルアクリ
    レートである特許請求の範囲第8項記載のエレクトロク
    ロミック素子。
  10. (10)ポリ酸がポリタングステン酸である特許請求の
    範囲第1項記載のエレクトロクロミック素子。
  11. (11)ポリ酸がポリモリブデン酸である特許請求の範
    囲第1項記載のエレクトロクロミック素子。
  12. (12)ポリ酸がヘテロポリ酸である特許請求の範囲第
    1項記載のエレクトロクロミック素子。
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