JPS6323849A - シツフ塩基化合物 - Google Patents

シツフ塩基化合物

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JPS6323849A
JPS6323849A JP16563786A JP16563786A JPS6323849A JP S6323849 A JPS6323849 A JP S6323849A JP 16563786 A JP16563786 A JP 16563786A JP 16563786 A JP16563786 A JP 16563786A JP S6323849 A JPS6323849 A JP S6323849A
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Shozo Kato
加藤 祥三
Hidenori Okamoto
岡本 秀則
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Tokuyama Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、除草剤を製造するための原料とし2て有用な
新規なシアン塩基化合物を提供するものである。
(従来の技術及び発明の解決しようとする問題点)本発
明者らは、シッフ塩基化合物を原料としたN−置換−ハ
ロアセトアミドの合成及びその生理活性の研究を行なっ
てきた。その結果、特定のN−置換−クロロアセトアミ
ドが優れた除草活性を有することを見い出した。
従来、原料となるシッフ塩基化合物てついて・は数多く
のものが合成されており、アミン化合物とアルデヒド化
合物又はケトン化合物とを反[乙させる方法が一般的で
ある。
しかしながら、該合成方法によってシ、)塩基を合成す
る場合、原料アミン化合物は一役的なものに限られてい
た。即ち一般式(n)で示される様なR1 バー (n/ 、 R#、及びHjllは同種又は異種の水素
原子。
アルキル基、又はアリール基を表わす。)置換ビニルア
ミンは一般に不安定であシ、該化合物をシック塩基の原
料として用いることは困難であるため窒素原子に置換エ
チニル基が直結したシッフ塩基化合物は未だ報告されて
おらず、従って該シック塩基化合物を原料とし九N−置
換一ハロアセトアミドの除草活性は全く知られていなか
った。
(問題点を解決するための手段及び効果)本発明者らは
、雑草のみを枯死させる選択除草活性に優れ九N−置換
一ハロアセトアミドの合成について鋭意研究を行なった
。その結果、原料として特定のシック塩基化合物を用い
た場合に、選択除草活性に優れたN−置換−ハロアセト
アミドが得°られることを見い出し、本発明を完成させ
るに至った。
即ち、本発明は一般式 (式中、R1は置換されたもしくは非置換のアリール基
、又は置換されたもしくは非置換のヘテロアリール基を
表わし、 R2及びR3は同種又は異種の水素原子又は炭素原子数
1〜6のアルキル基を表わし、R2とR3とが相互に連
結して環状のアルキレン基を形成してもよく、 R4は水素原子、置換されたもしくは非置換の炭素原子
数1〜8のアルキル基、又は置換されたもしくは非置換
のアリール基を表わし、R5は水素原子、又は炭素原子
数1〜6のアルキル基を表わし、Xは酸素原子又はイオ
ウ原子を表わし、nは0又は1を表わす。ただしR5が
水素原子の場合、nはOである。) で示されるシック塩基化合物である。
上記一般式(1)中、R1は置換されたもしくは非置換
のアリール基、又は置換されたもしくは非置換のへテロ
アリール基である。非置換のアリール基としては、フェ
ニル基、ナフチル基、アントラニル基、及びフェナンス
レニル基等が好適である。
−また非置換のへテロアリール基としては、酸素原子、
硫黄原子、及び窒素原子を含むヘテロアリ−ル基、例え
ばフリル基、チェニル基、ピロリル基。
ベンゾフリル基、ペン!チェニル基、ピラゾリル基、イ
ミダゾリル基及びチアゾリル基等が好適である。
また上記アリール基及びヘテロアリール基は置換されて
もよく、該置換基は特に限定されず公知の置換可能な基
が採用できる。具体的に例示すれば次の通りである。即
ち、炭素原子数1〜6のアルキル基;塩素原子、臭素原
子、ヨウ素及び7ノ素原子のハロゲン原子;炭素原子数
1〜6のアルコキシ基;炭素原子数1〜6のハロアルキ
ル基;炭素原子数1〜6のアルキルチオ基;炭素原子数
1〜6からなるアルキル基および/又は塩素原子。
臭素原子、ヨウ素原子及びフッ素原子からなる群から選
ばれたハロゲン原子で置換されたもしくは非置換の7エ
ノキシ基;炭素原子数1〜6から々るアルキル基および
/又は塩素原子、臭素原子。
ヨウ素原子及びフッ素原子からなる群から選ばれたハロ
ゲン原子で置換されたもしくは非置換のフェニル基等で
ある。
上記置換されたアリール基及びヘテロアリール基で最も
好適なものを更に具体的に例示すると次の通りである。
即ち置換アリール基としては、メチルフェニル、ジメチ
ルフェール、エチルフェニル、ノエチルフェニル、フロ
ビルフェニル、ブチルフェニル、インチルフェニル、メ
チルエチルフェニル、及びメチルエチルフェニル等のア
ルキルフェニル基;フルオロフェニル、ジフルオロフェ
ニル、クロロフェニル、ノクロロフェニル、トリクロロ
フェニル、ブロモフェニル、及ヒヨードフェニル等ノハ
ロフェニル基;メトキシフェニル。
・ゾメトキシフェニル、エトキシフェニル、7°ロポキ
シフェニル、及ヒブトキシフェニル等のアルコキシフェ
ニル、ll5(クロロメチル)フェニル。
(クロロエチル)フェニル、(クロロプロピル)フェニ
ル、(ブロモエテル)フェニル、(フルオロエチル)フ
ェニル、及び(トリフルオロメチル)フェニル等の(ハ
ロアルキル)フェニル基:メチルチオフェニル、エチル
チオフェニル1及びグロビルチオフェニル等のアルキル
チオフェニル基;フェノキシフェニル、(メチルフェノ
キシ)フェニル、(エチルフェノキシ)フェニル、(ク
ロロフェノキシ)フェニル、(ブロモフェノキシ)フェ
ニル、(フルオロフェノキシ)フェニル、及ヒ〔クロロ
(メチル)フェノキシナフチル等のフェニルフェニル基
S(メチルフェニル)フェニル、(エチルフェニル)フ
ェニル、(プロピルフェニル)フェニル、(クロロフェ
ニル)フェニル。
及ヒ(フルオロフェニル)フェニル等のフェニルフェニ
ル基;クロロ(メチル)フェニル、クロロ(エトキシ)
フェニル、及びメチル(メトキシ)フェニル等の置換フ
ェニル基;メチルナフチル。
ツメチルナフチル、エチルナフチル、クロロナフチル、
ブロモナフチル、ノクロロナフチル、メトキシナフチル
、 () IJフルオロメチル)ナフチル。
メチルチオナフチル、フェノキシナフチル、フェ: #
 f 7−F−ル、メチルアントラニル、クロロアント
ラニル、メトキシアントラニル、及びメチルフェナンス
リル等の置換アリール基が挙げられる。
また置換へテロアリール基としては、メチルフリル、ジ
メチルフリル、エチルフリル、fロビルフリル、クロロ
フリル、ブロモフリル、メトキシフリル、エトキシフリ
ル、プロポキシフリル。
(トリフルオロメチル)フリル、メチルチオフリル、エ
チルチオフリル、フェノキシフリル、及ヒフェニルフリ
ル等の置換フリル基;メチルチェニル、ジメチルチェニ
ル、エチルチェニル、プロピルチェニル、ブチルチェニ
ル、フルオロチェニル。
クロロチェニル、ブロモチェニル、メトキシチェニル、
エトキシチェニル、フロポキシテエニル。
(クロロエチル)チェニル、()リフルオロメ・チル)
チェニル、メチルチオチェニル、エチルチオチェニル、
ジブロモチェニル、ノメトキシチェニル°、フェノキシ
チェニル、及ヒフェニルテエニル等の置換チェニル基;
N−メチルピロリA/ 、 N −エチル♂ロリル、メ
チルーN−メチルピロリル。
クロロ−N−エチルピロリル、メトキシ−N−メチルピ
ロリル、メチルチオ−N−メチルピロリル。
及びフェノキシ−N−メチルピロリル等の置臭ピロリル
基;メチルベンゾフリル、クロロベンゾフリル、エトキ
シベンゾフリル、(トリフルオロメチル)ベンゾフリル
、及びフェノキシベンゾフリル等の置換ベンゾフリル基
;エテルベンゾチェニル、フルオロベンゾチェニル、メ
トキシベンゾチェニル、及ヒフェニルペンゾチェニル等
ノ[換ヘンゾチェニル基;メチルピラゾリル基、ジメチ
ルピラゾリル基、フェニルピラゾリル基、メトキシイミ
ダゾリル基、フェニルイミダゾリル基、及びメチルチア
ゾリル基等が挙げられる。
前記一般式(I)中のR2及びR3は同f−1又は異F
重の水素原子、炭素原子P1〜6のアルキル基であり、
−また該IL2とR3とは相互に連結してE’l状のア
ルキレン基を形成してもよい。該アルキル基は直鎖状も
しくは分校状のアルキル基のいずれでもよく、具体的に
例示すればメチル基、エチル基、n−プロピル基、 1
ea−プロピル基、n−ブチル基。
Lao−ブチル基、 n−”’eンチル基、及びn−ヘ
キシル基等である。また前記R2とR3とが相互に連結
して環状のアルキレン基を形成するときの、核アルキレ
ン基は、エチレン基、トリメチレン基。
テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン
基、ヘプタメチレン基、及びオクタメチレン基等が好適
である。
前記一般式(1)で示されるR4は水素原子、置換され
たもしくは非置換の炭素原子数1〜8のアルキル基、又
は置換されたもしくは非置換のアリール基である。前記
非置換アルキル基は、前記R2及びRうで具体的に例示
したものが好適であり、これらの他に例えば、ヘプチル
基、オクチル基等の炭素原子数7,8のアルキル基が好
適でちる。また核アルキル基は置換されていてもよく、
該置換基は特に限定されないが、一般に工業的に好適な
ものを例示すれば次の通りである。即ち、炭素原子数1
〜6のアルコキシ基;炭素原子数1〜6のアルキルチオ
基;炭素原子数1〜6のアルキルカルはニル基:炭素原
子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキ
シ基、又はへロケ゛ン原子で置換されたもしくは非置換
のフェノキシ基:炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素
原子数1〜6のアルコキシ基、又はハロケ0ン原子で置
換されたもしくは非置換のフェニル基等である。好適な
置換されたアルキル基を具体的に例示すれば次の通りで
ある。例えば、メトギシメチル、メトキシエチル、メト
キンプロぎルウエトキシメチル、エトキシエチル、エト
キシプロピル、エトキシインチル、プロポキシエチル、
プロポキシエチル、ブロッキンブチル、ブトキシエチル
、ブトキシプロピル、及ヒヘントキシエチル等のアルコ
キシアルキル基;メチルチオメチル、メチルチオエチル
、メチルチオグロビル、メチルチオブチル、メチルチオ
ペンチル、エチルチオエチル、フロビルチオメチル、7
30ピルテオグロビル、及びブチルチオメチル等のアル
キルチオアルキル基;メチルカルMニルメチル、メチル
力ルゲニルエチル、メチルカルデニルゾロビル、メチル
カルゴニルプチル、メチルカルボニル(ンチル、メチル
カルボニルヘキシル、エチルカルボニルエチル、エチル
カルデニルプロビル、エチルカルrWニルヘキシル、フ
ロビル力ルゲニルメチル、フロビルカル?ニルグロビル
、プチルカルデニルエチル、ペンチルカルゲニルプロビ
ル、及ヒヘキシル力ルポニルプチル等のアルキルカルは
ニルアルキル基;フェノキシメチル、フェノキシエチル
、フェノキシプロピル、フェノキシブチル、(メチルフ
ェノキシ)エチル。
(エチルフェノキシ)メチル、(f口♂ルフエノキシ)
エチル、(メトキシフェノキシ)プロピル。
(エトキシフェノキシ)ブチル、(プロポキシフェノキ
シ)エチル、(クロロフェノキシ)メチル。
(ブロモフェノキシ)エチル、(フルオロフェノキシ)
フロビル、及び〔(クロロ)メチルフェノキシ〕エチル
等のフェノキシアルキル基;フェニA/ /l f A
/ 、 フェニルエチル、フェニルプロピル。
(メチルフェニル)エチル、(エチルフェニル)プロピ
ル、(プロピルフェニル)メチル、(メトキシフェニル
)メチル、(メトキシフェニル)プロピル、(エトキシ
フェニル)エチル、及び()oarキンフェ= 、II
/ ) x−1−ル等のフェニルアルキル基が挙げられ
る。
−また前記R4における置換されたもしくは非置換のア
リール基は前記R1で例示した置換されたも・しくけ非
置換のアリール基と同じ基が好適に用いられる。
前記一般式(+)で示されるR5は水素原子又は炭素原
子数1〜6のアルキル基である。該アルキル基は前記R
2及びR3のアルキル基と同じ基が好適である。
前記一般式(1)中、Xは酸素原子又はイオウ原子であ
る。またnはO又はlである。ただし1t5が水素原子
で・ちる場合には、nは0である。
以上、具体的に例示した基を有する化合物には多くの場
合、種々の位置異性体が存在するが、特に;児定されず
本発明に供することができる。
本発明の前記一般式(T)で示される化合物の構造は、
次の手段により確認することができる。
(イ)赤外吸収スペクトル(1r)を測定することによ
り、3050副−1〜2800ロー1付近にCH結合に
基づく吸収、1630cm−’付近にへC=N−結合に
基づく強い吸収等を観察することができる。
(ロ)質量スペクトル(ms )を測定し、観察きれる
各ピーク(一般にはイオン分子inをイオン質ff1a
eで除したm/eで表わされる質iit′1!1.)に
相当する組成式を算出することによシ、測定に供した化
合物の分子量ならび核分子内における各原子回の結合様
式を知ることができる。即ち、測定に供した試料を一般
式 で表わし六場合、一般に分子イオンビーク(以下岬と略
記する)が観察され、測定に供した化合物の分子量を決
定することができる。さらに前記−般式で示される本発
明の化合物については、M■−(X)nR5,2Iに相
当する特徴的−一りが観察され、該分子内の結合様式を
知ることができる。
(ハ) 1H−核磁気共鳴スペクトル(’H−nmr 
)を測定することによシ、前記一般式で表わされる本発
明の化合物中に存在する水素原子の結合様子を知ること
ができる。前記一般式(1)で示される化合物’H−n
mr (δ+ ppm :テトラメチルシラン基準1重
り「Jロホルム溶媒中)の代表例として、下記化合物の
解析結果を示すと次の通りである。
(b) 即ち、1.28ppmにメチル基(f)に基づくプロト
ン3錫分の3重線、1.78 ppmにメチル基(c)
に基づくプロトン6個分の2重線、2.30 ppmに
メチル基(a)に基づくプロトン3個分の1重線、4.
20ppmにメチレン基(、)に基づくノロトン2個分
の4m A!、J 、 6.80 ppm 〜7.33
−ppmにペン−ピン環(b)及びメチン基(d)に基
づくプロトン5個分の多重線が観察された。
に) 元素分析によって炭素、水素、窒素、及びハロゲ
ン(又、イオウを含む場合にはイオウ)の各重量%を求
め、さらに認知された各元素の重量%の和を100から
減じることにより酸素の重量俤を算出することができ、
従って該化合物の、組成式を決定することができる。
本発明のシッフ塩基化合物は、前記一般式中のR1+ 
R2、R5r R4+ Rs r X r及びnの種類
、ならびにff袈の度合いによって多少性状が異なるが
、−般に常温常圧においては無色から黄色の液体又は固
体である。本発明の化合物は、ペンゼ/、エーテル、ア
ルコール、クロロホルム、ア七トニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホヤシト等の一般有機溶媒に
は可溶であるが、水には難溶である。
本発明の前記一般式(1)で示される化合物の製造方法
Vi特に限定されるものではない。代表的な製造方法を
記述すれば以下のようになる。
一般式 %式%) 〔式中、R1+R2+及びR3は前記と同じであり、A
は水素原子又は(トリアルキル)シリル基である。〕 で示されるイミン化合物と、一般式 %式% (式中、R4,R5,XI及びnは前記と同じであり、
Y及びZは水素原子又はアルキル基である。ただし、n
がOの場合は、−c−xy部分がで示される化合物とを
反応させることにより、前記一般式(1)で示される化
合物を得ることができる。
該方法の原料となる前記一般式(ト)で示されるイミン
化合物はいかなる方法で得られたものでもよい。一般的
には、下記式の如く二) IJル化合物と有機マグネシ
ウム化合物又は有機リチウム化合物との反応によって得
られる。
R−C=NA (式中、R1,R2,R,、及び人は前記と同じで、う
り、QはLl又はMgC1、MgBr 、 MgIであ
る。)該反応における両化合物の仕込みモル比;・ま必
苅に応じて適宜決定すればよいが、通常等モルもしくは
一般式髭の化合物をやや過剰に使用するのが一般的であ
る。また、両rヒ合物の添加・、偵序は特ンζ限定され
ない。
該反応は有mG媒中もしくは無74媒で行なうことがで
きる。有機溶媒を使用する場合、好適なものを例示すれ
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン。
ヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、エチルエーテ
ル、ノオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチ
ルエチルケトン、アセトニトリル。
酢酸エチル、 N、N−ジメチルホルムアミド、ヘキサ
メチルホスホルアミド、及びジメチルスルホキシド等が
挙げられる。
前記反応における反応温度は広い範囲から選択でき、一
般には一50℃〜200℃、好ましくは一30℃〜15
0℃の範囲で選べばよい。反応時間は、原料及び反応温
度によっても異なるが、通常5゛分〜10日間、好まし
くは30分〜2日間の範囲で選べばよい。また反応中は
攪拌を行なうことが好ましい。
また該反応を促進するために、反応系に塩酸。
酢fi、p−)ルエンスルホン酸等の酸、BF’、・g
t2o。
塩化アルミニウム等のルイス酸、水素化カルシウム、モ
レキュラーシーブス、シリカrル、3Iフルミナ等を添
加する手段は、しばしば好適に用いられる。
目的生成物、即ち、前記一般式(1)で示されるシック
塩基化合物を単離精製する方法は特に限定されず、公知
の方法を採用できる。例えば、反応液から反応溶媒を留
去した後、残渣を真空蒸留することによシ目的物を得る
ことができる。また無溶媒で反応を行なった場合は、反
応液を真空蒸留することによシ目的物を得ることができ
る。さらに、クロマトグラフによる精製、あるいは生成
物が固体である場合には、再結晶による精製等も採用す
ることができる。
本発明の前記一般式(I)で示されるシック塩基化合物
は、優れた選択除草活性を有する除草剤の原料として有
用な化合物である。
例えば、本発明のシック塩基化合物、トリクロロシラン
又はジクロロシラン、及びクロロアセチルクロライドと
反応させて、一般式 (式中、R4*R2eR5*R41R5# X r及び
nは前記と同じである。) で示されるN−置換−クロロアセトアミドを得ることが
できる。
本発明のシッフ塩基からN−置換−クロロアセトアミド
を得る際、反応を無溶媒で行なうこともできるが、一般
には溶媒中で行なうのが好ましい。
核溶媒としては、共存する原料、例えばトリクロロシラ
ン又はジクロロシラン及びクロロアセチルクロライドと
相互作用しない不活性な有機溶媒であれば限定されず使
用できる。一般にはベンゼン。
トルエン、クロロホルム、及びアセトニトリル等が好適
に使用される。また該反応に於ける原料の仕込みモル比
は特に限定されるものではないが、副生成物の増加及び
経済性を考慮すると、シッフ塩基1モルに対してトリク
ロロシラン又はジクロロシランを1〜2モル、クロロア
セチルクロライドを1〜1.2モルの割合で使用するの
が好ましい。
また前記反応に於ける反応温度は特に限定されず広い温
度範囲で選ぶことができるが、一般には一20℃〜15
0℃の範囲から選べばよい。更にまた反応時間は反応温
度によっても異なるが、−般には数分から数日例えば5
分〜10日の間で選べばよい。
該反応における各原料の添加順序は特に限定されず必要
に応じて選べばよい。一般にはシック塩基化合物に室温
又は冷却下にて、トリクロロシラン又はジクロロシラン
及びクロロアセチルクロライドを添加すれば良い。また
、トリクロロシラン又はジクロロシラン及びクロロアセ
チルクロライドの溶液にシッフ塩基化合物を添加しても
よい。これらの場合、一般に溶媒を用いる場合が多く、
溶媒中にシック塩基化合物、トリクロロ7ラン又はジク
ロロシラン、及びクロロアセチルクロライドの三成分を
添加反応させてもよく、各成分を核溶媒に溶解しておき
、この溶媒をそれぞれ添加混合して反応させてもよい。
上記反応で得られるアミド化合物のイ青製方法は、特に
限定されるものではない、一般には反応終了後、常圧、
減圧もしくは真空蒸留を行なえば良く、必要に応じて洗
浄、再結晶、又はクロマトグラフによる精製方法も用い
ることができる。
このようにして得られたN−[換−クロロアセトアミド
は、イネ科雑草、広養紺草、多年生雑草の発芽前および
発芽後の土壌処理又は茎葉処理にすぐれた除草効果を発
揮する。特に、イネ科雑草については著しい除草効果を
示し、例えば水田に於て強害雑草であるノビエに対して
その発芽時だけでなり1.5葉期に生育したものにもす
ぐれた除草効果を示す、しかも水稲に対しては15葉期
の種苗友けでなく発芽時においても高い安全性を有する
さらに該N−置換−クロロアセトアミドは、ノビエと水
稲との間に高度の選択性を有しているため、水稲の発芽
期から生育期の長期間の生育段階での適用が可能であり
、処理適期幅が従来の除草剤に比べると著しく長いすぐ
れた利点を有している。また湛水直播水稲に対してきわ
めて安全に適用出来る利点は該N−置置換ジクロロアセ
トアミド大きな特徴である。
さらにまた、畑地の除草剤とするときも選択的除草効果
を発揮するので、大豆、ワタ、コウリャン等の広葉作物
だけでなく小麦、大麦、とうもろこし、陸稲等のイネ科
作物にも損害なしに適用することができる。
本発明を更に具体的に説明するために、以下実施例及び
参考例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に
限定されるものではない。
実施例1 フラスコに、m −)リル、−イソグロビルケトイミン
(10,10) 、 0.063モル)、及びオルトギ
酸エチル(10,34f 、 0.07 Qモル〕全入
れ、油浴上(110℃)にて生成するアルコールを除去
しながら3時間加熱撹拌した。冷却後、反応液を蒸留す
ることにより、淡黄色液体(7,10?〕を得九、沸点
は92〜94℃10.6肩Hgであつ九0 該化合物の赤外吸収スイクトルを測定したところ、31
00〜2850cm−’にC−)を結合に基づく吸収、
 1650cm−’に ゝc=c/結合に基づく吸収。
1625 cm−’に−N−CH−に基づく強い吸収等
を示した。
また質量ス被りトルを311j定したところ、m/e2
17に分子イオンピーク(yn ) 、 m/e t 
s 8にa−C2H5に対応するピーク、 m/a 1
72に1H−核磁気共鳴ヌベクトル(δ: ppm :
テトラメチルシラン基準2重クロロホルム浴媒〕′ft
測定した、その解析結果は次の通りであった。
その元系分析値は、C77,25%、H8,78係。
N 6.50 fA テあシ、my弐〇、41(4,N
o (217,30)に対する計算値C77,38チ、
H8,81%、No、45チによく一致した。
上記の結果から、単離生成物がN−エトキシメチリデン
(1−m−トリル−2,2−ジメチル〕エチニルアミン
であることが明らかとなった。収率は52%であった。
該化合物の化合物ノに全1とする。
実施(2す2 フラスコに水素化カルシウム(3,507゜0、083
モル〕、エーテル(40nI/) k入れ、次いで2エ
ニルーイソゾロビルケトイミン(10,25P、0.0
70モル〕を加えた。室温にて攪拌しなからアセトアル
デヒド(4,63p、0.105モル)を余々に滴下し
lモ。その後、油浴上(50℃)にて3時間加熱攪拌し
た。室温に冷却した後、固体全口過し、口液から低沸点
成分を留去して得られた液体を減圧蒸留することにより
、淡黄色液体(5,20? )を得た。沸点は60〜6
3℃10.4n囲Hgであった。
該化合物の赤外吸収スペクトルを測定したところ、30
50〜2 R50rm  KC−H結合に基づく吸収+
 1650cm−’に〕c=cご結合に基づく吸収。
1620m−’にンC=N−結合に基づく吸収等を示し
た。
また質量スペクトル全測定したところ、 m1s173
に分子イオンピーク(蛙)、m/e 131に1H−核
磁気共鳴スペクトル(δ:Ppm:テ)ラメチルシラン
基準2重クロロホルム溶媒)′fr:測定し、解析した
。その結果は次の通シであった。
その元素分析値は、C83,40チ、 )(8,60%
N8.16チであシ、組成式〇、2H,5N (173
,25)に対する計算値C83,19%、 H8,73
チ、N8.09裏によく一致した。
上記の結果から、単離生成物がN−エチリデン−(1−
フェニル−2,2−ジメチル〕エチニルアミンであるこ
とが明らかとなった。収率は43チであった。該化合物
の化合物Aを2とする。
実施j91j 3 フラス」に3−オキソブチルアルデヒド、ジメチルアセ
タール(8,50? 、 0.064モル)、フェニル
−イソプロピルケトイミン(5,11p 。
0.035モル)を入れ、メタノール除去装置を備え、
油浴上(120℃)にて7時間加熱梼拌した。
室温まで冷却した後、低沸点成分を留去して得られた液
体′!i−減圧蒸留することによシ、黄色粘稠液体(4
,77))を得た。沸点は115〜b/ 0.5 rn
mf(gでちった。
単離生成物の機器分析全行なったところ、目的とする下
肥構造式の化合物であることが判明し念。
収SA′、は64%で、ちった。該化合物の化合物点を
3とする。
実施例4 実施例1と同様な方法にて種々の含酸素シック塩基化合
物全合成した。合成した化合物のA 、構造、態禄、沸
点、及び収率を第1表に記載した。
なお式中のR,# R4#及びR5は下記式のR1,R
4゜及びR5に対応するものである。
R−C−N=C−0−R5 実施例5 実施例1〜3と同様な方法にて種々のシッフ塩基化合物
を合成した。合成した化合物のA、構造。
及び元素分析値を第2表に記載した。なお、表中のR1
+ R2+ R3* Ra r咲X洩R5は下記式のR
,l R2゜R3r n4+ −(X 垢R5に対応す
るものである。
R−C−N=C−(X片R5 参考例1 滴下ロートを備えた3つロフラスコに実施例1で得られ
たN−ゴトキシメチリデン、(1−+n−トリルー2.
2.ツメチル)エチニルアミン(2,11f 、 O,
OO97モル)、ベンゼン(15ゴ〕を入れ、水冷下、
攪拌しながら、滴下ロートよりりロロアセチルクロライ
ド(1,20y 、 o、 o 11モル)。
トリクロロシラン(1,807、0,013モル)のベ
ンゼン(5frLt)溶液を滴下した。滴下終了後、室
温に戻し、室温にて1時間攪拌し友0反応終了後、反応
液に炭酸カリウム水浴液全顎えて中和し、有(幾層をエ
ーテルで抽出した。抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥し九
後、溶媒を除去して帰られた粘稠液体をカラムクロマト
グラフ(シリカゲル:ベンゼン/アセトン=30/1 
) ’a−用いて精製ケ行ない、無色粘稠液体(1゜6
0L?)を得ンt0該化合物の赤外吸収スペクトルを測
定したところ3000〜2850ロー1にC−H結合に
基づく吸収t 1670cm−’にアミドのンC=O結
合に基づく強い吸収等全示した。
また質量スペクトルを測定したところ、m/e295に
分子イオンピーク(M■) 、 m/* 260にM■
−ctに対応するピーク、 m/・250に岬−oc2
u5に対応するピーク、 rrV’e 236にM■−
CH20C2H5に対応するピーク、m/e218にM
■−COCH2C6に対応するピーク等全示した。
1H−核磁気共鳴スRクトル(δ; ppm :テトラ
メチルシラン基準1重クロロホルム溶媒〕を測定した。
その解析結果は次の通りである。
その元素分析値はC64,78俤、 H7,,62チ。
N 4.76俤であシ、組成式C,6H22NCtO2
(295,81)に対する計算値C64,97%、R7
,50%、N4.74チによく一致しな。
上記の結果から、単離生成物がN−(1−(m−トリル
) −2,2−ツメチルエチニル〕−N−クロロアセト
−エトキシメチルアミドであることが明らかとなっ之、
収率は56チであった。
該化合物の化合物A’に86とする。
参考例2 滴下ロート全備えた3つロフラスコに、実施例2で得う
したN−エチリデン−(1−フェニル−2,2−ジメチ
ル〕エチニルアミン(2,15? 。
0.012モル)、アセトニトリル(15d)を入れ、
室温にて攪拌しながら、滴下ロートよジクロロアセチル
クロライド(1,47SF−,0,013モル)のアセ
トニトリル(5−)溶液を滴下し、次いでトリクロロシ
ラン(2,17p 、 0.016モル〕を滴下した。
滴下終了後、油浴中(50℃)にて1時間加熱攪拌した
。室温まで冷却し、溶媒及び低沸点成分を減圧にて除去
し、残渣を炭酸ナトIJウム水溶液で中和し有機層をエ
ーテルで抽出した。
エーテル屓を礎酸ナトリウムで乾燥し、エーテルを除去
して得られた液体をカラムクロマトグラフ(シリカダル
;ベンゼン/アセトン−20/1)にて精製することに
より、淡黄色粘稠液体(1,54y−)を得た。
該化合物の機器分析を行彦ったところ、該生成物が下記
構造式のクロロアセトアミド化合物であることが判明し
た。収率は61チであった。。
核化合物の化合物Aを87とする。
参考例3 参考例1及び2と同様な方法で、徨々のクロロアセトア
ミド化合物の合成を行なった。合成した化合物のA、構
造、用いたシラン化合物、″元素分析値及び収率を第3
表に記載した。なお、表中のR1# R2* Rs +
 R4r (−x+nR5は下記式のR1゜R2e R
3e R4r +A+nR5に対応するものである。
製剤例1(水和剤) 参考例1に於て得られAN−(1−(m−トリル)−2
,2−シ)−’j−ルエテニル)−N−1007セトー
エトキシメテルアミド(化合物扁85)10部、ジ−ク
ライト(商品名二ノークライト砿業製)とクニライト(
商品名:クニミネ工業製〕の2:1混合物85部、界面
活性剤としてツルポール800A(商品名:東邦化学工
業製95部を均一に混合粉砕して10チ水和剤を得た。
製剤例2(乳剤) 参考例2において得られたN−(1−フェニル−2,2
ジlチルエチニル)−N−り0(:17セ) −エテル
アミド(化合物A 86 ) 20部、キシレン70部
、界面活性剤としてツルポール800A10部を混合溶
解し、20チ乳剤を得た。
製剤例3(粒剤) 参考例2で得られたN−(1−フェニル−2,2−)メ
fルエテニル)−N−クロロアセト−エチルアミド(化
合物ム86〕5部、ベントナイト(クニミネ工業製〕5
0部、クニライト40耶、界面活性剤としてツルポール
800A5部を均一に混合粉砕し念後、水を加えて均一
に攪拌しイースト状とじ九後、直径Q、 7 vtrg
の節穴から押し出し乾燥後1〜21の長さに切断して5
チ粒剤を得た・参考例4 1/8850アートの磁製ポットに水を加えて攪拌した
水山土を夷(沖積L’l土〕を充填し、水[l]雑草を
播種し九後3葉期のイネ苗(品f!:7キニシキ)全深
さ10に移植し、水を加えて3cInの湛水状態にした
。次いで製剤例1に準じて調整した各化合物の水和剤の
水希釈液を雑草発芽時に所定1滴下処理した。処理後平
均気温25℃の温室内で生育させ、3週間μに各供試化
合物の除草効果全調査した結果を第4表に示した。但し
、表中に示した広葉とはアービナ、キカシグサ、アゼト
ウガラシなどを言う。々お、評価は6段階とし表中の数
字において0は正常、1〜4は正常と完全枯死の中間を
、5は完全枯死を表示するものである。
第  4  表 第 4 表 つづき 第 4 表 つづき 第 4 表 つづき

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は置換されたもしくは非置換のアリール
    基、又は置換されたもしくは非置換のヘテロアリール基
    を表わし、 R_2及びR_3は同種又は異種の水素原子又は炭素原
    子数1〜6のアルキル基を表わし、R_2とR_3とが
    相互に連結して環状のアルキレン基を形成してもよく、 R_4は水素原子、置換されたもしくは非置換の炭素原
    子数1〜8のアルキル基、又は置換されたもしくは非置
    換のアリール基を表わし、 R_5は水素原子、又は炭素原子数1〜6のアルキル基
    を表わし、Xは酸素原子又はイオウ原子を表わし、nは
    0又は1を表わす。ただしR_5が水素原子の場合、n
    は0である。) で示されるシッフ塩基化合物。
JP61165637A 1986-07-16 1986-07-16 シツフ塩基化合物 Expired - Lifetime JPH0637483B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CHEMICAL ABSTRACTS=1977 *
CHEMICAL ABSTRACTS=1983 *
CHEMICAL ABSTRACTS=1985 *

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